JPS61167848A - Ｘ線による被測定物の組成分析方法 - Google Patents
Ｘ線による被測定物の組成分析方法Info
- Publication number
- JPS61167848A JPS61167848A JP60008728A JP872885A JPS61167848A JP S61167848 A JPS61167848 A JP S61167848A JP 60008728 A JP60008728 A JP 60008728A JP 872885 A JP872885 A JP 872885A JP S61167848 A JPS61167848 A JP S61167848A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- rays
- measured
- monochromatic
- ray
- single crystal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/02—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material
- G01N23/06—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material and measuring the absorption
- G01N23/083—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material and measuring the absorption the radiation being X-rays
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
ζ産業上の利用分野１
本発明はＸ線を利用した非破壊測定手段により被測定物
の組成を分析する方法に関する。
の組成を分析する方法に関する。
「従来の技術」
不透明な物体の組成濃度１組成分布等を放射線照射によ
り非破壊的に測定するとき、その線源としてアイソトー
プ（Ｇａ、 Ｚｒ、 Ｃｏ）などのγ線、あるいはＸ線
を用い、放射線照射系から出射した放射線を被測定物に
照射し、その透過線の強度を検出系で測定解析するよう
にしている。
り非破壊的に測定するとき、その線源としてアイソトー
プ（Ｇａ、 Ｚｒ、 Ｃｏ）などのγ線、あるいはＸ線
を用い、放射線照射系から出射した放射線を被測定物に
照射し、その透過線の強度を検出系で測定解析するよう
にしている。
ところで、アイソトープによる非破壊的測定法の場合、
アイソトープの入手が困難であること、その強度が弱い
かまたは強すぎること、さらに半減期が短いこと等々の
理由により工業化がむずかしいとされており、そのため
、Ｘ線を用いる方法が普及している。
アイソトープの入手が困難であること、その強度が弱い
かまたは強すぎること、さらに半減期が短いこと等々の
理由により工業化がむずかしいとされており、そのため
、Ｘ線を用いる方法が普及している。
Ｘ線には白色Ｘ線、単色Ｘ線があり、例えば被測定物が
２つの元素からなる場合、通常、Ｘ線照射系と被測定物
とを相対移動させるスキャンニングにより白色Ｘ線また
は単色Ｘ線を被測定物に照射し、２以上の特定波長また
はエネルギに関する透過線強度をその検出系により求め
た後、その測定データをもとにした多層分割法、アーベ
ル変換法等の計算法により被測定物の組成分布を求めて
いる。
２つの元素からなる場合、通常、Ｘ線照射系と被測定物
とを相対移動させるスキャンニングにより白色Ｘ線また
は単色Ｘ線を被測定物に照射し、２以上の特定波長また
はエネルギに関する透過線強度をその検出系により求め
た後、その測定データをもとにした多層分割法、アーベ
ル変換法等の計算法により被測定物の組成分布を求めて
いる。
この際、Ｘ線源の電圧は８０にマ以上、その強度はＸ線
源の電流換算値で１０ｍＡ以上がよいとされており、こ
の電流値が低いとＸ線量が小さくなり、１１４定に時間
がかかる。
源の電流換算値で１０ｍＡ以上がよいとされており、こ
の電流値が低いとＸ線量が小さくなり、１１４定に時間
がかかる。
Ｘ線の波長入（オングストローム）は、Ｘ線源にかける
管電圧にマをＶとしたとき、入＝ １２．４／Ｖである
。
管電圧にマをＶとしたとき、入＝ １２．４／Ｖである
。
透過線の強度は時間１５〜２０秒程度で程度するのがよ
く、時間が長いほど測定精度が高まるとされている。
く、時間が長いほど測定精度が高まるとされている。
？発明が解決しようとする問題点」
上述した放射線による分析方法ではＸ線（γ線も同じ）
を被測定物に照射することにより、その被測定物の材料
劣化が生じる。
を被測定物に照射することにより、その被測定物の材料
劣化が生じる。
したがって被測定物に単色Ｘ線のみを照射すればよいが
、単色Ｘ線を出射するＸ線源にはエネルギ？０ｋｅＶ以
下のものが多いため被測定物の透過強度が小さく、透過
強度の小さい単色Ｘ線により、例えば２種以上の組成か
らなる被測定物を測定する場合は所望の測定分析に時間
がかかりすぎる。
、単色Ｘ線を出射するＸ線源にはエネルギ？０ｋｅＶ以
下のものが多いため被測定物の透過強度が小さく、透過
強度の小さい単色Ｘ線により、例えば２種以上の組成か
らなる被測定物を測定する場合は所望の測定分析に時間
がかかりすぎる。
他の問題点として、Ｘ線走査時にその線源を移動させる
場合は移動設備が大がかりとなり、線源の不安定も生じ
る。
場合は移動設備が大がかりとなり、線源の不安定も生じ
る。
これに対処すべく被測定物を移動させるとき、回折手段
により白色Ｘ線から２種以上の単色Ｘ線を取り出し、こ
れを被測定物へ照射することが考えられるが、この場合
も各単色Ｘ線の光軸が一致しないことにより測定時間が
長くなる。
により白色Ｘ線から２種以上の単色Ｘ線を取り出し、こ
れを被測定物へ照射することが考えられるが、この場合
も各単色Ｘ線の光軸が一致しないことにより測定時間が
長くなる。
その他、製造ライン上の被測定物をオンラインにより測
定しようとしても、Ｘ線走査のための被測定物移動がで
きなムので、前記のごときオフラインによるシステムし
か採用できず、かかるオフラインシステムではリアルタ
イムで被測定物の組成を分析することができない。
定しようとしても、Ｘ線走査のための被測定物移動がで
きなムので、前記のごときオフラインによるシステムし
か採用できず、かかるオフラインシステムではリアルタ
イムで被測定物の組成を分析することができない。
本発明は上記の問題点に鑑み、被測定物のＸ線による放
射線劣化防止はもちろんのこと、線源。
射線劣化防止はもちろんのこと、線源。
被測定物等を移動させることなく、その被測定物の組成
が高精度かつ短時間で分析できる方法を提供しようとす
るものである。
が高精度かつ短時間で分析できる方法を提供しようとす
るものである。
Ｔ問題点を解決するための手段ｊ
本発明に係る被測定物の組成分析方法は、Ｘ線発生装置
から出射した白色Ｘ線を、複数（２以上の任意数）の単
結晶に当てることにより複数（２種以上の任意数）の単
色Ｘ線を取り出して、該各Ｘ線の光軸を互いに一致させ
るとともに、上記単結晶を移動させながら単色Ｘ線を被
測定物に照射して走査し、その透過線をＸ線検出装置で
測定解析することにより被測定物中の組成を分析するこ
とを特徴としている。
から出射した白色Ｘ線を、複数（２以上の任意数）の単
結晶に当てることにより複数（２種以上の任意数）の単
色Ｘ線を取り出して、該各Ｘ線の光軸を互いに一致させ
るとともに、上記単結晶を移動させながら単色Ｘ線を被
測定物に照射して走査し、その透過線をＸ線検出装置で
測定解析することにより被測定物中の組成を分析するこ
とを特徴としている。
ｆ作用ｊ
本発明方法の場合、Ｘ線発生装置、Ｘ線検出装置等を介
して所望被測定物の組成を分析するが、この際の白色Ｘ
線照射時、その白色Ｘ線を複数の中結晶に当てて複数の
単色Ｘ線を取り出すとともにこれら単色Ｘ線を被測定物
に照射し、その透過線を検出する。
して所望被測定物の組成を分析するが、この際の白色Ｘ
線照射時、その白色Ｘ線を複数の中結晶に当てて複数の
単色Ｘ線を取り出すとともにこれら単色Ｘ線を被測定物
に照射し、その透過線を検出する。
さらに上記において被測定物に単色Ｘ線を照射するとき
、Ｘ線発生装置、被測定物を定位置に保持し、単結晶を
移動させることにより所定のＸ線走査を行なう。
、Ｘ線発生装置、被測定物を定位置に保持し、単結晶を
移動させることにより所定のＸ線走査を行なう。
本発明では上記のようにして被測定物の組成を分析する
とき、これに単色Ｘ線を照射してその被測定物への照射
Ｘ線量を少なくするから、被測定物の劣化が抑制され、
しかも単結晶に当てて取り出した各単色Ｘ線には、検出
精度の低下原因となるパルス広がりや測定時間消費を多
くする低エネルギ傾向がないから、高精度の分析が短時
間で行なえる。
とき、これに単色Ｘ線を照射してその被測定物への照射
Ｘ線量を少なくするから、被測定物の劣化が抑制され、
しかも単結晶に当てて取り出した各単色Ｘ線には、検出
精度の低下原因となるパルス広がりや測定時間消費を多
くする低エネルギ傾向がないから、高精度の分析が短時
間で行なえる。
その上、本発明では被測定物でなく単結晶を移動させる
ことでＸ線走査するから、製造ライン上にある被測定物
でもこれをオンラインで測定することができ、したがっ
てその被測定物の製造工程と同期した測定分析が行なえ
、工業的有用性が高まるとともに、上記単結晶が軽量で
あることにより設備、取り扱いが簡単容易となり、その
他、当該単結晶を３次元的に走査して、より実用的な測
定分析をも行ない得る。
ことでＸ線走査するから、製造ライン上にある被測定物
でもこれをオンラインで測定することができ、したがっ
てその被測定物の製造工程と同期した測定分析が行なえ
、工業的有用性が高まるとともに、上記単結晶が軽量で
あることにより設備、取り扱いが簡単容易となり、その
他、当該単結晶を３次元的に走査して、より実用的な測
定分析をも行ない得る。
なお、上記において各単色Ｘ線の光軸を互いに一致させ
ることにより測定時間の短縮化、測定データの解析易度
をさらに高めることができる。
ることにより測定時間の短縮化、測定データの解析易度
をさらに高めることができる。
！実 施 例」
以下本発明方法の実施例につき、図面を参照して説明す
る。
る。
図において、１はＸ線発生装置、２はＸ線検出装置であ
る。
る。
Ｘ線発生装置ｌは白色Ｘ線な出射するための線源３とそ
の白色Ｘ線を分岐するためのマニホールド４とを有し、
Ｘ線検出装置２は例えば半導体（Ｇｅ系）からなるＸ＆
Ｉ検出器が、マルチチャンネル型波高分析器、電子計算
機に接続されている。
の白色Ｘ線を分岐するためのマニホールド４とを有し、
Ｘ線検出装置２は例えば半導体（Ｇｅ系）からなるＸ＆
Ｉ検出器が、マルチチャンネル型波高分析器、電子計算
機に接続されている。
丑記Ｘ線発生装置ｌの出射側にはコリメータ５．８が配
置されている。
置されている。
このうち、コリメータ５の出射側にはラウェ条件にて単
色Ｘ線が取り出せる単結晶７が配置され、コリメータ８
の出射側にはブラッグ条件にて単色Ｘ線が取り出せる単
結晶８．８が配置されているとともに、両単色Ｘ線は単
結晶７以降においてこれらの光軸が互いに一致するよう
になっている。
色Ｘ線が取り出せる単結晶７が配置され、コリメータ８
の出射側にはブラッグ条件にて単色Ｘ線が取り出せる単
結晶８．８が配置されているとともに、両単色Ｘ線は単
結晶７以降においてこれらの光軸が互いに一致するよう
になっている。
さらに単結晶７は取付台ｌＯへ組み付けられ、その取付
台ｌＯがステップモータを有する精密移動機構（図示せ
ず）を介して所定方向へ移動できるようになっており、
同様に、単結晶８．８も取付台１１へ組み付けられ、そ
の取付台１１がステップモータ付き精密移動機構（図示
せず）を介して所定方向へ移動できるようになっている
。
台ｌＯがステップモータを有する精密移動機構（図示せ
ず）を介して所定方向へ移動できるようになっており、
同様に、単結晶８．８も取付台１１へ組み付けられ、そ
の取付台１１がステップモータ付き精密移動機構（図示
せず）を介して所定方向へ移動できるようになっている
。
１２は前述したＸ線照射系とＸ線検出装置２との間に配
置される不透明な被測定物であり、かかる被測定物Ｉ２
の１例として、酸化ケイ素と酸化ゲルマニウムとからな
る光フアイバ用の多孔質母材をあげることができる。
置される不透明な被測定物であり、かかる被測定物Ｉ２
の１例として、酸化ケイ素と酸化ゲルマニウムとからな
る光フアイバ用の多孔質母材をあげることができる。
本発明方法では各単結晶７〜８とＸ線検出装置２との間
に被測定物１２を置いて所定の測定分析を実施するとき
、Ｘ線発生装置１の線源３から出射した白色Ｘ線をマニ
ホールド４により分岐し、その後、分岐された各白色Ｘ
線をコリメータ５．８で絞り、これら分岐Ｘ線を単結晶
７ならびに単結晶８．８に当てる。
に被測定物１２を置いて所定の測定分析を実施するとき
、Ｘ線発生装置１の線源３から出射した白色Ｘ線をマニ
ホールド４により分岐し、その後、分岐された各白色Ｘ
線をコリメータ５．８で絞り、これら分岐Ｘ線を単結晶
７ならびに単結晶８．８に当てる。
この際、単結晶７ではラウェ条件による回折が生じ、単
結晶８．８ではブラッグ条件による２回の回折が生じ、
それぞれの単色Ｘ線Ｅ１．Ｅ２が取り出される。
結晶８．８ではブラッグ条件による２回の回折が生じ、
それぞれの単色Ｘ線Ｅ１．Ｅ２が取り出される。
なお、図示の便宜上、単色Ｘ線Ｅ１． Ｅ２はこれらの
光軸をずらせて示しである。
光軸をずらせて示しである。
こうして得られた単色Ｘ線！ｌ、 Ｋ２のエネルギはＥ
ｌ＜Ｅ２である。
ｌ＜Ｅ２である。
かくして得られた単色Ｘ１ｌＥ１． ｉ！２を被測定物
１２へ照射するが、この際、単結晶７を図中Ｐ１から２
２方向へ、単結晶８，９を図中ＱｌからＱ２方向へそれ
ぞれステップ移動（平行移動）させてＸ線走査し、当該
走査により被測定物！２を透過した各単色Ｘ線、すなわ
ち各透過線のエネルギをＸ線検出装置のＸ線検出器によ
り測定し、その測定データをマルチチャンネル型波高分
析器にて分析し、さらに多層分割法等に基づく電子計算
機にて解読する。
１２へ照射するが、この際、単結晶７を図中Ｐ１から２
２方向へ、単結晶８，９を図中ＱｌからＱ２方向へそれ
ぞれステップ移動（平行移動）させてＸ線走査し、当該
走査により被測定物！２を透過した各単色Ｘ線、すなわ
ち各透過線のエネルギをＸ線検出装置のＸ線検出器によ
り測定し、その測定データをマルチチャンネル型波高分
析器にて分析し、さらに多層分割法等に基づく電子計算
機にて解読する。
なお、被測定物１２を直径３０〜８０−■、長さ８００
〜ｔｏｏｏ−厘からなる光フアイバ用多孔質母材（組成
はＧｅ／Ｓｉ ）とし、その母材の組成を分析するとき
。
〜ｔｏｏｏ−厘からなる光フアイバ用多孔質母材（組成
はＧｅ／Ｓｉ ）とし、その母材の組成を分析するとき
。
各仕様はつぎのようになる。
白色Ｘ線源（放射角４０度）としては、最大電圧２００
ｋＶのものが用いられ、そのターゲットとしては１製の
ものが用いられ、各コリメータは鉛製のものが用いられ
る。
ｋＶのものが用いられ、そのターゲットとしては１製の
ものが用いられ、各コリメータは鉛製のものが用いられ
る。
Ｘ線検出器としてはＧｅ系の半導体検出器が用いられる
。
。
各単結晶としては縦ＩＱａｍ、横１０ｃｍのシリコンが
使用される。
使用される。
この際の単結晶はステッピングモータを備えた駆動装置
によりｌステップ量的１鵬■として周期的に移動させる
。
によりｌステップ量的１鵬■として周期的に移動させる
。
本発明方法はＶＡＤ法により作製中の光フアイバ用母材
（多孔質状）、ＭＣＶＤ法により作製中の光フアイバ母
材などを被測定物としてこれらの組成分布を調べること
ができ、その測定結果に基づき各製造系をオンライン制
御することができさらに被測定物の軸心を中心にして各
単結晶を周方向へ回転走査することもでき、この回転走
査と前記平行移動走査とを組み合わせることにより３次
元空間の任意位置にＸ線を操作することができる。
（多孔質状）、ＭＣＶＤ法により作製中の光フアイバ母
材などを被測定物としてこれらの組成分布を調べること
ができ、その測定結果に基づき各製造系をオンライン制
御することができさらに被測定物の軸心を中心にして各
単結晶を周方向へ回転走査することもでき、この回転走
査と前記平行移動走査とを組み合わせることにより３次
元空間の任意位置にＸ線を操作することができる。
その他、単色Ｘ線Ｅ１、Ｅ２はこれらの光軸を互いに一
致させない場合でも、前記のごとく各単結晶７．８．９
を所定の方向へ平行移動させることにより被測定物１２
へのＸ線走査が行なえる。
致させない場合でも、前記のごとく各単結晶７．８．９
を所定の方向へ平行移動させることにより被測定物１２
へのＸ線走査が行なえる。
！発明の効果ｊ
以上説明した通り１本発明方法によるときは。
被測定物への照射Ｘ線量が少ないことにより被測定物の
劣化示抑制でき、しかもパルス広がりの影響がない単色
Ｘ線を検出するので高精度の分析が行なえるとともに、
その透−線エネルギが大きいから測定時間の短縮化もは
かれ、さらに単結晶を移動させることでＸ線走査するの
で、製造ライン−トにある被測定物でもこれをオンライ
ンで測定することができ、したがってその被測定物の製
造工程と同期した測定分析が行なえて工業的有用性が高
まり、他にもＸ線源に比べて軽量な各単結晶を移動走査
するから設備、取り扱いが簡単容易となる。
劣化示抑制でき、しかもパルス広がりの影響がない単色
Ｘ線を検出するので高精度の分析が行なえるとともに、
その透−線エネルギが大きいから測定時間の短縮化もは
かれ、さらに単結晶を移動させることでＸ線走査するの
で、製造ライン−トにある被測定物でもこれをオンライ
ンで測定することができ、したがってその被測定物の製
造工程と同期した測定分析が行なえて工業的有用性が高
まり、他にもＸ線源に比べて軽量な各単結晶を移動走査
するから設備、取り扱いが簡単容易となる。
図面は本発明方法の１実施例を略示した説明図である。
ｌ ・・・＠ ＠ １１ ｅＸ線発生装置２ ・・轡・
・争・Ｘ線検出装置 ３・・−・・・自線源 ４・・・・・・・分光用のマ二本−ルド５．８ ・・・
・・コリメータ ？、８．９ ・・・単結晶 １０、１１・・・・・単結晶の取付台 １２・ｅ・・・・・被測定物
・争・Ｘ線検出装置 ３・・−・・・自線源 ４・・・・・・・分光用のマ二本−ルド５．８ ・・・
・・コリメータ ？、８．９ ・・・単結晶 １０、１１・・・・・単結晶の取付台 １２・ｅ・・・・・被測定物
Claims (3)
- （１）Ｘ線発生装置から出射した白色Ｘ線を、複数の単
結晶に当てて複数の単色Ｘ線を取り出し、これら単結晶
を移動させながら各単色Ｘ線を被測定物に照射して走査
し、その透過線をＸ線検出装置で測定解析することによ
り、被測定物中の組成を分析することを特徴とするＸ線
による被測定物の組成分析方法。 - （２）単結晶を平行移動、回転移動させることにより、
単色Ｘ線を被測定物に照射する特許請求の範囲第１項記
載のＸ線による被測定物の組成分析方法。 - （３）各単色Ｘ線の光軸を互いに一致させる特許請求の
範囲第１項記載のＸ線による被測定物の組成分析方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60008728A JPH06100556B2 (ja) | 1985-01-21 | 1985-01-21 | Ｘ線による被測定物の組成分析方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60008728A JPH06100556B2 (ja) | 1985-01-21 | 1985-01-21 | Ｘ線による被測定物の組成分析方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61167848A true JPS61167848A (ja) | 1986-07-29 |
| JPH06100556B2 JPH06100556B2 (ja) | 1994-12-12 |
Family
ID=11701008
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60008728A Expired - Lifetime JPH06100556B2 (ja) | 1985-01-21 | 1985-01-21 | Ｘ線による被測定物の組成分析方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06100556B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4830433A (en) * | 1987-01-28 | 1989-05-16 | Ikeda Bussan Co., Ltd. | Reclining seat for motor vehicle |
| WO2002065111A1 (fr) * | 2001-02-02 | 2002-08-22 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Procede permettant d'analyser un produit lamellaire, procede de fabrication dudit produit lamellaire a l'aide du premier procede et appareil de fabrication d'articles lamellaires |
| WO2014041675A1 (ja) * | 2012-09-14 | 2014-03-20 | 株式会社日立製作所 | Ｘ線撮像装置及びｘ線撮像方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5622925A (en) * | 1979-08-01 | 1981-03-04 | Furukawa Electric Co Ltd:The | Analytic measurement method for base material for optical fiber |
-
1985
- 1985-01-21 JP JP60008728A patent/JPH06100556B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5622925A (en) * | 1979-08-01 | 1981-03-04 | Furukawa Electric Co Ltd:The | Analytic measurement method for base material for optical fiber |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4830433A (en) * | 1987-01-28 | 1989-05-16 | Ikeda Bussan Co., Ltd. | Reclining seat for motor vehicle |
| WO2002065111A1 (fr) * | 2001-02-02 | 2002-08-22 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Procede permettant d'analyser un produit lamellaire, procede de fabrication dudit produit lamellaire a l'aide du premier procede et appareil de fabrication d'articles lamellaires |
| WO2014041675A1 (ja) * | 2012-09-14 | 2014-03-20 | 株式会社日立製作所 | Ｘ線撮像装置及びｘ線撮像方法 |
| JPWO2014041675A1 (ja) * | 2012-09-14 | 2016-08-12 | 株式会社日立製作所 | Ｘ線撮像装置及びｘ線撮像方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06100556B2 (ja) | 1994-12-12 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5069540B2 (ja) | 電子分光分析複合装置、及び電子分光分析方法 | |
| US7683329B2 (en) | Method and system for determining the density and dimensional characteristics of an object and application to checking of nuclear fuel pellets during manufacturing | |
| JPS61167848A (ja) | Ｘ線による被測定物の組成分析方法 | |
| Taira et al. | Development of gamma-ray-induced positron age–momentum correlation measurement | |
| JP2008170236A (ja) | Ｘ線及び中性子線の反射率曲線測定方法及び測定装置 | |
| Macherauch et al. | A modified diffractometer for x-ray stress measurements | |
| JP2599368B2 (ja) | Ｘ線による被測定物の非破壊測定方法 | |
| JP2583215B2 (ja) | Ｘ線による被測定物の組成分析方法 | |
| JPH0288952A (ja) | 組織を分析する方法および装置 | |
| JPS61240146A (ja) | Ｘ線による被測定物の組成分析方法 | |
| JPS61167846A (ja) | Ｘ線による被測定物の組成分析方法 | |
| JP2727691B2 (ja) | Ｘ線吸収端微細構造分析装置 | |
| Mantouvalou | Quantitative 3D Micro X-ray fluorescence spectroscopy | |
| JPS61167847A (ja) | Ｘ線による被測定物の組成分析方法 | |
| JPH071241B2 (ja) | Ｘ線による被測定物の組成分析方法 | |
| JPS61240147A (ja) | Ｘ線による被測定物の組成分析方法 | |
| CN216525540U (zh) | 一种基于劳厄衍射原理对全尺寸异型单晶无损检测的设备 | |
| JPS61167849A (ja) | 放射線吸収の定量的測定方法及び装置 | |
| JP2599360B2 (ja) | Ｘ線による被測定物の非破壊測定方法 | |
| JPS62194447A (ja) | Ｘ線による被測定物の非破壊測定方法 | |
| JPS62103552A (ja) | Ｘ線による被測定物の非破壊測定方法 | |
| JP2625699B2 (ja) | 荷電ビーム分析装置 | |
| JPH02266249A (ja) | 結晶面のｘ線回折測定方法 | |
| JPH0153416B2 (ja) | ||
| JP2001091448A (ja) | 分析装置 |