JPS61167847A - Ｘ線による被測定物の組成分析方法 - Google Patents
Ｘ線による被測定物の組成分析方法Info
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- JPS61167847A JPS61167847A JP60008727A JP872785A JPS61167847A JP S61167847 A JPS61167847 A JP S61167847A JP 60008727 A JP60008727 A JP 60008727A JP 872785 A JP872785 A JP 872785A JP S61167847 A JPS61167847 A JP S61167847A
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- ray
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/02—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material
- G01N23/06—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material and measuring the absorption
- G01N23/083—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material and measuring the absorption the radiation being X-rays
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
Ｉ産業上の利用分野Ｊ
本発明はＸ線を利用した非破壊測定手段により被測定物
の組成を分析する方法に関する。
の組成を分析する方法に関する。
【従来の技術１
不透明な物体の組成濃度、組成分布等を放射線照射によ
り非破壊的に測定するとき、その線源としてアイソトー
プ（Ｇａ、 Ｚｒ、 Ｇｏ）などのγ線、あるいはＸ線
を用い、放射線照射系から出射した放射線を被測定物に
照射し、その透過線の強度を検出系で測定解析するよう
にしている。
り非破壊的に測定するとき、その線源としてアイソトー
プ（Ｇａ、 Ｚｒ、 Ｇｏ）などのγ線、あるいはＸ線
を用い、放射線照射系から出射した放射線を被測定物に
照射し、その透過線の強度を検出系で測定解析するよう
にしている。
ところで、アイソトープによる非破壊的測定法の場合、
アイソトープの入手が困難であること、その強度が弱い
かまたは催すざること、さらに半減期が短いこと等々の
理由により工業化がむずかしいとされており、そのため
、Ｘ線を用いる方法が普及している・ Ｘ線には白色Ｘ線、単色Ｘ線があり、例えば被測定物が
２つの元素からなる場合１通常、Ｘ線照射系と被測定物
とを相対移動させるスキャンニングにより白色Ｘ線また
は単色Ｘ線を被測定物に照射し、２以上の特定波長また
はエネルギに関する透過線強度をその検出系により求め
た後、その測定データをもとにした多層分割法、アーベ
ル変換法等の社葬法により被測定物の組成分布を求めて
いる。
アイソトープの入手が困難であること、その強度が弱い
かまたは催すざること、さらに半減期が短いこと等々の
理由により工業化がむずかしいとされており、そのため
、Ｘ線を用いる方法が普及している・ Ｘ線には白色Ｘ線、単色Ｘ線があり、例えば被測定物が
２つの元素からなる場合１通常、Ｘ線照射系と被測定物
とを相対移動させるスキャンニングにより白色Ｘ線また
は単色Ｘ線を被測定物に照射し、２以上の特定波長また
はエネルギに関する透過線強度をその検出系により求め
た後、その測定データをもとにした多層分割法、アーベ
ル変換法等の社葬法により被測定物の組成分布を求めて
いる。
この際、Ｘ線源の電圧は６０にマ以上、その強度はＸ線
源の電流換算値で１０■＾以上がよいとされており、こ
の電流値が低いとＸ線量が小さくなり、測定に時間がか
かる。
源の電流換算値で１０■＾以上がよいとされており、こ
の電流値が低いとＸ線量が小さくなり、測定に時間がか
かる。
Ｘ線の波長入（オングストローム）は、ｘｉｓにかける
管電圧にマをＶとしたとき、入＝ １２．４／Ｖである
。
管電圧にマをＶとしたとき、入＝ １２．４／Ｖである
。
透過線の強度は、数ｌθ秒程度の時間で測定するのがよ
く、時間が長いほど測定精度が高まるとされている。
く、時間が長いほど測定精度が高まるとされている。
Ｉ発明が解決しようとする問題点１
上述したＸ線を用いる方法においてＸ線による走査を行
なうとき、Ｘ線源を移動させるか、あるいは被測定物を
移動させることとなるが、Ｘ線源を移動させる場合は移
動設備が大がかりとなり、Ｘ線源の不安定要因にもなる
。
なうとき、Ｘ線源を移動させるか、あるいは被測定物を
移動させることとなるが、Ｘ線源を移動させる場合は移
動設備が大がかりとなり、Ｘ線源の不安定要因にもなる
。
これに対処すべく被測定物を移動させる場合。
回折手段により白色Ｘ線から２種以上の単色Ｘ線を取り
出し、これを被測定物へ照射することが考えられるが、
この場合も各単色Ｘ線の光軸が一致していないことによ
り測定時間が長くかかり、被測定物移動距離と光軸間が
整数倍で一致しないことにより測定誤差が生じやすい。
出し、これを被測定物へ照射することが考えられるが、
この場合も各単色Ｘ線の光軸が一致していないことによ
り測定時間が長くかかり、被測定物移動距離と光軸間が
整数倍で一致しないことにより測定誤差が生じやすい。
本発明は上記の問題点に鑑み、単色Ｘ線を用いる被測定
物の組成分析方法において、高精度かつ短時間で所望の
分析が行なえる方法を提供しようとするものである。
物の組成分析方法において、高精度かつ短時間で所望の
分析が行なえる方法を提供しようとするものである。
ｒ問題点を解決するための手段１
本発明に係る被測定物の組成分析方法は、Ｘ線発生装置
から出射した白色Ｘ線を、複数（２以上の任意数）の弔
結晶に当てて複数（２種以上の任意数）の単色Ｘ線を取
り出し、これら単色Ｘ線の光軸を互いに一致させて当該
単色Ｘ線を被測定物に照射するとともに、その透過線を
Ｘ線検出装置で測定解析することにより被測定物中の組
成を分析することを特徴としている。
から出射した白色Ｘ線を、複数（２以上の任意数）の弔
結晶に当てて複数（２種以上の任意数）の単色Ｘ線を取
り出し、これら単色Ｘ線の光軸を互いに一致させて当該
単色Ｘ線を被測定物に照射するとともに、その透過線を
Ｘ線検出装置で測定解析することにより被測定物中の組
成を分析することを特徴としている。
「作用ｊ
本発明方法の場合、Ｘ線発生装置、Ｘ線検出装置等を介
して所望被測定物の組成を分析するが、この際の白色Ｘ
線照射時、その白色Ｘ線を複数の単結晶に当てて複数の
単色Ｘ線を取り出すだけでなく、これら単色Ｘ線の光軸
を互いに一致させた後、当該単色Ｘ線をこれと直交する
方向へ移動する被測定物に照射し、その透過線を検出す
る。
して所望被測定物の組成を分析するが、この際の白色Ｘ
線照射時、その白色Ｘ線を複数の単結晶に当てて複数の
単色Ｘ線を取り出すだけでなく、これら単色Ｘ線の光軸
を互いに一致させた後、当該単色Ｘ線をこれと直交する
方向へ移動する被測定物に照射し、その透過線を検出す
る。
こうして被測定物の組成を非破壊的に分析するとき、単
色Ｘ線を照射するから被測定物への照射Ｘ線量が少なく
、被測定物の劣化が抑制されるとともに、単色Ｘ線のみ
を検出するから測定ノイズの少ない高精度の分析が行な
える。
色Ｘ線を照射するから被測定物への照射Ｘ線量が少なく
、被測定物の劣化が抑制されるとともに、単色Ｘ線のみ
を検出するから測定ノイズの少ない高精度の分析が行な
える。
しかも各単色Ｘ線の光軸を互いに一致させるから測定デ
ータの解析が容易となり、測定時間も短縮され、かつ、
高エネルギの単色Ｘ線を用いて非破壊測定を行なうので
実用性も高い。
ータの解析が容易となり、測定時間も短縮され、かつ、
高エネルギの単色Ｘ線を用いて非破壊測定を行なうので
実用性も高い。
？実 施 例ｊ
以下本発明方法の実施例につき１図面を参照して説明す
る。
る。
図において、１は白色Ｘ線を出射する線源２とその白色
Ｘ線を絞りこむコリメータ３，４とを備えたＸ線発生装
置であり、このＸ線発生装Ｗｌｌはコリメータ３を含む
Ｘ線出射系Ｅｌとコリメータ４を含むＸ線出射系Ｅ２と
の２系統に分れている。
Ｘ線を絞りこむコリメータ３，４とを備えたＸ線発生装
置であり、このＸ線発生装Ｗｌｌはコリメータ３を含む
Ｘ線出射系Ｅｌとコリメータ４を含むＸ線出射系Ｅ２と
の２系統に分れている。
上記Ｘ線出射系Ｅｌには、ブラッグ条件を満たす単色Ｘ
線が取り出せる単結晶５，８が配置され。
線が取り出せる単結晶５，８が配置され。
上記Ｘ線出射系Ｅ２には、ラウェ条件を満たす単色Ｘ線
が取り出せる単結晶７が配置されているとともに、両単
色Ｘ線は単結晶７以降においてこれらの光軸が互いに一
致するようになっている。
が取り出せる単結晶７が配置されているとともに、両単
色Ｘ線は単結晶７以降においてこれらの光軸が互いに一
致するようになっている。
８はＸ線検出装置であり、この検出？ｔ！８は例えば半
導体（Ｇｅ系）からなるＸ線検出器であり。
導体（Ｇｅ系）からなるＸ線検出器であり。
図示しないマルチチャンネル型波高分析器、電子計算機
などと接続されている。
などと接続されている。
３は不透明な被測定物であり、かかる被測定物９の１例
として、酸化ケイ素と酸化ゲルマニウムとからなる光フ
アイバ用の多孔質母材をあげることがでさ、通常、当該
被測定物８はステップ駆動式のモータを備えた走査機構
（図示せず）によりＸ線照射方向と直交する方向へ走査
されるようになっている。
として、酸化ケイ素と酸化ゲルマニウムとからなる光フ
アイバ用の多孔質母材をあげることがでさ、通常、当該
被測定物８はステップ駆動式のモータを備えた走査機構
（図示せず）によりＸ線照射方向と直交する方向へ走査
されるようになっている。
本発明方法では単結晶７と放射線検出装置８との間に被
測定物８を置いて所定の測定分析を実施するが、この際
、Ｘ線発生装置ｌの線源２から所定の放射角で出射され
た白色Ｘ線をコリメータ３．４で絞り、Ｘ線出射系Ｅｌ
側のものは単結晶５．６による２回の回折によりブラッ
グ条件を満たす単色Ｘ線Ｌ１として取り出し、Ｘ線出射
系Ｅ２側のものは単結晶７にて回折することによりラウ
ェ条件を満たす単色Ｘ＆ｉＬ２として取り出す。
測定物８を置いて所定の測定分析を実施するが、この際
、Ｘ線発生装置ｌの線源２から所定の放射角で出射され
た白色Ｘ線をコリメータ３．４で絞り、Ｘ線出射系Ｅｌ
側のものは単結晶５．６による２回の回折によりブラッ
グ条件を満たす単色Ｘ線Ｌ１として取り出し、Ｘ線出射
系Ｅ２側のものは単結晶７にて回折することによりラウ
ェ条件を満たす単色Ｘ＆ｉＬ２として取り出す。
ここで、単色Ｘ線Ｌｌは単色Ｘ！ａＬ２よりも高エネル
ギである。
ギである。
そしてこれら単色Ｘ線Ｌ１、Ｌ２を被測定物８へ照射す
るが、この際、その被測定物８を図示の矢印方向へステ
ップ移動させるとともに、当該被測定物９を透過した後
の各単色Ｘ線すなわち各透過線エネルギをＸ線検出装置
８のＸ線検出器にて測定し、その測定データをマルチチ
ャンネル型波高分析器にて分析し、電子計算機にて解読
する。
るが、この際、その被測定物８を図示の矢印方向へステ
ップ移動させるとともに、当該被測定物９を透過した後
の各単色Ｘ線すなわち各透過線エネルギをＸ線検出装置
８のＸ線検出器にて測定し、その測定データをマルチチ
ャンネル型波高分析器にて分析し、電子計算機にて解読
する。
ここで、被測定物９がＷＡＤ法により得られた前記多孔
質母材であるとき、該多孔質母材が透明ガラス化される
前、その屈折率分布を本発明方法により測定し、該母材
め透明ガラス化後、再度その屈折率分布を測定し、ざら
に整直化後にも測定するなど、これらの手段を講じるこ
とにより各工程での屈折率分布の影響が検査できる。
質母材であるとき、該多孔質母材が透明ガラス化される
前、その屈折率分布を本発明方法により測定し、該母材
め透明ガラス化後、再度その屈折率分布を測定し、ざら
に整直化後にも測定するなど、これらの手段を講じるこ
とにより各工程での屈折率分布の影響が検査できる。
なお、被測定物８を直径８０■組長さ５００■■の前記
多孔質母材とした場合、各仕様はつぎのようになる。
多孔質母材とした場合、各仕様はつぎのようになる。
Ｘ線検出装置：白色Ｘ線源（３５０ｋｖ、２５ｍＡ）、
ターゲットはｖ製、放射角±４０度。
ターゲットはｖ製、放射角±４０度。
コリメータ：鉛製にて白色Ｘ線を二分岐。
ｘ１１検出装ｊｉ＝直径１インチのＧｅ半導体検出器を
使用、アーベル変換法により Ｓｉ、 Ｇｅの元素分布を測定。
使用、アーベル変換法により Ｓｉ、 Ｇｅの元素分布を測定。
被測定物の移動ニスチッピングモータにより０．８−一
ごとの周期的移動、−断面の の測定後、１０ｃｍ移動して他のｍ −断面を測定。
ごとの周期的移動、−断面の の測定後、１０ｃｍ移動して他のｍ −断面を測定。
１発明の効果１
以−ヒ説明した通り、本発明方法によるときは。
被測定物への照射Ｘ線量が少ないことによる被測定物劣
化の抑制、単色Ｘ線のみを検出することによる高精度の
分析、各単色Ｘ線の光軸を互いに一致させたことによる
測定データの解析易度と測定時間の短縮化、かつ、高エ
ネルギの単色Ｘ線を用いることによる非破壊測定の実用
性など、各種の効果が得られる。
化の抑制、単色Ｘ線のみを検出することによる高精度の
分析、各単色Ｘ線の光軸を互いに一致させたことによる
測定データの解析易度と測定時間の短縮化、かつ、高エ
ネルギの単色Ｘ線を用いることによる非破壊測定の実用
性など、各種の効果が得られる。
図面は本発明方法の１実施例を略示した説明図である。
！ ・＋１ψ参・・・Ｘ線発生装置
２・會・＃―・−線源 ′
３．４ａａｍａｍコリメータ
５．８．７−ψ―単結晶
８ ・曝・・・・−Ｘ線検出装置
θΦす・−・・・被測定物
Claims (1)
- Ｘ線発生装置から出射した白色Ｘ線を、複数の単結晶に
当てて複数の単色Ｘ線を取り出し、これら単色Ｘ線の光
軸を互いに一致させて当該単色Ｘ線を被測定物に照射す
るとともに、その透過線をＸ線検出装置で測定解析する
ことにより被測定物中の組成を分析することを特徴とす
るＸ線による被測定物の組成分析方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60008727A JPH0743328B2 (ja) | 1985-01-21 | 1985-01-21 | Ｘ線による被測定物の組成分析方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60008727A JPH0743328B2 (ja) | 1985-01-21 | 1985-01-21 | Ｘ線による被測定物の組成分析方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61167847A true JPS61167847A (ja) | 1986-07-29 |
| JPH0743328B2 JPH0743328B2 (ja) | 1995-05-15 |
Family
ID=11700978
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60008727A Expired - Lifetime JPH0743328B2 (ja) | 1985-01-21 | 1985-01-21 | Ｘ線による被測定物の組成分析方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0743328B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002065111A1 (fr) * | 2001-02-02 | 2002-08-22 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Procede permettant d'analyser un produit lamellaire, procede de fabrication dudit produit lamellaire a l'aide du premier procede et appareil de fabrication d'articles lamellaires |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5622925A (en) * | 1979-08-01 | 1981-03-04 | Furukawa Electric Co Ltd:The | Analytic measurement method for base material for optical fiber |
-
1985
- 1985-01-21 JP JP60008727A patent/JPH0743328B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5622925A (en) * | 1979-08-01 | 1981-03-04 | Furukawa Electric Co Ltd:The | Analytic measurement method for base material for optical fiber |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002065111A1 (fr) * | 2001-02-02 | 2002-08-22 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Procede permettant d'analyser un produit lamellaire, procede de fabrication dudit produit lamellaire a l'aide du premier procede et appareil de fabrication d'articles lamellaires |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0743328B2 (ja) | 1995-05-15 |
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