JPS61213368A - 真空成膜装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、基板を回転駆動しながらその表面に薄膜を成
膜する回転式の真空成膜装置に係り、°特に、光ディス
クに記録膜を成膜するに好適な真空成膜装置に関する。

〔従来の技術〕

第４図に示すように、２枚のディスク単板１゜２をスペ
ーサ３，４を介して相内向に接合した。

いわゆるエアサンドウィッチ型の光ディスクが従来より
知られている。

前記エアサンドウィッチ型の光ディスクを構成するディ
スク単板１，２には、基板５，６の内周部および外周部
を除く輪状の領域に、情報信号と対応するピットおよび
トラッキング情報と対応するグループが転写された樹脂
層７，８が形成されており、この樹脂層７，８の表面に
、前記ピットの形で記録された情報信号およびグループ
の形で記録されたトラッキング信号を読み出すための記
録１５に９．１０が成膜されている。

この記録膜９，１０は１通常、真空蒸着装置によって成
膜されるが、基板５．６のスペーサ接合部に記録ｆ１５
Ｉ９，１０が成膜されると、スペーサ３゜４が基板５，
６と直接接着されず記録膜９，１０を介して接着される
ことになる。基板５（６）と記録膜９（１０）の接合力
は、基板５，６とスベニサ３．４を直接接着した場合に
比べて弱いので、かかる場合、基板５（６）と記録Ｖ！
Ａ９（ｌ　Ｏ）の間から剥離し易くなるという問題を生
ずる。

このため、従来より、樹脂層７，８の表面に記録９９．
１０を成膜する場合、前記基板５，６のスペーサ接合部
への記録１［９，１０の付着を防止するための手段が種
々採られている。

第５図乃至第７図に、従来知られているこの種防着手段
の公知例を示す（文献不祥）。

第５図は防着マスクを備えた従来の真空蒸着装置の一部
断面図、第６図はこの真空蒸着装置に備えられる防着マ
スクの斜視図であって、１１は真空槽、１２は蒸発源、
１３は基板、１４は基板】３を回転する回転駆動装置、
１５は前記蒸Ｊｉ源１２と基板１３の間に付設された防
着マスク、１６は排気ポンプを示す。

回転駆動装［１４は、駆動モータ１７と１回転軸１８と
１回転軸１８の先端部に固着された受板１９とから成る
。受板１９は、基板１３の内周部に接合される内周スペ
ーサ３の外周と略等しい直径を有する円板形に形成され
ており、蒸着時、基板１３の内周スペーサ接合部を被覆
して腋部の防着を行うようになっている。

基板１３は、中央孔１３ａに前記回転駆動装置１４の回
転軸１８を貫通し、基板１３の樹脂層形成面側を受板１
９に載置することによって、真空ｍ１１内に定置される
。

防着マスクＬ５は、第６図に示すように、基板１３の外
周スペーサ接合部を被覆するに足る直径と幅とを有する
リング状に形成されており、基板１３の樹脂層形成面に
近接して固定される。この防着マスク１５は、基板１３
との摺動を防止するため、基板１３と密着することなく
、基板１３からやや離隔した位置に設けられる。

次に、従来知ら九でいる防着手段の第２例を第７図に基
づいて説明する。

防着手段の第２公知例は、第７図に示すように。

基板１３の外周スペーサ接合部を被覆するに足る直径と
幅とを有するリング状の防着マスク２０と。

相重合された基板１３と防着マスク２０を挟持可能なコ
の字形の複数個のクランパ２１とから成り、防着マスク
２０を基板１３の外周スペーサ接合部に重合し、この相
重合された基板１３および防着マスク２０をクランパ２
１にて挟持することによって、基板１３の外周スペーサ
接合部に防着マスク２０を密着するようになっている。

この第２公知例の防着マスク２０は、第５図に示したと
同様の真空蒸着装置に装着された基板の外周スペーサ接
合部に取り付けられる。

〔従来技術の問題点〕

上記した従来の防着手段のうち、第１公知例の防着手段
は１回転駆動する基板１３の防着部分を回転しない防着
マスク１５にて被覆するようにしたので、基板１３と防
着マスク１５を密着することができず、第５図に示すよ
うに、基板１３と防着マスク１５の隙間Ａから防着マス
ク１５の角部Ｂなどによって散乱された蒸発材料Ｃが侵
入して、基板１３の外周スペーサ接合部に付着し易いと
いう欠点がある。

このため、従来は、ふき取り作業など外周スペーサ接合
部に付着した蒸発材料を除去するための特別な作業を蒸
着後に行わなくてはならず、生産性が悪いばかりでなく
、このふき取り作業中に誤って記録膜を損傷するといっ
た事故を起し易く。

製品の歩留りが悪いという問題がある。

一方、第２公知例の防着手段は、基板１３の外周スペー
サ接合部に防着マスク２０を密着するようにしたので第
１公知例の如き不具合はないが。

成膜作業ごとに複数個のクランパ２１を操作して基板１
３に防着マスク２０を着脱しなくてはならないので、極
めて作業性が悪く、また１着脱作業中に誤って記録膜を
損傷するといった事故を起し易く、製品の歩留りが悪い
という、上記第１公知例と同様の問題がある。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明は、上記した従来技術の問題点を解決し。

防着部分の完全なる防着が図れ、かつ、作業性の良好な
真空成膜装置を提供するため、真空槽と。

真空槽内に収納された蒸発源と、基板を回転可能に保持
する基板保持部材と、前記蒸発源と基板との間に配置さ
れた防増−ζスクとを備えた真空成膜装置において、前
記基板の防着エリアを被覆可能な形状を有し上面が前記
基板を密着可能な平面状に形成された防着マスクを、前
記真空槽内の前記蒸発源の上方に回転可能に配置したこ
とを特徴とするものである。

〔実施例〕

第１１！ｌは本発明に係る真空成膜装置の断面図であり
、第２図は第１図の真空成膜装置に備えられる防着機構
の斜視図であって、３０は外周マスク。

３１は外周マスク３０を回転駆動する外周マスク駆動モ
ータ、３２は外周マスク駆動モータ３１の駆動力を前記
外周マスク３０に伝達する原動ローラ、３３は前記外周
マスク３０を回転自在に保持するガイドローラ、３４は
内周マスク、３５は内周マスク３４を回転駆動する内周
マスク駆動モータを示し、その他、第５図に示したと同
様の部材については同一の符号によって表示しである。

外周マスク３０は、第１図および第２図に示すように、
基板１３の直径よりもやや大きな直径と基板１３の外周
部に形成される外周スペーサ接合部を被覆するに足る幅
を有するリング状に形成されでいる。また、この外周マ
スク３０は、第３図に示すように、水平状に形成された
上面３０ａと、この水平状の上面３０ａの対して垂直に
形成された周面３０ｂと、前記水平状の上面３０ａに対
して内向きに傾斜する下面３０ｃとから構成されている
。

外周マスク駆動モータ３１の回転軸に固着された原動ロ
ーラ３２およびガイドローラ３３は、前記外周マスク３
０の下面３０ｃの傾斜とは逆に傾斜する円錐形に形成さ
れており、前記外周マスク３０を水平状態に保持したま
ま回転駆動するように配置されている。これら外周マス
ク駆動モータ３１およびガイドローラ３３は、真空成膜
装置の底板３６に立設された架台３７に取り付けられる
。

内周マスク３４は、第１図および第２図に示すように、
基板１３の内周部に形成される内周スペーサ接合部と等
しい直径の上面３４ａと、これよりも小さい直径の下面
３４ｂを有する逆円錐・形に形成されており、内周マス
ク駆動モータ３５の回転軸３５ａに固着されている。こ
の内周マスク駆動モータ３５は、真空成膜装置の底板３
６に立設された架台３８に取り付けられる。この内周マ
スク３４の上面３４ａは、外周マスク３０の上面３０ａ
と同一平面状を為すように配置される。

上記のように構成された真空成膜装置を用いて光ディス
クの記録膜の成膜を行う場合は、第１ＷＩおよび第３図
に示すように、外周マスク３０および内周マスク３４の
上面に記録膜を成膜しようとする基板１３を載置し、＃
１″気ポンプ１６を作動して真空槽１内を真空にしたの
ち、外周マスク駆動モータ３１および内周マスク駆動モ
ータ３５を回転駆動し・て基板を回転し、蒸ｉ＠源１２
より記録膜材を蒸発する。

上記実施例の真空酸Ｉｌ！！装置は、外周マスク３０お
よび内周マスク３４の上面を平面状に形成し。

該上面に基板１３を載置するようにしたので、基板の外
周スペーサ接合および内周スペーサ接合部に外周マスク
３０および内周マスク３４が密着し、これらの防着エリ
アに蒸発材料が付着することがない。この場合、外周マ
スク３０および内周マスク３・１の上面に単に基板１３
を載置するだけで成膜することができるので、生産性が
高い、さらに、外周マスク３０および内周マスク３４の
樹脂層７゜８と近接する側の周面を斜面にしたので、従
来のように外周マスク３０および内周マスク３４の角部
で蒸発材料が散乱さ九るということがなく、樹脂層７．
８に均一な記＃１膜を形成することができる。

尚、上記実施例においては、真空成膜装置として真空蒸
着装置のみを例示したが、本発明の要旨はこれに限定さ
れるものではなく、電子ビーム成暎装ｍ、スパッタ成膜
装置など他の真空成膜装置にも適用可能であることは勿
論である。

また、上記実施例においては１本発明の適用例として、
内周部および外周部に防着エリアを有する光ディスクに
記＠膜を成膜する場合のみを例示したが、本発明の要旨
はこれに限定されるものではなく、任意の領域に任意の
形状の防着エリアを有する基板の成膜に適用可能である
ことは言うまでもない、従って、防着マスクの形状、大
きさ。

配置、および駆動モータ、ガイドローラなど各部材の配
置、保持手段、ｌＩ！動方式等については、上記実施例
に限定されるものではなく、任意に設計することができ
る。

〔発明の効果〕

以上説明したように１本発明によ九ば、防着マスクの上
面に基板を載置するようにしたので、基板の防着エリア
と防着マスクが密着し、完全な防着を達成することがで
きる。また、防着マスクの上面に単に基板を載置するだ
けで回転蒸着式の成膜を行うことができるので、基板と
防着マスクの着脱が非常に簡単になり、その分、生産性
を向上することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明にかかる真空成膜装置の一実施例を示す
断面図、第２図は第１図の真空成膜装置に備えられる防
着マスクおよびその駆動装置の斜視図、第３ＷＩは防着
マスクの形状の詳細を示す一部拡大断面図、第４図は光
ディスクの一例を示す断面図、第５図は従来の真空成膜
装置の一例を示す断面図、第６１！ｌは第５図の真空成
膜装置に備えられる防着マスクの斜視図、第７図は従来
の防着手段の他の例を示す斜視図である。 １１：真空槽、１２：蒸発源、１３：基板、１６：排気
ポンプ、３０：外周マスク、３１：外周マスク駆動モー
タ、３２：原動ローラ、３３ニガイドローラ、３４：内
周マスク、３５：内周マスク駆動モータ、３６：底板、
３７．３８：架台片１悶 １１　：Ｊ空Ｊ會　　　　　；Ｍ　：　ＡＴ旧嘴スク３
４　　！　　［ｌ［’ｖｚ７ ３ｇ　’、）’Ａ耐リすク！２−動 ｔ　２　図 才　３　図 才　４　困

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 真空槽と、真空槽内に収納された蒸発源と、基板を回転
   可能に保持する基板保持部材と、前記蒸発源と基板との
   間に配置された防着マスクとを備えた真空成膜装置にお
   いて、前記基板の防着エリアを被覆可能な形状を有し上
   面が前記基板を密着可能な平面状に形成された防着マス
   クを、前記真空槽内の前記蒸発源の上方に回転可能に配
   置したことを特徴とする、真空成膜装置。