JPS6044731B2 - 情報記録用担体の製造方法 - Google Patents

情報記録用担体の製造方法

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JPS6044731B2
JPS6044731B2 JP53085493A JP8549378A JPS6044731B2 JP S6044731 B2 JPS6044731 B2 JP S6044731B2 JP 53085493 A JP53085493 A JP 53085493A JP 8549378 A JP8549378 A JP 8549378A JP S6044731 B2 JPS6044731 B2 JP S6044731B2
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隆 西尾
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  • Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は情報記録用担体の製造方法に関し、特にレー
ザビームを表面に走査照射して情報の記録を行う記録用
担体の製造方法に関する。
映像や音声情報をディスク（円盤）状の記録媒体に記
録する方式としてビデオディスクに例えば光学的に記録
する方式がある。
この方式は、基板となるガラス円盤に厚さ１０００乃至
１５００Λのフォトレジストを塗布し、このレジスト膜
に微少な点に集光したレーザビームを映像や音声情報に
応じて明滅させるいわゆるビットバイビット方式で照射
感光させ、しかる後にこれを現像して得られるピット（
へこみ）長さ及びその繰返し周期により情報を記録する
ものである。 かかる方式では、フォトレジスト膜の段
差を転写して読出すものであるから、レジスト膜を基板
に塗布する際に全面に亘つて均一性が要求され当該均一
性が失われると再生信号のＳ／Ｎの劣化を招来する大き
な原因となり好ましくないが、かかるレジスト膜をディ
スク全面（大略３００ｗｏｎの直径）に亘り均一な厚さ
で塗布することは困難である。
従つて上述の欠点を解決するために、例えば第１図に
示す如くガラス基板１上に反射膜としてのクローム層２
を被着せしめ、当該クローム層２上に選択エツチング可
能な膜としてシリコン酸化膜３を、更にはレーザビーム
によつて溶融蒸発可能な金属膜例えばクローム、テルル
、ビスマス等の金属膜４を被着形成する。
しかる後に当該金属膜４に走査レーザビームを先述した
如く照射して選択的に溶融蒸発させ、当該金属膜４をマ
スクとしてシリコン酸化膜３をエツチングし、もつて情
報に応じたピツト２０を形成する方法がある。か）る方
法においては、情報の記録を空気中にて行う関係上金属
膜４のレーザビームによる溶融時に空気中の酸素との酸
化反応が生じ、その結果第１図の６て示す如くピツト周
辺部に盛り上り部が発生する。よつてピツト２０の精度
が不十分とある欠点がある。更に金属膜４を被着形成し
て長期間放置しておくと当該金属膜の酸化が進行しやす
いために、被着形成して短期間のうちに処理を施す必要
がある。本発明の目的は金属膜の酸化を防止し、またピ
ツト形状の精度を向上せしめる情報記録用担体の製造方
法を提供することである。
以下本発明を図面に基づき詳述する。
第２図は本発明の実施例の製造工程順の各断面図である
。
同図ａに示す如く、例えばガラス若しくはプラスチツク
基板の一主面上に該基板と密着性の良好なかつ反射性の
良好な金属膜２を被着する。この金属膜２としてはクロ
ーム、アルミニウム、チタン、モリブデン又はタングス
テン等が使用可能である。更にＣＦ４等のプラズマ中で
エツチング可能なシリコン酸化膜、シリコン窒化膜又は
シリコン膜３を１０００〜２０００Ａの厚さに形成する
。次にエツチング可能な膜３上にレーザビームにより溶
融蒸発可能な低融点を有しかつ耐エツチング性（通常の
エツチングではエツチング速度が極めて遅いもの）の膜
４を被着する。この耐エツチン．グ性膜としてはクロー
ム層、テルル又はビスマス等の金属膜を用い、その厚さ
は１００〜１０００Ａとする。更にこの金属膜４上にレ
ーザビームにより溶融蒸発可能でかつエツチング処理可
能な膜７を形成する。これは金属膜４の酸化を防止する
ものが・よく例えばシリコン酸化膜、シリコン窒化膜、
更にはポリイミドアミド、テフロン、環状ゴム系樹脂等
の有機物膜を用いる。ｂに示す様にこの酸化防止膜７上
から所定情報により変調されたレーザビームを走査照射
する。
その結果最上層の酸化防止膜７を通してレーザビームに
より金属膜４が溶融され蒸発して、情報が記録される。
このとき金属膜４に発生する第１図にて示した盛り上り
現象は酸化防止膜７により吸収されるか又は酸化防止膜
上に盛り上がることになる。最後にＣに示す如く、酸化
防止膜７のすべてを除去し、耐エツチング性の膜てある
金属膜４をマノスクとして下層の膜３を選択エツチング
して金属膜４に記録されたピツト２０が膜３にも転写さ
れ、レプリカ板（複製作製用）として用いることも可能
となる。
このとき、酸化防止膜７を下層の膜３と共にＣＦ４のプ
ラズマエツチング処理可能な物質例えばシリコン酸化膜
により形成すれば、上部の膜７を除去する際に下層の膜
３も同時に選択エツチングされるが、それぞれ別工程の
エツチング処理を行つてもよいことは勿論である。尚、
本実施例における金属膜２は上記した如く基板１との密
着性を良好にする利点と、読取り時におけるレーザビー
ムの反射（全反射）と良好とする利点の他に、更に読取
り時のフオーカスサーボ制御において静電容量方式を採
用する際に当該金属膜２を容量の対電極の一方としうる
利点もある。
第３図は第２図ａに示した記録用デイスクに記録するた
めの記録装置の概略図である。
アルゴンレーザ６の光出力を光変調器１３により変調パ
ルス信号１２に従つて明滅させた後、コリメータレンズ
１４により対物レンズ１０の口径一杯になる様に拡大す
る。対物レンズ１０は、この光束を記録原盤の記録媒体
面上に直径１μｍ程度の微細な点となる様に集束する。
記録原盤はモータ１１によつて１８００ｒ′Ｐｍで回転
させられていると共に別のモータ（図示せず）によつて
半径方向に６０ｐｍ／Ｓｅｃで移送されている。
従つて記録円盤上に渦巻状トラツクを描く様に記録され
るものである。以上詳述した如く本発明によれば、記録
されるべき耐エツチング性の金属膜４上に更にエツチン
グ可能な膜で特に酸化防止膜を形成するものであるから
金属膜の酸化が防止されかつ記録時の盛り上り現象が当
該防止膜に吸収されることになり、よつてピツトの形状
の精度が向上する。
【図面の簡単な説明】
第１図は従来の記録用担体の断面図、第２図は本発明の
実施例の製造工程順における各断面図、第３図は記録装
置の概略図である。 主要部分の符号の説明 １・・・・・・基板、２・・・
・・・反射膜、３・・・・・・シリコン酸化膜、４・・
・・・・金属膜、７・・・酸化防止膜、２０・・・・・
ゼツト。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １ 走査ビームを照射して情報の記録を行う情報記録用
    担体の製造方法であつて、基板の一主面上に選択エッチ
    ング可能な第１の膜を形成する工程と、前記第１の膜上
    に前記走査ビームにより溶融蒸発可能な耐エッチング性
    膜を形成する工程と、前記耐エッチング性膜上に前記走
    査ビームにより溶融蒸発可能でかつエッチング可能な第
    ２の膜を形成する工程と、前記第２の膜上に前記走査ビ
    ームを照射する工程と、前記第２の膜を除去し更に前記
    耐エッチング性膜をマスクとして前記第１の膜を選択エ
    ッチングする工程とを含むことを特徴とする情報記録用
    担体の製造方法。 ２ 前記第１の膜は前記基板の一主面上に直接被着され
    た反射膜上に形成することを特徴とする特許請求の範囲
    第１項記載の情報記録用担体の製造方法。 ３ 前記第２の膜は前記耐エッチング性膜の酸化を防止
    する材質よりなることを特徴とする特許請求の範囲第１
    項又は第２項記載の情報記録用担体の製造方法。 ４ 前記耐エッチング性膜は金属膜であることを特徴と
    する特許請求の範囲第１項、第２項又は第３項記載の情
    報記録用担体の製造方法。
JP53085493A 1978-07-13 1978-07-13 情報記録用担体の製造方法 Expired JPS6044731B2 (ja)

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