JPS62271225A - 磁性薄膜の形成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ３、発明の詳細な説明 産業上の利用分野 本発明は、コンピュータの周辺機器のデータの記録再生
などに用いられるハードディスク、ならびにフロンピー
ディスク用磁性薄膜の形成方法に関するものである。

従来の技術 近年、コンピュータの周辺機器である磁気記録装置の発
展はめざましく、より小形化、より高密度化が進んでい
る。それに用いる磁気ディスクはγ−酸化鉄の塗布型の
ものが大勢を占めているが、より高密度化を求めて磁性
膜は薄膜化して行く傾向にある。ハードディスクにおい
ては、薄膜化はスピンコードなどの手法、あるいは塗布
したのち研磨してうるなどの方法がとられている。また
、塗布方法以外では、真空技術を用いて膜形成をおこな
っている。たとえば、スパッタ膜形成技術を用いて、コ
ハルトーニソケル、コバルト−クロムなどの金属膜、γ
−酸化鉄、バリウムフェライトなどの酸化膜がさかんに
形成されている。コバルト−クロム、バリウムフェライ
トは基板面に対し垂直磁化した膜として形成が可能で、
基板面に平行に磁化するものより、より高密度な媒体と
じて冨に最近検討されている。

コバルトを主成分とする面内磁化膜も薄膜形成技術によ
り検討されており、より薄膜化できれば、塗布型の媒体
にくらべ、より高密度媒体として有望である。

この媒体すなわち磁性膜をハードディスクに応用する場
合は、平滑度の高い金属円板、あるいはガラス円板など
の表面にＥ、Ｂあるいは抵抗加熱方式による真空蒸着、
スパッタ蒸着などの薄膜形成技術でつけられ実用化が検
討されている。またフレキシブルディスクの場合は、ポ
リエチレンテレフタレート、ポリアミド、ポリイミドな
どの有機フィルム上に上記薄膜形成法で析出し作成する
ことが検討されている。

発明が解決しようとする問題点 ハードディスク、フレキシブルディスクなどの媒体は、
円板の中心を軸として、面内方向に回転させて使用する
もので、記録再生は、円周方向におこなわれる。膜面内
磁化媒体を用いる場合、磁性膜の磁化方向が円周方向に
揃っておれば、記録時の磁化反転はよりスムーズになり
再生時の出力も大となるとともに、雑音レベルも低下す
る。

塗布膜においては、塗膜が固化する前に、磁場中におい
て磁化方向を円周方向に揃えるなどの手段をとっている
。しかし、真空蒸着、スパッタ蒸着などの薄膜形成技術
を用いて上記円板状基板表面に磁性薄膜を形成させ、こ
れに円周方向に磁化方向を揃えることはなされていない
。

問題点を解決するための手段 真空蒸着、スパッタ蒸着などで磁性膜を円板状基板上に
形成するとき、円板の円周方向に、直流または交流の磁
場を印加しておき、円板状基板の中心を軸として回転さ
せながら着膜させて円周方向に容易軸を持たせる。

作用 本発明は、上記の如き容易軸方向を円周方向に持つ磁性
膜を以下の方法で形成して達成する。すなわち、１対の
平行に向いあった磁性材からなるターゲット間に、直流
または交流磁界を印加したスパッター装置において、円
板状基板面を、ターゲット間に印加した磁界に平行でか
つ、クーゲットの対向部の側部に設置して中心を軸とし
て面内回転させ、さらに基板とターゲットの間に印加し
た磁界方向に対し直角にスリ７トを設けたシャ。

夕を、スリー／　トの一端に基板の中心が来る様に設置
して円板状基板の表面に磁性膜を形成する方法である。

磁界は両ターゲットの裏面に設置した永久磁石で得る。

この場合、形成する膜の保磁力に応じた磁界の強さが得
られる磁石を選ぶことにより、いろいろな種類の膜に容
易軸方向を円周方向に持たせて形成することができる。

実施例 以下に本発明を一実施例を用いて具体的に説明する。

第１図において、真空槽１内に設けた１対の向い合った
４０００ガウスに帯磁したｓｍｃｏ磁石３゜３′の対向
面側にＣｏが主成分のＣｏ１Ｎｉ、Ｐの３成分からなる
ｓｏｘ　１００　（ｍ璽）のターゲット２゜２′を設け
る。円板状基板５は、真空槽１の外に設けたモータ６で
円板状基板５の中心を軸にして３０ｒｐｍで回転した。

このとき円板状基板５の面５′と磁石３，３′によって
できる磁界の方向との関係は六方平行になる様にしであ
る。つぎに円板状基板５のターゲット２．２′側（すな
わちターゲット２．２’と円板状基板５との間）に、シ
ャッタ４を設置した。このシャッタ４には第２図に示し
た如くにＳ　ｍ　−Ｃｏ　磁石３，３′によって生ずる
磁界８と直角な方向に細長いスリット７を設けた。この
実施例ではスリット７の寸法は、長さ５０Ｉ１１、幅５
龍とした。また円板状基板５には、直径３インチ、厚み
３５０μｍのシリコン基板を用い、表面をエツチングし
て平滑性を持たせである。今、真空槽１内を５　Ｘ　１
０−’Ｔｏｒｒまで減圧したのち、５Ｘ　１Ｏ−２Ｔｏ
ｒｒまでアルゴンガスを導入した。クーゲット２．２′
にＤＣ電圧３００ボルトを印加し放電させたのち、５　
Ｘ　１０−３Ｔｏｒｒに真空度を調整した。

２０分間スパッタをして、スリットを通して円板状基板
５の表面に１ミクロン厚のＣｏ　　Ｎｉ　　Ｐなる組成
の膜をつけた。

発明の効果 円板状基板５の表面に着けた膜が、円周方向に磁化容易
軸を持った磁性膜になっているかを調べるため、同基板
５の適当なケ所５点より、５１璽角のチップを切りだし
、トルク磁力計を用いて異方性を測定した。測定した結
果、磁化容易軸が円板状基板５の円周方向にあった。

すなわち、円板状基板５の表面に形成したＣ０−Ｎ１−
Ｐからなる磁性膜は円周方向に磁化容易軸を持っており
、これを記録媒体としたとき、効率のよい磁気記録、再
生ができるとともに媒体から来る雑音も低下し得る。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の磁性薄膜の形成方法の一実施例を示
す装置の概略図、第２図は本発明の磁性薄膜の形成方法
に用いるシャッターに設けたスリットと磁界との関係を
示す概念図である。 １・・・・・・真空槽、２，２′・・・・・・ターゲッ
ト、３゜３′・・・・・・磁界発生用磁石、４・・・・
・・シャッター、５・・・・・・円板状基板、５′・・
・・・・円板状基板の表面、６・・・・・・円板状基板
回転用モータ、７・・・・・・スリット。 ｌ−真空槽 ２．２′−ターゲ、ント ３．３’−−一磁界発生用磁石 第　１　図　　　　　　　　　４−　シャヅタＳ−−−
円板状基級 ５′−−一円ｇｉ其基板の表面 乙−円板状基板回転用モータ 第２図 （−一、−）

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）１対の平行に向いあった磁性材からなるターゲッ
   ト間に、直流または交流磁界を印加したスパッター装置
   において、円板状基板面を、ターゲット間に印加した磁
   界に平行でかつターゲットの対向部の側部に設置して中
   心を軸にして面内回転させ、さらに基板とターゲットの
   間に、印加した磁界方向に対し直角にスリットを設けた
   シャッタをスリットの一端に基板の中心が来る様に設置
   して円板状基板の表面に磁性膜を形成することを特徴と
   する磁性薄膜の形成方法。
2. （２）形成した磁性薄膜の容易軸方向が、円板状基板の
   円周方向であることを特徴とする特許請求の範囲第（１
   ）項記載の磁性薄膜の形成方法。