JPS6118816B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6118816B2 JPS6118816B2 JP53086356A JP8635678A JPS6118816B2 JP S6118816 B2 JPS6118816 B2 JP S6118816B2 JP 53086356 A JP53086356 A JP 53086356A JP 8635678 A JP8635678 A JP 8635678A JP S6118816 B2 JPS6118816 B2 JP S6118816B2
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- Japan
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- Expired
Links
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は情報記録板及びその製造方法に関し、
特にレーザ光や電子線等の走査ビームをその表面
に照射して情報の記録を行う記録板及びその製造
方法に関する。
特にレーザ光や電子線等の走査ビームをその表面
に照射して情報の記録を行う記録板及びその製造
方法に関する。
映像や音声情報をデイスク（円盤）状の記録媒
体に記録する方式としてビデオデイスクに例えば
光学的に記録する方式がある。この方法は、基板
となるガラス円盤に厚さ1000乃至1500Åのフオト
レジストを塗布し、このレジスト膜に微少な点に
集光したレーザビームを映像や音声情報に応じて
明滅させるいわゆるビツトバイビツト方式で照射
感光させ、しかる後にこれを現像して得られるピ
ツト（へこみ）の長さ及びその繰返し周期により
情報を記録するものである。
体に記録する方式としてビデオデイスクに例えば
光学的に記録する方式がある。この方法は、基板
となるガラス円盤に厚さ1000乃至1500Åのフオト
レジストを塗布し、このレジスト膜に微少な点に
集光したレーザビームを映像や音声情報に応じて
明滅させるいわゆるビツトバイビツト方式で照射
感光させ、しかる後にこれを現像して得られるピ
ツト（へこみ）の長さ及びその繰返し周期により
情報を記録するものである。
かかる方式では、フオトレジスト膜の段差をプ
ラスチツク板等に転写して読出すものであるか
ら、レジスト膜を基板に塗布する際に全面に亘つ
て均一性が要求される。当該均一性が失われると
再生信号のＳ／Ｎの劣化を招来する大きな原因と
なり好ましくないが、かかるレジスト膜をデイス
ク全面（大略300mmの直径）に亘り均一な厚さで
塗布することは困難である。
ラスチツク板等に転写して読出すものであるか
ら、レジスト膜を基板に塗布する際に全面に亘つ
て均一性が要求される。当該均一性が失われると
再生信号のＳ／Ｎの劣化を招来する大きな原因と
なり好ましくないが、かかるレジスト膜をデイス
ク全面（大略300mmの直径）に亘り均一な厚さで
塗布することは困難である。
従つて、かゝる欠点を除去すべく次の如き方法
が提案されている。すなわち基板の一主面上に選
択エツチング可能な例えばシリコン酸化膜を気相
成長等の方法により均一な厚さに形成し、しかる
後に当該酸化膜上にレーザビームにより溶融蒸発
可能なクローム膜を形成する。このようにして得
られたデスクク基板面上に所定情報によ変調され
たレーザビームを走査することによりクローム膜
が情報に応じて溶融蒸発される。このクローム膜
をエツチングマスクとして下層のシリコン酸化膜
を選択エツチングし、しかる後にクローム膜を除
去することにより、情報に応じたピツトがシリコ
ン酸化膜に形成される。
が提案されている。すなわち基板の一主面上に選
択エツチング可能な例えばシリコン酸化膜を気相
成長等の方法により均一な厚さに形成し、しかる
後に当該酸化膜上にレーザビームにより溶融蒸発
可能なクローム膜を形成する。このようにして得
られたデスクク基板面上に所定情報によ変調され
たレーザビームを走査することによりクローム膜
が情報に応じて溶融蒸発される。このクローム膜
をエツチングマスクとして下層のシリコン酸化膜
を選択エツチングし、しかる後にクローム膜を除
去することにより、情報に応じたピツトがシリコ
ン酸化膜に形成される。
かゝる方法においては、シリコン酸化膜は均一
に基板面上に被着形成されるものであるから、前
述の欠点は除去される。しかしながら、かゝる方
法及び先述の方法においても当該ピツトの大きさ
は、記録情報に応じて作製されるべき正規の大き
さに比し大となり、正確な情報の記録ができない
欠点がある。
に基板面上に被着形成されるものであるから、前
述の欠点は除去される。しかしながら、かゝる方
法及び先述の方法においても当該ピツトの大きさ
は、記録情報に応じて作製されるべき正規の大き
さに比し大となり、正確な情報の記録ができない
欠点がある。
本発明の目的は正確な情報の記録が可能な情報
記録板及びその製造方法を提供することである。
記録板及びその製造方法を提供することである。
以下本発明につき図面を用いて説明する。
第１図は本発明の１実施例を示す製造工程順の
各断面を示す図であり、ａに示す如くガラス若し
くはプラスチツク基板１の１主面上に厚さ1000〜
2000Åの例えばシリコン酸化膜２を気相成長法等
により形成し、更にその上に例えばクローム膜３
を被着する。このクローム膜３を含む基板面上に
記録すべき所定情報により変調されたレーザビー
ムを照射してクローム膜３を溶融蒸発せしめてｂ
に示す如き構造を得る。しかる後にクローム膜３
をマスクとして例えばCF4等のプラズマ中におい
ていわゆるプラズマエツチングすることによりシ
リコン酸化膜２を選択的に除去し、そしてクロー
ム膜３を完全に除けば、ｃに示す様に情報に応じ
たピツト４が基板上に形成される。
各断面を示す図であり、ａに示す如くガラス若し
くはプラスチツク基板１の１主面上に厚さ1000〜
2000Åの例えばシリコン酸化膜２を気相成長法等
により形成し、更にその上に例えばクローム膜３
を被着する。このクローム膜３を含む基板面上に
記録すべき所定情報により変調されたレーザビー
ムを照射してクローム膜３を溶融蒸発せしめてｂ
に示す如き構造を得る。しかる後にクローム膜３
をマスクとして例えばCF4等のプラズマ中におい
ていわゆるプラズマエツチングすることによりシ
リコン酸化膜２を選択的に除去し、そしてクロー
ム膜３を完全に除けば、ｃに示す様に情報に応じ
たピツト４が基板上に形成される。
しかしながら、このピツト４の形状は正規のピ
ツトよりも大きく形成されているのが普通である
から、同図ｄに示す如く、例えばリンガラス５を
気相成長法により基板１上に全面に被着形成させ
る。この場合において、リンガラスス層５はその
厚さがピツト４の内側壁及びその底面更はシリコ
ン酸化膜２の上面に亘つて大略一になされなけれ
ばならにいために、常圧下の気相成長法によら
ず、減圧下の気相成長法によれば上記目的は達成
される。この場圧の気圧としては例えば10Torr
若しくはそれ以下が望ましい。
ツトよりも大きく形成されているのが普通である
から、同図ｄに示す如く、例えばリンガラス５を
気相成長法により基板１上に全面に被着形成させ
る。この場合において、リンガラスス層５はその
厚さがピツト４の内側壁及びその底面更はシリコ
ン酸化膜２の上面に亘つて大略一になされなけれ
ばならにいために、常圧下の気相成長法によら
ず、減圧下の気相成長法によれば上記目的は達成
される。この場圧の気圧としては例えば10Torr
若しくはそれ以下が望ましい。
こゝで成長膜５はｃのピツト４の大きさを正確
な大きさに補正するためのものであるから、その
厚さは厳密に制御されなければならないが、上述
の減圧下の気相成長方法によればそれが可能とな
る。尚、気相成長膜５としてはリンガラスに限ら
ず気相成長可能な物質を用いることができる。例
えば、樹脂膜や金属膜が使用可能である。
な大きさに補正するためのものであるから、その
厚さは厳密に制御されなければならないが、上述
の減圧下の気相成長方法によればそれが可能とな
る。尚、気相成長膜５としてはリンガラスに限ら
ず気相成長可能な物質を用いることができる。例
えば、樹脂膜や金属膜が使用可能である。
また膜５はピツトの大きさを補正するものであ
るから、ｃのピツト４の少くとも内側面において
厚さの均一な膜を形成すれば足りるが、ｄに示す
如くピツトを含む基板１の１主面全面に亘り気相
成長膜を形成するのが製造上簡単であることは明
白である。
るから、ｃのピツト４の少くとも内側面において
厚さの均一な膜を形成すれば足りるが、ｄに示す
如くピツトを含む基板１の１主面全面に亘り気相
成長膜を形成するのが製造上簡単であることは明
白である。
以上述べた如く、本発明によれば情報記載面上
に厚さが均一に、かつ正確に制御された膜を成長
させるものであるから、ピツトの内側壁上にも均
一な厚さの膜が成長し、もつてピツトの大きさの
補正が可能となる。
に厚さが均一に、かつ正確に制御された膜を成長
させるものであるから、ピツトの内側壁上にも均
一な厚さの膜が成長し、もつてピツトの大きさの
補正が可能となる。
従つて、この様にして得られた基板を原板とし
てプラスチツク板へ転写しても正確な複製がで
き、また当該基板から電鋳板を作成後プラスチツ
ク板を得る場合も同様に正確な複製が可能であ
る。
てプラスチツク板へ転写しても正確な複製がで
き、また当該基板から電鋳板を作成後プラスチツ
ク板を得る場合も同様に正確な複製が可能であ
る。
第１図ａ〜ｄは本発明の実施例の製造工程順の
各断面図である。 主要部分の符号の説明、１……基板、２……シ
リコン酸化膜、４……ピツト、５……気相成長
膜。
各断面図である。 主要部分の符号の説明、１……基板、２……シ
リコン酸化膜、４……ピツト、５……気相成長
膜。
Claims (1)
- １ 所定情報に応じたピツトを基板の一主面上に
形成する工程と、前記一主面上に減圧下において
所定膜を気相成長させる工程とを含むことを特徴
とする情報記録板の製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8635678A JPS5514510A (en) | 1978-07-15 | 1978-07-15 | Information recording plate and its manufacture |
| US06/273,999 US4408319A (en) | 1978-07-15 | 1981-06-15 | Optical information recording mother disc and method of producing the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8635678A JPS5514510A (en) | 1978-07-15 | 1978-07-15 | Information recording plate and its manufacture |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5514510A JPS5514510A (en) | 1980-02-01 |
| JPS6118816B2 true JPS6118816B2 (ja) | 1986-05-14 |
Family
ID=13884604
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8635678A Granted JPS5514510A (en) | 1978-07-15 | 1978-07-15 | Information recording plate and its manufacture |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5514510A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60173738A (ja) * | 1984-02-09 | 1985-09-07 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 光学ディスクの製造方法 |
-
1978
- 1978-07-15 JP JP8635678A patent/JPS5514510A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5514510A (en) | 1980-02-01 |
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