JPS62137746A - 光情報記録用デイスクの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、ビデオディスク、コンパクトディスク、コン
ピュータ用光デイスクメモリ等、光ビームを照射するこ
とによって情報の記録及び再生を行う光情報記録用ディ
スクの製造方法に係り、より詳しくは、ディスク基板の
内周部及び外周部に形成される接合部の形成方法に関す
る。

〔従来の技術〕

第３図に示すように、２枚のディスク基板２１゜２１を
内周スペーサ２２及び外周スペーサ２３を介して相内向
に接合した。いわゆるエアサンドウィッチ型の光情報記
録用ディスクが従来より知られでいる。

かかるエアサンドウィンチ型の光情報記録用ディスクを
構成するディスク基板２１には、内周部及び外周部を除
く輪状の領域に、情報４５号と対応するピット及びトラ
ッキング情報と対応するグループのうち少なくともいず
れか一方の凹凸パターンが転写された転写層２４が形成
されており、この転写層２４の表面に記録膜２５が成膜
されている。

この記録膜２５は、通常、真空蒸着装置やスパッタ蒸着
装置によって成膜されるが、ディスク基板２１のスペー
サ接合部に記録１１２５が成膜されると、ディスク基板
２１とスペーサ２２．２３とを接着剤をもって接着する
場合、スペーサ２２゜２３がディスク基板２１と直接接
着されず、記録膜２５を介して接着されることになる。

ディスク基板２１と記録膜２５の接合力は、ディスク基
板２１とスペーサ２２．２３を直接接着した場合に比べ
て弱いので、かかる場合、ディスク基板２１と記録膜２
５の間から剥離したり、あるいはディスク基板２１．２
１の内部に形成されるエアギャップの気密性が悪くなる
という問題を生ずる。また、ディスク基Ｆｉ２１のスペ
ーサ接合部に１２録膜２５が残留すると、その残留記録
膜がディスク基板２１の外部からｌ１ｉＩ！察されてし
まい、製品の外観が劣化するという問題を生ずる。

従来は、かかる不具合を未然に防止するため、記録膜２
５の成膜に先立ちディスク基板２１のスペーサ接合部に
防着マスクを被着するという方法が採られている。

第４図乃至第６図に、従来用いられているこの種防着マ
スク及びそれを内装した真空蒸着装置の一例を示す（文
献不祥）。

第４図は防着マスクを備えた従来の真空蒸着装置の一部
断面図、第５図はこの真空蒸着装置に備えられる防着マ
スクの斜視図であって、３１は真空槽、３２は蒸発源、
３３は基板、３４は基板３３を回転する回転駆動装置、
３５は前記蒸Ｊ？！源７３２と基板３３の間に付設され
た防着マスク、３６は排気ポンプを示している。

回転駆動装置３４はｌＳＩ！動モータ３７と、回転軸３
８と、回転軸３８の先端部に固着された受板３９とから
成る。受板３９は、基板３３の内周部に接合されろ内周
スペーサ２３の外周と略等しい直径を有する円板形しこ
形成されており、蒸着時、基板３３の内周スペーサ接合
部を被覆して該部の防着を行うようになっている。

基板３３は、中央孔３３ａに前記回転駆動装置３４の回
転＃３８を改通し、基＃Ｊｉ３３の転写層形成面側を受
板３つに載置することによって、真空槽３１内に定置さ
れる。

防着マスク３５は、第５図に示す上うに、躯仮３３の外
周スペーサ接合部を被覆するに足る直径と幅とを有する
リング状に形成されており、基板３３の転写層形成面に
近接して固定される。この防着マスク３５は、基板３３
との摺動を防止するため、基板３３と密着することなく
、基板３３からやや雛隔した位置に設けられる。

次°に、従来用いられている防着マスクの第２例を第６
図に基づいて説明する（公知側不祥）。

防着マスクの第２公知例は、第７図に示すように、基板
３３の外周スペーサ接合部を被覆するに足る直径とφば
とを有するリング状の防着マスク４０と、相重合された
基板３３と防着マスク４０を挟持可能なコの字形の複数
個のクランパ４１とから成り、防着マスク４０を基板３
３の外周スペーサ接合部に重合し、この相重合された基
板３３および防着マスク４０をクランパ４１にて挟持す
ることによって、基板３３の外周スペーサ接合部に防着
マスク４０を密着するようになっている。

この第２公知例の防着マスク４０は、第・１図に示した
と同様の真空蒸着装置に装着さ、ｔした基板の外周スペ
ーサ接合部に取り付けられる。

（従来技術の問題点〕 上記した従来の防着手段のうち、第１公知例の防着手段
は１回転駆動する基板３３の防着部分を回転しない防着
マスク３５にて被覆するようにしたので、基板３３と防
着マスク３５を密着することができず、第４図に示すよ
うに、基板３３と防着マスク３５の隙間Ａから防着マス
ク３５の角部Ｂなどによって散乱された蒸発材料Ｃが侵
入して５基板３３の外周スペーサ接合部に付着し易いと
いう欠点がある。

このため、従来は、ふき取り作業など外周スペーサ接合
部に付着した蒸発材料を除去するための特別な作業を蒸
着後に行わなくてはならず、生産性が悪いばかりでなく
、このふき取り作業中に誤って記録膜を損傷するといっ
た事故を起し易く、製品の歩留りが悪いという問題があ
る。

一方、第２公知例の防着手段は、基板３３の外周スペー
サ接合部に防着マスク４０を密着するようにしたので蒸
発材料が防着マスクの裏側に回り込むといった不具合は
ないが、成膜作業ごとに複数個のクランパ４１を操作し
て基板３３に防着マスク４０を着脱しなくてはならない
ので、極めて作業性が悪く、また１着脱作業中に誤って
記録膜を損傷するといった事故を起し易くという問題が
ある。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明は、上記した従来技術の問題点を解消し。

製造コス１−の安価な光情報記録用ディスクを提供する
ため、まず、ディスク基板の凹凸パターン形成側の而の
全面に記録膜を略均−の厚さに形成し、次いで、註記録
収形成済みディスク基板とレーザヘッドとを対向に配は
し、２九らを相対的に移動しながら上、Ｔｉｌ！ｌｉ′
ｉ！録膜にレーザ光を照射することによってレーザ光照
射部分の記８膜を除去し、ディスク基板の内周部及び外
周部に記録ｒＩ！Ａを有し・ない接合部を形成するよう
にしたことを特徴とするものである。

〔実施例〕

以下、第１図の流、ｈ図に従って１本発明に係る光情報
記録用ディスクの製造方法の一例を説明する。

まず、光情報記録用ディスクに転写しようとするトラッ
キング用のプリグループやアドレスを示すプリグループ
とは反転した凹凸パターンを有するスタンパを作製する
（第１図（ａ））。

次いで、二のスタンパをキャビテイ面の一部とするディ
スク基板成形用の金型を作製する（第１図（ｂ））。

次いで、このディスク基板成形用金型のキャビティ内に
溶融した高分子物質を高圧で射出し、上記凹凸パターン
が転写されたディスク基板を作製する（第１図（Ｃ））
。

次いで、射出成形されたディスク基板の上記凹凸パター
ン形成面のうち、中央孔の近傍を除く全面に記録膜をス
パッタリング形成する（第１図（ｄ））。

次いで、記録膜が形成されたディスク基板をスピンドル
に取り付けて回転駆動すると共に、該ディスク基板と対
向に配置されたレーザヘッドをディスク基板の半径方向
に移動しなからレーザ光を照射し、レーザ光照射部分の
記＊膜を蒸発することによってディスク基板の内周部及
び外周部に記録膜が形成されていないスペーサ接合部を
形成する（第１図（ｅ））。

ディスク基板の製造工程とは別途に、ディスク基板の内
周部及び外周部に形成されたスペーサ接合部と対応する
内径及び外径を有するリング状の内周スペーサ及び外周
スペーサを作製する（第１図（ｆ））。

最後に、上記内周スペーサ及び外周スペーサの両側に２
枚のディスク基板のスペーサ接合部を接合し１両面記録
型の光情報記録用ディスクを組立てる（第１図（ｇ））
。

上記実施例の光情報記録用ディスクの製造方法は、ディ
スク基板に記録膜を形成したのち、所定のスペーサ接合
部に被着した余剰の記録膜をレーザ光にて除去するよう
にしたので、該スペーサ接合部に記録膜が残留すること
がなく、外観上の見栄えが良好になると共に、ディスク
基板とスペーサとの接合が強固になる。また、ディスク
基板に記録膜を形成する際、従来のように防着マスクを
着脱する必要がないので、その分作業性が向上すると共
に歩留りが向上し、光情報記録用ディスクを安価に提供
することができる。また、人手によるふき取り作業をも
って余剰の記録膜を除去する必要もないので、この点か
らも作業性の向上と歩留りの向上とを図ることができる
。

レーザ光を照射することによってディスク基板の内周部
に［１０ｍｍのスペーサ接合部を、また、外周部に［２
，５ｍｍのスペーサ接合部を形成する場合、レーザスポ
ットの直径を１０μｍ、スピンドルの回転速度を１２０
０　ｒ、ｐ、ｍとすると、１枚当り約１分間でスペーサ
接合部を形成することができ、充分生産ラインに適用す
ることができる。

尚、上記実施例においては、高分子物質を射出成形する
ことによってディスク基板を製造する場合について説明
したが１本発明の要旨はこれに限定されるものではなく
、ガラス製のディスク基板を用いた場合においても全く
同様に実施することができる。

また、上記実施例においては、スペーサを介して２枚の
ディスク基板を接合する場合について説明したが、本発
明の要旨はこれに限定されるものではなく、ディスク基
板の内周部及び外周部に接合用の突条が一体に周設され
たディスク基板を用いる場合にも全く同様に実施するこ
とができる。

また、上記実施例においては、２枚のディスク基板が記
録膜を内側にして接合された、いわゆる両面記録型の光
情報記録用ディスクの製造方法についてのみ説明したが
５本発明の要旨はこれに限定されろものではなく、ディ
スク基板の凹凸パターン形成面側に保護板が接合された
、いわゆる片面記録型の光情報記録用ディスクについて
も全く同様に実施することができる。

さらに、上記実施例においては、ディスク基板の凹凸パ
ターン形成面側に記録膜が形成された。

いわゆるドロー型の光情報記録用ディスクを製造する方
法について説明したが、本発明の要旨はこれに限定され
るものではなく、ディスク基板の凹凸パターン形成面側
に反射膜が形成された読出し専用の光情報記録用ディス
クについても適用することができろ。

第２図に、余剰の記録膜を除去するためのレーザ装置の
一例を示す。

この図において、１は回転モータ、２は回転モータｌの
スピンドル、３はスピンドル２に取り付けられたディス
ク基板、４は回転モータ１を移動自在に保持する移動テ
ーブル、５は回転モータ１を移動テーブル４に沿って移
動する移動モータ、６は移動テーブル４上の回転モータ
１の位置を検出する位置検出装置、７は上記回転モータ
１及び移動モータ５を制御する制御装置、８はレーザ。

９はシャッタ、ＩＯはシャッタ駆動装置、１１は反！Ｆ
ｆｅｉ、１２は絞り込みレンズ、１３はレーザ光路であ
る。

上記絞り込みレンズ１２は、上記回転モータｌが移動テ
ーブル４上を移動したとき、ディスク基板３の半径方向
にレーザビームの軌跡が描かれるような位置に設定され
ろ、また、この絞り込みレンズ１２は、レーザ８から照
射されたレーザ光が。

ディスク基板３に形成された記録膜上にほぼ焦点を結ぶ
位置に設定される。

とのＬ／−ザ装置は１回転モータ１を回転することによ
ってディスク基板３を回転駆動し、また。

移動モータ５を回転することによって絞り込みレンズ１
２をディスク基板３の半径方向に相対的に移動する。絞
り込みレンズ１２の光軸に対するディスク基板３の回転
中心の移動量、即ち回転モータ］の位置情報１４は１位
置検出装置６によって検出される。制御装置７には、回
転モータ１の位置に対する回転モータ１及び移動モータ
５の最適な駆動条件が予じめ記憶されており、上記位置
検出装置６からの位置情報１４に基いてモータ駆動信号
１５を発し１回転モータ１及び移動モータ５の回転を制
御する。また、制御装置７には、シャッタ９を開放また
は閉止すべき回転モータ１の位置情報が予じめ記憶され
ており、上記位置検出装置６からの位置情報１４とこれ
ら制御装置７に予じめ記憶された位置情報とを比較し、
両汁が一致したときに制御装置７からシャッタ駆動装置
１０にシャッタ駆動信号１６を発してシャッタ９を開成
または閉止し、ディスク基板３の所定の半径領域のみに
レーザを照射する。これによって、ディスク基板３の内
周部及び外周部に被着さ九た記録膜を加熱蒸発せしめて
除去し、記録膜が被着されていないスペーサ接合部を形
成する。

尚、上記実施例においては、ディスク基板３を回転駆動
すると共にディスク基板３を固定された絞り込みレンズ
１２に対して移動するようにしたｕＪ合について説明し
たが１本発明の要旨は２九に限定されるものではなく、
ディスク基板３を定位置で回転駆動し、光学系（絞り込
みレンズ１２及び反射鏡１１を含むレーザヘッド）をデ
ィスク基ｖｉ３の半径方向に移動するようにすることも
できる。

また、ディスク基板３を固定し、該ディスク基板３の中
心を回転中心としてレーザヘッドを回転駆動すると共に
、該レーザヘッドをディスク基板３の半径方向に移動す
るようにすることも可能である。

〔発明の効果〕

以上説明したように、本発明の光情報記録用ディスクの
製造方法は、ディスク基板に記録膜を形成したのち、所
定のスペーサ接合部に被着した余剰の記録膜をレーザ光
にて除去するようにしたので、該スペーサ接合部に記録
膜が残留することがなく、外観上の見栄えが良好になる
と共に、ディスク基板とスペーサとの接合が強固になる
。また。

ディスク基板に記録膜を形成する際の作業が簡略化され
ると共に余剰記録膜の除去を自動化することができるの
で、その分作業性および歩留りが向上し、光情報記録用
ディスクを安価に提供することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明にかかる光情報記録用ディスクの製造方
法を説明する流れ図、第２図は余剰の記録膜を除去する
ためのレーザ装置の一例を示す正面図、第３図は従来知
られているエアサンドインチ型光情報記録用ディスクの
一例を示す断面図、第４図は従来用いられている真空蒸
着装置の一例を示す断面図、第５図は従来用いられてい
る防着マスクの一例を示す斜視図、第６図は従来用いら
れている防着マスクの他の例を示す斜視図である。 ｌ：回転モータ、２ニスピンドル、３：ディスク基板、
４：移動テーブル、５：移動モータ。 ６：位置検出装置、７：制御装置、８：レーザ。 ９：シャツタ、１０：シャッタ駆動装置、１１：反射鏡
、１２：絞り込みレンズ、１３：レーザ光路、１４：位
置情報、１５：モータ駆動信号。 １６：シャッタ駆動信号 第１図 第２図 第３図 第４図

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. （１）ディスク基板の凹凸パターン形成面側のほぼ全面
   に記録膜を形成し、次いで、このディスク基板にレーザ
   光を照射することによつてレーザ光照射部分の記録膜を
   除去し、ディスク基板の内周部及び外周部に記録膜を有
   しない接合部を形成する工程を含む光情報記録用ディス
   クの製造方法。
2. （２）ディスク基板を回転駆動し、かつ、レーザヘッド
   をディスク基板の半径方向に移動することによつて、不
   要部分の記録膜を除去するようにしたことを特徴とする
   特許請求の範囲第１項記載の光情報記録用ディスクの製
   造方法。
3. （３）ディスク基板を回転駆動し、かつ、固定されたレ
   ーザヘッドがディスク基板の半径上を通るように上記デ
   ィスク基板を移動することによつて、不要部分の記録膜
   を除去するようにしたことを特徴とする特許請求の範囲
   第１項記載の光情報記録用ディスクの製造方法。
4. （４）ディスク基板の中心を回転中心としてレーザヘッ
   ドを回転駆動し、かつ、該レーザヘッドを固定されたデ
   ィスク基板の半径方向に移動することによつて、不要部
   分の記録膜を除去するようにしたことを特徴とする特許
   請求の範囲第１項記載の光情報記録用ディスクの製造方
   法。