JPS6393862A - 自公転式基板ホルダ取付装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は自公転式基板ホルダ取付装置に関し、特にイン
ライン型の成膜装置に用いて最適な自公転式基板ホルダ
取付装置に関する。

〔従来の技術及びその問題点〕

第６図及び第７図は自公転式基板ホルダ取付装置の従来
例を示すが、図において減圧槽（１）の上方開口端部は
蓋体（２）が気密に固定されている。蓋体（２）の上に
はモータ（３）が固定され、その回転軸の一端部にがさ
歯車（４）が固定されている。このかさ歯車（４）は従
動かさ歯車（５）と歯合しており、従動かさ歯車（５ン
の回転軸（６）は下方へと伸び、その下端部で回転盤（
７）の中央部に固定されている。

回転盤（７）は複数の基板ホルダ（８）（本従来例では
第７図に示すように３個）の回転軸（９）を回転自在に
支持しておシ、この回転軸（９）の上端部にはゴムロー
ラＱ０が固定されている。固定円盤（１１はカラー（６
）及び回転軸（６）のケーシング（ト）を介して蓋体（
２）に対し固定される。カラー（２）はケーシング（ト
）に対し止ねじ（２）によシ固定されている。固定円盤
叩の周側面に上述のゴムローラα０が当接している。そ
の他、公知のように（至）はカソードであり、Ｃ１４）
はシャッタ開閉機構である。

従来例は以上のように構成されるのであるが、モータ（
３）を駆動すると歯車（４）　（５）を介して回転軸（
６）が回転し、これと共に回転円盤（７）が回転する。

回転円盤（７）の回転により基板ホルダ（８）は固定円
盤αルのまわシに公転すると共にゴムローラＱ０が固定
円盤Ｏηの周側面に当接しているのでゴムローラＱＯと
、この周側面との摩擦力により各基板ホルダ（８）はそ
の回転軸（９）のまわりに自転する。図示せずとも基板
ホルダ（８）には基板、例えば光磁気デスクが取付られ
ておりこれに対し所望の薄膜が形成される。

公知のように基板ホルダ（８）は自転及び公転を行って
いるので基板には一様に薄膜が形成される。

以上のようにして本従来例でも基板には良質の薄膜が形
成されるのであるが、これを基板ホルダ（８）から取シ
はずす場合には減圧槽（１）内を大気圧にしなければな
らない。即ち第６図からも明らかなように基板ホルダ（
８）は減圧槽（１）に対し蓋体（２）やその他部材を介
して多数のボルトによシ直接又は間接的に固定されてい
る。従って減圧槽（１）内の圧力をそのま＼にして基板
（８ンを取出すことは不可能である。或は非常に困難で
ある。即ち本従来例はいわゆるインライン型の成膜装置
に適用することは出来ない。又基板ホルダ（８）の自転
のためにゴムローラＱＯを用いているが、これと固定円
盤叩の周側面との摩擦力によシゴムａ−ラ０Ｑが回転す
るのであるが、その使用時間と共にゴム屑が発生しこれ
により固定円盤（ロ）との摩擦力が小さくなシすべ９が
生ずる事になる。これでは基板ホルダ（８）が確実に自
転することが出来なく）なるばかりか、ゴム屑が周辺に
飛び散夛基板ホルダ（８）内にも至シ薄膜形成中の基板
に対し悪影響をおよぼす。

〔発明が解決しようとする問題点〕

本発明は上記問題に鑑みてなされゴム屑が発生せず、基
板に対しなお良質の薄膜を形成させることが出来ると共
に減圧槽（１）に対し自動的に取シ出しが可能である、
即ちインライン型の成膜装置に対し適用可能な自公転式
基板ホルダ取付装置を提供することを目的とする。

〔問題点を解決するための手段〕

以上の目的は複数の基板ホルダの回転軸を回転自在に支
持する円板状の回転部材；前記各回転軸の一端部に設け
られた歯車；前記歯車に係合する歯を周側部に形成させ
九固定歯車から成り、少なくとも前記回転部材を回転駆
動軸に溢って上下動自在とし、かつ該駆動軸と係合及い
非係合の位置を取シ得るようにしたことを特徴とする自
公転式基板ホルダ取付装置によって達成される。

〔作　用〕

駆動軸と回転部材との保合位置では回転部材が回転する
ことによりこれに支持されている複数の基板ホルダは固
定歯車のまわ９に公転すると共に自転する。よって従来
例と同様に基板ホルダに取付られた基板には良質の薄膜
が形成される。しかしながら本発明では従来例の様にゴ
ムローラは使用せず歯車と歯車との歯合により基板ホル
ダを回転さすようにしているのでゴム屑は発生せず基板
にはなお良質の薄膜を形成することが出来る。

又薄膜を形成した後、基板を取りはずしたい時には回転
部材を回転駆動軸に沿って下方へと移動させて非係合の
位置を取らせる。該駆動軸は減圧槽に対しては固定され
ているが取付関係では基板ホルダを支持する１回転部材
は減圧槽に対して自由な状態となる。よって例えばフォ
ークやトレイにより回転部材を受は減圧槽に隣接する取
出室へと移送するようＫすれば良い。なお取出室と減圧
槽の間には公知のように気密に開閉自在のゲートが設け
られているものとする。

〔実施例〕

以下、本発明の実施例による自公転式基板ホルダ取付装
置に関し、第１図乃至第５図を参胛して説明する。

図において減圧槽の蓋体（１）には中空の駆動軸Ｑυが
図示せずともシール手段を介して気密に減圧槽内に突出
しておりその中空部を上下動自在な昇降ロッド膿が挿通
している。これは上方で図示せずともシリンダ装置に接
続され、これによシ上下動するように構成されている。

昇降ロッドのの下端部には円板状のフランジ部器が形成
され、図示の状態では上方位置を示しているが、一対の
ガイドプレート（３９す（３９ｂ）に当接している。ま
た駆動軸Ｑυの下端部にもフランジ部（２４が形成され
ガイドプレート（３９ｍ）（３９ｂ）と当接しテイル。

本実施例の回転支持円板は共に薄板から成る第１回転部
材（ハ）及び第２回転部材□□□から成膜これらは周辺
部でポル）（２７１により一体的に固定される。

第１回転部材■の中央部にはリング状の止めプレート曽
が複数のボルト■により螺着固定されており、ボルト■
はそれぞれスリーブ（３つを挿通しておシ、このスリー
ブ位と上述の止めプレート（へ）との間にスペーサ部材
（ト）が介在している。ボルト（至）は上述のガイド部
材（３９ｍ）（３９ｂ）のねじ穴にも螺着することによ
ｐガイドプレート（３９ａ）（３９ｂ）と止めプレート
□□□とを一体化している。即ちガイドプレート（３９
ｍ）（３９ｂ）はボルト（至）を介して回転部材（２５
１＋２６１と一体的に回転するよう構成されている、駆
動軸−の下端部に形成される７ランク部（２４の下面に
は断面が台形上の凹所（２４ｍ）が形成され、これにボ
ルト■の同じく台形状の頭部（３８ｍ）が係合している
。第１回転部材（ハ）にはベアリング６υを介して大小
２種の基板ホルダ＠■′が第２図に示すような配置で支
持されている。基板ホルダＣａＷの回転軸■の上端部に
は歯車Ｃ３３が固定されている。

これら歯車１３３は周側面に歯（３２ｍ　）を有し、中
央の固定円盤時の周側面に形成された歯（３３ｍ）と第
１図に示すよう歯合している。薄板で成る回転部材ωは
第１図に示す如く段付形状を示すがこの上段部に複数の
ガイド用のベアリング図が取付られておシ、固定円盤時
の中央孔（３３ｃ）の内周壁面に転勤自在に当接してい
る。

蓋体（１）には保持部材ＨＯがボルト（４３により固定
されておシ、この保持部材４Ｑには複数のスプリングケ
ースＱυが固定されている。これらスプリングケース４
υはばね（６）を内蔵し、このばね力に付勢される固定
用ロッド（４９がケーシング（４υを挿通してお９、そ
の上方７ランジ部（４９ｖ）がケーシング（４υの底壁
に第１図で示す如く係合することによシその下方位置が
規正されている。この固定用ａラドｔ４１の下方７ラン
ジ部（４９ｂ）は固定円盤時の上面に当接しており、そ
の球形の下端部（４９ｃ）は固定円盤時に形成した孔（
３３ｂ）に嵌合している。即ち固定円盤時はこのような
複数の固定用ロッド四により回転しないように構成され
ている。

基板ホルダの鍵には公知の方法によシそれぞれ基板□□
□（ハ）′が取付られている。なお本実施例では基板は
光磁気デスクであるものとする。なお、固定円盤時及び
歯車ｒ３７Ｊは軽金属、例えばアルミニウム系合金から
成っている。本実施例の取付装置は以上のように構成さ
れるのであるが、その下方にはトレー（４４Ｊが配設さ
れ、回転部材四の外周縁部を受けうるようになっている
。又第３図で示すように一対のガイドプレート（３９す
（３９ｂ）ははゾ半円形状をしているが、これ等の間に
ガイド用の空間（ハ）を形成させている。したがって第
１図においてトレー圓は紙面に対し垂直方向に移動させ
る時、本取付装置はその下方位置において、トレー圓で
受けられて駆動軸郭及び昇降ロッドのから外方へと離脱
するように構成されている。

本発明の実施例は以上の様に構成されるが次にこの作用
、効果などについて説明する。

第１図は本実施例の取付装置の上方位置にある場合を示
しているが、この状態で駆動軸Ｑυが矢印で示すように
回転するとボルト（至）の頭部（３８ｇ　）と駆動軸２
υのフランジ部ｃ！４）の凹所（２４ｍ）との保合によ
り回転部材ｃｌ！５１＠は第２図で示すように時計方向
に回転する、これにより基板ホルダｃ！８１ｇの回転軸
■の上端部に固定されている歯車ｃ３ｚが固定円盤（至
）の歯（３３ｍ）と係合しながら、この用膜を回転する
のでそれ自体も第２図の矢印で示すように自転する。即
ち基板ホルダｃ！８１ｗは駆動軸−の周りに公転すると
共にその軸■の周夛に自転を行う。図示せずとも蒸着す
べき物質が基板■■′に付着し公知のようにしてこの上
に薄膜が形成される。基板ホルダ＠Ｗは公転及び自転を
行っているので一様な薄膜が基板（２！Ｉθ′の上に形
成される。

所定の厚さに薄膜を形成した後、基板ホルダ（至）■′
から基板０′Ｇ（２９１′を取り除く作用について説明
する。

駆動軸ｃｘｕ’を停止させ図示しないシリンダ装置によ
り昇降ロッド（２２が第４図、第５図で示すように下方
へと降下させられる。降下の初期には第４図に示すよう
に昇降ロッドののフランジ部のでガイドプレート（３９
ａ）（３９ｂ）が支持されて駆動ロッドのと共に下方へ
と移動し回転部材■の外周部がトレーｔ４４）１７）上
に第５図に示す如く乗りた後は昇降ロッドｎのみ下方へ
移動し第５図で示すようにガイドプｖ　−ト（３９ｍ）
（３９ｂ）から離れる。

以上の状態でトレー（財）を第１図において紙面に垂直
な方向に移動させればガイドプレー）　（３９ｍ）（３
９ｂ）はその間の空間（ハ）で駆動ロッドのをのがれる
ことによシ取付装置の回転部分は外部へ除去される。図
示せずともトレー（旬は減圧室に隣接する取出宮に導ひ
かれ、ここで基板ホルダ（２８１■′から薄膜を形成さ
せた基板■げが取出される。次いで薄膜を形成すべき基
板ＣＸＩＩｃｘ１１’が基板ホルダ＠■′に固定された
上、トレー圓によシ本取付装置の回転部分が減圧槽内に
移送される。この時はガイドプレー）　（３９ａ）（３
９ｂ）間の空間４９に昇降ロッド■を通すように移送さ
れる。なお図示せずとも減圧槽内においてトレー圓は何
等かの位置決め手段によシ駆動軸ＣＩ！１１と同心的な
位置におかれるよう移送されるものとする。次いで昇降
ロッドのを上昇させる。先づフランジ部（２３１はガイ
ドプレート（３９ｍ）（３９ｂ）と当接することにより
ガイドプレート（３９ａ）（３９ｂ）　、従って基板ホ
ルダ＠困′を支持する回転部材ｃ！５１■を上方へと搬
送する。ボルト■の頭部（３８ｍ）は駆動ロット（２１
１のフランジ部（至）の凹所（２４ｇ）に第１図で示す
如く係合する事によシその上方位置が規正されここで停
止される。

なお固定用ロッド（４９ｍ）の下端部（４９ｃ）が固定
円盤時の穴（３３ｂ）にはｔカ込む事により固定円盤時
は上述したように回転止めが行われる。なお固定用ロッ
ドけ９ははね（４３のばね力によシ下方へと押圧されて
いるので固定円盤時の固定は確実に行われる。又周方向
の位置決めに関しては駆動軸Ｑυを回転させながらガイ
ドプレー）　（３９ｍ）（３９ｂ）を含む回転部分をト
レー圓から上昇させてボルト■の頭部（３ＳＳ）を駆動
軸（２１）のフランジ部（２４１の下面に当接させなが
ら頭部（３８ｍ）がフランジ部ｃ！４）の凹所（２４ａ
）にはまりこんだ所で周方向の位置決めを完了させるよ
うにしてもよい。なお、この場合固定用ロットけ３は固
定円盤時の上面を当接しながらこれと相対的に移動する
がばねりにより下方に付勢されているので、その下端部
（４９りが孔（３３ｂ）に至るとこれにはｔ、ｂこんで
自動的に位置決めされることが出来る。以上、本実施例
の作用について述べたが本実施例は次のような効果を奏
することが出来る。

すなわち本装置は上述したように上下動させることが出
来るのでいわゆるインライン型の成膜装置に適用するこ
とが出来る。また従来例のようにゴムローラを使用せず
歯車と歯車との係合を用いて自転、公転を行っているの
でゴム屑が生じることが無く基板＠Ｑ＆′への薄膜形成
に悪影響を及ぼす事が無い。

又本実施例では回転部材Ｉ２６１＠は薄板を折り曲けた
形状をなしているので薄板にか＼わらず強度が大きくし
かもリング状であって中央部が開口しているので（従来
例の円板（７）は完全な円板）全体として従来の回転円
盤とくらべると非常に軽く又慣性モーメントを小さくす
ることが出来るので駆動軸ｃｌ！Ｄの負荷を小さくする
ことが出来る。又トレー＋４４１による搬送も容易に行
う事が出来る、以上本発明の実施例について説明したが
本発明はこれに限定されることなく本発明の技術的思想
にもとづいて種々の変形が可能である。

例えば以上の実施例では取付装置を下方へ移動する場合
は固定円盤時をも下方へ移動させるようＫしたがこれは
蓋体（１）側に、すなわち駆動軸Ｑυ側に固定するよう
にし回転部材Ｑ！５ｈのみを下方へ移動させるようにす
る事も出来る。この場合には歯車Ｃ３３と固定歯車［有
］との田舎を行うために駆動軸Ｑυと回転部材の−の下
方位置における同心的な位置決めは厳密に行わなければ
ならない。

又以上の実施例では昇降口２ド１２２１のフランジ部の
によりガイドプレー）　（３９ａ）（３りｂ）を上下動
させるようにしたがこのフランジ部のを完全な円盤では
なくてラジアル方向に伸びる複数の突出部からなるよう
にし又これに対応してガイドプレート（３９８）（３９
ｂ）もこれをリング状にしかつその内周部を上述の突出
部に対応させて複数の切欠部を形成しこの切欠部を上述
の突出部が通過し得るようにしておけばガイドプレート
（３９ａ）（３９ｂ）を実施例のように２つに分けこの
間に空間（４９を形成させずとも昇降ロッド第の下端部
でガイドプレート（３９ａ）（３９ｂ　）に相当する部
材を受は且つこれから昇降口ラドを離脱さす事も可能と
なる。この場合には昇降ロッドｒ２ｚの離脱に際しては
回転部材（２５１＠をトレーに乗せた後昇降ａツドのを
いづれかの方向に若干回動させた後その下端の突出部を
ガイドブレート（３９ａＸ３９ｂ）に相当する部材の上
述の切欠き部を通過させることによって回転部分より離
脱させることが出来る。

また、以上の実施例では回転部材＋２５１＋２６１は別
体として形成したが、一体的に形成するようにしてもよ
い。

〔発明の効果〕

以上述べたように本発明の自公転式基板ホルダ取付装置
によればインライン型成膜装置に適用することが出来、
又従来のようにゴムローラの摩耗によるゴム屑が発生す
ることなく基板には良質の薄膜を形成することが出来る
。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の実施例による自公転式基板ホルダ取付
装置の断面側面図、第２図は第１図に示す装置のｌ−１
線方向、背面図、第３図は第１図における１１線方向か
ら見た背面図、第４図及び第５図は本実施例の作用を示
すための第１図における部分的な断面側面図、第６図は
従来例の自公転式基板ホルダ取付装置の断面側面図及び
第７図は第６図における■−■線方向から見た断面平面
図である。 なお図において、

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 複数の基板ホルダの回転軸を回転自在に支持する円板状
   の回転部材；前記各回転軸の一端部に設けられた歯車；
   前記歯車に係合する歯を周側部に形成させた固定歯車か
   ら成り、少なくとも前記回転部材を回転駆動軸に沿って
   上下動自在とし、かつ該駆動軸と係合及び非係合の位置
   を取り得るようにしたことを特徴とする自公転式基板ホ
   ルダ取付装置。