JPS61205925A - 透明電極の処理方法 - Google Patents

透明電極の処理方法

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JPS61205925A
JPS61205925A JP4627185A JP4627185A JPS61205925A JP S61205925 A JPS61205925 A JP S61205925A JP 4627185 A JP4627185 A JP 4627185A JP 4627185 A JP4627185 A JP 4627185A JP S61205925 A JPS61205925 A JP S61205925A
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JP
Japan
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transparent electrode
resistance value
increase
transparent
protective layer
Prior art date
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Pending
Application number
JP4627185A
Other languages
English (en)
Inventor
Kiyoshi Takahashi
清 高橋
Kaoru Arai
薫 新井
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Filing date
Publication date
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  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
  • Non-Insulated Conductors (AREA)
  • Manufacturing Of Electric Cables (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概要〕 本発明は、ディスプレイ用透明電極を備えた表示装置に
おいて、該透明電極の加熱処理時に必然的に生じる抵抗
値の増加を最小限にするもので、そのためバターニング
完了透明電極上に510g +TiO+等の保護膜を形
成した後で加熱処理全行うようにして問題の解決を図っ
ている。
〔産業上の利用分野〕
本発明はディスプレイ用透明電極を備えた表示装置にお
ける透明電極処理方法に関するものである。
大容量表示の液晶表示装置等においては、走査側電極の
第一番目のドツトと最終ドツトとの間に大きな電圧降下
があると、表示特性が低下する。
従って、この電圧降下を出来る限り少なくすることが必
要である。
〔従来の技術〕
従来、ディスプレイ用の透明電極にはrnzos・Sn
0w膜(以下ITO膜と称する)が用いられているカ、
該ITO膜は、フォトプロセス工程でエツf7グされ、
その後配向膜であるポリイミド膜等の有模膜全表面に形
成した後、硬化のために300〜350℃で大気中で加
熱処理される。
〔本発明が解決しようとする問題点〕
ところが、上述のような従来の方法で、ITO膜の抵抗
値は加熱処理によって加熱処理前の3.5倍程度に増加
してしまう。このことは、特に大容量表示の装置の場合
、走査側電極の第一番目のドツトと最終ドツトとの間に
大きな電圧降下をもたらし、表示特性へ悪影響を及ぼし
ている。
〔発明を解決するための手段〕
本発明は、上述の問題点を解決することのできる透明電
極の処理方法を提供するもので、第1図に示す透明電極
のバターニング完了後に、その上に加熱処理時における
透明電極の抵抗値増加を減少させる5i02.Ti0z
等の保護層を形成し、その後透明電極の加熱処理全行う
ようになっている。
〔作用〕
バターニングされた透明電極の上に510g、Ti0z
等の保護層を形成した後加熱処理を行うようになってい
るため、抵抗値の増加は最小限に抑えられる。具体的に
は、従来抵抗値が3.5倍程度に増加していたものが、
5s02の保護層の場合は1.3倍程度になり、TiO
2の保護層の場合は0.9倍程度になる。
〔実施例〕
以下、図面に関連して本発明の詳細な説明する。
第1図は本発明の方法によりs造された液晶表示装置の
断面図で、図中、1,2は対向するガラス基板である。
ガラス基板1の下面には、ITO膜をバターニングする
ことにより形成された複数本の透明電極3が設けられ、
その上には、SingまたはTiesの保護層4及び配
向膜5が順次形成されている。透明電極3はX方向(図
の左右方向)に等間隔に形成されてY方向(図の紙面と
垂直方向)に伸びている。保護層4は、透明電極バター
ニング後に物理的方法または化学的方法により形成され
、透明電極の加熱処理はその後に行われる。このことに
よる効果は後述する。
また、ガラス基板2の上面には、同様に、  ITO膜
をバターニングすることによ多形成された複数本の透明
電極6が設けられ、その上には、5i02またはTiO
2の保護層7及び配向膜8が順次形成されている。透明
電極6はY方向に等間隔に形成されてX方向に伸びてい
る。保護層7は、透明電極パターニング後に形成され、
透明電極の加熱処理はその後に行われる。
これらのガラス基板1.2は、スペーサを介して所定間
隔を介し対向した状態で周縁部をシール9により封止さ
れ、これにより形成された密封空間内には液晶10が封
入されて液晶表示装置が構成される。
上述のように透明電極パターニング後にその上に保護層
を形成した状態で加熱処理全行って透明電極を硬化させ
ることは本発明の特徴とするものであるが、その効果は
次表1の通シである。
表  1 表1より、保護層の効果は明らかで、特にTiesの場
合の効果(0,9倍)が優れている。これはTiのge
ttering action Kよるものと考えられ
る。
第2図は本発明の他の方法により製造された液晶表示装
置の断面図で、図中、21 、22は対向するガラス基
板である。
ガラス基板21の下面には、ITO膜をバターニングす
ることによ多形成された複数の透明電極23が設けられ
、その上にはSingまたはTtOzの保護層24が形
成されている。
またガラス基板22の上面には、同様にITO膜をバタ
ーニングすることによシ複数本の透明電極25が設けら
れ、その上にはStowまたはTi0zの保護層26が
形成されている。
nはシール、28は液晶である。
本例の場合も、保護層24 、26はそれぞれ透明電極
バターニング後に形成され、その後に加熱処理が行われ
るが、この場合の保護層24 、26は、斜め蒸着法に
よって形成され、配向膜を兼用している。
本例の場合も前例と同様の効果を奏することができる。
〔発明の効果〕
以上述べたように、本発明によれば、加熱処理後の透明
電極の抵抗値の増加を最小限にすることが可能である。
【図面の簡単な説明】
第1図及び第2図は本発明の方法によシ製造された液晶
表示装置の断面図で、 図中、 3.6.23.25は透明電極、 4.7,24.26は保護層である。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)ディスプレイ用透明電極を備えた表示装置の製造
    工程において、 前記透明電極のパターニング完了後にその上に加熱処理
    時における透明電極の抵抗値増加を抑える保護層を形成
    した後透明電極の加熱処理を行うことを特徴とする透明
    電極の処理方法。
  2. (2)保護層がSiO_2で形成された特許請求の範囲
    第1項記載の透明電極の処理方法。
  3. (3)保護層がTiO_2で形成された特許請求の範囲
    第1項記載の透明電極の処理方法。
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