JPS5856287A - 半導体回路 - Google Patents
半導体回路Info
- Publication number
- JPS5856287A JPS5856287A JP56154347A JP15434781A JPS5856287A JP S5856287 A JPS5856287 A JP S5856287A JP 56154347 A JP56154347 A JP 56154347A JP 15434781 A JP15434781 A JP 15434781A JP S5856287 A JPS5856287 A JP S5856287A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- digit
- dummy
- rfend
- sense amplifier
- low level
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/21—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
- G11C11/34—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
- G11C11/40—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
- G11C11/401—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells
- G11C11/406—Management or control of the refreshing or charge-regeneration cycles
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Dram (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は半導体素子によって構成された回路に関し、特
に絶縁ゲート型電界効果トランジスタを用いた半導体回
路に関するものである。
に絶縁ゲート型電界効果トランジスタを用いた半導体回
路に関するものである。
以下の説明はすべて絶縁ゲート型電界効果トランジスタ
のうち代表的なMOS トラyジスタ(以下MO8Tと
称す)を用い、かつNチャネルMusTで行ない、高レ
ベルが論理“1″レベルであり、低レベルが論理“10
1”レベルである。しかし回路的にはPチャネルMO8
Tでも本質的に同様である。
のうち代表的なMOS トラyジスタ(以下MO8Tと
称す)を用い、かつNチャネルMusTで行ない、高レ
ベルが論理“1″レベルであり、低レベルが論理“10
1”レベルである。しかし回路的にはPチャネルMO8
Tでも本質的に同様である。
ダイナミックMO8ランダムアクセスメモリは大容量、
低電力という特質を生かして広範なシステムで用いられ
ているが、セル自答がリークにより失われるのを防ぐた
めリフレッシ−・アドレスのすべでの組合せについて通
常2mBの間隔で、1ノフレツシユ・サイクルを設ける
必要かある。このためり7レクシユ一コントロール回M
をメモリと共にボードに搭載しなければならず、スタテ
ィック・メモリに比べ、煩雑なタイミング・コントロー
ルが余分に必要、かつ装置a上の場所を占めるという難
点がある。メモリの数が少なくなる程この欠点は当然目
立ち、マイクロプロセサなどの小規模システムではリフ
レッシュ−コントロールの比率がメモリと比較できる程
度に大きくなる。そこで、このリフレッシュ・コントロ
ールをチップ上で行なえるようにしたダイナミックRA
Mの製品分野がひらけ、Pseudo−8tatic
(擬スタティック。以下PSと称す。)RAMと呼ばれ
ている。
低電力という特質を生かして広範なシステムで用いられ
ているが、セル自答がリークにより失われるのを防ぐた
めリフレッシ−・アドレスのすべでの組合せについて通
常2mBの間隔で、1ノフレツシユ・サイクルを設ける
必要かある。このためり7レクシユ一コントロール回M
をメモリと共にボードに搭載しなければならず、スタテ
ィック・メモリに比べ、煩雑なタイミング・コントロー
ルが余分に必要、かつ装置a上の場所を占めるという難
点がある。メモリの数が少なくなる程この欠点は当然目
立ち、マイクロプロセサなどの小規模システムではリフ
レッシュ−コントロールの比率がメモリと比較できる程
度に大きくなる。そこで、このリフレッシュ・コントロ
ールをチップ上で行なえるようにしたダイナミックRA
Mの製品分野がひらけ、Pseudo−8tatic
(擬スタティック。以下PSと称す。)RAMと呼ばれ
ている。
これハ外部端子にリフレッシュ・コントロール・クロッ
ク(以下RF8Hと表わす。)を設け、ダイナミックR
AMのチップ上にリフレッシュ・タイミング発生回路及
びリフレッシュ−アドレス争カウンタ回路を置いて%R
FSHを所定の条件通り入力すればチップ内部で自動的
にリフレッシュが行なわれるというもので外からはスタ
ティックにみえるということでこの名がある。ダイナミ
ックの大容量を備え且つリフレッシュΦコントロールが
外部的に・不要、即ち、スタティックと同等に扱えると
いうことが利点となる。
ク(以下RF8Hと表わす。)を設け、ダイナミックR
AMのチップ上にリフレッシュ・タイミング発生回路及
びリフレッシュ−アドレス争カウンタ回路を置いて%R
FSHを所定の条件通り入力すればチップ内部で自動的
にリフレッシュが行なわれるというもので外からはスタ
ティックにみえるということでこの名がある。ダイナミ
ックの大容量を備え且つリフレッシュΦコントロールが
外部的に・不要、即ち、スタティックと同等に扱えると
いうことが利点となる。
以下図面を用いて説明する。第1図にP 8 RAMで
自動的にチップ内部でリフレッシュ、を行なわせるため
の人力タイミングを示ず。基本クロックをCE(チップ
・イネイブル)とすると高レベルから低レベルに変化し
て活性期間に入り、ライト、或いはリード動作が行なわ
れる。所要の動作が終了してから、CEをスタンドバイ
状態の高レベルに戻すと内部回路はリセットされ、プリ
チャージ期間に入る。プリチャージ動作完了後14Fs
i(を高レベルから低レベルに変化させることができる
。
自動的にチップ内部でリフレッシュ、を行なわせるため
の人力タイミングを示ず。基本クロックをCE(チップ
・イネイブル)とすると高レベルから低レベルに変化し
て活性期間に入り、ライト、或いはリード動作が行なわ
れる。所要の動作が終了してから、CEをスタンドバイ
状態の高レベルに戻すと内部回路はリセットされ、プリ
チャージ期間に入る。プリチャージ動作完了後14Fs
i(を高レベルから低レベルに変化させることができる
。
この変化を受けてり7レツシ:Leタイミング発生II
Mが作動し、行アドレス・インバータ番バッファにリフ
レッシュψアト1/ス争カウンタの内容が入力として伝
えられ、外部アドレス人力はこのとき切り離される。基
本クロック発生回路が続いて作動し、リフレッシュ・゛
rドレス・カウンタで指定されるワード線上のセル内容
がリフレッシュされるまでの一連の動作が行なわれる。
Mが作動し、行アドレス・インバータ番バッファにリフ
レッシュψアト1/ス争カウンタの内容が入力として伝
えられ、外部アドレス人力はこのとき切り離される。基
本クロック発生回路が続いて作動し、リフレッシュ・゛
rドレス・カウンタで指定されるワード線上のセル内容
がリフレッシュされるまでの一連の動作が行なわれる。
ここでリフレッシ−動作が終了すると内部回路で自動的
にリセット・プリチャージ状態に戻す機能が要求される
。これは几FSH人力のタイミング自由度を上げるだめ
にも、RFSHを低レベルに長い時装置いておくと、内
部に設けられたタイマー回路の同期で自動的にリフレッ
シュが行なわれるというパワー・ダウン・セルフ・リフ
レッシュを得るためにも必要なものである。従ってこの
機能があればRFSHを高レベルに戻す時刻は低レベル
の期間が充分ありさえすれば制限はなくなる。但し、次
のCB活性化の前にRFSHを高レベルにしておかなけ
ればならないという条件はある。この機能を実現するた
めに内部リフレッシ−終了確認信号(lFRE8Hm。
にリセット・プリチャージ状態に戻す機能が要求される
。これは几FSH人力のタイミング自由度を上げるだめ
にも、RFSHを低レベルに長い時装置いておくと、内
部に設けられたタイマー回路の同期で自動的にリフレッ
シュが行なわれるというパワー・ダウン・セルフ・リフ
レッシュを得るためにも必要なものである。従ってこの
機能があればRFSHを高レベルに戻す時刻は低レベル
の期間が充分ありさえすれば制限はなくなる。但し、次
のCB活性化の前にRFSHを高レベルにしておかなけ
ればならないという条件はある。この機能を実現するた
めに内部リフレッシ−終了確認信号(lFRE8Hm。
以下RFFINDと称す。)が必要となる。
P 8 R,AMはマイクロプロセサ志向の製品である
から、入力タイミングの自由度が強く要求されると共に
パワー・ダウン動作は実使用上非常に有効である。この
意味でRFENDはP S RAMで最も重要なタイミ
ングである。
から、入力タイミングの自由度が強く要求されると共に
パワー・ダウン動作は実使用上非常に有効である。この
意味でRFENDはP S RAMで最も重要なタイミ
ングである。
几FENDの発生方式を回路全体のブロック図に位置付
けて表わすと第2図のようになる。セル・ブロック11
の端に1列ダト1ディジット12を設け、これから几F
FINDが発生される。メモリら セルの配列をm行×n列とすると、ダミー・ディジット
はm行×1列と表わされ、センスアンプ13は他の列と
同様に1組魚かれるが列デコーダ13及びI10バス1
4には接続されない。
けて表わすと第2図のようになる。セル・ブロック11
の端に1列ダト1ディジット12を設け、これから几F
FINDが発生される。メモリら セルの配列をm行×n列とすると、ダミー・ディジット
はm行×1列と表わされ、センスアンプ13は他の列と
同様に1組魚かれるが列デコーダ13及びI10バス1
4には接続されない。
従来のRF’1)ND発生回路を第3図に示す。この1
1m18UI8SCCDIGIDST OF TFiC
HNTCATJPAPF)几8.P144−145.F
1.,1979にて報告されている。センスアンプをは
さんでディジット線Nl、N2があり、セル・トランジ
スタMO8TQ3.Q5がそれぞれ接続されでいる。こ
の部分が第2図のダミー・ディジットに相当する。MO
8TQ3.Q5は正規のセル・ブロックと同数あってワ
ード線を共有してもよいし、負荷インピーダンス(容置
、抵抗)を同一に揃えるように設けてもよいとこの場合
は考えられる。第3図のIIjl路動作全動作するため
の波形図を第4図に示す。選択セルのワード線が上昇す
る前にタイミング・クロックφ1が高レベルから低レベ
ルに移行する。コンデンサC2によりディジットMN2
はプリチャージ電位から容購分割分、電位降下する。デ
、「ジッ−6〜 )1jlN1に接続されているコンデンサC1はディジ
ット線負荷容量を揃えるためC2と同じ値にとっである
。対極は接地されているので、このときN1はプリチャ
ージ電位のままで変化はない。選択ワード線の上昇はダ
ミー・ディジットには関係ないがセンスアンプの活性化
は正規のブロックと同等に行なわれる。センスアンプの
ラッチ節点がSEの上昇により放電されるとダミー・デ
ィジットのNl、N2にはφ1により電位差が充分つけ
られており、Nlはプリチャージ期間のままで、N2が
大地電位に移行する。MO8TQ6〜Q9で構成される
回路により、N2のレベルを受けて、RFENDが発生
ずる。φ2はSEとほぼ同時刻に上昇しN2が低レベル
になり、MO8T C7及びC8が非導通になるとMO
8TQ6を通して几FENDを上昇させるように働く。
1m18UI8SCCDIGIDST OF TFiC
HNTCATJPAPF)几8.P144−145.F
1.,1979にて報告されている。センスアンプをは
さんでディジット線Nl、N2があり、セル・トランジ
スタMO8TQ3.Q5がそれぞれ接続されでいる。こ
の部分が第2図のダミー・ディジットに相当する。MO
8TQ3.Q5は正規のセル・ブロックと同数あってワ
ード線を共有してもよいし、負荷インピーダンス(容置
、抵抗)を同一に揃えるように設けてもよいとこの場合
は考えられる。第3図のIIjl路動作全動作するため
の波形図を第4図に示す。選択セルのワード線が上昇す
る前にタイミング・クロックφ1が高レベルから低レベ
ルに移行する。コンデンサC2によりディジットMN2
はプリチャージ電位から容購分割分、電位降下する。デ
、「ジッ−6〜 )1jlN1に接続されているコンデンサC1はディジ
ット線負荷容量を揃えるためC2と同じ値にとっである
。対極は接地されているので、このときN1はプリチャ
ージ電位のままで変化はない。選択ワード線の上昇はダ
ミー・ディジットには関係ないがセンスアンプの活性化
は正規のブロックと同等に行なわれる。センスアンプの
ラッチ節点がSEの上昇により放電されるとダミー・デ
ィジットのNl、N2にはφ1により電位差が充分つけ
られており、Nlはプリチャージ期間のままで、N2が
大地電位に移行する。MO8TQ6〜Q9で構成される
回路により、N2のレベルを受けて、RFENDが発生
ずる。φ2はSEとほぼ同時刻に上昇しN2が低レベル
になり、MO8T C7及びC8が非導通になるとMO
8TQ6を通して几FENDを上昇させるように働く。
MO8TQ1及びC2は、MO8TQ7及びC8と同一
寸法にとり、ディジット線Nl、’N2の負荷容量をバ
ランスさせるためのものである。RFENDが上昇する
と第2図の入力バッファ・コン)cr−ル論理部に伝わ
り基本クロック発生回路がリセットされて第1図に示す
ようにプリチャージ期間に入ることになる。
寸法にとり、ディジット線Nl、’N2の負荷容量をバ
ランスさせるためのものである。RFENDが上昇する
と第2図の入力バッファ・コン)cr−ル論理部に伝わ
り基本クロック発生回路がリセットされて第1図に示す
ようにプリチャージ期間に入ることになる。
第3図のRFEND発生回路の従来例は次に示す問題点
がある。几Ii’ENDが上昇して活性期間が終了する
ことになるがこの時点でディジット線の低レベルは充分
低い値になっていなければならない。
がある。几Ii’ENDが上昇して活性期間が終了する
ことになるがこの時点でディジット線の低レベルは充分
低い値になっていなければならない。
セル・レベルで完全に0vFCなっているのが最も望ま
しく持ち上っていく程セルの読み出し動作マージンが削
られることになる。第5図に示すようにダミー・ディジ
ットはクロックφ1により差信号が与えられ、センス・
アンプの活性化により、N2が低レベルに移行しその結
果RF’1DNDが上昇していく。一方実際のメモリセ
ル曽ブロックのディジット線では選択ワード線が上昇し
てから、セル信号があら;bれ差電圧が生じる。センス
アンプが活性化されるとその差が拡がるが各ディジット
についてディジット線容量、センスアンプ、フリップ・
70ツブ対のMO8Tのβ(電流増幅率)、%(11値
電圧)のアンバランスにより拡がり具合に差を生じる。
しく持ち上っていく程セルの読み出し動作マージンが削
られることになる。第5図に示すようにダミー・ディジ
ットはクロックφ1により差信号が与えられ、センス・
アンプの活性化により、N2が低レベルに移行しその結
果RF’1DNDが上昇していく。一方実際のメモリセ
ル曽ブロックのディジット線では選択ワード線が上昇し
てから、セル信号があら;bれ差電圧が生じる。センス
アンプが活性化されるとその差が拡がるが各ディジット
についてディジット線容量、センスアンプ、フリップ・
70ツブ対のMO8Tのβ(電流増幅率)、%(11値
電圧)のアンバランスにより拡がり具合に差を生じる。
アンバランスの大きいディジット線ではセンスアンプ活
性化時に、差信号がアンバランス分削られて、もつれが
生じる。この結果低レベルへの移行がダミー・ディジッ
トより遅れ几FENI)が上昇して活性期間が終了した
時点でリフレッシュ低レベルがまだ充分に落ちきってい
ない危険性がある。この場合、次のそのセルの読み出し
では動作マージンが狭められるか或いは誤動作に連がっ
てしまう。
性化時に、差信号がアンバランス分削られて、もつれが
生じる。この結果低レベルへの移行がダミー・ディジッ
トより遅れ几FENI)が上昇して活性期間が終了した
時点でリフレッシュ低レベルがまだ充分に落ちきってい
ない危険性がある。この場合、次のそのセルの読み出し
では動作マージンが狭められるか或いは誤動作に連がっ
てしまう。
本発明はこのような問題点を解決するためダミー・ディ
ジットを通常のメモリセルやブロックと同等若しくは悪
めの条件に置く。即ち、ダミー・ディジットの低レベル
移行を通常のディジット線のそれより遅れぬになるよう
にして几FF1NDが上昇するときにはすべてのディジ
ット線の低レベルが充分低い値になるようにしている。
ジットを通常のメモリセルやブロックと同等若しくは悪
めの条件に置く。即ち、ダミー・ディジットの低レベル
移行を通常のディジット線のそれより遅れぬになるよう
にして几FF1NDが上昇するときにはすべてのディジ
ット線の低レベルが充分低い値になるようにしている。
本発明によればm行n列に配置された1トランジスタ・
メモリセル、及びn個のセンスアンプを含むMOSダイ
ナミックRAMにおいて、m行1列のセル、及び1個の
センスアンプから成るダミーのディジットを余分に設け
、ワード線、及びセ9− ンスアンプ活性化信号は正規の配列と共通にし、そのセ
ンスアンプをはさむ真及び補のディジット線の一方がセ
ンスアンプ活性死後充分低レベルになってから上昇する
信号を得ることを[」的に前記ダミーのディジットの真
及び補の両方のディジット線を入力とし、いずれか一方
が充分低レベルになったことを感知して、出力が活性化
されるような構成をとり、活性期間を終了させプリチャ
ージ期間に移行させる機能を特徴とする内部リフレツシ
二動作終了確認信号の発生回路が得られる。
メモリセル、及びn個のセンスアンプを含むMOSダイ
ナミックRAMにおいて、m行1列のセル、及び1個の
センスアンプから成るダミーのディジットを余分に設け
、ワード線、及びセ9− ンスアンプ活性化信号は正規の配列と共通にし、そのセ
ンスアンプをはさむ真及び補のディジット線の一方がセ
ンスアンプ活性死後充分低レベルになってから上昇する
信号を得ることを[」的に前記ダミーのディジットの真
及び補の両方のディジット線を入力とし、いずれか一方
が充分低レベルになったことを感知して、出力が活性化
されるような構成をとり、活性期間を終了させプリチャ
ージ期間に移行させる機能を特徴とする内部リフレツシ
二動作終了確認信号の発生回路が得られる。
本発明の基本構成を第6図に示す。n個の差動センスア
ンプ(SA)をはさんでm行n列のメモリセル(Q、セ
ンスアンプ上下2行のり電−・セルのが配置されている
。本発明によるILF’END発生回路の構成は、点線
枠内で示される。通常のセル配列と同じ構成のダミー・
ディジットを1列設はワード線、及びセンスアンプ活性
化信号は、通常のセル・ブロックと共有である。通常の
セル・ブロックは、Yデコーダ出力Yl、Y2.・・・
、YnO内1個が活性化されるのを受けて選択セルの情
10− 報がセンスアンプによりディジット線上で増幅されてか
ら選択Yデコーダ・スイッチのMO8Tを通して、デー
タ入出力バスに伝えられる。データ・アンプ(DA)に
よりデータ入出力バス上で更に増幅されて出力バッ7ア
に伝わり、出力バッファが続いて活性化されて、出力端
子(DATA 0UT)にデータが得られる。選択ワー
ド線が上昇するとダミー・ディジットについてもセル及
びダミー・セルの情報がディジット線にあられれる。セ
ンスアンプが活性化されると、ダミー・ディジットのセ
ンスアンプは通常のセル・ブロックと同様の動作を示す
。ダミー−ディジットの真補ディジット線の両方を入力
として、RFENDが発生される。
ンプ(SA)をはさんでm行n列のメモリセル(Q、セ
ンスアンプ上下2行のり電−・セルのが配置されている
。本発明によるILF’END発生回路の構成は、点線
枠内で示される。通常のセル配列と同じ構成のダミー・
ディジットを1列設はワード線、及びセンスアンプ活性
化信号は、通常のセル・ブロックと共有である。通常の
セル・ブロックは、Yデコーダ出力Yl、Y2.・・・
、YnO内1個が活性化されるのを受けて選択セルの情
10− 報がセンスアンプによりディジット線上で増幅されてか
ら選択Yデコーダ・スイッチのMO8Tを通して、デー
タ入出力バスに伝えられる。データ・アンプ(DA)に
よりデータ入出力バス上で更に増幅されて出力バッ7ア
に伝わり、出力バッファが続いて活性化されて、出力端
子(DATA 0UT)にデータが得られる。選択ワー
ド線が上昇するとダミー・ディジットについてもセル及
びダミー・セルの情報がディジット線にあられれる。セ
ンスアンプが活性化されると、ダミー・ディジットのセ
ンスアンプは通常のセル・ブロックと同様の動作を示す
。ダミー−ディジットの真補ディジット線の両方を入力
として、RFENDが発生される。
即ち、一方のディジノ+[が充分低レベルになってから
RFENDが活性化されるよう構成される。
RFENDが活性化されるよう構成される。
このディジット線には、Yデコーダ・スイッチは接続さ
れず、代わりにRFEND発生回路の入力となるので負
荷容量は、セル・ブロックと同等か、或いは大きめとな
る。どうしてもダミ−・ディジットのセンス動作条件を
悪めに置こうとするため11− には、Yデコーダ・スイッチ相当のMO8Tを働かない
ように接続して負荷のバランスを計ればよい。
れず、代わりにRFEND発生回路の入力となるので負
荷容量は、セル・ブロックと同等か、或いは大きめとな
る。どうしてもダミ−・ディジットのセンス動作条件を
悪めに置こうとするため11− には、Yデコーダ・スイッチ相当のMO8Tを働かない
ように接続して負荷のバランスを計ればよい。
このときダミーやディジットの低レベルへの%に行は通
常のディジット線へのそれより遅めとなり、RFEND
が上昇する時点でkJ: 、全てのディジット線の低レ
ベル側は充分低い値にな−〕でいるという条件が殆んど
の場合溜足できる。たとえダミー・ディジットで誤動作
が生じることがあっても、センスアンプ活性化後どらら
か一方のディジット線が必らず低レベルに移行するので
TIFENI)発生には支障をきたさない。
常のディジット線へのそれより遅めとなり、RFEND
が上昇する時点でkJ: 、全てのディジット線の低レ
ベル側は充分低い値にな−〕でいるという条件が殆んど
の場合溜足できる。たとえダミー・ディジットで誤動作
が生じることがあっても、センスアンプ活性化後どらら
か一方のディジット線が必らず低レベルに移行するので
TIFENI)発生には支障をきたさない。
本発明の具体的な実施例を第7図に主要タイミング及び
節点の波形図を第8図に示す。第8図かられかるように
基本クロック(1’lj’ リフレッシ−・コントロ
ールφクロックR1’ 81−I k IIi’# エ
タPS 1(AIVで第1図と同じ入力タイミング設定
である。RJi”SHが非活性、即ち高レベルにあっ゛
(:、CIOが活性化されると、データの読み出し、′
eI@込みという通常の動作サイクルとなる。即ちCB
が低レベルに移行するとプリチャージ・タイミングPi
、 P22 が順次大地電位に下降し、セル・ブロックのディジット
線及びダミー・ディジット線はVMレベルで高インピー
ダンス状態に置かれる。RFEND発生回路の節点4及
び5はダミー・ディジットのこのプリチャージ・レベル
をゲートに受けるMO8TQ11及びQ14により、そ
れぞれ大地電位に保たれる。選択ワード線が上昇して、
セル・ブロックのディジノ)N及びダミー・ディジット
線に選択メモリセルの情報があられれ、次にセンスアン
プの活性化タイミングSDI及びSB2が続いて上昇し
て、ディジッDJ上で増幅される。読み出し或いは書き
込みの選択信号が外部から入り、セルブロックの選択デ
ィジット線がYデコーダスイッチを介してデータ入出力
バスに接続され、読み出し或いは書き込み動作が行なわ
れる。ダミー・ディジットでもセンスアンプ活性化が同
時に行なわれ、前述のように通常のセル・ブロックより
遅めの増幅動作となる。ダミー・ディジットの節点1が
高レベルのまま節点2が低レベルに移行するものと考え
る。8E2の上昇を受け、MO8TQ1013− 及びQ13が導通ずるがMO8’l”QllはMOS
TQIOより及びMO8TQ14はMO8TQ13より
電流能力を充分大きくとってあり、節点4は節点1が高
レベルのままであるから、低レベルに保たれる。節点2
が低レベルに移行してMO8TQ14が非導通になると
、節点5が上昇し、節点6がMO8TQ18により放電
される。jlj”3点8はSB2により既に充電されて
おり、MO8TQ24が非導通になると、ブート・スト
ラップ容置により、さらにレベルが上昇して、MO8T
Q23及びQ25を非飽和領域に駆動する。その結果、
節点10が電源レベルまで上昇する。RFSIIがW6
レベルにあるときは内部リフレッシュ・タイミングのプ
リチャージ・タイミングであるPRIは高レベル、活性
化タイミングであるRFIは大地電位にある。従って節
点10が上昇するものの節点11及びRFENDはこの
ときは大地電位に保たれる。CFIを高レベルに戻すと
回路はリセットされ、次にプリチャージ動作が行なわれ
る。所要のプリチャージ期間後、CEは高レベルのまま
RFSI(を活性化=14− して内部リフレッシ−動作が得られる。RFSHが低レ
ベルになると、PRIは大地電位に移行し、次にRF”
lが上昇する。これを受は第2図の人力バッファ・コン
トロール論理の部分が働いて基本クロック発生回路が動
き出す。リフレッシュ・アドレス・カウンタで指定され
る行番地のセルのりフレッシー動作が行なわれる。ワー
ド線が上昇してセンスアンプが活性化されるまでは、前
述のCEが活性化される場合と同じであるが、この場合
、Yデコーダは活性化されず、入出力バス以降ハフリチ
ャージ状態のままである。セル・ブロックのディジット
線と同時か遅めにダミー・ディジット線上でセル情報が
増幅され、節点2が低レベルに向かう、とすれば前述し
た経過をふんで節点10が上昇する。節点11は今度は
R,Piによりプリチャージされており、節点10の上
昇はMO8TQ30が非飽和領域に駆動されるため、直
ちに追随する形で几FENDに伝わる。RF’ENDが
上昇すると、内部リフレッシュ・タイミングがリセット
され、RFIが大地電位に移行してからPRlが上昇す
る。これが入カバッファーコントロール論理部に伝わり
基本クロック発生回路がリセットされ、プリチャージ期
間に入ることになる。内部リフレッシュの活性期間は前
述したように几FENDの上昇により自動的に終了し、
几FSI(を高レベルに戻す時刻は関与しない。ダミー
・ディジット線の節点1及び節点2は、セル・ブT2
ツクのディジッ)[3に比べMO8T Qll及びQ1
4が加わり)連ぐ配線もあるので、負荷容量はこの分j
Rくなる。
節点の波形図を第8図に示す。第8図かられかるように
基本クロック(1’lj’ リフレッシ−・コントロ
ールφクロックR1’ 81−I k IIi’# エ
タPS 1(AIVで第1図と同じ入力タイミング設定
である。RJi”SHが非活性、即ち高レベルにあっ゛
(:、CIOが活性化されると、データの読み出し、′
eI@込みという通常の動作サイクルとなる。即ちCB
が低レベルに移行するとプリチャージ・タイミングPi
、 P22 が順次大地電位に下降し、セル・ブロックのディジット
線及びダミー・ディジット線はVMレベルで高インピー
ダンス状態に置かれる。RFEND発生回路の節点4及
び5はダミー・ディジットのこのプリチャージ・レベル
をゲートに受けるMO8TQ11及びQ14により、そ
れぞれ大地電位に保たれる。選択ワード線が上昇して、
セル・ブロックのディジノ)N及びダミー・ディジット
線に選択メモリセルの情報があられれ、次にセンスアン
プの活性化タイミングSDI及びSB2が続いて上昇し
て、ディジッDJ上で増幅される。読み出し或いは書き
込みの選択信号が外部から入り、セルブロックの選択デ
ィジット線がYデコーダスイッチを介してデータ入出力
バスに接続され、読み出し或いは書き込み動作が行なわ
れる。ダミー・ディジットでもセンスアンプ活性化が同
時に行なわれ、前述のように通常のセル・ブロックより
遅めの増幅動作となる。ダミー・ディジットの節点1が
高レベルのまま節点2が低レベルに移行するものと考え
る。8E2の上昇を受け、MO8TQ1013− 及びQ13が導通ずるがMO8’l”QllはMOS
TQIOより及びMO8TQ14はMO8TQ13より
電流能力を充分大きくとってあり、節点4は節点1が高
レベルのままであるから、低レベルに保たれる。節点2
が低レベルに移行してMO8TQ14が非導通になると
、節点5が上昇し、節点6がMO8TQ18により放電
される。jlj”3点8はSB2により既に充電されて
おり、MO8TQ24が非導通になると、ブート・スト
ラップ容置により、さらにレベルが上昇して、MO8T
Q23及びQ25を非飽和領域に駆動する。その結果、
節点10が電源レベルまで上昇する。RFSIIがW6
レベルにあるときは内部リフレッシュ・タイミングのプ
リチャージ・タイミングであるPRIは高レベル、活性
化タイミングであるRFIは大地電位にある。従って節
点10が上昇するものの節点11及びRFENDはこの
ときは大地電位に保たれる。CFIを高レベルに戻すと
回路はリセットされ、次にプリチャージ動作が行なわれ
る。所要のプリチャージ期間後、CEは高レベルのまま
RFSI(を活性化=14− して内部リフレッシ−動作が得られる。RFSHが低レ
ベルになると、PRIは大地電位に移行し、次にRF”
lが上昇する。これを受は第2図の人力バッファ・コン
トロール論理の部分が働いて基本クロック発生回路が動
き出す。リフレッシュ・アドレス・カウンタで指定され
る行番地のセルのりフレッシー動作が行なわれる。ワー
ド線が上昇してセンスアンプが活性化されるまでは、前
述のCEが活性化される場合と同じであるが、この場合
、Yデコーダは活性化されず、入出力バス以降ハフリチ
ャージ状態のままである。セル・ブロックのディジット
線と同時か遅めにダミー・ディジット線上でセル情報が
増幅され、節点2が低レベルに向かう、とすれば前述し
た経過をふんで節点10が上昇する。節点11は今度は
R,Piによりプリチャージされており、節点10の上
昇はMO8TQ30が非飽和領域に駆動されるため、直
ちに追随する形で几FENDに伝わる。RF’ENDが
上昇すると、内部リフレッシュ・タイミングがリセット
され、RFIが大地電位に移行してからPRlが上昇す
る。これが入カバッファーコントロール論理部に伝わり
基本クロック発生回路がリセットされ、プリチャージ期
間に入ることになる。内部リフレッシュの活性期間は前
述したように几FENDの上昇により自動的に終了し、
几FSI(を高レベルに戻す時刻は関与しない。ダミー
・ディジット線の節点1及び節点2は、セル・ブT2
ツクのディジッ)[3に比べMO8T Qll及びQ1
4が加わり)連ぐ配線もあるので、負荷容量はこの分j
Rくなる。
従って、センスアンプの動作条件も厳しめとなり活性化
時の低レベルへの移行Q」遅めになると考えられる。こ
れよりRFENDが上昇し、活性期間が終了する時点で
は、セル・ブC?ツタのディジット線のリフレッシュ・
レベルに論理的に充分確定したものになっている。
時の低レベルへの移行Q」遅めになると考えられる。こ
れよりRFENDが上昇し、活性期間が終了する時点で
は、セル・ブC?ツタのディジット線のリフレッシュ・
レベルに論理的に充分確定したものになっている。
別の実施例を第9図に示す。第7図との相違はダミー・
ディジット全2列設け、相補の計4本のディジット線が
Rli”END発生回路の入力になっていること、及び
2列のダミー・ディジットに互いに逆の情報を書き込む
ゲートMO8TQI〜Q4が接続されていることである
。第7図の場合、ダミー・ディジットには書き込みゲー
トがないので、セルには電源投入時に決められたレベル
がそのまま残る。セル高レベル、及び低レベルの接み出
し動作マージンに差があれば、RFENDはての厳しめ
の方の応答結果を得てから上昇するのが望ましい。第9
図では書き込みサイクルで2列のダ4.−ディジットの
一方に高レベル、他方に低レベルが毎回書き込まれる。
ディジット全2列設け、相補の計4本のディジット線が
Rli”END発生回路の入力になっていること、及び
2列のダミー・ディジットに互いに逆の情報を書き込む
ゲートMO8TQI〜Q4が接続されていることである
。第7図の場合、ダミー・ディジットには書き込みゲー
トがないので、セルには電源投入時に決められたレベル
がそのまま残る。セル高レベル、及び低レベルの接み出
し動作マージンに差があれば、RFENDはての厳しめ
の方の応答結果を得てから上昇するのが望ましい。第9
図では書き込みサイクルで2列のダ4.−ディジットの
一方に高レベル、他方に低レベルが毎回書き込まれる。
このR,FENDEND発生回路高レベル及び低レベル
読み出しのダミー・ディジット線の内、低レベルへの移
行の遅い方が充分低下してから几FENDが上昇するよ
うな論理構成がとっである。従って、この場合、上記の
要求が満足されることになる。
読み出しのダミー・ディジット線の内、低レベルへの移
行の遅い方が充分低下してから几FENDが上昇するよ
うな論理構成がとっである。従って、この場合、上記の
要求が満足されることになる。
以上述べたように本発明によればチップ内部で自動的に
リフレッシ−を行なわせる場合必要になるリフレッシュ
動作終了確認信号RF’ENDをセルブロックの各セン
スアンプの活性化動作が充分成されてから、上昇させる
ことができ、P8RAMは勿論、大容量ダイナミックR
AMでセンスアンプ17− 動作の終了確認が内部ターr友ング・クロック発生に必
要な場合に有効となる。
リフレッシ−を行なわせる場合必要になるリフレッシュ
動作終了確認信号RF’ENDをセルブロックの各セン
スアンプの活性化動作が充分成されてから、上昇させる
ことができ、P8RAMは勿論、大容量ダイナミックR
AMでセンスアンプ17− 動作の終了確認が内部ターr友ング・クロック発生に必
要な場合に有効となる。
第1図はPsRAMでの内部リフレッシュる一tテなわ
せる人力タイミングを示し、第2図1:PsRAMの回
路ブロック図を示し、第3図は従来の1?Ji″END
発生回路を示し、第4図は第3図の回路動作を説明する
ための波形図を示し、第5図は従来の肝かの発生回路に
おける問題点を説明し、第6図は本発明の基本構成を示
し、第7図は本発1υjの具体的な実施例を示し、lr
8図は第7図における主要タイミング及び節点の波形を
示し、珀9図は本発明の別の実施例を示す。 11:セルブロック、12:ダミーディジット13:列
デコーダ。 IL 18−
せる人力タイミングを示し、第2図1:PsRAMの回
路ブロック図を示し、第3図は従来の1?Ji″END
発生回路を示し、第4図は第3図の回路動作を説明する
ための波形図を示し、第5図は従来の肝かの発生回路に
おける問題点を説明し、第6図は本発明の基本構成を示
し、第7図は本発1υjの具体的な実施例を示し、lr
8図は第7図における主要タイミング及び節点の波形を
示し、珀9図は本発明の別の実施例を示す。 11:セルブロック、12:ダミーディジット13:列
デコーダ。 IL 18−
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 m行n列に配置された1トランジスタ・メモリセル、及
びn個のセンスアンプを含むMOSダイナミック−ラン
ダム・アクセス−メモリにおいてm行IMのセル及び1
個のセンスアンプから成るダミーのディジットを余分に
設け、ワード線及びセンスアンプ活性化信号は正規の配
列と共通にしそのセンスアンプをはさむ真及び補のディ
ジット線の一方がセンスアンプ活性化後前記ダミーのデ
ィジットにおける真及び補の両方のデイツク)Mを入力
とし、いずれか一方が充分低レベルになったことを感知
して出力が活性化されるような構成をとり、活性期間を
終了させプリチャージ期間に移行させる機能を有するこ
とを特徴とする半導体回路。 1−
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56154347A JPS5856287A (ja) | 1981-09-29 | 1981-09-29 | 半導体回路 |
DE8282109005T DE3279896D1 (en) | 1981-09-29 | 1982-09-29 | Memory circuit |
EP82109005A EP0075942B1 (en) | 1981-09-29 | 1982-09-29 | Memory circuit |
US06/428,517 US4500974A (en) | 1981-09-29 | 1982-09-29 | Memory circuit |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56154347A JPS5856287A (ja) | 1981-09-29 | 1981-09-29 | 半導体回路 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5856287A true JPS5856287A (ja) | 1983-04-02 |
JPH0223958B2 JPH0223958B2 (ja) | 1990-05-25 |
Family
ID=15582168
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP56154347A Granted JPS5856287A (ja) | 1981-09-29 | 1981-09-29 | 半導体回路 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4500974A (ja) |
EP (1) | EP0075942B1 (ja) |
JP (1) | JPS5856287A (ja) |
DE (1) | DE3279896D1 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60163295A (ja) * | 1984-02-03 | 1985-08-26 | Hitachi Ltd | 半導体記憶装置 |
JPS62197990A (ja) * | 1986-02-25 | 1987-09-01 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体記憶回路 |
Families Citing this family (10)
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---|---|---|---|---|
US4627032A (en) * | 1983-11-25 | 1986-12-02 | At&T Bell Laboratories | Glitch lockout circuit for memory array |
US4870616A (en) * | 1987-09-29 | 1989-09-26 | Maryland | Compact register set using a psram array |
JPH0430388A (ja) * | 1990-05-25 | 1992-02-03 | Oki Electric Ind Co Ltd | 半導体記憶回路 |
US5272676A (en) * | 1990-11-20 | 1993-12-21 | Hitachi, Ltd. | Semiconductor integrated circuit device |
US5430680A (en) * | 1993-10-12 | 1995-07-04 | United Memories, Inc. | DRAM having self-timed burst refresh mode |
US6587896B1 (en) * | 1998-02-27 | 2003-07-01 | Micron Technology, Inc. | Impedance matching device for high speed memory bus |
US7095642B1 (en) | 2003-03-27 | 2006-08-22 | Cypress Semiconductor Corporation | Method and circuit for reducing defect current from array element failures in random access memories |
US8072834B2 (en) * | 2005-08-25 | 2011-12-06 | Cypress Semiconductor Corporation | Line driver circuit and method with standby mode of operation |
US20080080284A1 (en) * | 2006-09-15 | 2008-04-03 | Peter Mayer | Method and apparatus for refreshing memory cells of a memory |
JP6429260B1 (ja) * | 2017-11-09 | 2018-11-28 | 華邦電子股▲ふん▼有限公司Winbond Electronics Corp. | 疑似スタティックランダムアクセスメモリおよびそのリフレッシュ方法 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5693363A (en) * | 1979-12-04 | 1981-07-28 | Fujitsu Ltd | Semiconductor memory |
-
1981
- 1981-09-29 JP JP56154347A patent/JPS5856287A/ja active Granted
-
1982
- 1982-09-29 DE DE8282109005T patent/DE3279896D1/de not_active Expired
- 1982-09-29 EP EP82109005A patent/EP0075942B1/en not_active Expired
- 1982-09-29 US US06/428,517 patent/US4500974A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60163295A (ja) * | 1984-02-03 | 1985-08-26 | Hitachi Ltd | 半導体記憶装置 |
JPS62197990A (ja) * | 1986-02-25 | 1987-09-01 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体記憶回路 |
JPH0568798B2 (ja) * | 1986-02-25 | 1993-09-29 | Mitsubishi Electric Corp |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4500974A (en) | 1985-02-19 |
JPH0223958B2 (ja) | 1990-05-25 |
EP0075942B1 (en) | 1989-08-16 |
EP0075942A3 (en) | 1986-01-29 |
EP0075942A2 (en) | 1983-04-06 |
DE3279896D1 (en) | 1989-09-21 |
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