JPS61228070A - 放射線硬化用塗料 - Google Patents

放射線硬化用塗料

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JPS61228070A JP60067998A JP6799885A JPS61228070A JP S61228070 A JPS61228070 A JP S61228070A JP 60067998 A JP60067998 A JP 60067998A JP 6799885 A JP6799885 A JP 6799885A JP S61228070 A JPS61228070 A JP S61228070A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、放射線硬化用塗料に関し、特に磁性粉を混合
して、磁気テープ、磁気ディスク等の磁気記録媒体を製
造する際に使用される磁性塗料として好適に用いられる
放射線硬化用塗料に関するものである。
〔従来の技術〕
一般に、磁気記録媒体は、ポリエステルフィルムなどの
支持体上に、m性粉2重合体、溶剤および各種の添加剤
からなる磁性塗料を塗布して磁性層を形成したものであ
る。
近年、上記磁性塗料の調整に用いる重合体としてアクリ
ル系二重結合を有する放射線硬化性重合体を用い、これ
を磁性粉、溶剤等と共に混合した磁性塗料の塗膜を放射
線照射によって硬化する方法が知られている(例えば特
開昭56−25230号公報、特開昭56−12411
9号公報、特開昭50−77433号公報参照)。この
様な放射線硬化性重合体を使用して磁性粉等を混合1分
散させて得られる磁性塗料は、磁性塗料としてのポット
ライフの向上および使用溶剤量の低減、磁気記録媒体の
製造工程の簡略化、磁性塗料を硬化するためのエネルギ
ー消費の低減等に効果が期待されている。
〔発明が解決しようとする問題点〕
ところが従来の放射線硬化性重合体を用いる磁性塗料は
、磁性粉と該重合体との親和性が低いために磁性粉の分
散が不十分であり、この磁性塗料を用いて製造した磁気
記録媒体は、電磁変換特性が不満足なものであり、また
実用耐久性においても、従来から知られている熱硬化性
重合体を用いた磁性塗料を用いて製造した磁気記録媒体
と同程度のものであった。
本発明は、この様な実情に鑑み、放射線硬化性塗料とし
てのすぐれた特性を有し、磁性粉との親和性にすぐれ、
磁性粉を十分に分散し、かつ磁性塗料として用いたとき
に実用耐久性にすぐれた磁気記録媒体が得られる放射線
硬化用塗料を提供することを目的とするものである。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明は。
(A)分子両末端に下記一般式(■)、一般式(II)
および一般式(I[[)で示される構成単位から選ばれ
る少なくとも1種類の構成単位。
(B)下記一般式(IV)、一般式(V)、一般式(V
I)および一般式(VII)で示される構成単位から選
ばれる少なくとも1種類の構成単位。
(C)下記一般式(VIII)で示される構成単位。
(D)下記一般式(IX)で示される構成単位および必
要に応じて (E)下記一般式(X)および一般式(XI)で示され
る構成単位から選ばれる少なくとも1種の構成単位を有
し。
前記一般式(I)〜(XI)で示される構成単位R るまたは有さないC8〜C8の脂肪族、脂環式または芳
香族の基を示す)、アミド結合(−C−N−)。
I  H およびエステル結合(−C−0−”)の少なくとも1つ
を介して結合されており9分子量が2.000〜too
、oooの重合体を含有してなる放射線硬化用塗料を提
供するものである。
(I ) CHt = C(Rr ) −〔式中I R
1は、水素原子またはメチル基を示す〕(u)CH2=
C(R1)  C−0−Rz−〔式中I R1は、一般
式(I)と同じであり、R1は、エチレン基、プロピレ
ン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメ
チレン基、ヘプタメチレン基、オクタメチ、レン基等の
Ct=Ct、好ましくはCz ” C3のアルキレン基
を示す。〕C)(2−c (R+)−C−0−CHz 
または。
[式中、RLは、一般式(I)と同じである。](IV
) −+(R30)k−(R480)g−R40)司L  
 Rう−または 一千(R30)k−(R4SFO)z−R40)wlw
−R4−[式中、R3およびR4は、エチレン基、プロ
ピレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキ
サメチレン基等のC2〜Ce、好ましくは02〜C4の
アルキレン基を示し、同一であっても異なっていてもよ
<、R<*は、構造式 またはメチル基、エチル基、ブチル基等のアルキル基を
示し、同一で異なってもよい。)等で示される芳香族基
を有するCI3〜Cl1l+好ましくはCI3〜CI5
の2価の存機基を示し+ kz 塾およびmは、0〜5
0.好ましくは5〜20の整数であり、aはθ〜50.
好ましくはO〜10の整数であり、に、Jおよびmは同
時に0であってはならず、nは、0〜50.好ましくは
1〜10の整数である〕 または (RsO)L−1−(R40)−−1−R4−〔式中+
R3およびR4は、一般式(IV)と同じであり。
R3は、構造式 %式% Ct ” Csの2価の脂肪族、脂環式または芳香族の
基を示し。
!およびmは、一般式(rV)と同じであり。
pは、1〜50.好ましくは1〜20の整数である〕 または 〔式中rR2は、一般式(IF)と同じであり、R6゜
Ry、RaおよびR1は、水素原子またはメチル基、エ
チル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル
基、ヘプチル基、オクチル基、フェニル基、シクロヘキ
シル基等のC8〜Cal好ましくはC3〜C1のアルキ
ル基を示し、同一であっても異なっていてもよく。
rのよびSは、1〜50.好ましくは5〜20の整数で
あり。
qは、1〜20の、好ましくは5〜20の整数である〕 (■)   R+o− C式中−R+。は、エチレン基、プロピレン基、テトラ
メチレン基、ヘキサメチレン基、フェニレン基、シクロ
ヘキシレン基、メチレンビスフェニレン基、メチレンビ
スシクロヘキシレン基、または構造式 等で示されるC1〜C2゜の2価の脂肪族、脂環式また
は芳香族の基を示す〕 (■)−R+x− ChM 〔式中、R11は。
R1& (式中I R1は、一般式(I)と同じでありl RI
&およびR1?は水素原子またはメチル基、エチル基。
プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基。
ヘプチル基、オクチル基等のC3〜Ca+好ましくはC
,−C3のアルキル基を示し、同一でも異なっていても
よい。)。
、’N−CHzCH2− 等の02〜C20r好ましくはI  C!’−”C10
の3価の脂肪族基、脂環式基、または芳香族基を示し、
前記例示のようにこれらの脂肪族基、脂環式基、おR目 (RI!は、水素原子またはメチル基、エチル基。
プロピル基、ブチル基、アミル基、フェニル基。
ベンジル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基等も
しくは水酸基等で置換されたこれらの有機基等の置換基
を有するもしくは有さない01〜C1lの脂肪族基、脂
環式基もしくは芳香族基を示す。
O または−SO□−を有していてもよく。
Mは、水素原子、アンモニウム基、アルカリ金属原子ま
たは、アルカリ土類金属原子を示す。〕占13 〔式中R,は、一般式(I)と同じでありl  R11
は。
H3 CH。
CHI −CHz−0(CHgCHzO)−−CHz−1−〇 
Ht−0−(CHt・CH−0)、CH,+。
CH3 −CHz−0(CHzCHzCHzCHzO)−−CH
z   。
〔これらの式中、nは、O〜20の整数を示し。
Xはフッ素原子、塩素原子または臭素原子を示す。)等
の置換基を有するまたは有さない2価の脂肪族基、脂環
式基もしくは芳香族基を示し、前記例示のようにこれら
の脂肪族基、脂環式基および芳香族基、その構造中に一
〇−、−C−O−またはI4 ル基、プロピル基、ブチル基、アミル基、フェニル基、
ベンジル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基等も
しくは水酸基等で置換されたこれらの有機基等の置換基
を有するもしくはをさないC1〜C8の脂肪族基、脂環
式基、もしくは芳香族基を示す。)を有していてもよい
。〕 〔式中、R1,は。
CHz−CHCHz−CHCHz− 〇 等で示される02〜C4゜、好ましくは02〜c2゜。
特に好ましくは02〜CI3の4価の脂肪族、脂環式ま
たは芳香族の基を示す〕 (XI)−CHz  −CHRI3−CHCHl−0H
OH 〔式中+RI!は、一般式(IX)と同じである。〕次
いで9本発明の放射線硬化用塗料に用いる重合体の製造
方法について3種類の具体例を述べる。
〔製造方法A〕
ジオールおよびジアミンから選ばれる少なくとも1種の
二官能性化合物と分子中に一般式(IX)で示される構
成単位を有し、かつ水酸基を2個含む化合物(以下「特
定ヒドロキシル化合物」という)とジイソシアネート化
合物とを反応させて得られる分子末端にイソシアネート
基を有しウレタン結合および場合によってはさらにウレ
ア結合によって結合された重合体のイソシアネート基の
1部に水酸基を有するアクリル系またはメタクリル系化
合物を反応させることによってウレタン結合を介して結
合させ1次いで該反応生成物の残存イソシアネート基と
9分子中に一般式(VIII)で示される構成単位を有
し、かつ水酸基、第1級アミノ基および第2級アミノ基
から選ばれる官能基を2個含む化合物(以下「特定スル
ホン酸化合物」という)と、必要に応じて分子中に一般
式(X)で示される構成単位を有し、かつ水酸基、第1
級アミノ基および第2級アミノ基から選ばれる官能基を
2個含む化合物(以下「特定カルボキシル化合物」とい
う)。ならびに/または分子中に一般式(XI)で示さ
れる構成単位を有し、かつ第2級アミノ基を2個含む化
合物(以下「特定アミン付加物」という)とを反応させ
、ウレタン結合、ウレア結合、およびN−置換ウレア結
合のいずれかを介して結合させることによって本発明に
用いる重合体を得ることができる。4 〔製造方法B〕 ジオールおよびジアミンから選ばれる少なくとも111
類の二官能性化合物と特定ヒドロキシル化合物とジイソ
シアネート化合物とを反応させて得られる分子末端に水
酸基、第1級アミノ基、および第2級アミノ基から選ば
れる官能基を2個有しウレタン結合および場合によって
はさらにウレア結合によって結合された重合体に9分子
中に一般式(VIII)で示される構成式単位を有する
ジカルボキシル化合物またはこれらの酸無水物と必要に
応じて一般式(X)のRISの構造を有するテトラカル
ボン酸二無水物とを反応させることによってエステル結
合またはアミド結合を介して、結合させて、鎖延長させ
、さらに鎖延長された重合体分子末端の水酸基、第1級
アミノ基および/または第2級アミノ基とカルボキシル
基、エポキシ基または酸ハライド基を有するアクリル系
またはメタクリル系化合物とを反応させることによりエ
ステル結合またはアミド結合を介して結合させることに
より本発明に用いる重合体を得ることができる。
〔製造方法C〕
特定スルホン酸化合物および必要に応じて特定カルボキ
シル化合物とジオールおよびジアミンから選ばれる少な
くとも1種類の二官能性化合物と特定ヒドロキシル化合
物とジイソシアネート化合物とを反応させることによっ
て得られるウレタン結合および場合によってはさらにウ
レア結合により結合された重合体の残存イソシアネート
基の全部もしくは1部に、水酸基を有するアクリル系ま
たはメタクリル系化合物を反応させてウレタン結合を介
して結合させ、この反応生成物に残存イソシアネート基
がある場合には、残存イソシアネート基に特定アミン付
加物を反応させて、ウレア結合またはN−置換ウレア結
合を介して結合させることにより9本発明に用いる重合
体を得ることができる。
以上の方法で用いられるジオールとしては1例えばポリ
エステルジオール、ポリエーテルジオール、ポリカプロ
ラクタムジオール、ボリカーボゝネートジオール等が挙
げられる。ポリエステルジオールとしては2例えばエチ
レングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレン
グリコール、ポリプロピレングリコール、テトラメチレ
ングリコール、ポリテトラメチレングリコール、1.6
−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、1゜4
−シクロヘキサンジメタツールのような多価アルコール
とフタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、マレイン酸
、フマール酸、アジピン酸、セパチン酸のような多塩基
酸とを反応して得られるポリエステルジオールが挙げら
れる。ポリエーテルジオールとしては例えばポリエチレ
ングリコール。
ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコ
ール、ビスフェノールのアルキレンオキサイド付加物等
が挙げられる。
ジアミンとしては1例えばエチレンジアミン。
テトラメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、バ
ラ−フェニレンジアミン、4.4’  −ジアミノジフ
ェニルメタンなどのジアミン;ヘテロ原子を含むジアミ
ン;ポリエーテルジアミンなどが挙げられる。
ジイソシアネート化合物としては、2.4−トルエンジ
イソシアネー)、2.6−トルエンジイソシアネート、
1.3−キシレンジイソシアネート、1.4−キシレン
ジイソシアネート、1.5−ナフタレンジイソシアネー
ト、m−フェニレンジイソシアネート、p−フェニレン
ジイソシアネート、3.3’−ジメチル−4,4゛  
−ジフェニルメタンジイソシアネート、  4. 4’
  −ジフエニルメタンジイソシアネート、3.3” 
−ジメチルフエニレンジイソシアネー)、4.4’ −
ビフェニレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソ
シアネート、イソフオロンジイソシアネート、ジシクロ
ヘキシルメタンジイソシアネート、メチジ° ンビス(
4−シクロヘキシルイソシアネート)等が挙げられる。
水酸基を有するアクリル系またはメタクリル系化合物と
しては9例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリ
レート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート
、2−ヒドロキシオクチル(メタ)アクリレート、ペン
タエリスリトールトリ (メタ)アクリレート、グリセ
リンジ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトール
モノヒドロキシペンタ(メタ)アクリレート等が挙げら
れる。
カルボキシル基を有するアクリル系またはメタクリル系
化合物としては、アクリル酸、メタクリル酸等が挙げら
れる。
エポキシ基を有するアクリル系またはメタクリル系化合
物としては、アクリル酸またはメタクリル酸のグリシジ
ルエーテル等が挙げられる。
酸ハライド基を有するアクリル系またはメタクリル系化
合物としては、アクリル酸クロライド。
メタクリル酸クロライド、アクリル酸ブロマイドメタク
リル酸ブロマイド等のアクリル酸ハライドおよびメタク
リル酸ハライドを例示することができる。
一般式(X)のRI%の構造を有するテトラカルボン酸
二無水物としては1例えば1. 2. 3. 4−ブタ
ンテトラカルボン酸二無水物、1,2,4゜5−ペンタ
ンテトラカルボン酸二無水物等の脂肪族テトラカルボン
酸二無水物、  1. 2. 3. 4−シクロペンタ
ンテトラカルボン酸二無水物、1゜2.4.5−シクロ
ヘキサンテトラカルボン酸二無水物等の脂環式テトラカ
ルボン酸二無水物、ピロメリット酸二無水物、ペンゾフ
ェノンテトラカノ?ボン酸二無水物等の芳香族テトラカ
ルボン酸二無水物が挙げられる。
分子中に一般式(VIII)で示される構成単位を有す
るジカルボキシル化合物またはこれらの酸無水物として
は。
スルホ−コハク酸、スルホ−フタル酸、スルホ−フタル
酸無水物、スルホ−テレフタル酸、スルホ−イソフタル
酸、スルホ−プロポキシ−イソフタル酸、スルホ−エト
キシ−イソフタル酸、これらの化合物のナトリウム塩、
カリウム塩、アンモニウム塩、リチウム塩、カルシウム
塩、マグネシウム塩、バリウム塩、ストンロチラム塩等
を挙げることができる。
特定カルボキシル化合物は、ジオール、ジアミンおよび
アミノアルコールから選ばれる少なくとも1種の化合物
1モルに対して、1モル未満のテトラカルボン酸二無水
物を反応させエステル化またはアミド化し、系全体の酸
価が初期値の1/2になるまで付加重合反応させること
によって合成される。ここにおけるアミノアルコールと
しては。
例えばモノエタノールアミン、モノイソプロパツールア
ミン、ジグリコールアミン等を挙げることができ、ジオ
ールおよびジアミンとしては前記例示の化合物と同様の
ものである。ジオール、ジアミンまたはアミノアルコー
ルとテトラカルボン酸二無水物との反応時のモル数をコ
ントロールすることによって上記エステル化またはアミ
ド化による付加重合の重合度をコントロールでき2重合
体の1分子中の一般式(X)で示される構成単位の含有
量を決めることができる。エステル化またはアミド化に
よる付加重合反応の温度は、40〜200℃、好ましく
は60〜130℃であり1反応時の触媒としては、ピリ
ジン、トリエチルアミン等との塩基、または、硫酸、パ
ラトルエンスルホン酸等の酸を用いることができる。
特定ヒドロキシル化合物は、1分子中にエポキシ基を2
個含むジェポキシ化合物1モルに対して。
カルボキシル基を有するアクリル系およびメタクリル系
化合物ならびに水酸基を有するアクリル系およびメタク
リル系化合物から選ばれる少なくとも1種類の化合物1
モル以上を反応させ1反応系全体のエポキシ基が消失す
るまで、付加重合することによって合成される。ここに
おけるジエポキシ化合物としては1例えばビスフェノー
ルA、ハロゲン化ビスフェノールA、水添ビスフェノー
ルA、ビスフェノールF、カテコール、レゾルシノール
等の多価フェノールとエピクロルヒドリンとを反応させ
て得られる多価フェノールのグリシジルエーテル;エチ
レングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレン
グリコール、ポリプロピレングリコール、テトラメチレ
ングリコール、ポリテトラメチレングリコール等の多価
アルコールとエピクロルヒドリンとを反応させて得られ
る多価アルコールのグリシジルエーテル、フタル酸。
イソフタル酸、テレフタル酸、マレイン酸、アジピン酸
等の多塩基酸とエピクロルヒドリンとを反応させて得ら
れる多塩基酸のグリシジルエステル;ノボラック型フェ
ノール樹脂とエピクロルヒドリンとを反応して得られる
エポキシノボラック樹脂;アニリン、4.4“ −ジア
ミノジフェニルメタン等のポリアミンとエピクロルヒド
リンとを反応して得られるグリシジルアミン;ビニルシ
クロヘキセンジオキシド、ジシクロペンタジェンジオキ
シド、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4
−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート ビス(3
,4−エポキシシクロヘキシルメチル)フタレート等脂
環式エポキシ化合物;エポキシ化されたポリブタジェン
類を挙げることができる。
上記の付加重合の反応温度は20〜130℃好ましくは
、40〜70℃であり1反応時の触媒としては、第3ア
ミン類、イシダゾール類、有機酸金属塩、ルイス酸、ア
ミン錯塩等を、好適にはトリエタノールアミン、NNN
’  N’  −テトラメチルエチレンジアミン、NN
−ジメチルピペラジン。
N−メチルモルフォリン、三フッ化ホウ素エーテラート
を用いることができる。これらの触媒の使用量は9反応
原料100重量部に対して0.01〜5重量部で′ある
特定アミン付加物は、ジェポキシ化合物と、この化合物
のエポキシ基と当量以上のアンモニアまたは第一級アミ
ンとを触媒の不存在下または水。
アルコール、フェノール等から選ばれる1種以上の化合
物の存在下9例えば室温〜150℃で反応させることに
より得ることができる。ここにおけるジェポキシ化合物
としては、前記例示の化合物と同様のものが挙げられる
。また第一級アミンとしては2例えばエチルアミン、プ
ロピルアミン。
ブチルアミン、アミルアミン等の脂肪族アミン;アニリ
ン、ベンジルアミン等の芳香族アミン;シクロペンチル
アミン、シクロヘキシルアミン等の脂環式アミン;モノ
エタノールアミン、モノイソプロパツールアミン等のア
ミノアルコールが挙げられる。反応における触媒として
は、水および脂肪族アルコール、フェノール、パラトル
エンスルホン酸、サリチル酸、ギ酸、シュウ酸、酢酸等
の有機酸を例示することができる。
特定スルホン酸化合物は、ジオール、ジアミンおよびア
ミノアルコールから選ばれる少なくとも1種の化合物1
モルに対して、1モル未満の分子中に一般式(VIII
)で示される構成単位を有するジカルボキシル化合物も
しくはこれらの酸無水物またはこれらのジメチルエステ
ル、ジエチルエステル等のジアルキルエステルから選ば
れる少なくとも1種を反応させエステル化5アミド化ま
たはエステル交換して得られ、これらの反応時の原料モ
ル数をコントロールすることによって上記エステル化、
アミド化またはエステル交換による付加重合の重合度を
コントロールでき、特定スルホン酸化合物中の一般式(
VIII)で示される構成単位の含有量を決めることが
できる。エステル化、アミド化またはエステル交換によ
る付加重合の反応温度は、40〜220℃、好ましくは
50〜180℃であり、エステル化あるいはアミド化反
応時の触媒としては、ピリジン、トリエチルアミン等の
塩基、または、硫酸、パラトルエンスルホン酸等の酸を
用いることができ、エステル交換反応時の触媒としては
、上記エステル化、アミド化反応に用いられる触媒に加
えて、酢酸ナトリウム、酢酸マンガン、酢酸亜鉛、酢酸
カルシウム等の有機カルボン酸の塩、水酸化ナトリウム
、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物、ナトリウ
ムメチラート、ナトリウムエチラート等のアルカリ土属
アルコラートアルカリ土類金属の酸化物または水酸化物
、酸化亜鉛、酸化カドミウム、チタンイソプロピレート
、チタンブチラード等の有機系チタン化合物等を例示す
ることができる。
ここにおけるジオール、ジアミン、アミノアルコールお
よび分子中に一般式(VIII)で示される構成単位を
有するジカルボキシル化合物またはこれらの酸無水物は
、前記例示の化合物と同様のものである。
また特定スルホン酸は、2−アクリルアミド−2,2−
シアルオルエタンスルホン酸、2−メタクリルアミド−
2,2−ジアルキルエタンスルホン酸、2−アクリルア
ミド−2−アルキルエタンスルホン酸、2−メタクリル
アミド−2−アルキルエタンスルホン酸、2−アクリル
アミドエタンスルホン酸または2−メタクリルアミドエ
タンスルホン酸(以下これらを「(メタ)アクリルアミ
ドエタンスルホン酸等」という) 1モルとジヒドロキ
シアルキルアミン1モルとを付加反応させて得られる。
付加反応の温度は、20〜100℃。
好ましくは30〜60℃であり2反応時に触媒として、
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水
酸化物、炭酸カリウム、硫酸マグネシウム等のアルカリ
金属塩もしくはアルカリ土類金属塩、ピリジン、α−ピ
コリン等の3級アミン。
金属ナトリウム、酢酸銅等を用いてもよい。また。
反応前に、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム等のアル
カリ存在下で(メタ)アクリルアミドエタンスルホン酸
等を中和処理しても良い。
さらにN、N−ビス(2−ヒドロキシエチル)−2−ア
ミノエタンスルホン酸も特定スルホン酸化合物として重
合体製造の反応に直接用いることができる。
(メタ)アクリルアミドエタンスルホン酸等において、
アルキル基は、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチ
ル基、ペンチル基、ヘキシル基。
ヘプチル基、オクチル等のC,XC,、好ましくは01
〜C1のアルキル基を示し、ジヒドロキシアルキルアミ
ンにおいてアルキル基は、エチル基、イソプロピル基等
のアルキル基を例示することができる。
上記製造方法Aにおける好ましい実施態様を次に示す。
ジオールおよびジアミンから選ばれる少なくとも1種の
二官能性化合物と特定ヒドロキシル化合物とジイソシア
ネート化合物との反応において。
二官能性化合物1モルに対する特定ヒドロキシル化合物
の使用量は、0.Q1モル〜5モル、好ましくは0.0
3モル〜3モルであり、ジイソシアネート化合物1モル
に対する二官能性化合物と特定ヒドロキシル化合物の合
計の使用量は、0.1〜0.95モル、好ましくは0.
5〜0.9モルである。この反応においては9通常、ナ
フテン酸銅、ナフテン酸コバルト、ナフテン酸亜鉛、ラ
ウリル酸n−ブチルスズ、トリエチルアミン等の触媒を
二官能性化合物、特定ヒドロキシル化合物およびジイソ
シアネート化合物の総量100重量部に対して0.01
〜1重量部程置部いる。反応における反応温度は1通常
30〜80℃である。次にこの反応によって得られる重
合体と水酸基を有するアクリル系またはメタクリル系化
合物を反応させるが1重合体100重量部に対する該ア
クリル系またはメタクリル系化合物の使用量は、0.1
〜20重量部。
好ましくは0.2〜10重量部であり、上記と同様の触
媒を重合体100重量部に対して0.01〜1重量部用
い、30〜80℃で反応を行い、さらに反応生成物に特
定スルホン酸化合物と必要に応じて特定カルボキシル化
合物および特定アミン付加物から選ばれる少なくとも1
種類の化合物とを反応させるが、特定スルホン酸化合物
の使用量は。
反応生成物100重量部に対して0.1〜20重量部、
好ましくは、0.3〜10重量部であり、特定カルボキ
シル化合物および/または特定アミン付加物の使用量は
、30重量部以下であり、前記と同様の触媒を重合体1
00重量部に対し0.01〜1重量部用い2反応部度は
30〜80℃である。
上記製造方法Bにおける好ましい実施態様を次に示す。
ジオールおよびジアミンから選ばれる少なくとも1種の
二官能性花台物と特定ヒドロキシル化合物とジイソシア
ネート化合物との反応において。
二官能性化合物1モルに対する特定ヒドロキシル化合物
の使用量は、0.01モル〜5モル、好ましくは0.0
3モル〜3モルであり、二官能性化合物と特定ヒドロキ
シル化合物の合計1モルに対するジイソシアネート化合
物の使用量は、0.1〜0.95モル、好ましくは0.
5〜0.9モルである。この反応において反応条件、触
媒等は、製造方法Aと同様でよく、得られる重合体10
0部に対して。
分子中に一般式(VIII)で示される構成単位を有す
るジカルボキシル化合物またはこれらの酸無水物を0.
1〜20重量部加え、さらに必要に応じて一般式(X)
のRISの構造を有するテトラカルボン酸二無水物を3
0重量部以下加え2例えば0.01〜10重量%のピリ
ジン、トリエチルアミン等の塩基あるいは、硫酸、パラ
トルエンスルホン酸等の酸からなる触媒の存在下または
不存在下に反応温度20〜180℃で反応を行う。次い
でこの反応によって得られる重合体とカルボキシル基、
エポキシ基または酸ハライド基を有するアクリル系また
はメタクリル系化合物を反応させるが1重合体100重
量部に対する該アクリル系またはメタクリル系化合物の
使用量は、0.1〜20重量部。
好ましくは0.2〜10重量部であり、触媒としてピリ
ジン、トリエチルアミン等の塩基または硫酸。
パラ−トルエンスルホン酸等の酸を重合体100重量部
に対して0.01〜10重量部用い、20〜120℃で
反応を行う。
上記製造方法Cにおける好ましい実施態様を次に記す。
ジイソシアネート化合物1モルに対して、特定スルホン
酸化合物および必要に応じて特定カルボキシル化合物と
ジオールおよびジアミンから選ばれる少なくとも1種の
二官能性化合物と特定ヒドロキシル化合物とを総量が0
.1〜0.95モル、好ましくは0.5〜0.9モルに
なるように配合し、触媒の存在下、30〜80℃で反応
を行う。ここにおける触媒としては、ナフテン酸銅、ナ
フテン酸コバルト、ナフテン酸亜鉛、ラウリン酸n−ブ
チルスズ、トリエチルアミン等を挙げることができ。
ジイソシアネート化合物、特定スルホン酸化合物および
場合によって使用される特定カルボキシル化合物、二官
能性化合物並びに特定ヒドロキシル化合物の総量100
重量部に対して0.01〜1重量部用いる。
次いでこのようにして得られる分子末端ヒイソシアネー
ト基を有する重合体に対し、該重合体のイソシアネート
基1当量に対して0.1〜1モル。
好ましくは0.2〜1モルの割合になるように水酸基を
有するアクリル系またはメタクリル系化合物を加え、前
記と同様の触媒の存在下に30〜80℃で反応を行う。
反応終了後1反応生成物に残存イソシアネート基がある
場合には、残存イソシアネート基と特定アミン付加物と
を前記と同様の触媒の存在下に30〜80℃で反応させ
ることにより1本発明に用いる重合体を得ることができ
る。
上記特定スルホン酸化合物、特定カルボキシル化合物ま
たは特定ヒドロキシル化合物の製造、あるいは製造方法
A、 BもしくはCの実施に際しては、ジオールに対し
て三官能以上のポリオール。
ジアミンに対して三官能以上のポリアミン、またジイソ
シアネート化合物に対して三官能以上のポリイソシアネ
ート化合物を生成物がグル化しない程度に併用すること
ができ9通常、その併用量は。
ジオール、ジアミンまたはジイソシアネート化合物10
0重量部に対して5〜30重量部である。
ここにおける三官能以上のポリオールとしては。
例えばグリセリンとプロピレンオキサイドの付加生成物
、グリセリン、1.2.3−ペンタントリオール、1.
2.3−ブタントリオール等を挙げることができ、三官
能以上のポリアミンとしては。
例えばジエチレントリアミン、1,2.3−)リアミノ
プロパン、ポリオキシプロピレンアミン等を挙げること
ができ、三官能以上のポリイソシアネート化合物として
は1例えばポリメチレンポリフェニルイソシアネート、
トリフェニルメタン4゜4° 4″−トリイソシアネー
ト等を挙げることができる。
また上記特定スルホン酸化合物、特定ヒドロキシル化合
物、特定アミン付加物もしくは特定カルボキシル化合物
の製造または製造方法A、BもしくはCの実施に際して
は、メチルエチルケトン。
シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン、トルエン、メ
チルイソブチルケトン、ジオキサン等の反応を阻害しな
い溶媒を必要に応じて使用することができる。
以上述べた方法によって本発明に用いる重合体を得るこ
とができるが、ここで述べた方法に限定されるものでは
ない。
本発明に用いる重合体中における一般式(■)。
(II)および(III)で示される構成単位の割合は
好ましくは0.2〜40重量%、特に好ましくは0゜5
〜30重量%である。40重量%を越えると塗料として
放射線によって硬化した塗膜の柔軟性が失なわれ、塗膜
の機械的特性が損なわれる。一方0.2重量%未満であ
ると放射線による硬化が不十分となる。
また本発明に用いる重合体中における一般式(IV)、
一般式(■)、一般式(Vl)および一般式(VII)
で示される構成単位の割合は、好ましくは60〜95重
量%、特に好ましくは75〜90重量%である。60重
量%未満であると塗料として放射線によって硬化した塗
膜の柔軟性が失われ。
塗膜の機械的特性が損なわれるようになる。一方95重
量%を越えると放射線による硬化が不十分となる。
さらに、一般式(IV)、一般式(■)、一般式(VI
)および一般式(VII)で示される構成単位のうちで
は、一般式(V)および一般式(VII)で示される構
成単位を有することが好ましい。
本発明に用いる重合体に含まれる一般式(VIII)で
示される構成単位の割合は、好ましくは0.1〜20重
量%、特に好ましくは0.3〜10重量%である。一般
式(VIII)で示される構成単位の割合が0.1重量
%未満であると、無機化合物に対する親和性が不十分と
なり、特に磁性塗料を作成する際の磁性粉の分散性が不
十分となる。また一般式(VIII)で示される構成単
位の割合が20重量%を超えると該重合体の極性が高く
なり、トルエン。
メチルエチルケトン等の汎用の溶剤への溶解性が低下し
、また塗料として放射線によって硬化した後の塗膜の吸
湿性が増加し塗膜強度の低下をまねく。
本発明に用いる重合体中における一般式(IX)で示さ
れる構成単位の割合は、好ましくは0.5〜30重量%
であり、特に好ましくは1〜20重量%である。一般式
(IX)で示される構成単位の割合が0.5重量%未満
であると塗料として放射線で硬化したあとの塗膜の架橋
形成が不十分となり。
塗膜強度の低下をまねき、一方、30重量%を超えると
放射線で硬化したあとの塗膜の柔軟性が損なわれる。
また本発明に用いる重合体中における一般式(X)また
は一般式(XI)で示される構成単位の割合は、好まし
くは30重量%以下であり、これらの構成単位を含ませ
ることによって磁性塗料を作製する際の磁性粉との親和
性や、汎用の溶剤への溶解性、放射線硬化後の塗膜の吸
湿性等を調整することができる。
本発明に用いる重合体の分子量は、2,000〜ioo
、oooであるが1分子量が2,000未満の場合は、
塗料として放射膜によって硬化した後の塗膜の強度が低
下し1分子量が100,000を越えると塗料として調
整する際の溶液粘度が増大し取り扱いに不都合となるだ
けでなく、特に磁性塗料として用いた場合に粘度低減の
ために使用する溶剤の量が増加することになり好ましく
ない。
本発明に用いる重合体は、必要に応じて他の放射線硬化
性重合体および/または放射線硬化性不飽和結合を有す
る化合物と併用することができる。
他の放射線硬化性重合体としては、以下のものを挙げる
ことができる。
Tl)  分子末端にアクリル系二重結合を有し、ポリ
マー骨格がポリエステル、ポリウレタン、エポキシ、ポ
リエーテル、ポリカーボネート、ポリアミド等である重
合体。
(2)下記一般式(イ)で表される重合体。
Cβ      0COR,70H ・−・−−−−−−−(イ) 〔式中I R17は一部 H3または−CzHs、Xは
数1〜4のアルキル基、フェニル基または炭素数1〜4
のアルコキシ基を示し、同一であっても異なってもよ<
、Yはアクリル系またはビニル系二重結合を有する基で
ある)、tは200〜800の整数、Uは10〜200
の整数、VはO〜200の整数、Wは3〜100の整数
9mは0〜50の整数である〕 (3)親水基1例えば−S OsM、  OS OsM
−N−Rオ、、  −OH ■ (式中9Mは水素原子、リチウム原子、ナトリウム原子
またはカリウム原子であり2M”は水素原子、リチウム
原子、ナトリウム原子、カリウム原子または炭化水素基
でありl  R11は炭化水素基である)を少なくとも
1個と2個以上のアクリル系二重結合を有したポリエス
テル、ポリエーテル。
ポリウレタン、エポキシ、ポリブタジェン、ポリアミド
、ポリカーボネート等の重合体。
(4)  下記一般式(ロ)で表される重合体。
t4 O+yRzz  O−CC=CHt (式中+R2□およびR23は、脂肪族、脂環族もしく
は芳香族炭化水素基またはその誘導体残基であり、R2
□は、−〇−結合を含んでもよ<、Rtsは。
−〇−、−S−又は−SO□−結合を含んでもよ<=R
zaは水素原子またはメチル基であり、yは1〜20の
整数を示す) (5)フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、コハク
酸、アジピン酸、セバシン酸等の飽和多塩基酸とエチレ
ングリコール、ジエチレングリコール。
グリセリン、トリメチロールプロパン、1.2−プロピ
レングリコール、1.3−ブタンジオール。
ジプロピレングリコール、1.4−ブタンジオール、1
.6−ヘキサンジオール、ペンタエリスリドツト、ソル
ビトール、グリセリン、ネオペンチルグリコール、1,
4−シクロヘキサンジメタツール等の多価アルコールと
のエステル結合により得られる飽和ポリエステルもしく
はこれらのポリエステルをSO3Na等で変性した重合
体またはこれらの重合体に後に述べる手法により放射線
硬化性を付与した重合体。
(6)  分子鎖中にマレイン酸、フマル酸等の放射線
硬化性不飽和二重結合を含有するポリエステル樹脂。例
えば(5)に記載の熱可塑性樹脂として記載の多塩基酸
と多価アルコールのエステル結合から成る飽和ポリエス
テル樹脂で多塩基酸の一部をマレイン酸とした電子線硬
化性不飽和二重結合を含有する不飽和ポリエステル樹脂
、プレポリマー、オリゴマー。
(7)  ポリビニルアルコール、ブチラール重合体。
アセタール重合体もしくはホルマール樹脂に後に述べる
手法により放射線硬化性を付与した重合体。
(8)  ビスフェノールAまたは臭素化ビスフェノー
ルAとエピクロルヒドリンまたはメチルエピクロルヒド
リンとの反応により得られるエポキシ重合体フェノキシ
樹脂に後に述べる手法により放射線硬化性を付与した重
合体。
(9)  硝化綿、セルローズアセトブチレート、エチ
ルセルローズ、ブチルセルローズ、アセチルセルローズ
等の繊維素系重合体に後に述べる手法により放射線硬化
性を付与した重合体。
a〔水酸基を1個以上含有するポリエーテル等の多官能
性ポリエーテル類に後に述べる手法により放射線硬化性
を付与した重合体。
aυ ポリカプロラクトン等の多官能性ポリエステル類
に後に述べる手法により放射線硬化性を付与した重合体
亜塩化ビニルー酢酸ビニルービニルアルコール系共を合
体、 塩化ビニル−ビニルアルコール共重合体、塩化ビ
ニル−酢酸ビニール−マレイン酸共重合体、塩化ビニル
−プロピオン酸ビニル−ビニルアルコール系共重合体等
に後に述べる手法により放射線硬化性を付与した重合体
(2)ポリエーテル゛エステル重合体、ポリビニルとロ
リドン重合体、ポリビニルピロリドン−オレフィン共重
合体、ポリアミド重合体、ポリイミド重合体、フェノー
ル重合体、スピロアセタール重合体、水酸基を含有する
アクリルエステルおよびメタクリルエステルの少なくと
も一種を重合成分として含むアクリル系重合体等とに後
に述べる手法により放射線硬化性を付与した重合体。
α旬 末端に水酸基またはカルボキシ基を有するブタジ
ェン重合体、スチレン−ブタジェン共重合体。
アクリルニトリル−ブタジェン共重合体等に後に述べる
手法により放射線硬化性を付与した重合体。
(至)アクリロニトリル−ブタジェン共重合体、ブタジ
ェン重合体、スチレン−ブタジェン共重合体。
イソプレン重合体、アクリルゴム、塩化ゴム、エポキシ
変性ゴム。
(2) ポリブタジェン、ポリイソプレン等の共役ジエ
ン重合体。
αη ジエン系重合体のエポキシ化物にα、β−エチレ
ン性不飽和モノカルボン酸を付加した重合体。
α乃 グリシジルアクリレートまたはグリシジルメタク
リレートの重合体または共重合体の有するエポキシ基に
α、β−エチレン性不飽和モノカルボン酸を付加した重
合体。
次に前述の放射線硬化性を付与する手法の具体例を示す
(I)分子中に水酸基を有する上記の熱可塑性重合体ま
たたはこれらのプレポリマー1分子に1分子以上のポリ
イソシアネート化合物のイソシアネート基を反応させ2
次いでイソシアネート基と反応する官能基および放射線
硬化性不飽和二重結合を有する単量体1分子以上と反応
させる。イソシアネート基と反応する官能基および放射
線硬化性不飽和二重結合を有する単量体としては、アク
リル酸まはメタクリル酸の2−ヒドロキシエチルエステ
ル、2−ヒドロキシプロピルエステルもしくは2−ヒド
ロキシオクチルエステル等の水酸基を有するエステル系
単量体;アクリルアマイド、メタクリルアマイド、N−
メチロールアクリルアマイド等のイソシアネート基と反
応する活性水素を持ちかつアクリル系二重結合を含有す
る単量体;アリルアルコール、マレイン酸多価アルコー
ルエステル化合物、不飽和二重結合を有する長鎖脂肪酸
のモノあるいはジグリセリド等のイソシアネート基と反
応する活性水素を持ちかつ放射線硬化性を有する不飽和
二重結合を含有する単量体を例示することができる。
(II)分子中に水酸基を有する上記の熱可塑性重合体
またはこれらのプレポリマー1分子に1分子以上の放射
線硬化不飽和二重結合を有する酸または酸クロライドを
反応させてエステル二重結合を導入する。放射線硬化性
不飽和二重結合を有する酸または酸ハライドとしては、
アクリル酸、メタクリル酸、メタクリル酸クロライド、
アクリル酸クロライド、アクリル酸ブロマイド、メタク
リル酸ブロマイド等を挙げることができる。
(II)分子中にカルボキシル基を有する上記の熱可塑
性重合体またはこれらのプレポリマー1分子に1分子以
上のカルボキシル基と反応する官能基および放射線硬化
性不飽和二重結合を有する単量体1分子以上とを反応さ
せる。カルボキシル基と反応する官能基および放射線硬
化性不飽和二重結合を有する単量体としては、グリシジ
ルアクリレ−ト、ダリシジルメタクリレート等を挙げる
ことができる。
これらの他の放射線硬化性重合体は、2種以上併用する
ことができ、その使用量は2通常1本発明の特徴となる
重合体100重量部に対して400重量部以下である。
放射線硬化性不飽和結合を有する化合物としては、アク
リル酸、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリ
トールトリアクリレート。
ヒドロキシエチルアクリレート、フェノキシエチルアク
リレート、2エチルへキシルアクリレートジブロモプロ
ビルアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレ
ート、テトラエチレングリコールジアクリレート、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリ
トールトリアクリレート、イソホロンジイソシアネート
とヒドロキシエチルアクリレートの付加体、トリスヒド
ロキシエチルイソシアヌレートトリアクリレート等のア
クリル酸またはアクリル酸エステル類;アクリルアミド
、N−メチルアクリルアミド等のアクリルアミド類、メ
タクリル酸、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピ
ル、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペン
タエリスリトールトリメタクリレート、ヒドロキシエチ
ルメタクリレート、フェノキシエチルメクタリレート、
2エチルへキシルメタクリレート、ジブロモプロピルメ
タクリレート トリエチレングリコールジメタクリレー
ト、テトラエチレングリコールジメタクリレート、トリ
メチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリス
リトールトリメタクリレート、トリスヒドロキシエチル
イソシアヌレートトリメタクリレート等のメタクリル酸
エステル類;メタクリルアミド、N−メチルメタクリル
アミド等のメタクリルアミド類、ビニルピロリドン、放
射線硬化性不飽和結合を有する燐酸エステルを例示する
ことができる。これらの放射線硬化性不飽和結合を有す
る化合物は、2種以上併用することができ、その使用量
は2本発明の特徴となる重合体100重量部に対して好
ましくは5〜90重量部、さらに好ましくは10〜80
重量部である。
本発明の放射線硬化性塗料を磁性塗料として使用する際
に混合される磁性粉のとしては、  r −F13z0
3.F e30a+  r  F egonとFe3O
4の中間の酸化状態の酸化鉄、Co含有r−Fe、03
゜Co含有F e x Oa、C’含有のr−Fe、O
,とFe5o4の中間の酸化状態の酸化鉄、前記酸化鉄
にさらに還移金属元素等の金属元素を含有させたもの、
前記酸化鉄にCO酸化物または水酸化物を主体とした被
膜層を形成したもの+ Cr Oz、CrO2の表面を
還元処理してCr2O,層を形成したもの、Fe、Co
、 Ni等の金属もしくはこれらの合金またはこれらに
金属元素もしくは還移金属元素等の金属元素を含有させ
たもの等を例示することができる。これらの磁性粉は2
本発明の特徴となる重合体100重量部に対して通常2
00〜700重量部使用される。
また本発明の放射線硬化性塗料を調整する際に使用する
溶剤としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチル
イソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;ギ
酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類;メ
タノール、エタノール、イソプロパツール、ブタノール
等のアルコール類;トルエン、キシレン、エチルベンゼ
ン等の芳香族炭化水素類;ヘキサン、ヘプタン等の脂肪
族炭化水素類;エチレングリコールジメチルエーテル、
エチレングリコールモノエチルエーテル2ジオキサン等
のグリコールエーテル類を例示することができ、これら
の溶剤は単独または混合物として用いられる。これらの
溶剤の使用量は9本発明の特徴となる重合体100重量
部に対して通常200〜2500重量部である。
また9本発明の放射線硬化用塗料を調整するに際しては
、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸。
ミリスチン酸、バルミチン酸、ステアリン酸、オレイン
酸、エライジン酸、リノール酸、リルン酸、ステアロー
ル酸、レシチン、有機チタン化合物、有機シラン化合物
等の分散剤:二硫化モリブデン、グラファイト、シリコ
ーンオイル等の潤滑剤;酸化アルミニウム、酸化クロム
、酸化シリコン等の研磨剤;カーボンブランクグラフト
ポリマー等の導酸性微粉末;サポニン等の天然界面活性
剤;アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グリシド
ール系等のノニオン界面活性剤;高級アルキルアミン類
、第4級アンモニウム塩類、ピリジン、ホスホニウム類
、スルホニウム類等のカチオン界面活性剤;カルボン酸
、スルホン酸、燐酸。
硫酸エステル基、燐酸エステル基等との酸性基を含むア
ニオン界面活性剤;アミノ酸類、アミノスルホン酸類、
アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル類等の両性
活性剤;カーボンブラック等の帯電防止剤;リン酸、ス
ルファミド、ピリジン。
ジシクロヘキシルアミンナイトライト、シクロヘキシル
アンモニウムカーボネート等の防錆剤を配合することが
できる。
更に本発明の放射線硬化用塗料には、必要に応じてポリ
ビニルブチラール、ポリビニルアセタール、ポリウレタ
ン、ポリエステル、分子内にスルホン酸および/または
金属塩基を有するポリエステル、エポキシ樹脂、エポキ
シウレタン樹脂、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビ
ニル共重合体。
水酸基含有塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニ
ル−プロピオン酸ビニル共重合体、水酸基含有塩化ビニ
ル−プロピオン酸ビニル共重合体。
塩化ビニル−酢酸ビニル−アクリル酸エステル共重合体
、水酸基含有塩化ビニル−酢酸ビニル−アクリル酸エス
テル共重合体、ポリ塩化ビニリデン。
マレイン酸含有塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、
塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニリデン
−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニリデン−メタフ
タリル酸エステル共重合体。
フェノキシ樹脂、ニトロセルローズ、硝化綿、ケトン樹
脂、アクリル酸もしくはメタクリル酸重合体またたは共
重合体、アクリル酸エステルもしくはメタクリル酸エス
テル重合体または共重合体。
ポリイミド樹脂、1.3−ペンタジェン樹脂、エポキシ
化1.3−ペンタジェン樹脂、ヒドロキシル化1,3−
ペンタジェン樹脂、アクリロニトリル重合体または共重
合体、アクリル酸エステル−アクリロニトリル共重合体
、メタクリル酸エステル−アクリロニトリル共重合体、
フェノール−ホルマリン樹脂、フェノール−フルフラー
ル樹脂。
キシレン−ホルマリン樹脂、尿素樹脂、メラニン樹脂、
アルキッド樹脂、アクリロニトリル−ブタジェンスチレ
ン共重合体等が配合される。
本発明の放射線硬化用塗料を磁性塗料として磁気記録媒
体を製造する際の被塗布材(基体:べ一スフイルム)と
しては9例えばポリエチレンテレフタレート等のポリエ
ステル;ポリプロピレン等のポリオレフィン;セルロー
ストリアセテート。
セルロースジアセテート等のセルロース誘導体;ポリカ
ーボネート;ポリ塩化ビニル;ポリイミド;アルミニウ
ム、銅等の非磁性金属;祇を挙げることができる。
本発明の放射線硬化用塗料を架橋、硬化するために使用
する放射線としては、電子線、T−線。
中性子線、β−線、X線等を例示することができるが、
特に放射線量の制御、放射線照射装置の製造工程への導
入等の容易性の見地から、電子線が好ましく、塗膜を架
橋、硬化する際に使用する電子線は、透過力の面から加
速電圧100〜750KV、好ましくは150〜300
KVの電子線加速器を用い、塗膜の電子線の吸収線量が
0.5〜20メガランドになる様に照射するのが好まし
い。
〔実施例〕
以下9本発明を実施例によってさらに詳細に説明するが
9本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
なお、以下の実施例において2分子量は浸透圧法によっ
て求めた値である。また化合物の構造は。
赤外吸収スペクトルおよび核磁気共鳴(NMR)スペク
トルによって分析した結果である。
実施例1 (I)温度計、攪拌器および還流冷却管を備えた容量1
1のフラスコに、アクリル酸144gとビスフェノール
Aジグリシジルエーテル(油化シェルエポキシ社製エピ
コート828)336gを加え。
60℃で6時間反応させたのち:赤外吸収スペクトルに
より反応生成物中にはエポキシ環の吸収が無いことを確
認した。この反応生成物を特定ヒドロキシル化合物(I
)とする。
特定ヒドロキシル化合物(I)の主たる構造:(2) 
 温度計、攪拌器および分留器を備えた容量11のフラ
スコに、5−ナトリウム−スルホ−イソフタル酸ジメチ
ル118.4g、エチレングリコール19 B、 4 
gおよび酢酸ナトリウム1.64gを加え、100℃で
4時間反応させた。反応によって副成したメタノールよ
り、エステル交換率を求めると93%であった。(ここ
でエステル交換率は副成したメタノール量を理論値で除
した値である。
)得られた反応生成物をNMRスペクトルによって分析
した所、5−ナトリウム−スルホ−イソフタル酸ジメチ
ルのメチル基のプロトンによるピークが検出されないこ
と、さらに未反応のエチレングリコールが存在すること
を確認した。また、プロトンピークの積分比から、得ら
れた反応生成物は下記の構造式で表される化合物の混合
物であるとわかり、液体クロマトグラフにより、未反応
エチレンクリコールは53.5重量%存在することが確
認された。得られたこれらの混合物を特定スルホン酸化
合物(D−1)とする。
特定スルホン酸(D−1)の主なる構造:(O≦n≦3
) さらに、ゲルパーミェーションクロマトグラフより1反
応生成物の分子量は1ooo以下であり。
上記構造式でnがOから3までの整数であることがわか
った。特定スルホン酸化合物の水酸基当量は1.92x
lO−”モル/g、数平均分子量に換算して104であ
り、スルホン酸基含有量は9元祖分析の結果1.4X1
0−3モル/gであった。
(3)温度計、攪拌器、還流冷却管および滴下ロートを
備えた容量11のフラスコにトルエンジイソシアネート
を47.7g、  ジブチルスズジラウレー) 0.2
 gおよびメチルエチルケトン300gを加え、60℃
に保温しながら1滴下ロートより、系の温度が上昇しな
い様に注意しながらポリエーテ ・ルジオール(デュポ
ン社製テラコール650)133、9 gと特定ヒドロ
キシル化合物(I)16.5gとの混合物を滴下した。
滴下終了後、60℃で4時間攪拌したのち、ペンタエリ
スリトールトリアクリレート6、4 gを加え、さらに
60℃で2時間攪拌し反応させた。
次に特定スルホン酸(D−1)2.37gを加え。
60℃で2時間反応させた後1反応系中にはイソシアネ
ート基が残存しないことを赤外吸収スペクトルにより確
認した。
この様にして得た重合体を重合体(F)とする。
重合体(F)の主なる構造式および分子量を第1表に示
す。
実施例2 (I)  温度系、攪拌器および還流冷却管を備えた容
量1j2のフラスコにメタアクリル酸344g、エチレ
ングリコールジグリシジルエーテル348gおよびN−
メチルモルフォリンlogを加え60℃で4時間反応さ
せ2次いで赤外吸収スペクトルにより反応生成物中には
工ずキシ環の吸収が無いことを確認した。
この反応生成物を特定ヒドロキシル化合物(■)とする
特定ヒドロキシル化合物(II)の主なる構造:「 Ct H4 CH30H (2)温度針、攪拌器、還流冷却管および滴下ロートを
備えた容量1jtのフラスコに4−ナトリウム−スルホ
フタル酸47.2 gおよびテトラヒドロフラン250
gを加え50℃に加温したのち、攪拌下で滴下ロートよ
りポリオキシプロピレンジアミン(三片テキサコ製シェ
フアミンD400)160gを反応系が発熱しない様に
滴下した。滴下終了後、2時間、攪拌したのち、テトラ
ヒドロフランを減圧で留去し、粘稠な液体の特定スルホ
ン酸化合物(D−II)を得た。特定スルホン酸化合物
(D−II)の第一アミン量を測定した所、1.93X
IO−’当量/gであった。
特定スルホン酸(D−n)の主なる構造:[R11%は
、ポリオキシプロピレン鎖でポリオキシプロピレンジア
ミン(三片テキサコ製シェフアミンD400)から両末
端アミノ基を除いた残基を示す、] (3)  温度系、攪拌器、還流冷却管および滴下ロー
トを備えた容量11のフラスコに、ピロメリット酸二無
水物43.6 gおよびメチルエチルケトン500gを
加え、60℃に加温し、ピロメリット酸二無水物を溶解
させたのち、70℃に昇温し2次いで滴下ロートよりポ
リエーテルジオール(デュポン社製テラコール650)
195gをゆっくりと滴下した0滴下終了後、70℃で
6時間反応させたのち、室温に戻して反応系中の酸当量
を測定した所、5.4X10−4当量/gであった。こ
の反応生成物(固型分含率は32.3重量%)を特定カ
ルボキシル化合物(I)とする。
特定カルボキシル化合物(I)の主なる構造:[R2h
は、ポリオキシテトラメチレン鎖でポリテトラメチレン
グリコール(テラコール650)の両末端水酸基を除い
た残基を示す。〕 (4)温度計、攪拌器、還流冷却管、および滴下ロート
を備えた容量11のフラスコにモノエタノールアミン2
00gを加え、40℃に加熱後、ビスフェノールAジグ
リシジルエーテル(油化シェルエポキシ製エピコート8
28)200gをトルエン100gに溶かした溶液を反
応系の温度を40℃に保つ様に滴下し9滴下終了後、3
時間攪拌した0次に反応系からトルエンを留去し、1〜
3鶴Hgの減圧下、100℃に加熱することにより未反
応モノエタノールアミンを留去し、白色固体の反応生成
物を得た。
こうして得られた反応生成物を特定アミン付加物(I)
とする。
特定アミン付加物(I)の主なる構造:CHtCHtO
H (5)温度針、攪拌器、還流冷却管および滴下ロートを
備えた容量1!のフラスコにメチレンビス(4−シクロ
ヘキシルイソミアネート)57.6g。
ジブチルスズジラウレート0.2 gおよびメチルエチ
ルケトン300gを加えて60℃に加温した。
次いで1滴下ロートより反応系の温度が上昇しない様に
しながら、ポリオキシプロピレンジアミン(三片テキサ
コ製シェフアミンD400)17.6g、ポリエステル
ジオール(日本ポリウレタン社製ニラポラン141)1
10gおよび特定ヒドロキシル化合物(II)17.6
gの混合物を滴下した。
滴下終了後、60℃で4時間攪拌したのち、ヒドロキシ
エチルアクリレート2.6gを加え、さらに60℃で2
時間攪拌し9反応させた。次いで特定スルホン酸化合物
(D−II)11.4gを加え60℃で2時間反応させ
たのち、特定カルボキシル化合物(I)26.2gのメ
チルエチルケトン溶液を加え、60℃で7時間反応させ
、さらに特定アミン付加物(I)5.1gを加え、60
℃で2時間反応させた0反応終了後、赤外吸収スペクト
ルにより2反応系中のイソシアネート基が無いことを確
認した。この様にして得た重合体を重合体(G)とする
。重合体(G)の主なる構造式および分子量を第1表に
示す。
実施例3 (I)  温度計、攪拌器および還流冷却管を備えた容
量1jlのフラスコにアクリル酸144g、ポリエチレ
ングリコールジグリンジルエーテル(共栄社油脂化学工
業社製エボライ)400E)526g゛および三フッ化
ホウ素エーテラート錯体2gを加え60℃で4時間反応
させたのち、赤外吸収スペクトルにより反応生成物中に
はエポキシ環の吸収が無いことを確認した。
この反応生成物を特定ヒドロキシル化合物(■)とする
特定ヒドロキシル化合物(III)の主たる構造:H CHg0)9  CHzCHCH*  0OCCH=C
Hz(ズ=其; (2)温度針、攪拌器、還流冷却管および滴下ロートを
備えた容量11のフラスコに、2−アクリルアミド−2
−メチルプロパンスルホン酸115.5g、水酸化ナト
リウム20gおよびメタノール300gを加え1滴下ロ
ートよりジェタノールアミン52.5 gを反応系の温
度が40℃を越えない様に滴下した0滴下終了後、2時
間、40℃で攪拌し9反応させた。反応終了後、減圧に
て溶媒を留去して、白色固体の反応生成物を得た。得ら
れた反応生成物を特定スルホン酸(E−1)とする。
特定スルホン酸(E−1)の主たる構造:CHtCH2
OH (3)温度計、攪拌器、還流冷却管および滴下ロートを
備えた容量11のフラスコにn−ブチルアミン365g
を仕込み40℃に加熱した後、ポリプロピレングリコー
ルジグリシジルエーテル(共栄社油脂化学工業社製エポ
ライIl−400P)268をテトラヒドロフラン10
0gに溶解させた溶液を反応系の温度が上昇しない様に
滴下した0滴下終了後3時間40℃で攪拌した。次いで
反応系を100℃まで加熱して未反応のn−ブチルアミ
ンを留去して12白色固体の反応生成物を得た。
この反応生成物を特定アミン付加物(II)とする。
特定アミン付加物(II)の主なる構造:?1 υ CHz−CHCHz  NH Ca Hv (4)  温度計、攪拌器、還流冷却管および滴下ロー
トを備えた容量11のフラスコに、4,4° −ジフェ
ニルメタンジイソシアネー)60.0g、ジブチルスズ
ジラウレート0.2gおよびメチルエチルケトン300
gを加え60℃に保温しながら2滴下ロートより2反応
系の温度が上昇しない様に注意しながら、ポリエステル
ジオール(日本ポリウレタン社製ニラポラン141)1
20gおよび特定ヒドロキシル化合物(III)40.
2gの混合物を滴下した。滴下終了後、60℃で4時間
攪拌したのち、ジペンタエリスリトールトリアクリレー
ト21、0 gを加え、さらに60℃で2時間攪拌2反
応させた。次いで特定スルホン酸化合物(E−1)6.
7gを加え、60℃で2時間反応させ、さらに特定アミ
ン付加物(II)13.6gを加えて60℃で2時間反
応させた。反応終了後、赤外吸収スペクトルにより反応
系にはイソシアネート基が無いことを確認した。
このようにして得た重合体を重合体(H)とする。重合
体(H)の主なる構造式および分子量を第1表に示す。
実施例4 温度計、攪拌器、還流冷却管および滴下ロートを備えた
容器1!のフラスコにメチレンビス(4−シクロヘキシ
ルイソシアネート)57.4gジブチルスズジラウレー
)0.2gおよびメチルエチルケト300gを加えて6
0℃に保温したのち1滴下ロートより反応系の温度が上
昇しない様に注意してポリエーテルジアミン(三片テキ
サコ社製シェフアミンD400)17.6Lを滴下し1
滴下終了後、60℃で1時間反応させ2次いで特定ヒド
ロキシル化合物(I)およびポリエステルジオール(日
本承りウレタン社製ニラポラン141)ILogの混合
物を滴下した。滴下終了後、60℃で2時間攪拌し、ペ
ンタエリスリトールトリアクリレ−) 6.2 gを加
え、60℃で2時間反応させた。次にN、N−ビス(2
−ヒドロキシエチル)2−アミノエタンスルホン酸4.
7gを加え60℃で7時間反応させ、らさに特定アミン
付加物(I)5.1gを加え、60℃で2時間反応させ
た後。
反応系中にはイソシアネート基が無いことを赤外スペク
トルで確認した。
このようにして得た重合体を重合体(J)とする0重合
体(J)の主なる構造式および分子量を第1表に示す。
実施例5 (I)  温度針、攪拌器、還流冷却管および滴下ロー
トを備えた容量11のフラスコに1. 2. 3. 4
−シクロベンクンテトラカルボン酸二無水物105gお
よびテトラヒドロフラン200gを加え40℃に加温し
たのち、攪拌下に滴下ロートよりジグリコールアミン1
05g(Iモル)を反応系の発熱が起らない様に滴下し
た。滴下終了後、ただちにテトラヒドロフランを減圧で
留去し、粘゛稠な液体である特定カルボキシル化合物(
II)ヲ得た。特定カルボキシル化合物(If)の酸当
量を測定したところ、4.76X10−″当量/gであ
った。
特定カルボキシル化合物(II)の主なる構造:CHz
 CH20CHz CHz −OH(2)  温度計、
攪拌器、還流冷却管および滴下ロートを備えた容量1β
のフラスコにトルエンジイソシアネート39.2g、 
ジブチルスズジラウレート0.2gおよびメチルエチル
ケトン300gを加え。
60℃に保温したのち1滴下ロートより系の温度が上昇
しない様に注意して、エチレンジアミン2゜7g、ポリ
カプロラクトンポリオール(ダイセル社製、プラクセル
22ON−1)210gおよび特定ヒドロキシル化合物
(I)14.5gの混合物を滴下した。滴下終了後、6
0℃で2時間攪拌し。
2−ヒドロキシエチルアクリレ−) 3.5 gを加え
60℃で1時間反応させた0次に、特定スルホン酸化合
物CD−1>2.6gを加え、60℃で2時間反応させ
た後、さらに特定カルボキシル化合物(II)2.1g
を加え、60℃で7時間反応させた後1反応系中にはイ
ソシアネート基が無いことを赤外吸収スペクトルで確認
した。
このようにして得た重合体を重合体(K)とする0重合
体(K)の主なる構造式および分子量を第1表に示す。
実施例6 温度計、攪拌器、還流冷却管および滴下ロートを備えた
容量IIlのフラスコに4,4゛ −ジフェニルメタン
ジイソシアネート90g、ジブチルスズジラウレート0
.2gおよびメチルエチルケトン350gを加え、60
℃に保温したのち2滴下ロートより反応系の温度が上昇
しない様に注意して。
ポリオキシプロピレンジアミン(三片テキサコ社製、シ
ェフアミンD400)32g、ポリカーボネートジオー
ル(PPG社製PC−D I OL 1220−800
)128および特定ヒドロキシル化合物(I)29gの
混合物を滴下した。滴下終了後、60℃で2時間攪拌し
、2−ヒドロキシエチルアクリレート2.3 gを加え
、60℃で1時間反応させた。次に特定スルホン酸(D
−If)31gを加え、60’Cで2時間反応させた。
さらに特定アミン付加物(II)13.6gを加え、6
0℃で2時間反応させた後2反応系中にはイソシアネー
ト基が無いことを赤外吸収スペクトルで確認した。
このようにして得た重合体を重合体(L)とする。重合
体(L)の主なる構造式および分子量を第1表に示す。
実施例7 (I)温度計、攪拌器、還流冷却管および滴下ロートを
備えた容量IIlのフラスコに、ピロメリット酸二無水
物43.6 gおよびメチルエチルケトン500gを加
え、60℃に加温し、ピロメリット酸二無水物を溶解さ
せたのち、70℃に昇温し2次いで滴下ロートよりポリ
エーテルジアミン(三片テキサコ社製ジヱファミンD4
00)100gを内温か65℃をこえない様に滴下した
。滴下終了後、60℃で2時間攪拌したのち、室温に戻
し。
系中の酸当量を測定した所6.2X10’−’当量/g
であった。得られたこの反応生成物を特定カルボキシル
化合物(■)(固形分濃度は、22.3重量%)とする
特定カルボキシル化合物(I[[)の主なる構造=[R
tqはポリ(オキシプロピレン)鎖でポリオキシプロピ
レンジアミンジエフアミンD400)の両末端アミノ基
を除いた残基を示す。] (2)温度計、攪拌器、還流冷却管および滴下ロートを
備えた容量IA!のフラスコに、トルエンジイソシアネ
ート62.6.ジブチルスズジラウレート0.2gおよ
びメチルエチルケトン300gを加え。
60℃に保温したのち9滴下ロートより反応系の温度が
上昇しない様に注意してポリエーテルジオール(デュポ
ン社製テラコール650)130gおよび特定ヒドロキ
シル化合物(I)48.4g混合物を滴下し9滴下終了
後、60℃で4時間反応させた。次いでペンタエリスリ
トールトリアクリレ−)11.2gを加え、さらに60
℃で2時間攪拌したのち特定スルホン酸(E−1)6.
7gを加え、60℃で2時間反応させた・さらに・特定
カルボキシル化合物(I[[)57.4gを加え60℃
で4時間反応させた後2反応系中にはイソシアネート基
が無いことを赤外吸収スペクトルで確認した。
このようにして得た重合体を重合体(M)とする。重合
体CM)の主なる構造式および分子量を第1表に示す。
実施例8 温度計、攪拌器、還流冷却器および滴下ロートを備えた
容量11のフラスコにポリプロピレングリコール(日本
油脂社製ユニオールD400)120g、特定ヒドロキ
シル化合物(I)29.0g。
ジブチルスズジラウレート0.2 gおよびメチルエチ
ルケトン300gを加えて60℃に保温したのち1滴下
ロートより反応系の温度が上昇しない様に注意して、メ
チレンビス(4−シクロヘキシルイソシアネート)78
.3gを滴下した。滴下終了後、60℃で4時間攪拌し
たのち、2−ナトリウム−スルホテレフタル酸8.0g
を加え、70℃で6時間反応させた。これにアクリル酸
クロライド5.4gを加え、さらに70℃で2時間反応
させた。
このようにして得た重合体を重合体(N)とする。重合
体(N)の主なる構造式および分子量を第1表に示す。
実施例9 温度計、攪拌器、還流冷却管および滴下ロートを備えた
容量11のフラスコにエチレンジアミン3.0g、ポリ
エステルジオール ン社製エフポラン141)150g.特定ヒドロキシル
化合物(II)34.6g,ジブチルスズジラウレート
0.2gおよびメチルエチルケトン300gを加えて6
0℃に保温したのち,滴下ロートより反応系の温度が上
昇しない様に注意して,44”−ジフェニルメタンジイ
ソシアネート6 2. 5 gを滴下した。滴下終了後
,60℃で4時間反応させたのち.5−ナトリウム−ス
ルホプロポキシ−イソフタル酸を加えて70℃で6時間
反応させた。
これにメタクリル酸グリンジルエーテル7.1gt−加
え、60℃で2時間反応させた。
このようにして得た重合体を重合体(P)とする。重合
体(P)の主なる構造式および分子量を第1表に示す。
実施例10 温度針、攪拌器、還流冷却管および滴下ロートを備えた
容量11のフラスコに、トルエンジイソシアネート52
.2g、ジブチルスズジラウレート0.2gおよびメチ
ルエチルケトン300gを加えて60℃に加温したのち
2滴下ロートより反応系の温度が上昇しない様に注意し
て、ホリカーボネートジオール(PPG社製PC−DI
OL  1l20−800)168.特定ヒドロキシル
化合物(III)20.1gおよび特定スルホン酸化合
物(D−I)4.16gの混合物を滴下した0滴下終了
後。
60℃で4時間反応させたのち60℃に保ったまま、2
−ヒドロキシエチルアクリレート2.3 gを加え、さ
らに2時間反応させた0次いで特定アミン付加物(If
)4.62gを加えて60℃で2時間反応させた後2反
応系中にはイソシアネート基が無いことを、赤外吸収ス
ペクトルにより確認した。
このようにして得た重合体を重合体(Q)とする。重合
体(Q)の主なる構造式および分子量を第1表に示す。
実施例11 温度計、攪拌器、還流冷却管および滴下ロートを備えた
容量11のフラスコに4,4”−ジフェニルメタンジイ
ソシアネート80g、ジブチルスズジラウレート0.2
gおよびメチルエチルケトン300gを加えて60℃に
加温したのち1滴下ロートより反応系の温度が上昇しな
い様に注意して。
ポリエーテルジオール(デュポン社製テラコール650
)  156 g、特定−ヒドロキシル化合物−(I)
19.4gおよび特定スルホン酸(D−11)0.6g
の混合物を滴下した0滴下終了後、60℃で4時間反応
させたのち、60℃に保ったままペンタエリスリトール
トリアクリレート5.6 g’を加え、さらに2時間反
応させた。次いで特定アミン付加物(II)6.8gを
加えて、60℃で2時間反応させた後1反応系中にはイ
ソシアネート基が無いことを赤外吸収スペクトルにより
確認した。
このようにして得た重合体を重合体(S)とする。
重合体(S)の主なる構造式および分子量を第1表に示
す。
第1表備考 Rzs;トルエンジイソシアネートから両末端イソシア
ネート基を除いた残基 R1;ポリエーテルジオール(デュポン社製テラコール
650)から両末端水酸基を除いた残基R8゜;特定ヒ
ドロキシル化合物(I)から両末端水酸基を除いた残基 R3゜;特定スルホン酸化合物(D−1)から両末端水
酸基を除いた残基 Rsg;メチレンビス(シクロヘキシルイソシアネート
)から両末端イソシアネート基を除いた残基R13;ポ
リエステルジオール 社製二ンボラン141)から両末端水酸基を除いた残基 R34;ポリオキシプロピレンジアミン(三片テキサコ
社製シェフアミンD400)から両末端アミノ基を除い
た残基 R3S;特定ヒドロキシル化合物(II)から両末端水
酸基を除いた残基 R36;特定スルホン酸化合物(D−II)から両末端
アミノ基を除いた残基 R,?;特特定カルボキモ化化合物I)から両末端水酸
基を除いた残基 Rsa;特定アミン付加物(I)から両末端アミノ基を
除いた残基 R39;4,4°−ジフェニルメタンジイソシアネート
から両末端イソシアネート基を除いた残基R46;特定
ヒドロキシル化合物(DI)から両末端水酸基を除いた
残基 R,、;特定スルホン酸(E−1)から両末端水酸基を
除いた残基 R4t;特定アミン付加物(II)から両末端アミノ基
を除いた残基 Ras;ポリカプロラクトンジオール(ダイセル社製プ
ラクセル22ON−1)から両末端水酸基を除いた残基 R44;特定カルボキシル化合物(II)から両末端水
酸基を除いた残基 R4,;ポリカーボネートジオールCPPG社製PC−
DIOLI 20−800)から両末端水酸基を除いた
残基 R46;特定カルボキシル化合物(III)から両末端
アミノ基を除いた残基 R4,;ポリプロピレングリコール(日本油脂社製ユニ
オールD400)から両末端水酸基を除いた残基 参考例1 実施例1で得られた重合体Aのメチルエチルケトン溶液
を用いて下記組成の磁性塗料を次の要領で作製し、基体
に塗布し、電子線照射により硬化させた。
Go含有fF13zch 80重量部 重合体F       17重量部(固型分換算)トリ
メチロールプロパントリアクリレート3重量部 メチルエチルケトン 200重量部 500mj!アルミ製缶に上記組成中の磁性粉。
トリメチロールプロパントリアクリレート、メチルエチ
ルケトンおよび3鶴径ステンレスポール(約20m1)
を入れ米国レッドデビル社製ペイントコンディショナー
にて2時間振とうしたO次いで重合体Aの2−ブタノン
溶液を加え、更に4時間振とうした後、ステンレスポー
ルを取り除き磁性塗料を得た。次いで直ちに厚さ15μ
ポリエステルフイルム上に乾燥膜厚が6μになるように
上記磁性塗料を塗布し、直ちに磁場配向処理を行い、室
温で一夜乾燥後エレクトロカーテンタイプ電子線加速装
置を使用して加速電圧160キロボルトとし、7メガラ
フドの収拾線量で磁性塗膜を硬化した。
同様に上記磁性塗料組成中において、磁性粉を除外し9
重合体A、)リメチロールブロバントリアクリレートお
よびメチルエチルケトンの混合溶液からなる塗料を乾燥
膜厚が40〜60μになるようにガラス板上に塗布し、
室温で一夜乾燥後加速電圧160キロボルトとし、5メ
ガランドの吸収線量で塗膜を硬化した。
磁性塗料については1次の(I)の試験を行ない。
硬化磁性塗膜については、(2)〜(6)の試験をおこ
なつた。
また、磁性粉を含まない硬化塗膜については(7)〜(
8)の試験をおこなった。
また上記とは別に硬化塗膜を作り、(9)の試験をおこ
なった。
結果を第2表に示す。
(I)濾過テスト:平均孔径2μを有するフィルタター
で磁性塗料を1分間で100%濾過できるかどうか観察
した。
(2)光沢:デイジタル光沢針(同上色彩技術研究断裂
)を使用して硬化磁性塗膜の反射角45″の光沢を測定
し、光沢が70〜90の場合を◎、50〜70の場合を
0.30〜50の場合をΔ、30以下の場合を×とした
(3)  表面観察:走査型電子顕微鏡を使用して硬化
磁性塗膜の表面観察を行なった。磁性粉の凝集がみられ
ない状態を◎として以下○、△、×の順で表わした。
(4)接着テスト:硬化磁性塗膜の表面に粘着テープを
貼りつけ、全面に均一に接着させた後、瞬間的に引き剥
がしたときの状態を観察して行ない。
硬化磁性塗膜が基体から完全に剥離された場合を×・若
干剥離された場合を△、はとんど剥離されない場合をO
9全く剥離が認られないものを◎として評価した。
(5)粉落ち試験: 1oooのエメリー紙上で硬化磁
性塗膜を20回シエデイングしてその時の粉落ち量を測
定した。
(6)  角型比(Br78m):東英工業KK!!!
!vSM−3型を用いて外部磁場5. 000 c e
で磁気特性を測定した。残留磁束密度=B r、最大残
留磁束密度=]3m (7)   断強度、伸び、初期モジュラス:硬化塗膜
から短冊状のテストピースを切り出しく 0.5 aa
 Xl 0amX 40〜60 #) 、室温で50+
+n/minの引張り速度で測定した。
(8)テトラヒドロフラン(THF)抽出残:硬化塗膜
について、THFソックスレー抽出を24時間行ない、
抽出残の割合を測定した。
(9)屈曲試験:厚さ100μmのポリエステルフイル
ム上に、乾燥膜厚が40μ〜50μになる様に実施例1
で得られた重合体Aを塗布し、室温で1夜乾燥後、加速
電圧160 KV 5Mardの照射量でクリアーフィ
ルムを硬化した。このクリアーフィルムを基板のポリエ
ステルフィルムごと巾1clIの短ざく状に切り3両端
を固定して中央部分から屈曲させたのちただちにもとの
状態に復元するといった屈曲試験を1秒間に20回行い
、屈曲部位からのクリアーフィルムの剥離あるいは破壊
が起こるかどうかをみた。500時間の屈曲に耐えたも
のを有料として評価した。
参考例2 参考例1において塗料の組成を次のようにした以外は参
考例1と同様に試験をおこなった。結果を第2表に示す
CO含有r  FegQ、  8部部 重合体0        17部(固型分換算)トリメ
チロールプロパントリアクリレート3部 メチルエチルケトン   200部 参考例3 参考例1において塗料の組成を次のようにした以外は参
考例1と同様に試験を行なった。結果を第2表に示す。
Go含有r−FezOs  80部 重合体H17部(固型分換算) トリメチロールプロパントリアクレリー13部 メチルエチルケトン   200部 参考例4 参考例1において塗料の組成を次のようにした以外は参
考例1と同様に試験を行なった。結果を第2表に示す。
Co含有r−FezOs  80部 重合体H20部(固型分換算) メチルエチルケトン   200部 参考例5 参考例1において塗料の組成を次のようにした以外は参
考例1と同様に試験をおこなった。結果は第2表に示す
CO含有r−FezOs80部 重合体J         17部(固型分換算)ペン
タエリスリトールトリアクリレート3部 メチルエチルケトン   200部 参考例6 参考例1において塗料の組成を次のようにした以外は参
考例1と同様に試験をおこなった。結果を第2表に示す
Co含有7−p’e、0380部 重合体K         17部(固型分換算)ペン
タエリスリトールトリアクリレート3部 メチルエチルケトン   200部 参考例7 参考例1において塗料の組成を次のようにした以外は参
考例1と同様に試験を行なった。結果を第2表に示す。
CO含有r  FezO380部 叱 重合体L         17部(固型分換算)ジエ
チレングリコールジアクリレート 3部 メチルエチルケトン   200部 参考例8 参考例1において塗料の組成を次のようにした以外は参
考例1と同様に試験を行なった。結果を第2表に示す。
CO含含有−FezQ、  so部 重合体M         17部(固型分換算)トリ
メチロールプロパントリアクリレート3部 メチルエチルケトン   200部 参考例9 参考例1において塗料の組成を次のようにした以外は参
考例1と同様に試験を行なった。結果を第2表に示す。
CO含有r−Fetos  80部 重合体N         17部(固型分換算)トリ
メチロールプロパントリアクリレート3部 メチルエチルケトン   200部 参考例10 参考例1において塗料の組成を次のようにした以外は参
考例1と同様に試験を行なった。結果を第2表に示す。
CO含有r  p’ez03  so部重合体N   
      20部(固型分換算)メチルエチルケトン
   200部 参考例11 参考例1において塗料の組成を次のようにした以外は参
考例1と同様に試験を行なった。結果を第2表に示す。
Co含有r−Fe、0. 13部部 重合体P         17部(固型分換算)ペン
タエリスリトールトリアクリレート3部 メチルエチルケトン   200部 参考例12 参考例1において塗料の組成を次のようにした以外は参
考例1と同様に試験をおこなった。結果を第2表に示す
CO含有r−Fe、0.80部 重合体Q         17部(固型分換算)ジエ
チレングリコールジアクリレート 3部 メチルエチルケトン   200部 参考例13 参考例1において塗料の組成を次のようにした以外は参
考例1と同様に試験をおこなった。結果を第2表に示す
CO含有T  Fetus  80部 重合体Q         20部(固型分換算)メチ
ルエチルケトン   200部 参考例14 参考例1において塗料の組成を次のようにした以外は参
考例1と同様に試験を行なった。結果を第2表に示す。
CO含有r−FezOs  80部 重合体3        17部(固型分換算)ジエチ
レングリコールジアクリレート 3部 メチルエチルケトン   200部 〔発明の効果〕 本発明は、下記の効果を有するものである。
(I)本発明の放射線動実用塗料の塗料の効果塗膜は2
機械的特性においてすぐれているだけでなく。
磁気記録媒体等の基体に対する接着性にもすぐれたもの
である。
(2)本発明の放射線硬化用塗料は、放射線照射による
架橋性にすぐれることにより、低放射線照射線量で充分
に架橋硬化し、耐溶剤性にすぐれた硬化塗膜を得ること
ができ、塗膜を硬化させるために要するエネルギーを低
減させることができる。
(3)  本発明の放射線硬化用塗料、特に磁性塗料は
従来のものに比べて低粘度で取扱いが容易であり。
また塗料のレベリング特性にすぐれており2表面平滑度
が著るしく高い塗膜を得ることができる。
(4)本発明の放射線硬化用塗料に磁性粉を配合した磁
性塗料は、配合される磁性粉との親和性にきわめてすぐ
れており、塗料中への磁性粉の分散が容易であり、かつ
塗料中への磁性粉の配合率を大巾に向上させることがで
きる。従って本発明の放射線硬化用塗料は、磁気変換特
性のすぐれた磁気記録媒体を製造しうる磁性塗料を調整
することができる。
(5)本発明の放射線硬化用塗料の塗膜は、放射線照射
量を増加させることによって架橋密度を向上させても、
適度な柔軟性と表面硬度とを有する硬化塗膜を得ること
ができ、磁性塗料として磁気記録媒体の1種である磁気
テープの製造に用いた場合に、磁気ヘッドと良好な接触
状態を有し、磁性粉の脱落が少なく、変調ノイズが少な
い耐久性のすぐれた磁気テープを得ることができる。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (A)分子両末端に下記一般式( I )、一般式(II)
    および一般式(III)で示される構成単位から選ばれる
    少なくとも1種類の構成単位、 (B)下記一般式(IV)、一般式(V)、一般式(VI)
    および一般式(VII)で示される構成単位から選ばれる
    少なくとも1種類の構成単位、 (C)下記一般式(VIII)で示される構成単位、 (D)下記一般式(IX)で示される構成単位および必要
    に応じて、 (E)下記一般式(X)および一般式(X I )で示さ
    れる構成単位から選ばれる少なくとも1種の構成単位を
    有し、 前記一般式( I )〜(X I )で示される構成単位がウ
    レタン結合、ウレア結合、N−置換ウレア結合、アミド
    結合およびエステル結合の少なくとも1つを介して結合
    され、分子量が2,000〜100,000の重合体を
    含有してなる放射線硬化用塗料 ( I )CH_2=C(R_1)− 〔式中、R_1は、水素原子またはメチル基を示す〕 (II)▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R_1は、一般式( I )と同じであり、R_
    2は、C_2〜C_8のアルキレン基を示す〕 (III)▲数式、化学式、表等があります▼ または ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R_1は、一般式( I )と同じである。〕 (IV)▲数式、化学式、表等があります▼ または ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R_3およびR_4は、C_2〜C_6のアル
    キレン基を示し同一であっても異なっていてもよく、R
    _4_3は芳香族基を有するC_1_3〜C_1_8の
    2価の有機基を示し、k、lおよびmは0〜50の整数
    で同時に0であってはならず、 nは0〜50の整数である。〕 (V)▲数式、化学式、表等があります▼ または ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R_3およびR_4は、一般式(IV)と同じで
    あり、 R_5は、C_2〜C_8の2価の脂肪族基、脂環式基
    または芳香族基を示し、 lおよびmは、一般式(IV)と同じであり、pは1〜5
    0の整数である。〕 (VI)▲数式、化学式、表等があります▼ または ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R_2は、一般式(II)と同じであり、R_6
    R_7、R_8ぉょびR_9、は、水素原子またはC_
    1〜C_8のアルキル基を示し、同一であっても異なっ
    ていてもよく、rおよびsは、1〜50の整数であり、
    qは、1〜20の整数である。〕 (VII)−R_1_0− 〔式中、R_1_0は、C_2〜C_2_0の2価の脂
    肪族基、脂環式基または芳香族基を示す。〕 (VIII)▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R_1_1は、C_2〜C_2_0の3価の脂
    肪族基、脂環式基、または、芳香族基を示し、これらの
    脂肪族基、脂環式基、芳香族基は、その構造中に▲数式
    、化学式、表等があります▼ (R_1_2は、水素原子または置換基を有するもしく
    は有さないC_1〜C_8の脂肪族基、脂環式基もしく
    は芳香族基を示す。)、▲数式、化学式、表等がありま
    す▼または−SO_2−を有していてもよく、Mは、水
    素原子、アンモニウム基、アルカリ金属原子またはアル
    カリ土類金属原子を示す。〕 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R_1は、一般式( I )と同じであり、R_
    1_3は、置換基を有するまたは有さない2価の脂肪族
    基、脂環式基もしくは芳香族基を示し、これらの脂肪族
    基、脂環式基および芳香族基はその構造中に−C−、▲
    数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学式
    、表等があります▼(R_1_4は、水素原子または置
    換基を有するもしくは有さないC_1〜C_8の脂肪族
    基、脂環式基もしくは芳香族基を示す)を有していても
    よい。〕 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R_1_5は、C_2〜C_4_0の4価の脂
    肪族基、脂環式基または芳香族基を示す。〕 (X I )▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R_1_3は、一般式(IX)と同じである。〕
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Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63108020A (ja) * 1986-06-12 1988-05-12 Toyobo Co Ltd 放射線硬化型樹脂
JP2627626B2 (ja) * 1987-10-20 1997-07-09 日本合成ゴム株式会社 光フアイバー被覆用組成物
US5094713A (en) * 1988-02-16 1992-03-10 Hoechst Celanese Corporation Process for improving the adhesion to polyacetal articles
US5028683A (en) * 1988-04-22 1991-07-02 Minnesota Mining And Manufacturing Company Electron-beam curable polyurethane compositions; and method
US5281482A (en) * 1988-04-22 1994-01-25 Minnesota Mining And Manufacturing Company Magnetic recording medium comprising magnetic particles and an electron beam curable polyurethane binder having segments derived from a specified unsaturated diol
EP0394695B1 (en) * 1989-03-30 1997-07-02 Toyo Boseki Kabushiki Kaisha Radiation curable resin and composition thereof
DE69026902T2 (de) * 1989-10-11 1996-11-28 Daicel Chem Polykarbonat-Polyol-Zusammensetzung und Polykarbonat-(meth)acrylatzusammensetzungen und darauf basierende Urethan(meth)acrylate
US5244739A (en) * 1990-06-25 1993-09-14 Minnesota Mining And Manufacturing Company Magnetic recording media comprising a cured dispersion coating of a magnetizable pigment and polyurethane polymer containing a vinyl polymeric segment pendant from the polyurethane backbone
US5218072A (en) * 1990-06-25 1993-06-08 Minnesota Mining And Manufacturing Company Sulfonated and non-sulfonated, thiol, and hydroxy functional polyurethanes and graft copolymers made therewith
US5134035A (en) * 1990-06-25 1992-07-28 Minnesota Mining And Manufacturing Company Magnetic recording medium containing a polyurethane copolymer with a free radically polymerized polymer segment grafted to the polyurethane through a sulfur atom
DE19953203A1 (de) * 1999-11-05 2007-12-06 Basf Coatings Ag Verfahren zur Herstellung farb- und/oder effektgebender Mehrschichtlackierungen unter Verwendung selbstvernetzender Pfropfmischpolymerisate von Polyurethanen sowie neue selbstvernetzende Polyurethane und ihre Propfmischpolymerisate
JP2001352982A (ja) * 2000-06-12 2001-12-25 Shimadzu Corp 核酸合成法
DE10064299A1 (de) * 2000-12-22 2002-07-04 Emtec Magnetics Gmbh Verwendung von Poly(meth)acrylatbausteinen mit Sulfonatgruppen in Bindemitteln für Magnetspeichermedien
US20090142526A1 (en) * 2006-05-25 2009-06-04 Sun Chemical Corp Polymeric dispersants
CA2628872A1 (en) * 2007-04-12 2008-10-12 Bayer Materialscience Llc Urethane acrylates for uv powder coatings
JP6318110B2 (ja) * 2015-03-25 2018-04-25 富士フイルム株式会社 磁気記録媒体用組成物、磁気記録媒体の製造方法および磁気記録媒体

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS51145521A (en) * 1976-05-31 1976-12-14 Mitsubishi Rayon Co Method of manufacturing surface processed inorganic board
JPS5660664A (en) * 1979-10-22 1981-05-25 Dainippon Ink & Chem Inc Formation of paint film
JPS5753572A (en) * 1980-09-16 1982-03-30 Toyobo Co Ltd Ultraviolet curing coating resin composition having improved solvent resistance and adhesive property
JPS5869260A (ja) * 1981-10-21 1983-04-25 Nippon Steel Corp 金属板の潤滑塗膜形成用活性エネルギ−線硬化型着色塗料組成物
JPS5951952A (ja) * 1982-09-11 1984-03-26 Mitsubishi Rayon Co Ltd 耐摩耗性に優れた艶消し性被覆材組成物

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1377978A (en) * 1970-11-25 1974-12-18 Kansai Paint Co Ltd Composition for preparing electroconductive resin

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS51145521A (en) * 1976-05-31 1976-12-14 Mitsubishi Rayon Co Method of manufacturing surface processed inorganic board
JPS5660664A (en) * 1979-10-22 1981-05-25 Dainippon Ink & Chem Inc Formation of paint film
JPS5753572A (en) * 1980-09-16 1982-03-30 Toyobo Co Ltd Ultraviolet curing coating resin composition having improved solvent resistance and adhesive property
JPS5869260A (ja) * 1981-10-21 1983-04-25 Nippon Steel Corp 金属板の潤滑塗膜形成用活性エネルギ−線硬化型着色塗料組成物
JPS5951952A (ja) * 1982-09-11 1984-03-26 Mitsubishi Rayon Co Ltd 耐摩耗性に優れた艶消し性被覆材組成物

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