JPS61182633A - 薄膜磁気デイスクの製造方法 - Google Patents
薄膜磁気デイスクの製造方法Info
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- JPS61182633A JPS61182633A JP2225585A JP2225585A JPS61182633A JP S61182633 A JPS61182633 A JP S61182633A JP 2225585 A JP2225585 A JP 2225585A JP 2225585 A JP2225585 A JP 2225585A JP S61182633 A JPS61182633 A JP S61182633A
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- magnetic
- slit
- disk
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- film
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、コンピュータなどの周辺機器の一つである磁
気記録装置に用いられる薄膜磁気ディスクの製造方法に
関するものである。
気記録装置に用いられる薄膜磁気ディスクの製造方法に
関するものである。
従来の技術
近年、コンピュータの周辺機器として磁気記録装置の発
展はめざましく、より小型化、より高密度記録化が進ん
でいる。それに用いる磁気ディスクはγ−酸化鉄の塗布
型のものが大勢を占めているが、より高密度記録を求め
て現在では、薄膜化して行く傾向にある。塗布型ではよ
り薄膜化するのに特にハードディスクにおいては、スピ
ンコードなどの手法、あるいは塗布後研磨して薄膜化す
るなどの方法がとられている、また塗布型以外に真空技
術、たとえばスパッタ膜形成技術を用いて、コバルト−
テラケル素、コバルト−クロムなどの金属膜、γ−酸化
鉄、バリウムフェライトなどの酸化膜がさかんにおこな
われている。コバルト−クロム、バリウムフェライトは
垂直磁化膜として面内磁化膜のものより、より高密度な
媒体とじて最近さかんに検討されているものである。
展はめざましく、より小型化、より高密度記録化が進ん
でいる。それに用いる磁気ディスクはγ−酸化鉄の塗布
型のものが大勢を占めているが、より高密度記録を求め
て現在では、薄膜化して行く傾向にある。塗布型ではよ
り薄膜化するのに特にハードディスクにおいては、スピ
ンコードなどの手法、あるいは塗布後研磨して薄膜化す
るなどの方法がとられている、また塗布型以外に真空技
術、たとえばスパッタ膜形成技術を用いて、コバルト−
テラケル素、コバルト−クロムなどの金属膜、γ−酸化
鉄、バリウムフェライトなどの酸化膜がさかんにおこな
われている。コバルト−クロム、バリウムフェライトは
垂直磁化膜として面内磁化膜のものより、より高密度な
媒体とじて最近さかんに検討されているものである。
コバルトを主成分とする面内磁化膜も薄膜形成技術によ
り検討されており、より薄膜化できれば、塗布型の媒体
より、より高密度媒体として有望である。
り検討されており、より薄膜化できれば、塗布型の媒体
より、より高密度媒体として有望である。
この媒体をハードディスクに応用する場合は、平滑度の
高い、たとえばアルミ−マグネシウム合金からなるハー
ドディスク用円板、ガラス円板などの表面に真空蒸着、
スパッタ蒸着などの薄膜形成技術でつけられ実用化が検
討されている。また、フレキンプルディスクの場合は、
ポリエチレンテレフタレート、ポリアミド、ポリイミド
などの有機フィルム上に上記薄膜形成法で析出して作成
することが検討されている。
高い、たとえばアルミ−マグネシウム合金からなるハー
ドディスク用円板、ガラス円板などの表面に真空蒸着、
スパッタ蒸着などの薄膜形成技術でつけられ実用化が検
討されている。また、フレキンプルディスクの場合は、
ポリエチレンテレフタレート、ポリアミド、ポリイミド
などの有機フィルム上に上記薄膜形成法で析出して作成
することが検討されている。
発明が解決しようとする問題点
ハードディスク、フレキシブルディスクなどの媒体は、
円板の中心を軸にして、面内方向に回転させて使用する
もので、記録再生は、円周方向におこなわれる。この場
合、媒体の磁化の磁化方向が円周方向に揃っておれば、
記録時の磁化反転はより、スムースになり再生時の出力
も犬となると共に雑音レベルも低下する。塗布膜におい
ては、塗布した膜が固化するまえに、回転磁場中に媒体
を置いて磁化方向を円周方向に揃えるなどの手段をとっ
ている（たとえば特公昭５ｓ−６２５０５）。
円板の中心を軸にして、面内方向に回転させて使用する
もので、記録再生は、円周方向におこなわれる。この場
合、媒体の磁化の磁化方向が円周方向に揃っておれば、
記録時の磁化反転はより、スムースになり再生時の出力
も犬となると共に雑音レベルも低下する。塗布膜におい
ては、塗布した膜が固化するまえに、回転磁場中に媒体
を置いて磁化方向を円周方向に揃えるなどの手段をとっ
ている（たとえば特公昭５ｓ−６２５０５）。
しかし真空蒸着、スパッタ蒸着などの薄膜形成技術を用
いて上記ディスクを作成する場合には円周方向に磁化さ
せて膜形成することはなされていない。
いて上記ディスクを作成する場合には円周方向に磁化さ
せて膜形成することはなされていない。
問題点を解決するための手段
真空蒸着、スパッタ蒸着などで磁性膜を形成する場合、
膜形成時に、磁界がある方向に印加されているとその方
向に膜の容易軸が、直角方向に固ても容易軸、困難軸が
できる。
膜形成時に、磁界がある方向に印加されているとその方
向に膜の容易軸が、直角方向に固ても容易軸、困難軸が
できる。
しかし磁気記録媒体として使用する保磁力の大きい磁性
膜では外部より磁界を印加しないと上記の様な異方性は
つくりにくい、またディスクにする場合の様に、円周方
向に揃えたい場合は特にそうである、そこで本発明にお
いては、かかる点を鑑みて、着膜時に、 （１）基板が円板であれば、その中心を軸として回転さ
せ、半径方向に長いスリットを通して着膜する。この時
スリット近くに基板面内の半径方向と直角方向に永久磁
石で直流磁界を印加しておく。
膜では外部より磁界を印加しないと上記の様な異方性は
つくりにくい、またディスクにする場合の様に、円周方
向に揃えたい場合は特にそうである、そこで本発明にお
いては、かかる点を鑑みて、着膜時に、 （１）基板が円板であれば、その中心を軸として回転さ
せ、半径方向に長いスリットを通して着膜する。この時
スリット近くに基板面内の半径方向と直角方向に永久磁
石で直流磁界を印加しておく。
（１１）基板がテープ状のものでその上に円状の膜を形
成する場合は、回転円板にスリットを設け、スリットの
長手方向が半径方向になる様にして回転させる。この時
、スリットの長手方向に直角に永久磁石で直流磁界を印
加する。
成する場合は、回転円板にスリットを設け、スリットの
長手方向が半径方向になる様にして回転させる。この時
、スリットの長手方向に直角に永久磁石で直流磁界を印
加する。
この様にして常に膜の容易軸方向がディスクの半径方向
に直角な方向になる様にして膜形成することにより磁化
方向を円周方向に揃える。
に直角な方向になる様にして膜形成することにより磁化
方向を円周方向に揃える。
作 用
この技術的手段による作用は次の様になる。
金属磁性膜よりなる面内磁化のディスクを作成する場合
、本発明の手段により膜形成をすれば、磁性膜の磁化容
易軸は常にディスク円板の半径方向に直角な、すなわち
円周の方向に向いており、γ−酸化鉄の塗布型で円周方
向に針状γ−酸化鉄を揃えたのと同等になる。したがっ
て、記録再生時の磁化反転は容易になり出力、雑音−出
力比もよくなる。
、本発明の手段により膜形成をすれば、磁性膜の磁化容
易軸は常にディスク円板の半径方向に直角な、すなわち
円周の方向に向いており、γ−酸化鉄の塗布型で円周方
向に針状γ−酸化鉄を揃えたのと同等になる。したがっ
て、記録再生時の磁化反転は容易になり出力、雑音−出
力比もよくなる。
実施例
以下本発明を実施例により具体的に説明する。
（実施例１）
真空蒸着技術でＣｏを主成分とするＣｏ −Ｎｉ −Ｐ
の蒸着をふ；こない円板状基板の上に幅ｓｍｍ、長さ９
０Ｉｎｍのスリットを介して着膜した。このときスリッ
トの中心が着膜する基板の中心になる様にし、基板を面
内で回軸させた。回転速度は１回転１５秒とした。スリ
ットの幅方向には、第１図に示す如き位置に永久磁石を
設は両側がそれぞれＮ極。
の蒸着をふ；こない円板状基板の上に幅ｓｍｍ、長さ９
０Ｉｎｍのスリットを介して着膜した。このときスリッ
トの中心が着膜する基板の中心になる様にし、基板を面
内で回軸させた。回転速度は１回転１５秒とした。スリ
ットの幅方向には、第１図に示す如き位置に永久磁石を
設は両側がそれぞれＮ極。
Ｓ極になる様にしである。スリットに設けた永久磁石の
極性は回転中心に対して対称にしである、これは常に回
転方向に対し同じになる様にするためである。なお中心
部は磁化方向が乱れるが、この部分の基板は機械的に打
抜いて除去するため不用である。１は基板を回転させる
モータ、２はその伝達軸、３は基板、４はスリット９が
設けであるシャッタで、８，８′はスリットの両側に設
けである永久磁石で、本実施例では６００エルステツド
のアルニコ磁石を用いた。６はスリット９つきシャッタ
４の支柱、６はＣｏ−Ｎ１−Ｐの蒸発源、７は真空槽で
ある。
極性は回転中心に対して対称にしである、これは常に回
転方向に対し同じになる様にするためである。なお中心
部は磁化方向が乱れるが、この部分の基板は機械的に打
抜いて除去するため不用である。１は基板を回転させる
モータ、２はその伝達軸、３は基板、４はスリット９が
設けであるシャッタで、８，８′はスリットの両側に設
けである永久磁石で、本実施例では６００エルステツド
のアルニコ磁石を用いた。６はスリット９つきシャッタ
４の支柱、６はＣｏ−Ｎ１−Ｐの蒸発源、７は真空槽で
ある。
この方法で１０００オングストロームの上記磁性膜を形
成した。ディスクの数ケ所から直径１０印の円板を打抜
き、ディスクの半径方向とそれに直角な円周方向のトル
ク曲線を測定した。その結果円周方向が常に容易軸方向
になっていた。
成した。ディスクの数ケ所から直径１０印の円板を打抜
き、ディスクの半径方向とそれに直角な円周方向のトル
ク曲線を測定した。その結果円周方向が常に容易軸方向
になっていた。
（実施例２）
平行平板型マグネトロンスパッタを用い、基板の前に実
施例１と基本的に同じ構成のスリット、永久磁石を設け
たシャッタを設置した、本実施例では基板を回転させた
がシャッタを基板の軸と同軸にして回転し基板を固定し
ても問題ない。第２図に本発明の一実施例を示した。１
ｏは基板を回転するモータ、１１はその伝達軸、１２は
基板ホルダー、１３は基板、１４はスリットと永久磁石
のついたシャッタ、１５はシャッタの支柱、１６はＣｏ
−Ｎ１−Ｐのターゲット、１７はスパッタ用マグネット
である。
施例１と基本的に同じ構成のスリット、永久磁石を設け
たシャッタを設置した、本実施例では基板を回転させた
がシャッタを基板の軸と同軸にして回転し基板を固定し
ても問題ない。第２図に本発明の一実施例を示した。１
ｏは基板を回転するモータ、１１はその伝達軸、１２は
基板ホルダー、１３は基板、１４はスリットと永久磁石
のついたシャッタ、１５はシャッタの支柱、１６はＣｏ
−Ｎ１−Ｐのターゲット、１７はスパッタ用マグネット
である。
基板の回転を１５秒／回とし、５ Ｘ １０ Ｔｏｒ
ｒのアルゴン圧中、３５０Ｗａｔｔ 、ターゲットサイ
ズφ９０ ｆｆ１ｍで、ＲＦスパッタにて膜形成をおこ
ない１０００オングストロームの厚みとした。実施例１
と同様な方法で基板の数ケ所の半径方向と円周方向のト
ルク曲線を調べた結果実施例と同様に円周方向が容易軸
方向であった。
ｒのアルゴン圧中、３５０Ｗａｔｔ 、ターゲットサイ
ズφ９０ ｆｆ１ｍで、ＲＦスパッタにて膜形成をおこ
ない１０００オングストロームの厚みとした。実施例１
と同様な方法で基板の数ケ所の半径方向と円周方向のト
ルク曲線を調べた結果実施例と同様に円周方向が容易軸
方向であった。
発明の効果
以上述べて来たように、本発明の方法によれば、真空蒸
着スパッタ蒸着などの膜形成技術によっても、円周方向
に容易軸を持った磁気ディスク形成でき、さらに、薄膜
化ふ容易であるため高密度磁気記録媒体を得るのに非常
に有用である。
着スパッタ蒸着などの膜形成技術によっても、円周方向
に容易軸を持った磁気ディスク形成でき、さらに、薄膜
化ふ容易であるため高密度磁気記録媒体を得るのに非常
に有用である。
第１図は、本発明の製造方法の一実施例を真空蒸着法に
より示す図、第２図は同じくスパッタ蒸着法を用いた実
施例を示す図である。 ３・・・・・・基板、４・・・・・・スリット、永久磁
石つきシャッタ、８，８′・・・・・・永久磁石、９・
・・・・・スリット、１２・・・・・・基板、１４・・
・・・・スリット、永久磁石つきシャッタ、１６・・・
・・・ターゲット、１７・・・・・・スパッタ装置のマ
グネット。
より示す図、第２図は同じくスパッタ蒸着法を用いた実
施例を示す図である。 ３・・・・・・基板、４・・・・・・スリット、永久磁
石つきシャッタ、８，８′・・・・・・永久磁石、９・
・・・・・スリット、１２・・・・・・基板、１４・・
・・・・スリット、永久磁石つきシャッタ、１６・・・
・・・ターゲット、１７・・・・・・スパッタ装置のマ
グネット。
Claims (4)
- （１）円板状基板の半径方向に直角で、しかも面に平行
に外部磁界を印加して、その円板状基板面に磁性膜を形
成したことを特徴とする薄膜磁気ディスクの製造方法。 - （２）円板状基板面への磁性膜形成は、円板状基板の半
径方向に長いスリット状マスクを介しておこなうことを
特徴とする特許請求の範囲第１項記載の薄膜磁気ディス
クの製造方法。 - （３）円板状基板面への磁性膜形成は、円板状基板の中
心を軸とし、回転しながらおこなうことを特徴とする特
許請求の範囲第１項記載の薄膜磁気ディスクの製造方法
。 - （４）磁性膜は真空蒸着、スパッタ蒸着で形成したこと
を特徴とする特許請求の範囲第１項記載の薄膜磁気ディ
スクの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60022255A JPH0680532B2 (ja) | 1985-02-07 | 1985-02-07 | 薄膜磁気デイスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60022255A JPH0680532B2 (ja) | 1985-02-07 | 1985-02-07 | 薄膜磁気デイスクの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61182633A true JPS61182633A (ja) | 1986-08-15 |
| JPH0680532B2 JPH0680532B2 (ja) | 1994-10-12 |
Family
ID=12077666
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60022255A Expired - Lifetime JPH0680532B2 (ja) | 1985-02-07 | 1985-02-07 | 薄膜磁気デイスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0680532B2 (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58133636A (ja) * | 1982-02-02 | 1983-08-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
-
1985
- 1985-02-07 JP JP60022255A patent/JPH0680532B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58133636A (ja) * | 1982-02-02 | 1983-08-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0680532B2 (ja) | 1994-10-12 |
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