JP2002251723A - 磁気転写方法および磁気転写装置 - Google Patents
磁気転写方法および磁気転写装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 マスター担体とスレーブ媒体を密着させて転
写用磁界を印加して磁気転写を行う際の、転写用磁界の
印加方向の許容範囲を規定して正確な磁化パターンの転
写が行えるようにする。 【解決手段】 スレーブ面のトラック方向に磁界を印加
し予めスレーブ媒体２をトラック方向に初期直流磁化し
た後、マスター担体３とスレーブ媒体２を密着させ、ス
レーブ面のトラック方向に転写用磁界を印加させ、磁気
転写を行う際に、転写用磁界の印加角度αをスレーブ面
に対して垂直方向で±３０度以内に規定する。また、転
写用磁界の印加角度をスレーブ面と平行面でのトラック
方向に対して±３０度以内に規定する。
写用磁界を印加して磁気転写を行う際の、転写用磁界の
印加方向の許容範囲を規定して正確な磁化パターンの転
写が行えるようにする。 【解決手段】 スレーブ面のトラック方向に磁界を印加
し予めスレーブ媒体２をトラック方向に初期直流磁化し
た後、マスター担体３とスレーブ媒体２を密着させ、ス
レーブ面のトラック方向に転写用磁界を印加させ、磁気
転写を行う際に、転写用磁界の印加角度αをスレーブ面
に対して垂直方向で±３０度以内に規定する。また、転
写用磁界の印加角度をスレーブ面と平行面でのトラック
方向に対して±３０度以内に規定する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、情報が担持された
マスター担体からスレーブ媒体へ磁気転写する磁気転写
方法および磁気転写装置に関するものである。
マスター担体からスレーブ媒体へ磁気転写する磁気転写
方法および磁気転写装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】磁気転写方法は、マスター担体とスレー
ブ媒体を密着させた状態で、転写用磁界を印加してマス
ター担体に担持した情報（例えばサーボ信号）に対応す
る磁化パターンの転写を行うものである。この磁気転写
方法としては、例えば特開昭６３−１８３６２３号公
報、特開平１０−４０５４４号公報、特開平１０−２６
９５６６号公報等に開示されている。
ブ媒体を密着させた状態で、転写用磁界を印加してマス
ター担体に担持した情報（例えばサーボ信号）に対応す
る磁化パターンの転写を行うものである。この磁気転写
方法としては、例えば特開昭６３−１８３６２３号公
報、特開平１０−４０５４４号公報、特開平１０−２６
９５６６号公報等に開示されている。
【０００３】また、転写用磁界は、スレーブ媒体の片面
または両面にマスター担体を密着させた状態で、その片
側または両側に電磁石装置、永久磁石装置による磁界生
成手段を配設して印加する。その際、スレーブ媒体とマ
スター担体を密着したものまたは磁界を相対的に回転さ
せて、円盤状のスレーブ媒体の円周上のトラックに磁化
パターンを転写している。
または両面にマスター担体を密着させた状態で、その片
側または両側に電磁石装置、永久磁石装置による磁界生
成手段を配設して印加する。その際、スレーブ媒体とマ
スター担体を密着したものまたは磁界を相対的に回転さ
せて、円盤状のスレーブ媒体の円周上のトラックに磁化
パターンを転写している。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記磁気転
写方法では、マスター担体の情報担持面に磁性層を凹凸
パターンに形成した転写情報に正確に対応した磁化パタ
ーンを、スレーブ媒体の記録面に転写記録して転写精度
を高めるためには、マスター担体の情報担持面とスレー
ブ媒体のスレーブ面との密着性を確保した状態でトラッ
ク方向に正確に転写用磁界を印加する必要がある。
写方法では、マスター担体の情報担持面に磁性層を凹凸
パターンに形成した転写情報に正確に対応した磁化パタ
ーンを、スレーブ媒体の記録面に転写記録して転写精度
を高めるためには、マスター担体の情報担持面とスレー
ブ媒体のスレーブ面との密着性を確保した状態でトラッ
ク方向に正確に転写用磁界を印加する必要がある。
【０００５】しかし、実際の磁界生成手段により生成さ
れる磁界は、スレーブ媒体の内周部から外周部の全体で
平面方向および垂直方向でトラック方向およびスレーブ
面と平行とするのは困難であり、各種要素によってずれ
ることになる。この転写用磁界の印加方向のずれが大き
くなると、その部分の磁化パターンが乱れて精度の良い
磁気転写が行えず、転写情報がサーボ信号の場合にはト
ラッキング機能が十分に得られず信頼性が低下するとい
う問題がある。
れる磁界は、スレーブ媒体の内周部から外周部の全体で
平面方向および垂直方向でトラック方向およびスレーブ
面と平行とするのは困難であり、各種要素によってずれ
ることになる。この転写用磁界の印加方向のずれが大き
くなると、その部分の磁化パターンが乱れて精度の良い
磁気転写が行えず、転写情報がサーボ信号の場合にはト
ラッキング機能が十分に得られず信頼性が低下するとい
う問題がある。
【０００６】本発明はこのような問題に鑑みなされたも
ので、マスター担体とスレーブ媒体を密着させて転写用
磁界を印加して磁気転写を行う際の、転写用磁界の印加
方向の許容範囲を規定して正確な磁化パターンの転写が
行えるようにした磁気転写方法および磁気転写装置を提
供することを目的とする。
ので、マスター担体とスレーブ媒体を密着させて転写用
磁界を印加して磁気転写を行う際の、転写用磁界の印加
方向の許容範囲を規定して正確な磁化パターンの転写が
行えるようにした磁気転写方法および磁気転写装置を提
供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の磁気転写方法
は、基板の表面の情報信号に対応する部分に磁性層が形
成された磁気転写用マスター担体と転写を受けるスレー
ブ媒体である磁気記録媒体とを密着させて転写用磁界を
印加する磁気転写方法において、スレーブ面のトラック
方向に磁界を印加し予めスレーブ媒体をトラック方向に
初期直流磁化した後、マスター担体と上記初期直流磁化
したスレーブ媒体を密着させ、スレーブ面のトラック方
向に転写用磁界を印加させ、磁気転写を行う際に、転写
用磁界の印加角度がスレーブ面に対して垂直方向で±３
０度以内であることを特徴とするものである。
は、基板の表面の情報信号に対応する部分に磁性層が形
成された磁気転写用マスター担体と転写を受けるスレー
ブ媒体である磁気記録媒体とを密着させて転写用磁界を
印加する磁気転写方法において、スレーブ面のトラック
方向に磁界を印加し予めスレーブ媒体をトラック方向に
初期直流磁化した後、マスター担体と上記初期直流磁化
したスレーブ媒体を密着させ、スレーブ面のトラック方
向に転写用磁界を印加させ、磁気転写を行う際に、転写
用磁界の印加角度がスレーブ面に対して垂直方向で±３
０度以内であることを特徴とするものである。
【０００８】本発明の他の磁気転写方法は、基板の表面
の情報信号に対応する部分に磁性層が形成された磁気転
写用マスター担体と転写を受けるスレーブ媒体である磁
気記録媒体とを密着させて転写用磁界を印加する磁気転
写方法において、スレーブ面のトラック方向に磁界を印
加し予めスレーブ媒体をトラック方向に初期直流磁化し
た後、マスター担体と上記初期直流磁化したスレーブ媒
体を密着させ、スレーブ面のトラック方向に転写用磁界
を印加させ、磁気転写を行う際に、転写用磁界の印加角
度がスレーブ面と平行面でのトラック方向に対して±３
０度以内であることを特徴とするものである。
の情報信号に対応する部分に磁性層が形成された磁気転
写用マスター担体と転写を受けるスレーブ媒体である磁
気記録媒体とを密着させて転写用磁界を印加する磁気転
写方法において、スレーブ面のトラック方向に磁界を印
加し予めスレーブ媒体をトラック方向に初期直流磁化し
た後、マスター担体と上記初期直流磁化したスレーブ媒
体を密着させ、スレーブ面のトラック方向に転写用磁界
を印加させ、磁気転写を行う際に、転写用磁界の印加角
度がスレーブ面と平行面でのトラック方向に対して±３
０度以内であることを特徴とするものである。
【０００９】本発明のさらに他の磁気転写方法は、基板
の表面の情報信号に対応する部分に磁性層が形成された
磁気転写用マスター担体と転写を受けるスレーブ媒体で
ある磁気記録媒体とを密着させて転写用磁界を印加する
磁気転写方法において、スレーブ面のトラック方向に磁
界を印加し予めスレーブ媒体をトラック方向に初期直流
磁化した後、マスター担体と上記初期直流磁化したスレ
ーブ媒体を密着させ、スレーブ面のトラック方向に転写
用磁界を印加させ、磁気転写を行う際に、転写用磁界の
スレーブ面に対する垂直方向の印加角度と、転写用磁界
のスレーブ面と平行面でのトラック方向に対する印加角
度との絶対値の合計が、３０度以内であることを特徴と
するものである。
の表面の情報信号に対応する部分に磁性層が形成された
磁気転写用マスター担体と転写を受けるスレーブ媒体で
ある磁気記録媒体とを密着させて転写用磁界を印加する
磁気転写方法において、スレーブ面のトラック方向に磁
界を印加し予めスレーブ媒体をトラック方向に初期直流
磁化した後、マスター担体と上記初期直流磁化したスレ
ーブ媒体を密着させ、スレーブ面のトラック方向に転写
用磁界を印加させ、磁気転写を行う際に、転写用磁界の
スレーブ面に対する垂直方向の印加角度と、転写用磁界
のスレーブ面と平行面でのトラック方向に対する印加角
度との絶対値の合計が、３０度以内であることを特徴と
するものである。
【００１０】また本発明の磁気転写装置は、基板の表面
の情報信号に対応する部分に磁性層が形成された磁気転
写用マスター担体と転写を受けるスレーブ媒体である磁
気記録媒体とを密着させて転写用磁界を印加し磁気転写
を行う磁気転写装置において、マスター担体と密着した
スレーブ媒体に対してトラック方向に転写用磁界を印加
する磁界生成手段を備え、該磁界生成手段による転写用
磁界の印加角度がスレーブ面に対して垂直方向で±３０
度以内であり、スレーブ面と平行面でのトラック方向に
対して±３０度以内であることを特徴とするものであ
る。
の情報信号に対応する部分に磁性層が形成された磁気転
写用マスター担体と転写を受けるスレーブ媒体である磁
気記録媒体とを密着させて転写用磁界を印加し磁気転写
を行う磁気転写装置において、マスター担体と密着した
スレーブ媒体に対してトラック方向に転写用磁界を印加
する磁界生成手段を備え、該磁界生成手段による転写用
磁界の印加角度がスレーブ面に対して垂直方向で±３０
度以内であり、スレーブ面と平行面でのトラック方向に
対して±３０度以内であることを特徴とするものであ
る。
【００１１】前記転写用磁界を印加する磁界生成手段と
しては、電磁石装置または永久磁石装置が使用される
が、磁界強度等の条件を設定調整する点からは電磁石装
置を使用するのが好ましい。
しては、電磁石装置または永久磁石装置が使用される
が、磁界強度等の条件を設定調整する点からは電磁石装
置を使用するのが好ましい。
【００１２】前記スレーブ媒体の片面にマスター担体を
密着させて片面逐次転写を行う場合と、スレーブ媒体の
両面にそれぞれマスター担体を密着させて両面同時転写
を行う場合とがある。その際、スレーブ媒体の片面また
は両面にマスター担体を密着させ、その片側または両側
に磁界生成手段を配設して転写用磁界を印加する。磁界
生成手段はスレーブ媒体の半径方向に延びる範囲にトラ
ック方向と平行に磁界を発生させ、スレーブ媒体とマス
ター担体を密着させたものまたは磁界生成手段を相対的
に回転させて、円盤状のスレーブ媒体の全面に磁化パタ
ーンを転写する。
密着させて片面逐次転写を行う場合と、スレーブ媒体の
両面にそれぞれマスター担体を密着させて両面同時転写
を行う場合とがある。その際、スレーブ媒体の片面また
は両面にマスター担体を密着させ、その片側または両側
に磁界生成手段を配設して転写用磁界を印加する。磁界
生成手段はスレーブ媒体の半径方向に延びる範囲にトラ
ック方向と平行に磁界を発生させ、スレーブ媒体とマス
ター担体を密着させたものまたは磁界生成手段を相対的
に回転させて、円盤状のスレーブ媒体の全面に磁化パタ
ーンを転写する。
【００１３】スレーブ媒体はハードディスク、フレキシ
ブルディスクなどの円盤状磁気記録媒体に対して行うの
が好適である。マスター担体の磁性層は保磁力Ｈcmが４
８ｋＡ／ｍ（≒６００Ｏｅ）以下である磁気転写が好ま
しい。
ブルディスクなどの円盤状磁気記録媒体に対して行うの
が好適である。マスター担体の磁性層は保磁力Ｈcmが４
８ｋＡ／ｍ（≒６００Ｏｅ）以下である磁気転写が好ま
しい。
【００１４】上記磁気転写方法は、基本的に、最初にス
レーブ媒体をトラック方向に直流磁化する初期磁化を施
し、このスレーブ媒体と転写する情報に対応する微細凹
凸パターンに磁性層が形成されたマスター担体とを密着
させてスレーブ面の初期直流磁化方向と略逆向きの方向
に転写用磁界を印加して磁気転写を行うものが好まし
い。前記情報としてはサーボ信号が好適である。
レーブ媒体をトラック方向に直流磁化する初期磁化を施
し、このスレーブ媒体と転写する情報に対応する微細凹
凸パターンに磁性層が形成されたマスター担体とを密着
させてスレーブ面の初期直流磁化方向と略逆向きの方向
に転写用磁界を印加して磁気転写を行うものが好まし
い。前記情報としてはサーボ信号が好適である。
【００１５】スレーブ媒体の初期磁化は、スレーブ媒体
の保磁力Ｈcs以上の磁界強度部分をトラック方向位置で
少なくとも１カ所以上有する磁界強度分布の磁界をトラ
ック方向の一部分で発生させ、スレーブ媒体あるいは磁
界をトラック方向に回転させることにより行う。また
は、スレーブ媒体の保磁力Ｈcs以上の磁界強度部分をト
ラック方向位置で一方向のみで有しており、逆方向の磁
界強度はいずれのトラック方向位置でのスレーブ媒体の
保磁力未満である磁界強度分布の磁界をトラック方向の
一部分で発生させて行うのが好ましい。
の保磁力Ｈcs以上の磁界強度部分をトラック方向位置で
少なくとも１カ所以上有する磁界強度分布の磁界をトラ
ック方向の一部分で発生させ、スレーブ媒体あるいは磁
界をトラック方向に回転させることにより行う。また
は、スレーブ媒体の保磁力Ｈcs以上の磁界強度部分をト
ラック方向位置で一方向のみで有しており、逆方向の磁
界強度はいずれのトラック方向位置でのスレーブ媒体の
保磁力未満である磁界強度分布の磁界をトラック方向の
一部分で発生させて行うのが好ましい。
【００１６】また、転写用磁界の印加は、最適転写磁界
強度範囲の最大値を越える磁界強度がトラック方向のい
ずれにも存在せず、最適転写磁界強度範囲内の磁界強度
となる部分が１つのトラック方向で少なくとも１カ所以
上存在し、これと逆向きのトラック方向の磁界強度がい
ずれのトラック方向位置においても最適転写磁界強度範
囲の最小値未満である磁界強度分布の磁界をトラック方
向の一部分で発生させ、磁気転写用マスター担体と初期
直流磁化したスレーブ媒体を密着させた状態でトラック
方向に回転させるか、あるいは磁界をトラック方向に回
転させることにより行うのが好ましい。最適転写磁界強
度範囲はスレーブ媒体の保磁力Ｈcsの０．６〜１．３倍
である。
強度範囲の最大値を越える磁界強度がトラック方向のい
ずれにも存在せず、最適転写磁界強度範囲内の磁界強度
となる部分が１つのトラック方向で少なくとも１カ所以
上存在し、これと逆向きのトラック方向の磁界強度がい
ずれのトラック方向位置においても最適転写磁界強度範
囲の最小値未満である磁界強度分布の磁界をトラック方
向の一部分で発生させ、磁気転写用マスター担体と初期
直流磁化したスレーブ媒体を密着させた状態でトラック
方向に回転させるか、あるいは磁界をトラック方向に回
転させることにより行うのが好ましい。最適転写磁界強
度範囲はスレーブ媒体の保磁力Ｈcsの０．６〜１．３倍
である。
【００１７】
【発明の効果】上記のような本発明によれば、磁気転写
を行う際に、転写用磁界の印加角度がスレーブ面に対し
て垂直方向で±３０度以内である、または、転写用磁界
の印加角度がスレーブ面と平行面でのトラック方向に対
して±３０度以内である、または、転写用磁界のスレー
ブ面に対する垂直方向の印加角度と転写用磁界のスレー
ブ面と平行面でのトラック方向に対する印加角度との絶
対値の合計が３０度以内であることにより、スレーブ媒
体の全面で均等な特性で正確な磁化パターンの転写が行
え、サーボ信号の場合には良好なトラッキング機能が確
保でき信頼性の向上が図れる。
を行う際に、転写用磁界の印加角度がスレーブ面に対し
て垂直方向で±３０度以内である、または、転写用磁界
の印加角度がスレーブ面と平行面でのトラック方向に対
して±３０度以内である、または、転写用磁界のスレー
ブ面に対する垂直方向の印加角度と転写用磁界のスレー
ブ面と平行面でのトラック方向に対する印加角度との絶
対値の合計が３０度以内であることにより、スレーブ媒
体の全面で均等な特性で正確な磁化パターンの転写が行
え、サーボ信号の場合には良好なトラッキング機能が確
保でき信頼性の向上が図れる。
【００１８】また、磁気転写装置を構成する際に、磁気
転写用磁界の印加角度を上記のような許容範囲内に規定
することにより、良好な磁気転写が行えるので、装置全
体の組立精度、磁界生成手段の磁界強度、分布などの設
計が容易に行える。
転写用磁界の印加角度を上記のような許容範囲内に規定
することにより、良好な磁気転写が行えるので、装置全
体の組立精度、磁界生成手段の磁界強度、分布などの設
計が容易に行える。
【００１９】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を詳細
に説明する。図１は本発明の一つの実施の形態にかかる
磁気転写方法を実施する磁気転写装置の要部斜視図であ
る。また、図２および図３は転写用磁界の印加角度の規
定を示す図、図４は磁界生成手段の他の実施の形態を示
す概略図、図５は磁気転写方法の基本工程を示す図であ
る。なお、各図は模式図であり各部の寸法は実際とは異
なる比率で示している。
に説明する。図１は本発明の一つの実施の形態にかかる
磁気転写方法を実施する磁気転写装置の要部斜視図であ
る。また、図２および図３は転写用磁界の印加角度の規
定を示す図、図４は磁界生成手段の他の実施の形態を示
す概略図、図５は磁気転写方法の基本工程を示す図であ
る。なお、各図は模式図であり各部の寸法は実際とは異
なる比率で示している。
【００２０】図１の磁気転写装置１において、磁気転写
時には、後述の初期直流磁化を行った後のスレーブ媒体
２（磁気記録媒体）のスレーブ面（磁気記録面）を、マ
スター担体３の情報担持面に接触させ、所定の押圧力で
密着させる。このスレーブ媒体２とマスター担体３との
密着状態で、磁界生成手段５により転写用磁界を印加し
てサーボ信号等の磁化パターンを転写記録する。
時には、後述の初期直流磁化を行った後のスレーブ媒体
２（磁気記録媒体）のスレーブ面（磁気記録面）を、マ
スター担体３の情報担持面に接触させ、所定の押圧力で
密着させる。このスレーブ媒体２とマスター担体３との
密着状態で、磁界生成手段５により転写用磁界を印加し
てサーボ信号等の磁化パターンを転写記録する。
【００２１】スレーブ媒体２は、両面または片面に磁気
記録層が形成されたハードディスク、フレキシブルディ
スク等の円盤状磁気記録媒体であり、マスター担体３に
密着させる以前に、グライドヘッド、研磨体などにより
表面の微小突起または付着塵埃を除去するクリーニング
処理が必要に応じて施される。
記録層が形成されたハードディスク、フレキシブルディ
スク等の円盤状磁気記録媒体であり、マスター担体３に
密着させる以前に、グライドヘッド、研磨体などにより
表面の微小突起または付着塵埃を除去するクリーニング
処理が必要に応じて施される。
【００２２】また、スレーブ媒体２には予め初期磁化を
行っておく。この初期磁化は、スレーブ媒体２の保磁力
Ｈcs以上の磁界強度部分をトラック方向位置で少なくと
も１カ所以上有する磁界強度分布の磁界を、好ましく
は、スレーブ媒体２の保磁力Ｈcs以上の磁界強度部分を
トラック方向位置で一方向のみで有しており、逆方向の
磁界強度はいずれのトラック方向位置でのスレーブ媒体
２の保磁力未満である磁界強度分布の磁界を、トラック
方向の一部分で発生させ、スレーブ媒体２あるいは磁界
をトラック方向に回転させることにより全トラックの初
期磁化（直流消磁）を行う。
行っておく。この初期磁化は、スレーブ媒体２の保磁力
Ｈcs以上の磁界強度部分をトラック方向位置で少なくと
も１カ所以上有する磁界強度分布の磁界を、好ましく
は、スレーブ媒体２の保磁力Ｈcs以上の磁界強度部分を
トラック方向位置で一方向のみで有しており、逆方向の
磁界強度はいずれのトラック方向位置でのスレーブ媒体
２の保磁力未満である磁界強度分布の磁界を、トラック
方向の一部分で発生させ、スレーブ媒体２あるいは磁界
をトラック方向に回転させることにより全トラックの初
期磁化（直流消磁）を行う。
【００２３】マスター担体３はディスク状に形成され、
その片面に磁性層３２（図５参照）による微細凹凸パタ
ーンが形成された転写情報担持面を有し、これと反対側
の面が不図示の密着手段に保持され、搬送されたスレー
ブ媒体２と密着される。図示のように、スレーブ媒体２
の片面にマスター担体３を密着させて片面逐次転写を行
う場合と、スレーブ媒体２の両面にそれぞれマスター担
体３を密着させて両面同時転写を行う場合とがある。マ
スター担体３は、スレーブ媒体２と密着させる以前に、
付着した塵埃を除去するクリーニング処理が必要に応じ
て施される。
その片面に磁性層３２（図５参照）による微細凹凸パタ
ーンが形成された転写情報担持面を有し、これと反対側
の面が不図示の密着手段に保持され、搬送されたスレー
ブ媒体２と密着される。図示のように、スレーブ媒体２
の片面にマスター担体３を密着させて片面逐次転写を行
う場合と、スレーブ媒体２の両面にそれぞれマスター担
体３を密着させて両面同時転写を行う場合とがある。マ
スター担体３は、スレーブ媒体２と密着させる以前に、
付着した塵埃を除去するクリーニング処理が必要に応じ
て施される。
【００２４】転写用磁界を印加する磁界生成手段５は、
密着手段に保持されたスレーブ媒体２およびマスター担
体３の半径方向に延びるギャップ５１を有するコア５２
にコイル５３が巻き付けられた電磁石装置５０，５０が
上下両側に配設されてなり、上下で同じ方向にトラック
方向と平行な磁力線Ｇ（図２，図３参照）を有する転写
用磁界を印加する。
密着手段に保持されたスレーブ媒体２およびマスター担
体３の半径方向に延びるギャップ５１を有するコア５２
にコイル５３が巻き付けられた電磁石装置５０，５０が
上下両側に配設されてなり、上下で同じ方向にトラック
方向と平行な磁力線Ｇ（図２，図３参照）を有する転写
用磁界を印加する。
【００２５】磁界印加時には、スレーブ媒体２およびマ
スター担体３を一体に回転させつつ磁界生成手段５によ
って転写用磁界を印加し、マスター担体３の転写情報を
スレーブ媒体２のスレーブ面に磁気的に転写記録する。
磁界生成手段５を回転移動させるように設けてもよい。
スター担体３を一体に回転させつつ磁界生成手段５によ
って転写用磁界を印加し、マスター担体３の転写情報を
スレーブ媒体２のスレーブ面に磁気的に転写記録する。
磁界生成手段５を回転移動させるように設けてもよい。
【００２６】転写用磁界は、最適転写磁界強度範囲（ス
レーブ媒体２の保磁力Ｈcsの０．６〜１．３倍）の最大
値を越える磁界強度がトラック方向のいずれにも存在せ
ず、最適転写磁界強度範囲内の磁界強度となる部分が１
つのトラック方向で少なくとも１カ所以上存在し、これ
と逆向きのトラック方向の磁界強度がいずれのトラック
方向位置においても最適転写磁界強度範囲の最小値未満
である磁界強度分布の磁界をトラック方向の一部分で発
生させている。
レーブ媒体２の保磁力Ｈcsの０．６〜１．３倍）の最大
値を越える磁界強度がトラック方向のいずれにも存在せ
ず、最適転写磁界強度範囲内の磁界強度となる部分が１
つのトラック方向で少なくとも１カ所以上存在し、これ
と逆向きのトラック方向の磁界強度がいずれのトラック
方向位置においても最適転写磁界強度範囲の最小値未満
である磁界強度分布の磁界をトラック方向の一部分で発
生させている。
【００２７】上記磁気転写を行う際に、磁界生成手段５
による転写用磁界の印加角度が、スレーブ媒体２のスレ
ーブ面に対して垂直方向で±３０度以内である。つま
り、図２に示すように正面から見て、磁界生成手段５に
より磁界印加部分に発生させた転写用磁界の磁力線Ｇの
印加方向と、マスター担体３に密着したスレーブ媒体２
のスレーブ面Ｆとの角度αが、±３０度以内となるよう
に規定される。なお、図で上向きの角度αをプラス方向
としている。
による転写用磁界の印加角度が、スレーブ媒体２のスレ
ーブ面に対して垂直方向で±３０度以内である。つま
り、図２に示すように正面から見て、磁界生成手段５に
より磁界印加部分に発生させた転写用磁界の磁力線Ｇの
印加方向と、マスター担体３に密着したスレーブ媒体２
のスレーブ面Ｆとの角度αが、±３０度以内となるよう
に規定される。なお、図で上向きの角度αをプラス方向
としている。
【００２８】また、転写用磁界の印加角度がスレーブ媒
体２のスレーブ面と平行面でのトラック方向に対して±
３０度以内である。つまり、図３に示すように平面から
見て、磁界生成手段５により磁界印加部分に発生させた
転写用磁界の磁力線Ｇの印加方向とスレーブ媒体２のス
レーブ面の円周トラック２１の接線方向との角度βが、
±３０度以内となるように規定される。なお、図で外向
きの角度βをプラス方向としている。
体２のスレーブ面と平行面でのトラック方向に対して±
３０度以内である。つまり、図３に示すように平面から
見て、磁界生成手段５により磁界印加部分に発生させた
転写用磁界の磁力線Ｇの印加方向とスレーブ媒体２のス
レーブ面の円周トラック２１の接線方向との角度βが、
±３０度以内となるように規定される。なお、図で外向
きの角度βをプラス方向としている。
【００２９】さらに、転写用磁界の印加角度における垂
直方向の上記角度αと、トラック方向の上記角度βとの
絶対値の合計が、３０度以内となるように規定される。
転写用磁界の印加角度を上記のような範囲に規定する理
由は後述する。
直方向の上記角度αと、トラック方向の上記角度βとの
絶対値の合計が、３０度以内となるように規定される。
転写用磁界の印加角度を上記のような範囲に規定する理
由は後述する。
【００３０】前記磁界生成手段５は、片側にのみ配設す
るようにしてもよい。また、磁界生成手段５としては、
他の実施の形態として、図４(ａ)〜(ｃ)に示すような転
写用磁界を生成する電磁石装置または永久磁石装置を、
両側または片側に配設してもよい。
るようにしてもよい。また、磁界生成手段５としては、
他の実施の形態として、図４(ａ)〜(ｃ)に示すような転
写用磁界を生成する電磁石装置または永久磁石装置を、
両側または片側に配設してもよい。
【００３１】図４(ａ)の磁界生成手段５は、スレーブ媒
体２の半径方向に延びる１つの電磁石５５（または永久
磁石）のスレーブ面と平行な両側部が反対磁極に構成さ
れ、トラック方向に磁界を生成する。図４(ｂ)の磁界生
成手段５は、所定間隔でスレーブ媒体２の半径方向に延
びる２つの平行電磁石５６，５７（または永久磁石）の
スレーブ面に向かう端面が反対磁極に構成され、トラッ
ク方向に磁界を生成する。図４(ｃ)の磁界生成手段５
は、断面Ｕ字状で半径方向に延びる永久磁石５８（また
は電磁石）のスレーブ面に向かう２つの平行端面が反対
磁極に構成され、トラック方向に磁界を生成する。
体２の半径方向に延びる１つの電磁石５５（または永久
磁石）のスレーブ面と平行な両側部が反対磁極に構成さ
れ、トラック方向に磁界を生成する。図４(ｂ)の磁界生
成手段５は、所定間隔でスレーブ媒体２の半径方向に延
びる２つの平行電磁石５６，５７（または永久磁石）の
スレーブ面に向かう端面が反対磁極に構成され、トラッ
ク方向に磁界を生成する。図４(ｃ)の磁界生成手段５
は、断面Ｕ字状で半径方向に延びる永久磁石５８（また
は電磁石）のスレーブ面に向かう２つの平行端面が反対
磁極に構成され、トラック方向に磁界を生成する。
【００３２】上記のような各実施の形態における磁界生
成手段５においても、前記と同様に転写用磁界の印加角
度における垂直方向の角度αと、トラック方向の角度β
は、それぞれ±３０度以内となるように、および絶対値
の合計が３０度以内となるように規定される。
成手段５においても、前記と同様に転写用磁界の印加角
度における垂直方向の角度αと、トラック方向の角度β
は、それぞれ±３０度以内となるように、および絶対値
の合計が３０度以内となるように規定される。
【００３３】次に、図５は磁気転写の基本態様を示す図
である。(ａ)は磁場を一方向に印加してスレーブ媒体２
を初期直流磁化する工程、(ｂ)はマスター担体３とスレ
ーブ媒体２とを密着して反対方向に磁界を印加する工
程、(ｃ)は磁気転写後の状態をそれぞれ示す図である。
である。(ａ)は磁場を一方向に印加してスレーブ媒体２
を初期直流磁化する工程、(ｂ)はマスター担体３とスレ
ーブ媒体２とを密着して反対方向に磁界を印加する工
程、(ｃ)は磁気転写後の状態をそれぞれ示す図である。
【００３４】まず図５(ａ)に示すように、スレーブ媒体
２に初期磁界Ｈinをトラック方向の一方向に印加して予
め初期磁化(直流消磁)を行う。その後、図５(ｂ)に示す
ように、このスレーブ媒体２のスレーブ面（磁気記録
面）とマスター担体３の基板３１の微細凹凸パターンに
磁性層３２が被覆されてなる情報担持面とを密着させ、
スレーブ媒体２のトラック方向に前記初期磁界Ｈinとは
逆方向に転写用磁界Ｈduを印加して磁気転写を行う。そ
の結果、図５(ｃ)に示すように、スレーブ媒体２のスレ
ーブ面（トラック）にはマスター担体３の情報担持面の
磁性層３２の密着凸部と凹部空間との形成パターンに応
じた磁化パターンが転写記録される。
２に初期磁界Ｈinをトラック方向の一方向に印加して予
め初期磁化(直流消磁)を行う。その後、図５(ｂ)に示す
ように、このスレーブ媒体２のスレーブ面（磁気記録
面）とマスター担体３の基板３１の微細凹凸パターンに
磁性層３２が被覆されてなる情報担持面とを密着させ、
スレーブ媒体２のトラック方向に前記初期磁界Ｈinとは
逆方向に転写用磁界Ｈduを印加して磁気転写を行う。そ
の結果、図５(ｃ)に示すように、スレーブ媒体２のスレ
ーブ面（トラック）にはマスター担体３の情報担持面の
磁性層３２の密着凸部と凹部空間との形成パターンに応
じた磁化パターンが転写記録される。
【００３５】なお、上記マスター担体３の基板３１の凹
凸パターンが図５のポジパターンと逆の凹凸形状のネガ
パターンの場合であっても、初期磁界Ｈinの方向および
転写用磁界Ｈduの方向を上記と逆方向にすることによっ
て同様の磁化パターンが転写記録できる。
凸パターンが図５のポジパターンと逆の凹凸形状のネガ
パターンの場合であっても、初期磁界Ｈinの方向および
転写用磁界Ｈduの方向を上記と逆方向にすることによっ
て同様の磁化パターンが転写記録できる。
【００３６】前記基板３１がＮｉなどによる強磁性体の
場合はこの基板３１のみで磁気転写は可能で、前記磁性
層３２は被覆しなくてもよいが、転写特性の良い磁性層
３２を設けることでより良好な磁気転写が行える。基板
３１が非磁性体の場合は磁性層３２を設けることが必要
である。マスター担体３の磁性層３２は、保磁力Ｈcmが
４８ｋＡ／ｍ（≒６００Ｏｅ）以下の軟磁性層が好まし
い。
場合はこの基板３１のみで磁気転写は可能で、前記磁性
層３２は被覆しなくてもよいが、転写特性の良い磁性層
３２を設けることでより良好な磁気転写が行える。基板
３１が非磁性体の場合は磁性層３２を設けることが必要
である。マスター担体３の磁性層３２は、保磁力Ｈcmが
４８ｋＡ／ｍ（≒６００Ｏｅ）以下の軟磁性層が好まし
い。
【００３７】マスター担体３の基板３１としては、ニッ
ケル、シリコン、石英板、ガラス、アルミニウム、合
金、セラミックス、合成樹脂等を使用する。凹凸パター
ンの形成は、スタンパー法、フォトファブリケーション
法等によって行われる。
ケル、シリコン、石英板、ガラス、アルミニウム、合
金、セラミックス、合成樹脂等を使用する。凹凸パター
ンの形成は、スタンパー法、フォトファブリケーション
法等によって行われる。
【００３８】スタンパー法は、表面が平滑なガラス板
（または石英板）の上にスピンコート等でフォトレジス
トを形成し、このガラス板を回転させながらサーボ信号
に対応して変調したレーザー光（または電子ビーム）を
照射し、フォトレジスト全面に所定のパターン、例えば
各トラックに回転中心から半径方向に線状に延びるサー
ボ信号に相当するパターンを円周上の各フレームに対応
する部分に露光する。その後、フォトレジストを現像処
理し、露光部分を除去しフォトレジストによる凹凸形状
を有する原盤を得る。次に、原盤の表面の凹凸パターン
をもとに、この表面にメッキ（電鋳）を施し、ポジ状凹
凸パターンを有するＮｉ基板を作成し、原盤から剥離す
る。この基板をそのままマスター担体とするか、または
凹凸パターン上に必要に応じて軟磁性層、保護膜を被覆
してマスター担体とする。
（または石英板）の上にスピンコート等でフォトレジス
トを形成し、このガラス板を回転させながらサーボ信号
に対応して変調したレーザー光（または電子ビーム）を
照射し、フォトレジスト全面に所定のパターン、例えば
各トラックに回転中心から半径方向に線状に延びるサー
ボ信号に相当するパターンを円周上の各フレームに対応
する部分に露光する。その後、フォトレジストを現像処
理し、露光部分を除去しフォトレジストによる凹凸形状
を有する原盤を得る。次に、原盤の表面の凹凸パターン
をもとに、この表面にメッキ（電鋳）を施し、ポジ状凹
凸パターンを有するＮｉ基板を作成し、原盤から剥離す
る。この基板をそのままマスター担体とするか、または
凹凸パターン上に必要に応じて軟磁性層、保護膜を被覆
してマスター担体とする。
【００３９】また、前記原盤にメッキを施して第２の原
盤を作成し、この第２の原盤を使用してメッキを行い、
ネガ状凹凸パターンを有する基板を作成してもよい。さ
らに、第２の原盤にメッキを行うか樹脂液を押し付けて
硬化を行って第３の原盤を作成し、第３の原盤にメッキ
を行い、ポジ状凹凸パターンを有する基板を作成しても
よい。
盤を作成し、この第２の原盤を使用してメッキを行い、
ネガ状凹凸パターンを有する基板を作成してもよい。さ
らに、第２の原盤にメッキを行うか樹脂液を押し付けて
硬化を行って第３の原盤を作成し、第３の原盤にメッキ
を行い、ポジ状凹凸パターンを有する基板を作成しても
よい。
【００４０】一方、前記ガラス板にフォトレジストによ
るパターンを形成した後、エッチングしてガラス板に穴
を形成し、フォトレジストを除去した原盤を得て、以下
前記と同様に基板を形成するようにしてもよい。
るパターンを形成した後、エッチングしてガラス板に穴
を形成し、フォトレジストを除去した原盤を得て、以下
前記と同様に基板を形成するようにしてもよい。
【００４１】金属による基板の材料としては、Ｎｉもし
くはＮｉ合金を使用することができ、この基板を作成す
る前記メッキは、無電解メッキ、電鋳、スパッタリン
グ、イオンプレーティングを含む各種の金属成膜法が適
用できる。基板の凹凸パターンの深さ（突起の高さ）
は、８０ｎｍ〜８００ｎｍの範囲が好ましく、より好ま
しくは１００ｎｍ〜６００ｎｍである。この凹凸パター
ンはサーボ信号の場合は、半径方向に長く形成される。
例えば、半径方向の長さは０．０５〜２０μｍ、円周方
向は０．０５〜５μｍが好ましく、この範囲で半径方向
の方が長いパターンを選ぶことがサーボ信号の情報を担
持するパターンとして好ましい。
くはＮｉ合金を使用することができ、この基板を作成す
る前記メッキは、無電解メッキ、電鋳、スパッタリン
グ、イオンプレーティングを含む各種の金属成膜法が適
用できる。基板の凹凸パターンの深さ（突起の高さ）
は、８０ｎｍ〜８００ｎｍの範囲が好ましく、より好ま
しくは１００ｎｍ〜６００ｎｍである。この凹凸パター
ンはサーボ信号の場合は、半径方向に長く形成される。
例えば、半径方向の長さは０．０５〜２０μｍ、円周方
向は０．０５〜５μｍが好ましく、この範囲で半径方向
の方が長いパターンを選ぶことがサーボ信号の情報を担
持するパターンとして好ましい。
【００４２】前記磁性層３２（軟磁性層）の形成は、磁
性材料を真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレー
ティング法等の真空成膜手段、メッキ法などにより成膜
する。磁性層の磁性材料としては、Ｃｏ、Ｃｏ合金（Ｃ
ｏＮｉ、ＣｏＮｉＺｒ、ＣｏＮｂＴａＺｒ等）、Ｆｅ、
Ｆｅ合金（ＦｅＣｏ、ＦｅＣｏＮｉ、ＦｅＮｉＭｏ、Ｆ
ｅＡｌＳｉ、ＦｅＡｌ、ＦｅＴａＮ）、Ｎｉ、Ｎｉ合金
（ＮｉＦｅ）が用いることができる。特に好ましくはＦ
ｅＣｏ、ＦｅＣｏＮｉである。磁性層の厚みは、５０ｎ
ｍ〜５００ｎｍの範囲が好ましく、さらに好ましくは１
００ｎｍ〜４００ｎｍである。
性材料を真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレー
ティング法等の真空成膜手段、メッキ法などにより成膜
する。磁性層の磁性材料としては、Ｃｏ、Ｃｏ合金（Ｃ
ｏＮｉ、ＣｏＮｉＺｒ、ＣｏＮｂＴａＺｒ等）、Ｆｅ、
Ｆｅ合金（ＦｅＣｏ、ＦｅＣｏＮｉ、ＦｅＮｉＭｏ、Ｆ
ｅＡｌＳｉ、ＦｅＡｌ、ＦｅＴａＮ）、Ｎｉ、Ｎｉ合金
（ＮｉＦｅ）が用いることができる。特に好ましくはＦ
ｅＣｏ、ＦｅＣｏＮｉである。磁性層の厚みは、５０ｎ
ｍ〜５００ｎｍの範囲が好ましく、さらに好ましくは１
００ｎｍ〜４００ｎｍである。
【００４３】なお、磁性層の上にＤＬＣ等の保護膜を設
けることが好ましく、潤滑剤層を設けても良い。また保
護膜として５〜３０ｎｍのダイヤモンドライクカーボン
（ＤＬＣ）膜と潤滑剤層が存在することがさらに好まし
い。また、磁性層と保護膜の間に、Ｓｉ等の密着強化層
を設けてもよい。潤滑剤は、スレーブ媒体との接触過程
で生じるずれを補正する際の、摩擦による傷の発生など
の耐久性の劣化を改善する。
けることが好ましく、潤滑剤層を設けても良い。また保
護膜として５〜３０ｎｍのダイヤモンドライクカーボン
（ＤＬＣ）膜と潤滑剤層が存在することがさらに好まし
い。また、磁性層と保護膜の間に、Ｓｉ等の密着強化層
を設けてもよい。潤滑剤は、スレーブ媒体との接触過程
で生じるずれを補正する際の、摩擦による傷の発生など
の耐久性の劣化を改善する。
【００４４】前記原盤を用いて樹脂基板を作製し、その
表面に磁性層を設けてマスター担体としてもよい。樹脂
基板の樹脂材料としては、ポリカーボネート・ポリメチ
ルメタクリレートなどのアクリル樹脂、ポリ塩化ビニル
・塩化ビニル共重合体などの塩化ビニル樹脂、エポキシ
樹脂、アモルファスポリオレフィンおよびポリエステル
などが使用可能である。耐湿性、寸法安定性および価格
などの点からポリカーボネートが好ましい。成形品にバ
リがある場合は、バーニシュまたはポリッシュにより除
去する。また、紫外線硬化樹脂、電子線硬化樹脂などを
使用して、原盤にスピンコート、バーコート塗布で形成
してもよい。樹脂基板のパターン突起の高さは、５０〜
１０００ｎｍの範囲が好ましく、さらに好ましくは１０
０〜５００ｎｍの範囲である。
表面に磁性層を設けてマスター担体としてもよい。樹脂
基板の樹脂材料としては、ポリカーボネート・ポリメチ
ルメタクリレートなどのアクリル樹脂、ポリ塩化ビニル
・塩化ビニル共重合体などの塩化ビニル樹脂、エポキシ
樹脂、アモルファスポリオレフィンおよびポリエステル
などが使用可能である。耐湿性、寸法安定性および価格
などの点からポリカーボネートが好ましい。成形品にバ
リがある場合は、バーニシュまたはポリッシュにより除
去する。また、紫外線硬化樹脂、電子線硬化樹脂などを
使用して、原盤にスピンコート、バーコート塗布で形成
してもよい。樹脂基板のパターン突起の高さは、５０〜
１０００ｎｍの範囲が好ましく、さらに好ましくは１０
０〜５００ｎｍの範囲である。
【００４５】前記樹脂基板の表面の微細パターンの上に
磁性層を被覆しマスター担体を得る。磁性層の形成は、
磁性材料を真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレ
ーティング法等の真空成膜手段、メッキ法などにより成
膜する。
磁性層を被覆しマスター担体を得る。磁性層の形成は、
磁性材料を真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレ
ーティング法等の真空成膜手段、メッキ法などにより成
膜する。
【００４６】一方、フォトファブリケーション法は、例
えば、平板状の基板の平滑な表面にフォトレジストを塗
布し、サーボ信号のパターンに応じたフォトマスクを用
いた露光、現像処理により、情報に応じたパターンを形
成する。次いで、エッチング工程により、パターンに応
じて基板のエッチングを行い、磁性層の厚さに相当する
深さの穴を形成する。次いで、磁性材料を真空蒸着法、
スパッタリング法、イオンプレーティング法等の真空成
膜手段、メッキ法により、形成した穴に対応した厚さで
基板の表面まで磁性材料を成膜する。次いで、フォトレ
ジストをリフトオフ法で除去し、表面を研磨して、ばり
がある場合は取り除くと共に、表面を平滑化する。
えば、平板状の基板の平滑な表面にフォトレジストを塗
布し、サーボ信号のパターンに応じたフォトマスクを用
いた露光、現像処理により、情報に応じたパターンを形
成する。次いで、エッチング工程により、パターンに応
じて基板のエッチングを行い、磁性層の厚さに相当する
深さの穴を形成する。次いで、磁性材料を真空蒸着法、
スパッタリング法、イオンプレーティング法等の真空成
膜手段、メッキ法により、形成した穴に対応した厚さで
基板の表面まで磁性材料を成膜する。次いで、フォトレ
ジストをリフトオフ法で除去し、表面を研磨して、ばり
がある場合は取り除くと共に、表面を平滑化する。
【００４７】スレーブ媒体２としては、ハードディス
ク、高密度フレキシブルディスクなどの円盤状磁気記録
媒体が使用され、その磁気記録層は塗布型磁気記録層あ
るいは金属薄膜型磁気記録層が形成されている。金属薄
膜型磁気記録層の磁性材料としては、Ｃｏ、Ｃｏ合金
（ＣｏＰｔＣｒ、ＣｏＣｒ、ＣｏＰｔＣｒＴａ、ＣｏＰ
ｔＣｒＮｂＴａ、ＣｏＣｒＢ、ＣｏＮｉ等）、Ｆｅ、Ｆ
ｅ合金（ＦｅＣｏ、ＦｅＰｔ、ＦｅＣｏＮｉ）を用いる
ことができる。これは磁束密度が大きいこと、磁界印加
方向と同じ方向（面内記録なら面内方向）の磁気異方性
を有していることが、明瞭な転写が行えるため好まし
い。そして磁性材料の下（支持体側）に必要な磁気異方
性をつけるために非磁性の下地層を設けることが好まし
い。結晶構造と格子定数を磁性層に合わすことが必要で
ある。そのためにはＣｒ、ＣｒＴｉ、ＣｏＣｒ、ＣｒＴ
ａ、ＣｒＭｏ、ＮｉＡｌ、Ｒｕ等を用いる。
ク、高密度フレキシブルディスクなどの円盤状磁気記録
媒体が使用され、その磁気記録層は塗布型磁気記録層あ
るいは金属薄膜型磁気記録層が形成されている。金属薄
膜型磁気記録層の磁性材料としては、Ｃｏ、Ｃｏ合金
（ＣｏＰｔＣｒ、ＣｏＣｒ、ＣｏＰｔＣｒＴａ、ＣｏＰ
ｔＣｒＮｂＴａ、ＣｏＣｒＢ、ＣｏＮｉ等）、Ｆｅ、Ｆ
ｅ合金（ＦｅＣｏ、ＦｅＰｔ、ＦｅＣｏＮｉ）を用いる
ことができる。これは磁束密度が大きいこと、磁界印加
方向と同じ方向（面内記録なら面内方向）の磁気異方性
を有していることが、明瞭な転写が行えるため好まし
い。そして磁性材料の下（支持体側）に必要な磁気異方
性をつけるために非磁性の下地層を設けることが好まし
い。結晶構造と格子定数を磁性層に合わすことが必要で
ある。そのためにはＣｒ、ＣｒＴｉ、ＣｏＣｒ、ＣｒＴ
ａ、ＣｒＭｏ、ＮｉＡｌ、Ｒｕ等を用いる。
【００４８】ここで、転写用磁界の印加角度を前述のよ
うな範囲とする実験結果を説明する。実験に使用したマ
スター担体、スレーブ媒体および磁気転写方法は次の通
りである。
うな範囲とする実験結果を説明する。実験に使用したマ
スター担体、スレーブ媒体および磁気転写方法は次の通
りである。
【００４９】＜マスター担体の作製＞Ｎｉスタンパー法
により、円盤中心から半径方向２０〜４０ｍｍの位置ま
で、幅０．５μｍの等間隔放射状ラインで、ライン間隔
が半径方向２０ｍｍの最内周位置で０．５μｍ間隔であ
るような、深さ０．２μｍの円盤状パターンを有するＮ
ｉ基板を作成した。真空成膜装置において、室温にて
１．３３×１０-5Ｐａ（１０-7Torr）まで減圧した後
に、アルゴンを導入して０．４Ｐａ（３×１０-3Torr）
とした条件下で、Ｎｉ基盤上に厚さ２００ｎｍのＦｅＣ
ｏ膜（軟磁性層）を形成し、マスター担体とした。保磁
力Ｈcmは８ｋＡ／ｍ（１００Ｏｅ）、磁束密度Ｍｓは２
８．９Ｔ（２３０００ Gauss）であった。
により、円盤中心から半径方向２０〜４０ｍｍの位置ま
で、幅０．５μｍの等間隔放射状ラインで、ライン間隔
が半径方向２０ｍｍの最内周位置で０．５μｍ間隔であ
るような、深さ０．２μｍの円盤状パターンを有するＮ
ｉ基板を作成した。真空成膜装置において、室温にて
１．３３×１０-5Ｐａ（１０-7Torr）まで減圧した後
に、アルゴンを導入して０．４Ｐａ（３×１０-3Torr）
とした条件下で、Ｎｉ基盤上に厚さ２００ｎｍのＦｅＣ
ｏ膜（軟磁性層）を形成し、マスター担体とした。保磁
力Ｈcmは８ｋＡ／ｍ（１００Ｏｅ）、磁束密度Ｍｓは２
８．９Ｔ（２３０００ Gauss）であった。
【００５０】＜スレーブ媒体の作製＞真空成膜装置にお
いて、室温にて１．３３×１０-5Ｐａ（１０-7Torr）ま
で減圧した後に、アルゴンを導入して０．４Ｐａ（３×
１０-3Torr）とした条件下で、ガラス板を２００℃に加
熱し、ＣｒＴｉ６０ｎｍ、ＣｏＣｒＰｔ２５ｎｍ、磁束
密度Ｍｓ：５．７Ｔ（４５００ Gauss）、保磁力Ｈcs:
１９９ｋＡ／ｍ（２５００Ｏｅ）の３．５インチ型の円
盤状磁気記録媒体（ハードディスク）を作製した。
いて、室温にて１．３３×１０-5Ｐａ（１０-7Torr）ま
で減圧した後に、アルゴンを導入して０．４Ｐａ（３×
１０-3Torr）とした条件下で、ガラス板を２００℃に加
熱し、ＣｒＴｉ６０ｎｍ、ＣｏＣｒＰｔ２５ｎｍ、磁束
密度Ｍｓ：５．７Ｔ（４５００ Gauss）、保磁力Ｈcs:
１９９ｋＡ／ｍ（２５００Ｏｅ）の３．５インチ型の円
盤状磁気記録媒体（ハードディスク）を作製した。
【００５１】＜磁気転写試験方法＞ピーク磁界強度がス
レーブ媒体の表面において、スレーブ媒体保磁力Ｈcsの
２倍の３9８ｋＡ／ｍ（５０００Ｏｅ）となるように、
図１に示したようなリング型ヘッド電磁石を配置して、
スレーブ媒体の初期直流磁化を行った。次に初期直流磁
化したスレーブ媒体とマスター担体とを密着させて、ピ
ーク磁界強度がスレーブ媒体の表面において２０７ｋＡ
／ｍ（２６００Ｏｅ）となるように、リング型ヘッド電
磁石の電流を調整して配置した。
レーブ媒体の表面において、スレーブ媒体保磁力Ｈcsの
２倍の３9８ｋＡ／ｍ（５０００Ｏｅ）となるように、
図１に示したようなリング型ヘッド電磁石を配置して、
スレーブ媒体の初期直流磁化を行った。次に初期直流磁
化したスレーブ媒体とマスター担体とを密着させて、ピ
ーク磁界強度がスレーブ媒体の表面において２０７ｋＡ
／ｍ（２６００Ｏｅ）となるように、リング型ヘッド電
磁石の電流を調整して配置した。
【００５２】このとき、上下の電磁石の磁界印加角度
（ピーク磁界）を、図２に示す垂直方向の角度αを０゜
〜±４５゜に、図３に示す平面のトラック方向の角度β
を０゜〜±４５゜に変化させ、初期直流磁化とは逆向き
に転写磁界を印加して磁気転写を行った。なお、マスタ
ー担体とスレーブ媒体の密着は、ゴム板を挟んでアルミ
ニウム板上から加圧した。
（ピーク磁界）を、図２に示す垂直方向の角度αを０゜
〜±４５゜に、図３に示す平面のトラック方向の角度β
を０゜〜±４５゜に変化させ、初期直流磁化とは逆向き
に転写磁界を印加して磁気転写を行った。なお、マスタ
ー担体とスレーブ媒体の密着は、ゴム板を挟んでアルミ
ニウム板上から加圧した。
【００５３】＜電磁変換特性評価方法＞電磁変換特性測
定装置（協同電子社製ＳＳ−６０）によりスレーブ媒体
の転写信号の評価を行った。ヘッドには、再生ヘッドギ
ャップ：０．２４μｍ、再生トラック幅：１．９μｍ、
記録ヘッドギャップ：０．４μｍ、記録トラック幅：
２．４μｍであるＭＲヘッドを使用した。読み込み信号
をスペクトロアナライザーで周波数分解し、１次信号の
ピーク強度Ｃと外挿した媒体ノイズＮの差（Ｃ／Ｎ）を
測定した。角度αおよび角度βが共に０゜（α＝β＝０
゜）のときの値を０ｄＢとし、相対値（ΔＣ／Ｎ）で評
価を行った。この相対値（ΔＣ／Ｎ）が−６ｄＢより小
さく（マイナス方向に大きく）なると、信号強度が小さ
く転写不良の状態となるので、この値を許容値として評
価した。その結果を表１および表２に示す。
定装置（協同電子社製ＳＳ−６０）によりスレーブ媒体
の転写信号の評価を行った。ヘッドには、再生ヘッドギ
ャップ：０．２４μｍ、再生トラック幅：１．９μｍ、
記録ヘッドギャップ：０．４μｍ、記録トラック幅：
２．４μｍであるＭＲヘッドを使用した。読み込み信号
をスペクトロアナライザーで周波数分解し、１次信号の
ピーク強度Ｃと外挿した媒体ノイズＮの差（Ｃ／Ｎ）を
測定した。角度αおよび角度βが共に０゜（α＝β＝０
゜）のときの値を０ｄＢとし、相対値（ΔＣ／Ｎ）で評
価を行った。この相対値（ΔＣ／Ｎ）が−６ｄＢより小
さく（マイナス方向に大きく）なると、信号強度が小さ
く転写不良の状態となるので、この値を許容値として評
価した。その結果を表１および表２に示す。
【００５４】なお、表１では角度αおよび角度βを、い
ずれもプラス方向に変化させたときの値を示し、表２で
は角度αをマイナス方向、角度βをプラス方向に変化さ
せたときの値を示している。角度αのプラス方向はスレ
ーブ媒体とマスター担体との密着面に対して磁力線がス
レーブ媒体側に進入するように上向きに傾く方向であ
り、下向きに傾く方向がマイナス方向である。角度βの
プラス方向はスレーブ媒体とマスター担体との密着面に
おけるトラックの接線方向に対して磁力線が外周側に傾
く方向であり、内周側に傾く方向がマイナス方向であ
る。なお、平面トラック方向の角度βを変化させたデー
タは、プラス方向とマイナス方向でほぼ同一であるの
で、マイナス方向のデータは省略している。
ずれもプラス方向に変化させたときの値を示し、表２で
は角度αをマイナス方向、角度βをプラス方向に変化さ
せたときの値を示している。角度αのプラス方向はスレ
ーブ媒体とマスター担体との密着面に対して磁力線がス
レーブ媒体側に進入するように上向きに傾く方向であ
り、下向きに傾く方向がマイナス方向である。角度βの
プラス方向はスレーブ媒体とマスター担体との密着面に
おけるトラックの接線方向に対して磁力線が外周側に傾
く方向であり、内周側に傾く方向がマイナス方向であ
る。なお、平面トラック方向の角度βを変化させたデー
タは、プラス方向とマイナス方向でほぼ同一であるの
で、マイナス方向のデータは省略している。
【００５５】
【表１】
【表２】
【００５６】表１および表２から分かるように、角度β
が０゜の場合には、角度αが＋３０゜〜−３０゜の範囲
で良好な磁気転写が行えた。同様に、角度αが０゜の場
合には、角度βが＋３０゜〜−３０゜（マイナス値は示
していないがプラス値と同様）の範囲で良好な磁気転写
が行えた。また、角度αおよび角度βの一方がプラス方
向またはマイナス方向に大きくなると、相対値ΔＣ／Ｎ
の良好な範囲は他方の角度が絶対値で３０゜より小さい
範囲となり、太い罫線で囲まれた両角度α，βの絶対値
の合計が３０゜以内である範囲で良好な磁気転写が行え
た。
が０゜の場合には、角度αが＋３０゜〜−３０゜の範囲
で良好な磁気転写が行えた。同様に、角度αが０゜の場
合には、角度βが＋３０゜〜−３０゜（マイナス値は示
していないがプラス値と同様）の範囲で良好な磁気転写
が行えた。また、角度αおよび角度βの一方がプラス方
向またはマイナス方向に大きくなると、相対値ΔＣ／Ｎ
の良好な範囲は他方の角度が絶対値で３０゜より小さい
範囲となり、太い罫線で囲まれた両角度α，βの絶対値
の合計が３０゜以内である範囲で良好な磁気転写が行え
た。
【図１】本発明の一つの実施の形態に係る磁気転写方法
を実施する磁気転写装置の要部斜視図
を実施する磁気転写装置の要部斜視図
【図２】転写用磁界の印加角度の第１の規定を示す正面
図
図
【図３】転写用磁界の印加角度の第２の規定を示す平面
図
図
【図４】磁界生成手段の他の実施の形態を示す概略図
【図５】磁気転写方法の基本工程を示す図
１ 磁気転写装置 ２ スレーブ媒体 ３ マスター担体 ５ 磁界生成手段 21 円周トラック 32 磁性層 50 電磁石装置 α，β 角度
Claims (4)
- 【請求項１】 基板の表面の情報信号に対応する部分に
磁性層が形成された磁気転写用マスター担体と転写を受
けるスレーブ媒体である磁気記録媒体とを密着させて転
写用磁界を印加する磁気転写方法において、 スレーブ面のトラック方向に磁界を印加し予めスレーブ
媒体をトラック方向に初期直流磁化した後、マスター担
体と上記初期直流磁化したスレーブ媒体を密着させ、ス
レーブ面のトラック方向に転写用磁界を印加させ、磁気
転写を行う際に、転写用磁界の印加角度がスレーブ面に
対して垂直方向で±３０度以内であることを特徴とする
磁気転写方法。 - 【請求項２】 基板の表面の情報信号に対応する部分に
磁性層が形成された磁気転写用マスター担体と転写を受
けるスレーブ媒体である磁気記録媒体とを密着させて転
写用磁界を印加する磁気転写方法において、 スレーブ面のトラック方向に磁界を印加し予めスレーブ
媒体をトラック方向に初期直流磁化した後、マスター担
体と上記初期直流磁化したスレーブ媒体を密着させ、ス
レーブ面のトラック方向に転写用磁界を印加させ、磁気
転写を行う際に、転写用磁界の印加角度がスレーブ面と
平行面でのトラック方向に対して±３０度以内であるこ
とを特徴とする磁気転写方法。 - 【請求項３】 基板の表面の情報信号に対応する部分に
磁性層が形成された磁気転写用マスター担体と転写を受
けるスレーブ媒体である磁気記録媒体とを密着させて転
写用磁界を印加する磁気転写方法において、 スレーブ面のトラック方向に磁界を印加し予めスレーブ
媒体をトラック方向に初期直流磁化した後、マスター担
体と上記初期直流磁化したスレーブ媒体を密着させ、ス
レーブ面のトラック方向に転写用磁界を印加させ、磁気
転写を行う際に、転写用磁界のスレーブ面に対する垂直
方向の印加角度と、転写用磁界のスレーブ面と平行面で
のトラック方向に対する印加角度との絶対値の合計が、
３０度以内であることを特徴とする磁気転写方法。 - 【請求項４】 基板の表面の情報信号に対応する部分に
磁性層が形成された磁気転写用マスター担体と転写を受
けるスレーブ媒体である磁気記録媒体とを密着させて転
写用磁界を印加し磁気転写を行う磁気転写装置におい
て、 マスター担体と密着したスレーブ媒体に対してトラック
方向に転写用磁界を印加する磁界生成手段を備え、該磁
界生成手段による転写用磁界の印加角度がスレーブ面に
対して垂直方向で±３０度以内であり、スレーブ面と平
行面でのトラック方向に対して±３０度以内であること
を特徴とする磁気転写装置。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001047809A JP4046480B2 (ja) | 2001-02-23 | 2001-02-23 | 磁気転写方法および磁気転写装置 |
| EP02003193A EP1235207A3 (en) | 2001-02-23 | 2002-02-18 | Method and apparatus of magnetically transferring information signal from master medium to slave medium |
| SG200200898A SG116440A1 (en) | 2001-02-23 | 2002-02-19 | Method and apparatus of magnetically transferring information signal from master medium to slave medium. |
| KR1020020009219A KR20020069135A (ko) | 2001-02-23 | 2002-02-21 | 자기전사방법 및 자기전사장치 |
| US10/078,535 US7139140B2 (en) | 2001-02-23 | 2002-02-21 | Method and apparatus of magnetically transferring information signal from master medium to slave medium |
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|---|---|---|---|
| JP2001047809A JP4046480B2 (ja) | 2001-02-23 | 2001-02-23 | 磁気転写方法および磁気転写装置 |
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|---|---|
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Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
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| JP2007293964A (ja) * | 2006-04-24 | 2007-11-08 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands Bv | 磁気ディスクの消磁装置及び消磁方法 |
| JP5238290B2 (ja) * | 2008-02-28 | 2013-07-17 | 昭和電工株式会社 | 磁気記録媒体の製造方法 |
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|---|---|---|---|---|
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| JPS57109134A (en) * | 1980-12-26 | 1982-07-07 | Toshiba Corp | Magnetic transferring and recording method |
| JPS57138061A (en) * | 1981-02-17 | 1982-08-26 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic transferring system |
| DE69027754T2 (de) * | 1989-12-29 | 1996-12-05 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Vormagnetisierungsfeld-Erzeugungsgerät |
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| TW342495B (en) * | 1996-07-22 | 1998-10-11 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Master information carrier, method of producing the same, and method for recording master information signal on magnetic recording medium |
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| US6433944B1 (en) * | 1998-09-25 | 2002-08-13 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Master carrier for magnetic transfer and method for transfer |
| JP3344651B2 (ja) * | 1998-10-29 | 2002-11-11 | 松下電器産業株式会社 | マスター情報担体を用いた磁気記録媒体の製造方法 |
| US6570724B1 (en) * | 1999-04-26 | 2003-05-27 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method and apparatus for magnetic transfer |
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- 2001-02-23 JP JP2001047809A patent/JP4046480B2/ja not_active Expired - Fee Related
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2002
- 2002-02-18 EP EP02003193A patent/EP1235207A3/en not_active Withdrawn
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- 2002-02-21 KR KR1020020009219A patent/KR20020069135A/ko not_active Application Discontinuation
- 2002-02-21 US US10/078,535 patent/US7139140B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2002-02-25 CN CNB021052824A patent/CN1219285C/zh not_active Expired - Fee Related
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