JPS61233496A - 半導体記憶装置 - Google Patents
半導体記憶装置Info
- Publication number
- JPS61233496A JPS61233496A JP60073944A JP7394485A JPS61233496A JP S61233496 A JPS61233496 A JP S61233496A JP 60073944 A JP60073944 A JP 60073944A JP 7394485 A JP7394485 A JP 7394485A JP S61233496 A JPS61233496 A JP S61233496A
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- JP
- Japan
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- memory
- decoder
- clock
- read
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体記憶装置に関し、特に、大容量の半導体
集積化メモリに関するものである。
集積化メモリに関するものである。
一般に大容量の半導体記憶装置の中で、MOSFETを
用いたランダム・アクセスメモリ(以下%RAMと言う
。)は電荷記憶用のキャパシタとスイッチングMO8F
ETから成る1トランジスタメモリセルを用いる。該M
O8RANは第4図に示す(電子通信学会論文誌J61
−C巻、1978年5月、 273〜280ページ)よ
うに情報を記憶するメモリセルマトリ、クスCoacm
、セル情報を読み出すピット線対81aBm、ビット線
の読み出し信号を増幅するセンスアンプS、読み出しビ
ット線を選択するYデコーダ及びメモリ情報の入出力を
制御するゲートTからなりている。このよりな1)7ン
ジスタ型MO8RAMの基本動作は、ピット線対Bee
B、の電位を等しい値にプリチャージする動作とメモリ
セル情報をビット線に読み出し、外部に出力する動作と
が対になって行なわれる。通常、これらの2つの動作は
基本となるチップイネーブルクロックCBの高低2値レ
ベル電圧に対応して行なわれる。つまり、クロックCD
が低レベルの時には前記プリチャージ動作が行なわれ、
高レベルの時にはメモリセルの読み出し動作が行なわれ
る。
用いたランダム・アクセスメモリ(以下%RAMと言う
。)は電荷記憶用のキャパシタとスイッチングMO8F
ETから成る1トランジスタメモリセルを用いる。該M
O8RANは第4図に示す(電子通信学会論文誌J61
−C巻、1978年5月、 273〜280ページ)よ
うに情報を記憶するメモリセルマトリ、クスCoacm
、セル情報を読み出すピット線対81aBm、ビット線
の読み出し信号を増幅するセンスアンプS、読み出しビ
ット線を選択するYデコーダ及びメモリ情報の入出力を
制御するゲートTからなりている。このよりな1)7ン
ジスタ型MO8RAMの基本動作は、ピット線対Bee
B、の電位を等しい値にプリチャージする動作とメモリ
セル情報をビット線に読み出し、外部に出力する動作と
が対になって行なわれる。通常、これらの2つの動作は
基本となるチップイネーブルクロックCBの高低2値レ
ベル電圧に対応して行なわれる。つまり、クロックCD
が低レベルの時には前記プリチャージ動作が行なわれ、
高レベルの時にはメモリセルの読み出し動作が行なわれ
る。
メモリセルの読み出しけ、Xデコーダで選択され友ワー
ド線に接続しているメモリセル信号がピット線対B=、
B*のいずれか一方をて読み出され、他方のビット線に
はダミーセルから基準電位が発生し、その結果生じるピ
ット線対間の微小電位差をセンスアンプSで増幅し%Y
Xデコーダよって選択し几入出力グートTを通して、ビ
ット線信号を外部に出力するという方法で行なわれる。
ド線に接続しているメモリセル信号がピット線対B=、
B*のいずれか一方をて読み出され、他方のビット線に
はダミーセルから基準電位が発生し、その結果生じるピ
ット線対間の微小電位差をセンスアンプSで増幅し%Y
Xデコーダよって選択し几入出力グートTを通して、ビ
ット線信号を外部に出力するという方法で行なわれる。
上述し72M08RAMの駆動クロックCBの高レベル
状態と低レベル状態の時間幅は、それぞれ、メモリセル
の読み出し時間とビット線対のプリチャージ時間によっ
て決められる。通常用いられている典型的な値は、クロ
ック幅(高レベル時間幅)150nsec、クロックサ
イクル時間幅(高レベル+低レベル時間幅)3g□n5
ecである。 従ってメモリ情報の読み出しはチップイ
ネーブルクロックCBを印加後150nsec以内に行
なわれるが、繰り返し異なるメモリ情報を読み出す場合
には。
状態と低レベル状態の時間幅は、それぞれ、メモリセル
の読み出し時間とビット線対のプリチャージ時間によっ
て決められる。通常用いられている典型的な値は、クロ
ック幅(高レベル時間幅)150nsec、クロックサ
イクル時間幅(高レベル+低レベル時間幅)3g□n5
ecである。 従ってメモリ情報の読み出しはチップイ
ネーブルクロックCBを印加後150nsec以内に行
なわれるが、繰り返し異なるメモリ情報を読み出す場合
には。
3QQ n5ec毎にしか読み出せず、多数のメモリ情
報の高速読み出しという点において、従来のMO8RA
Mは不満足なものであった。そこで、従来のMO8RA
Mにおいて、見かけ上プリチャージ時間をなくシ、高速
な連続読み出しができるMOS−8店が切望されてい友
。
報の高速読み出しという点において、従来のMO8RA
Mは不満足なものであった。そこで、従来のMO8RA
Mにおいて、見かけ上プリチャージ時間をなくシ、高速
な連続読み出しができるMOS−8店が切望されてい友
。
本発明の目的は、情報の読み出し動作(あるいは読みだ
しと書きこみ動作)及びプリチャージ動作を必要とする
RAM において、 メモリ情報を高速連続読み出しあ
るいは書きこみできる半導体記憶装置を提供することK
ある。
しと書きこみ動作)及びプリチャージ動作を必要とする
RAM において、 メモリ情報を高速連続読み出しあ
るいは書きこみできる半導体記憶装置を提供することK
ある。
本発明は、マトリックス状に配置し友複数のメモリセル
と、該メモリセルの選択グー1:接続する複数本のワー
ド線と、該メモリセルの情報読み出しある込は書きこみ
線となる複数本のビット線と、該ビット線の微少信号を
増幅する複数のセンスアンプと、前記複数本のワード線
及びビット線から任意の線をそれぞれ選択するXデコー
ダ及びXデコーダとを、それぞれ備えた複数のメモリブ
ロックと、基準クロック信号を分周して互いに位相のず
れ之複数のクロック信号を発生させる分周回路とから構
成され、前記複数のメモリブロックがそれぞれ前記複数
のクロック信号の高低2fレベルに応じて、読み出し動
作及びプリチャージ動作あるいは書きこみ動作及びプリ
チャージ動作を互いに位相をずらして行なうことを特徴
とする半導体記憶装置である。
と、該メモリセルの選択グー1:接続する複数本のワー
ド線と、該メモリセルの情報読み出しある込は書きこみ
線となる複数本のビット線と、該ビット線の微少信号を
増幅する複数のセンスアンプと、前記複数本のワード線
及びビット線から任意の線をそれぞれ選択するXデコー
ダ及びXデコーダとを、それぞれ備えた複数のメモリブ
ロックと、基準クロック信号を分周して互いに位相のず
れ之複数のクロック信号を発生させる分周回路とから構
成され、前記複数のメモリブロックがそれぞれ前記複数
のクロック信号の高低2fレベルに応じて、読み出し動
作及びプリチャージ動作あるいは書きこみ動作及びプリ
チャージ動作を互いに位相をずらして行なうことを特徴
とする半導体記憶装置である。
本発明の半導体記憶装置は、同一チップに、互いに位相
がずれ友複数のクロ、り信号でそれぞれ動作する複数の
メモリブロックと、基準となるチップイネーブル信号か
ら前記複数のクロック信号を発生させる分周回路が内蔵
されており、基本となるチップイネーブル信号の1周期
毎又は、2値レベルが変わる毎に1前期複数メモリブロ
ックの中の1つのメモリブロックがII[次読み出しあ
るいは書きこみ動作を行うことができる。従って1本発
明の半導体記憶装置は、個々のメモリブロックが読み出
し動作(あるいは読みだしと書きこみ動作)とプリチャ
ージ動作を必要とするメモリにかかわらず、基本となる
チップイネーブル信号の1周期毎又は、2値レベルが変
わる毎に、メモリ情報を高速に連続読み出しあるいは書
きこみできる利点がある。
がずれ友複数のクロ、り信号でそれぞれ動作する複数の
メモリブロックと、基準となるチップイネーブル信号か
ら前記複数のクロック信号を発生させる分周回路が内蔵
されており、基本となるチップイネーブル信号の1周期
毎又は、2値レベルが変わる毎に1前期複数メモリブロ
ックの中の1つのメモリブロックがII[次読み出しあ
るいは書きこみ動作を行うことができる。従って1本発
明の半導体記憶装置は、個々のメモリブロックが読み出
し動作(あるいは読みだしと書きこみ動作)とプリチャ
ージ動作を必要とするメモリにかかわらず、基本となる
チップイネーブル信号の1周期毎又は、2値レベルが変
わる毎に、メモリ情報を高速に連続読み出しあるいは書
きこみできる利点がある。
又、本発明の半導体記憶装置におhて、チップ内の全メ
モリ容量を大容量化し九としても、前記複数のメモリブ
ロックは互いに位相をずらして動作するので、半導体基
板や電源線の電圧変動が互いに緩和され、動作マージン
が大きく誤動作しにくい半導体記憶装置が実現できる。
モリ容量を大容量化し九としても、前記複数のメモリブ
ロックは互いに位相をずらして動作するので、半導体基
板や電源線の電圧変動が互いに緩和され、動作マージン
が大きく誤動作しにくい半導体記憶装置が実現できる。
以下、本発明をよりよく理解するために実施例を用いて
詳述する。
詳述する。
(実施例1)
第1図は本発明の第一の実施例である。
図において、破線で囲まれたブロック1が第1のメモリ
ブロック% 2が第2のメモリブロック、3が第3のメ
モリブロック、4が第4のメモリブロックをそれぞれ示
す。各メモリブロックとも第4図の従来例とまったく同
様に、メモリセルアレイ複数のセンスアンプ、ワード線
、ビット線及びXデコーダ、Xデコーダから構成されて
いる。又、各メモリブロックは、基本となるチップイネ
ーブルCEを分周回路を通して分周し次チップイネーブ
ルクロック011.CE2.CE3及びCE4によって
それぞれ駆動される。各メモリブロックの動作は個々に
見ると、前述した従来例と同様に、各チップイネーブル
クロックの高低2値レベルに応じて、ピット線のプリチ
ャージとメモリセル情報のビット線への読み出し及び外
部への情報転送の2つの動作から成る。しかし、それら
の一連の動作ハ各チップイネーブルクロックの位相が互
いにチップイネーブルクロックCEの1周期分だけずれ
ているために、チップ全体としては、見かけ上基本クロ
ックCBの1周期毎にメモリ情報が読み出されることK
なる。
ブロック% 2が第2のメモリブロック、3が第3のメ
モリブロック、4が第4のメモリブロックをそれぞれ示
す。各メモリブロックとも第4図の従来例とまったく同
様に、メモリセルアレイ複数のセンスアンプ、ワード線
、ビット線及びXデコーダ、Xデコーダから構成されて
いる。又、各メモリブロックは、基本となるチップイネ
ーブルCEを分周回路を通して分周し次チップイネーブ
ルクロック011.CE2.CE3及びCE4によって
それぞれ駆動される。各メモリブロックの動作は個々に
見ると、前述した従来例と同様に、各チップイネーブル
クロックの高低2値レベルに応じて、ピット線のプリチ
ャージとメモリセル情報のビット線への読み出し及び外
部への情報転送の2つの動作から成る。しかし、それら
の一連の動作ハ各チップイネーブルクロックの位相が互
いにチップイネーブルクロックCEの1周期分だけずれ
ているために、チップ全体としては、見かけ上基本クロ
ックCBの1周期毎にメモリ情報が読み出されることK
なる。
本実施例の動作を第2図の信号波形を用いて説明する。
まず、はじめに時刻t・に第1のメモリブロック用のメ
モリアドレスが与えられ、時刻t3にクロックCEが低
レベルから高レベルに変化する。この時、あらかじめ分
周回路を通して第1のチップイネーブルクロックCEI
が低レベルから高レベルに上がるように制御しておくと
、時刻1゜以降メモリアドレスが第1のメモリブロック
のXデコーダ及びXデコーダに取り込まれ、従来例のM
O8RAMと同様に、Xデコーダによって決まる1本の
ワード線が選択され、更く、該ワード線に接続するメモ
リセル情報がビy)IIIK読み出されXデコーダによ
って選択されるピット線信号が入出力回路を通って、時
刻t4に外部に読み出される。これよシ先1時刻1.に
次のメモリアドレスが与えられ1時刻1.<クロ、りC
Eが再び低レベルから高レベルに変化するとともに、第
2のチップイネーブルクロックCB2が低レベルから高
レベルに上がって、第2のメモリブロックの読み出し動
作が始まる。この場合のメモリアドレスは第2のメモリ
ブロックのXデコーダ及びXデコーダに取り込まれ、上
述し次第1のメモリプロ、りと同じ動作を行ない1時刻
tマにメモリ情報が外部に読み出される。更に、上記動
作と同じ動作が時刻1..1@及び1釦、1・において
、第3及び第4のメモリブロックに対してそれぞれ行な
われ時刻t1・及びtie において第3及び第4のメ
モリ情報がそれぞれ外部に読み出される。更に連続して
読み出し動作を行なう場合には、時刻t・においてクロ
ックCB1の電圧を高レベルから低レベルニ落シ1時刻
t 3愈Vc低レベルかう高レベルに上げて再び第1の
メモリブロックの読み出しを開始すればよい。各メモリ
ブロックのビット線のプリチャージ動作は、各チップイ
ネーブルクロックCEI〜CB4の電圧が低レベルの間
に行なわれる。
モリアドレスが与えられ、時刻t3にクロックCEが低
レベルから高レベルに変化する。この時、あらかじめ分
周回路を通して第1のチップイネーブルクロックCEI
が低レベルから高レベルに上がるように制御しておくと
、時刻1゜以降メモリアドレスが第1のメモリブロック
のXデコーダ及びXデコーダに取り込まれ、従来例のM
O8RAMと同様に、Xデコーダによって決まる1本の
ワード線が選択され、更く、該ワード線に接続するメモ
リセル情報がビy)IIIK読み出されXデコーダによ
って選択されるピット線信号が入出力回路を通って、時
刻t4に外部に読み出される。これよシ先1時刻1.に
次のメモリアドレスが与えられ1時刻1.<クロ、りC
Eが再び低レベルから高レベルに変化するとともに、第
2のチップイネーブルクロックCB2が低レベルから高
レベルに上がって、第2のメモリブロックの読み出し動
作が始まる。この場合のメモリアドレスは第2のメモリ
ブロックのXデコーダ及びXデコーダに取り込まれ、上
述し次第1のメモリプロ、りと同じ動作を行ない1時刻
tマにメモリ情報が外部に読み出される。更に、上記動
作と同じ動作が時刻1..1@及び1釦、1・において
、第3及び第4のメモリブロックに対してそれぞれ行な
われ時刻t1・及びtie において第3及び第4のメ
モリ情報がそれぞれ外部に読み出される。更に連続して
読み出し動作を行なう場合には、時刻t・においてクロ
ックCB1の電圧を高レベルから低レベルニ落シ1時刻
t 3愈Vc低レベルかう高レベルに上げて再び第1の
メモリブロックの読み出しを開始すればよい。各メモリ
ブロックのビット線のプリチャージ動作は、各チップイ
ネーブルクロックCEI〜CB4の電圧が低レベルの間
に行なわれる。
以上の説明から明らかなように、メモリ情報の読み出し
は基本となるチップイネーブルクロックCEの1周期毎
に、各メモリブロックから順々に行なわれ、見かけ上ク
ロックCBの1周期が連続読み出しの場合の読み出し時
間となる。例えば。
は基本となるチップイネーブルクロックCEの1周期毎
に、各メモリブロックから順々に行なわれ、見かけ上ク
ロックCBの1周期が連続読み出しの場合の読み出し時
間となる。例えば。
各メモリブロックとして読み出しアクセス時間が15Q
nsec、 サイクル時間が300nsecのMOS
−RAMを使った場合には、連続して異なるメモリ情報
を読み出すのが15Qn86Cの半分、75nsec毎
に行なえるという利点がある。この値は従来型のMO8
RAMを使ッft場合には300nsecになシ、2倍
の高速化が達成されることになる。
nsec、 サイクル時間が300nsecのMOS
−RAMを使った場合には、連続して異なるメモリ情報
を読み出すのが15Qn86Cの半分、75nsec毎
に行なえるという利点がある。この値は従来型のMO8
RAMを使ッft場合には300nsecになシ、2倍
の高速化が達成されることになる。
上述した実施例の説明では、メモリのアクセス方法とし
て情報の読み出しばかりを示したが、これは書き込み動
作であっても、又、読み出し動作と書き込み動作がラン
ダムにおこっても本質的に同様であp、プリチャージ動
作とメモリの読み出し又は書き込み動作の2つのモード
を有する半導体メモリすべてに適用できるものである。
て情報の読み出しばかりを示したが、これは書き込み動
作であっても、又、読み出し動作と書き込み動作がラン
ダムにおこっても本質的に同様であp、プリチャージ動
作とメモリの読み出し又は書き込み動作の2つのモード
を有する半導体メモリすべてに適用できるものである。
更に、本実施例ではメモリブロックとして4ケのブロッ
クを用いたが、これも本発明を規定するものではなく、
任意の個数のメモリブロックを用いて本発明を実施でき
ることは言うまでもない。又、基本となるチップイネー
ブルクロックCBの分局の方法として1本実施例では号
に分周するとして実施例を示したが、これも本発明を規
定するものではなく、4あるいはX以下の分周方式を用
いてもよい。
クを用いたが、これも本発明を規定するものではなく、
任意の個数のメモリブロックを用いて本発明を実施でき
ることは言うまでもない。又、基本となるチップイネー
ブルクロックCBの分局の方法として1本実施例では号
に分周するとして実施例を示したが、これも本発明を規
定するものではなく、4あるいはX以下の分周方式を用
いてもよい。
本発明の半導体記憶装置では、前記実施例で示したよう
に第1のメモリブロックから第4のメモリブロックI/
c順々に読み出す場合がもつとも高速な読み出しが実現
できるが、この連続読み出し又は書き込みを行なわせる
几めKは、第1から第4のメモリブロックを区別する2
ビツトをメモリアドレスに含ませるか、あるいはメモリ
アドレスの下位2ピツトを用いて第1から第4のチップ
イネーブルクロックCBI〜CB4を作る必要がある。
に第1のメモリブロックから第4のメモリブロックI/
c順々に読み出す場合がもつとも高速な読み出しが実現
できるが、この連続読み出し又は書き込みを行なわせる
几めKは、第1から第4のメモリブロックを区別する2
ビツトをメモリアドレスに含ませるか、あるいはメモリ
アドレスの下位2ピツトを用いて第1から第4のチップ
イネーブルクロックCBI〜CB4を作る必要がある。
又、同一のアドレス内容を連続して読み出したい場合に
は、1つのメモリブロックのチップイネーブルクロック
のみを使用するので、従来と同じアクセス時間及びサイ
クル時間となる。しかし、一般に、半導体メモリは異な
るアドレスの連続読み出し及び書き込みが大半であるの
で、本発明のよ5にメモリ情報を高速に連続読み出し及
び書き込みできる半導体記憶装置は実用上非常に有用で
ある。
は、1つのメモリブロックのチップイネーブルクロック
のみを使用するので、従来と同じアクセス時間及びサイ
クル時間となる。しかし、一般に、半導体メモリは異な
るアドレスの連続読み出し及び書き込みが大半であるの
で、本発明のよ5にメモリ情報を高速に連続読み出し及
び書き込みできる半導体記憶装置は実用上非常に有用で
ある。
(実施例2)
第3図は本発明の第二の実施例である。本実施例は前記
第一の実施例における4つのメモリブロックを空間的に
別々に配置するのではなく、第1と第2のメモリブロッ
ク、及び第3と第4のメモリプロ、りを重ねて配置した
ことに4?徴がある。
第一の実施例における4つのメモリブロックを空間的に
別々に配置するのではなく、第1と第2のメモリブロッ
ク、及び第3と第4のメモリプロ、りを重ねて配置した
ことに4?徴がある。
図において、第1のメモリブロックはワード線W1*
# WN愈a ピット線nxm# Bla 11 メモ
リセルC,,、C3露、入出力ゲート1.及びXデコー
ダ、Xデコーダから成る。第2のメモリプayりはワー
ド@W□、W0、ピット線B□、B0、メモリセルCa
m a Cam s センスアンプSm、入出力ゲー
)T、及びXデコーダ、Xデコーダから成る。第3のメ
モリブロックはワード線W、、 、 W、、、 ビ。
# WN愈a ピット線nxm# Bla 11 メモ
リセルC,,、C3露、入出力ゲート1.及びXデコー
ダ、Xデコーダから成る。第2のメモリプayりはワー
ド@W□、W0、ピット線B□、B0、メモリセルCa
m a Cam s センスアンプSm、入出力ゲー
)T、及びXデコーダ、Xデコーダから成る。第3のメ
モリブロックはワード線W、、 、 W、、、 ビ。
ト線Bat a Bet 、 メモリセルCm@ e
C9@、センスアンプS・、入出力ゲートT−及びX
デコーダ。
C9@、センスアンプS・、入出力ゲートT−及びX
デコーダ。
Xデコーダから成る。第4のメモリプayりはワード線
wax a was 、ピット線B4* @ 84m、
メモリセルC41s C’4m 、センスアンプS4
、入出力ゲートT4及びXデコーダ、Xデコーダから成
る。本実施例の動作は前記した第1の実施例とまったく
同様であり、第1から第4のメモリブロックが順順にア
クセスされるとともに、プリチャージも逆相で順々に行
なわれ、メモリ情報を従来のMO8RAMに比べて4倍
も高速に連続読み出し及び書き込みができる。
wax a was 、ピット線B4* @ 84m、
メモリセルC41s C’4m 、センスアンプS4
、入出力ゲートT4及びXデコーダ、Xデコーダから成
る。本実施例の動作は前記した第1の実施例とまったく
同様であり、第1から第4のメモリブロックが順順にア
クセスされるとともに、プリチャージも逆相で順々に行
なわれ、メモリ情報を従来のMO8RAMに比べて4倍
も高速に連続読み出し及び書き込みができる。
以上の2つの実施例以外K、本発明は互いに位相がずれ
て動作する複数のメモリブロックから構成されていさえ
すれば、いかなる屋式で配置されようとも、まったく同
じ効果が得られることは言うまでもない。
て動作する複数のメモリブロックから構成されていさえ
すれば、いかなる屋式で配置されようとも、まったく同
じ効果が得られることは言うまでもない。
またアクセスの方法として上記2つの実施例では第1〜
第4のメモリブロックを順々にアクセスしたが、第一→
第3というようにとびとびにアクセスしてもよい。
第4のメモリブロックを順々にアクセスしたが、第一→
第3というようにとびとびにアクセスしてもよい。
(発明の効果)
以上述べてきたように1本発明の半導体記憶装置を用い
ることにより、プリチャージ動作を必要とする半導体メ
モリで構成されているに本かかわらず、メモリ情報の読
み出しあるいは書きこみが従来のメモリに比べて数倍高
速に行なえる利点がある。又、各メモリブロックは互い
に位相をずらして動作するので、半導体基板や電源線の
電圧変動が互いに打ち消し合い、チップ全体として動作
マージンの大きい半導体装置となる利点もある。
ることにより、プリチャージ動作を必要とする半導体メ
モリで構成されているに本かかわらず、メモリ情報の読
み出しあるいは書きこみが従来のメモリに比べて数倍高
速に行なえる利点がある。又、各メモリブロックは互い
に位相をずらして動作するので、半導体基板や電源線の
電圧変動が互いに打ち消し合い、チップ全体として動作
マージンの大きい半導体装置となる利点もある。
第1図は本発明の第一の実施例を示すブロック図、第2
図はその動作を示す信号の波形図、第3図は本発明の第
二の実施例を示す回路構成図、第4図は従来の半導体記
憶装置の回路構成図である。 図中、Wはワード線、 Bはピット線、 Cは)l
q;:I)*ル、 8はセンスアンプ、Tは入出力ゲ
ート% tは時刻をそれぞれ示す。 第1図 オ 2 図 ↑0↑l t2↑3 t4↑5↑6 t、↑a
ts tlotllt12 ↑I3第3図
図はその動作を示す信号の波形図、第3図は本発明の第
二の実施例を示す回路構成図、第4図は従来の半導体記
憶装置の回路構成図である。 図中、Wはワード線、 Bはピット線、 Cは)l
q;:I)*ル、 8はセンスアンプ、Tは入出力ゲ
ート% tは時刻をそれぞれ示す。 第1図 オ 2 図 ↑0↑l t2↑3 t4↑5↑6 t、↑a
ts tlotllt12 ↑I3第3図
Claims (1)
- マトリックス状に配置した複数のメモリセルと、該メ
モリセルの選択ゲートに接続する複数本のワード線と、
該メモリセルの情報読み出しあるいは書きこみ線となる
複数本のビット線と、該ビット線の微少信号を増幅する
複数のセンスアンプと、前記複数本のワード線及びビッ
ト線から任意の線をそれぞれ選択するXデコーダ及びY
デコーダとを、それぞれ備えた複数のメモリブロックと
、基準クロック信号を分周して互いに位相のずれた複数
のクロック信号を発生させる分周回路とから構成され、
前記複数のメモリブロックがそれぞれ前記複数のクッロ
ク信号の高低2値レベルに応じて読み出し動作及びプリ
チャージ動作あるいは書き込み動作及びプリチャージ動
作を互いに位相をずらして行なうことを特徴とする半導
体記憶装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60073944A JPS61233496A (ja) | 1985-04-08 | 1985-04-08 | 半導体記憶装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60073944A JPS61233496A (ja) | 1985-04-08 | 1985-04-08 | 半導体記憶装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61233496A true JPS61233496A (ja) | 1986-10-17 |
Family
ID=13532718
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60073944A Pending JPS61233496A (ja) | 1985-04-08 | 1985-04-08 | 半導体記憶装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61233496A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6273491A (ja) * | 1985-09-25 | 1987-04-04 | Toshiba Corp | ダイナミツク型半導体記憶装置 |
JPS6378396A (ja) * | 1986-09-16 | 1988-04-08 | インタ−ナショナル・ビジネス・マシ−ンズ・コ−ポレ−ション | 半導体メモリ |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58141494A (ja) * | 1982-02-15 | 1983-08-22 | Toshiba Corp | メモリアクセス装置 |
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1985
- 1985-04-08 JP JP60073944A patent/JPS61233496A/ja active Pending
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