JPS61193445A - 洗浄装置 - Google Patents
洗浄装置Info
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- JPS61193445A JPS61193445A JP60032712A JP3271285A JPS61193445A JP S61193445 A JPS61193445 A JP S61193445A JP 60032712 A JP60032712 A JP 60032712A JP 3271285 A JP3271285 A JP 3271285A JP S61193445 A JPS61193445 A JP S61193445A
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- JP
- Japan
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- cleaning
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- Pending
Links
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- 238000007689 inspection Methods 0.000 claims abstract description 14
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
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- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
□本発明は洗浄装置、例えば半導体部品等の表面に付着
した塵埃を除去するのに好適な洗浄装置に関する。
した塵埃を除去するのに好適な洗浄装置に関する。
□従来の洗浄装置としては、時分５８−１５９３９号公
報に示されているように被洗浄物に付着したホトレジス
ト（塵埃）？オゾンにて除去する乾式洗浄装置が公知で
ある。
報に示されているように被洗浄物に付着したホトレジス
ト（塵埃）？オゾンにて除去する乾式洗浄装置が公知で
ある。
しかし、この洗浄装置は、塵埃を除去する機能を有する
が、その結果を横管し、その検査結果を保存することに
ついて配慮されていなかった。
が、その結果を横管し、その検査結果を保存することに
ついて配慮されていなかった。
本発明の目的は、塵埃の除去とその検査とその結果の複
写の可能な洗浄装置を提供することにある。
写の可能な洗浄装置を提供することにある。
本発明は、被洗浄物に付着した塵埃全除去する洗浄装置
と、洗浄後の被洗浄暖衣ＵｒＪを検査する検査装置とを
結合し、前記洗浄装置から前記検査装置へ被洗−物を搬
送する搬送手段とｒ組込んでこれら金一つの装置に纏め
ると共に、前記検査装置 ゛で得られる信号を
利用して複写でｄる複写装置１を ゛接続した
ことを特徴と子る洗浄装置である。
と、洗浄後の被洗浄暖衣ＵｒＪを検査する検査装置とを
結合し、前記洗浄装置から前記検査装置へ被洗−物を搬
送する搬送手段とｒ組込んでこれら金一つの装置に纏め
ると共に、前記検査装置 ゛で得られる信号を
利用して複写でｄる複写装置１を ゛接続した
ことを特徴と子る洗浄装置である。
り説明する。この洗浄装置１は、第１図から明ら
■かなように、ローダ２、湿式洗＃装置３、乾式洗
浄装置４、＠青装置ｆ５、アンローダ６をノーに結合
゛して１つの装置としたものである。被洗浄物
９は第１図矢印の順に搬送手段にて移動する。第１図の
ように清浄空気Ａは被洗浄物９の移動方向と逆方向に流
れるよってなっている。清浄空気Ａは各装置６，５，３
．２における被洗浄物９の上方から下方へ順次、分岐し
て各装置６，５，３．２から発生する塵埃が被洗浄物９
に付着しないように動方向とは逆方向に流れることによ
り、被洗浄物９が取出される側がきれいな状態であり、
順方向に流す場合に比較して被洗浄物９の洗浄を大幅に
良好にできる。この清浄空気Ａは、乾式洗浄装置４をバ
イパスするようになっている。乾式洗浄装置４には、別
の清浄空気Ｂｋ送り込むようになっており、被洗浄物９
に付着した塵埃が分解除去され、炭酸ガスと水蒸気に変
化しそれを直ちに装置４外へ排出し、次工程へ塵埃が込
しｉｌ、ｆｔいようになっている。清浄空気Ｈの代りに
酸基ガスを送り込んでも良く、酸素ガスを送り込めば装
置４にてオゾンの発生を助ける作用全する。
■かなように、ローダ２、湿式洗＃装置３、乾式洗
浄装置４、＠青装置ｆ５、アンローダ６をノーに結合
゛して１つの装置としたものである。被洗浄物
９は第１図矢印の順に搬送手段にて移動する。第１図の
ように清浄空気Ａは被洗浄物９の移動方向と逆方向に流
れるよってなっている。清浄空気Ａは各装置６，５，３
．２における被洗浄物９の上方から下方へ順次、分岐し
て各装置６，５，３．２から発生する塵埃が被洗浄物９
に付着しないように動方向とは逆方向に流れることによ
り、被洗浄物９が取出される側がきれいな状態であり、
順方向に流す場合に比較して被洗浄物９の洗浄を大幅に
良好にできる。この清浄空気Ａは、乾式洗浄装置４をバ
イパスするようになっている。乾式洗浄装置４には、別
の清浄空気Ｂｋ送り込むようになっており、被洗浄物９
に付着した塵埃が分解除去され、炭酸ガスと水蒸気に変
化しそれを直ちに装置４外へ排出し、次工程へ塵埃が込
しｉｌ、ｆｔいようになっている。清浄空気Ｈの代りに
酸基ガスを送り込んでも良く、酸素ガスを送り込めば装
置４にてオゾンの発生を助ける作用全する。
被洗浄物９は例えば第２図に示すようにステンレス製の
搬送トレイ１２上に配置された状態で洗浄装置１内に送
り込ｔｒｙる。搬送トレイ１２は真空引穴１２ａと液抜
穴１２ｂと被洗浄物位置決め用ピン１２ｃを有している
。被洗浄物９は内外周２列に等１［隔で配置される。４
２図は被洗浄物９を２行分だけ取付けた状態を示し、他
は省略して１ちるが実際には全周にわたって取付けであ
る。被洗浄物９全載置１〜念搬送トレイ１２は、第３図
に示すようにラック１３に多段に積載されてローダ２の
昇降テーブル２ａｅ介して搬送コンベア２ｂに順次載置
され搬送コンベア２ｂで搬送回転テーブル７ａとの受渡
し位置へ移送される。搬送回転テーブル７ａはトレイ１
２を受は取り、回転モータ８にて１８０°回転し湿式洗
浄装置３へ送り込む。この搬送回転テーブル７ａは回転
モータ８の回転角度を制御してすることにより３６０°
内のどの角度にでも設定することができるため、搬送方
向ｒ目出に建めることが０Ｔ＃ヒである。したがつて各
装置２，３，４，５，６ｅユニツト構造にしてやること
で設置場所に応じた単一洗浄装置を構成することが可能
である。本実施Ｎｏは一直線状に構成された場合であり
この他、Ｕ字形、Ｌ字形など自由なレイアウトが選べる
。
搬送トレイ１２上に配置された状態で洗浄装置１内に送
り込ｔｒｙる。搬送トレイ１２は真空引穴１２ａと液抜
穴１２ｂと被洗浄物位置決め用ピン１２ｃを有している
。被洗浄物９は内外周２列に等１［隔で配置される。４
２図は被洗浄物９を２行分だけ取付けた状態を示し、他
は省略して１ちるが実際には全周にわたって取付けであ
る。被洗浄物９全載置１〜念搬送トレイ１２は、第３図
に示すようにラック１３に多段に積載されてローダ２の
昇降テーブル２ａｅ介して搬送コンベア２ｂに順次載置
され搬送コンベア２ｂで搬送回転テーブル７ａとの受渡
し位置へ移送される。搬送回転テーブル７ａはトレイ１
２を受は取り、回転モータ８にて１８０°回転し湿式洗
浄装置３へ送り込む。この搬送回転テーブル７ａは回転
モータ８の回転角度を制御してすることにより３６０°
内のどの角度にでも設定することができるため、搬送方
向ｒ目出に建めることが０Ｔ＃ヒである。したがつて各
装置２，３，４，５，６ｅユニツト構造にしてやること
で設置場所に応じた単一洗浄装置を構成することが可能
である。本実施Ｎｏは一直線状に構成された場合であり
この他、Ｕ字形、Ｌ字形など自由なレイアウトが選べる
。
第４図の湿式洗浄装置３は中央にテーブル５ａを有して
おり、そのテーブル５ａ上に載置された被洗浄物９は、
液体を直用し、ブラシスクラバ５１）、リンスノズル５
Ｃ１ジエツトスクラバ５ｅ。
おり、そのテーブル５ａ上に載置された被洗浄物９は、
液体を直用し、ブラシスクラバ５１）、リンスノズル５
Ｃ１ジエツトスクラバ５ｅ。
で被洗浄物９の表面上の無機物の塵埃ケ剥離除去したの
ち、Ｎ２ガスをブローノズル５ｄより被洗浄物９に噴射
することにより被洗浄物９を乾燥する。テーブル５ａＫ
ｉｄ搬送用トレイ１２の真空引穴１２ａに合致する真空
引穴１２ａが設けられておりこの真空引穴１２ａ金介し
て真空を引いて被洗浄物９をトレイ１２ごとテーブル５
ａに固定させている。
ち、Ｎ２ガスをブローノズル５ｄより被洗浄物９に噴射
することにより被洗浄物９を乾燥する。テーブル５ａＫ
ｉｄ搬送用トレイ１２の真空引穴１２ａに合致する真空
引穴１２ａが設けられておりこの真空引穴１２ａ金介し
て真空を引いて被洗浄物９をトレイ１２ごとテーブル５
ａに固定させている。
ここで、被洗浄物９が半導体ウェハのごとき場合はテー
ブル５ａ上に真空吸着すべき加工溝を別途施すことによ
り本実施例の装置にて洗浄に供することができる。この
湿式洗浄装置Ｉｔ３での洗浄が終了すると、真空引を止
めて被洗浄物９を次の搬送回転テーブル７ｂへ載置し、
乾式洗浄装置４へ移送する。（搬送回転テーブル７ａ、
７ｂ、 ７ｃ。
ブル５ａ上に真空吸着すべき加工溝を別途施すことによ
り本実施例の装置にて洗浄に供することができる。この
湿式洗浄装置Ｉｔ３での洗浄が終了すると、真空引を止
めて被洗浄物９を次の搬送回転テーブル７ｂへ載置し、
乾式洗浄装置４へ移送する。（搬送回転テーブル７ａ、
７ｂ、 ７ｃ。
７ｄは同一機構を有している。）搬送回転テーブル７ｂ
によって送られてきた被洗浄物９は、回転アーム１１の
先端に載置され、回転アーム１１が回転して被洗浄物９
はまず、前室６ａに送る。前室６ａの人口と出口にはン
ヤツタ６ｂ、６Ｃが設けられており被洗浄物９が通過す
る時のみ開く。
によって送られてきた被洗浄物９は、回転アーム１１の
先端に載置され、回転アーム１１が回転して被洗浄物９
はまず、前室６ａに送る。前室６ａの人口と出口にはン
ヤツタ６ｂ、６Ｃが設けられており被洗浄物９が通過す
る時のみ開く。
この前室６ａは本家６ｄにて発生したオゾンおよび酸素
ラジカルが湿式洗浄装置３へ流出しないようにするため
である。回転アーム１ｌｉｊ、さらに回転し被洗浄物９
を本家６ｄ内へ送り込む。本家６ｄ内には紫外線ランプ
６ｅと赤外線ラング６ｆがあり、赤外線ランプ６ｆで被
洗浄物９表面の有機物塵埃を加熱しながら紫外線ランプ
６ｅの照射する紫外線で発生するオゾンで有機物編埃を
化学的に除去する。この時に無機物の塵埃は前工程で除
去さ扛ていゐので有機物の塵埃を効率よく確実に除去す
ることができる。有機物の除去が完ｒすると、被洗浄物
９は回転アーム１８によって７ヤツタ６ｇを経て後室６
１に移送され、本家６ｄより後室６１に流れ出九オゾン
、酸嬌ラジカルを沫去したのち、シャッタ６ｈｌ経て搬
送回転テーブル７Ｃへ載置される。被洗浄物９は、搬送
回転テーブル７Ｃにより検査装＋１５へ載置される。検
査装置５Ｖｉ、顕微鏡５ａ、モニタカメラ５ｂ、モニタ
５ｃ、複写装置２１などから成っており、モニタカメラ
５ｂはケーブル１９にてモニタ５ｃに接続され、被洗浄
物９０表面状態を表示する。また、得られるビデオ信号
を利用し、複写装置２１ヘケープル２０を介して同１ｇ
号を伝送し、複写装置２１にて内蔵さ扛たロール紙２２
に被洗浄物９０表面状態が複写される。複写方式として
は、清浄匿の観点から１葦しくは感熱タイプの紙を１吏
ったものが艮い。検査終了後、搬送回転テーブル７ｄで
搬送コンベア６ａに載＋ｔＬラック１０内に順次積重ね
る。
ラジカルが湿式洗浄装置３へ流出しないようにするため
である。回転アーム１ｌｉｊ、さらに回転し被洗浄物９
を本家６ｄ内へ送り込む。本家６ｄ内には紫外線ランプ
６ｅと赤外線ラング６ｆがあり、赤外線ランプ６ｆで被
洗浄物９表面の有機物塵埃を加熱しながら紫外線ランプ
６ｅの照射する紫外線で発生するオゾンで有機物編埃を
化学的に除去する。この時に無機物の塵埃は前工程で除
去さ扛ていゐので有機物の塵埃を効率よく確実に除去す
ることができる。有機物の除去が完ｒすると、被洗浄物
９は回転アーム１８によって７ヤツタ６ｇを経て後室６
１に移送され、本家６ｄより後室６１に流れ出九オゾン
、酸嬌ラジカルを沫去したのち、シャッタ６ｈｌ経て搬
送回転テーブル７Ｃへ載置される。被洗浄物９は、搬送
回転テーブル７Ｃにより検査装＋１５へ載置される。検
査装置５Ｖｉ、顕微鏡５ａ、モニタカメラ５ｂ、モニタ
５ｃ、複写装置２１などから成っており、モニタカメラ
５ｂはケーブル１９にてモニタ５ｃに接続され、被洗浄
物９０表面状態を表示する。また、得られるビデオ信号
を利用し、複写装置２１ヘケープル２０を介して同１ｇ
号を伝送し、複写装置２１にて内蔵さ扛たロール紙２２
に被洗浄物９０表面状態が複写される。複写方式として
は、清浄匿の観点から１葦しくは感熱タイプの紙を１吏
ったものが艮い。検査終了後、搬送回転テーブル７ｄで
搬送コンベア６ａに載＋ｔＬラック１０内に順次積重ね
る。
このように各装置ヶユニット化し搬送用回転チーグル７
ａ、７ｂ、７ｃ、７ｄで結合することにより自由な構成
でなおかつ設置場所に応じたレイアウトが可能となり、
検査、ａ写機能を有することにより、洗浄管理が容易と
なる。
ａ、７ｂ、７ｃ、７ｄで結合することにより自由な構成
でなおかつ設置場所に応じたレイアウトが可能となり、
検査、ａ写機能を有することにより、洗浄管理が容易と
なる。
本発明によれば、塵埃の除去機能を備え、史に検査およ
び複写機能を有した検査装置が併設されているため、洗
浄管理が容易となる効果がある。
び複写機能を有した検査装置が併設されているため、洗
浄管理が容易となる効果がある。
ｆＪ１図は本発明洗浄装置の金棒概略構成図、第２図は
同装置に用いるトレイｆ＋祝図、第３図〜第７図は各部
所面図である。 ■・・・洗浄装置、２・・・ローダ、３・・・湿式洗浄
装置、４・・・乾式洗浄装置、５・・・検査装置、６・
・・アンローダ、９・・・被洗浄物、２１・・・複写装
置。
同装置に用いるトレイｆ＋祝図、第３図〜第７図は各部
所面図である。 ■・・・洗浄装置、２・・・ローダ、３・・・湿式洗浄
装置、４・・・乾式洗浄装置、５・・・検査装置、６・
・・アンローダ、９・・・被洗浄物、２１・・・複写装
置。
Claims (1)
- １、被洗浄物に付着した塵埃を除去する洗浄装置と、洗
浄後の被洗浄物表面を検査する検査装置とを結合し、前
記洗浄装置から前記検査装置へ被洗浄物を搬送する搬送
手段とを組込んでこれらを一つの装置に纏めると共に、
前記検査装置で得られる信号を利用して複写できる複写
装置を接続したことを特徴とする洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60032712A JPS61193445A (ja) | 1985-02-22 | 1985-02-22 | 洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60032712A JPS61193445A (ja) | 1985-02-22 | 1985-02-22 | 洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61193445A true JPS61193445A (ja) | 1986-08-27 |
Family
ID=12366446
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60032712A Pending JPS61193445A (ja) | 1985-02-22 | 1985-02-22 | 洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61193445A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014519400A (ja) * | 2011-04-26 | 2014-08-14 | ケーエルエー−テンカー コーポレイション | 検査前後の汚染回避のためのマスク、ウェーハおよび光学面の事前清浄および後清浄 |
-
1985
- 1985-02-22 JP JP60032712A patent/JPS61193445A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014519400A (ja) * | 2011-04-26 | 2014-08-14 | ケーエルエー−テンカー コーポレイション | 検査前後の汚染回避のためのマスク、ウェーハおよび光学面の事前清浄および後清浄 |
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