JPS61160224A - 低収縮ポリエステルフイルム及びその製造法 - Google Patents

低収縮ポリエステルフイルム及びその製造法

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JPS61160224A
JPS61160224A JP24585A JP24585A JPS61160224A JP S61160224 A JPS61160224 A JP S61160224A JP 24585 A JP24585 A JP 24585A JP 24585 A JP24585 A JP 24585A JP S61160224 A JPS61160224 A JP S61160224A
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shrinkage
less
equal
polyester
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滋夫 内海
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 り業よ迫主」逸見 本発明は縦横共に収縮率が小さくかつ波シワ等のない平
面性に優れたポリエステルフィルムに関する。更に詳し
くは、低収縮かつ平面性に優れたメンブレンスイッチの
回路基板用ポリエステルフィルム及びその製造法に関す
る。
丈来匁l藩A」夾吏べA訓IA ポリエステルニ軸延伸フィルムは耐熱性、機械的性質、
耐薬品性等に優れているため、磁気記録媒体用途等種々
の用途で使用されている。
これらの用途の中でも、電気電絶用途、フロッピーディ
スク用途、垂直磁気記録基板用途、液晶パネル基板用途
、メンブレンスイッチの回路基板用途等において、記録
媒体、液晶パネル、メンブレンスイッチの製造工程又は
使用時の熱、湿度による変形を抑えることができるよう
に、フィルムの縦横共低収縮化のものが要請されている
これらの要請に対して、ポリエステルフィルムの製造工
程中において縦及び/又は横方向に巾弛緩を行なったり
、縦延伸温度を高くして延伸したり、熱固定の温度、時
間を種々変更したりすることによって、つまりインライ
ンの工程で改良が計られてきた。これらの方法だけでは
、特に厚番手のフィルムにおいては低収縮化の効果が少
ないため二軸延伸フィルム製造後、更にオフラインで低
テンシヨン下で熱処理することにより低収縮化が計られ
てきた。しかしながらオフラインにおいて低テンシヨン
下で熱処理すると、通常フィルムが収縮するため縦方向
に洗濯板状に波シワが形成されたり、カールが生じたり
してフィルムの平面性が極めて悪化してしまうため、こ
の事が最大の問題点であった。
それ故インライン処理により低収縮化する事及びオフラ
インで低収縮化した際、平面性を良くすることが要望さ
れていた。
即−」恵−1解−先手1一 本発明者は前記問題点を解決すべく鋭意検討の結果、二
軸延伸熱処理後のフィルムの物性をある特定のものとす
ることにより、インライン処理でも低収縮化効果が大き
く、かつオフラインでの低収縮化処理において波シワ等
がなく極めて平面性の良いフィルムを得ることができる
との新知見を得、前記問題点が解決出来ることを見出し
本発明に到達したものである。
すなわち本発明はフィルムの厚み方向の屈折率na が
1. 、493以上でかつ平均屈折重石が1゜600以
上、1.61.0以下であって、120℃。
3分の収縮率が縦横共に0.4%以内であることを特徴
とする平面性、低収縮性に優れたポリエステルフィルム
、及び未延伸フィルムを第一軸方向延伸後の複屈折率が
0.070以下となるように一軸方向に延伸し、次いで
該一軸方向と直角方向に延伸し、熱固定し巻きとったフ
ィルムを、1kg / m m 2以下のテンション下
で120℃〜170′Cで熱処理することを特徴とする
上記ポリエステルフィルムの製造法に関するものである
本発明におけるポリエステルとは、テレフタル酸、イソ
フタル酸、ナフタレン−2,6−ジカルボン酸のごとき
芳香族ジカルボン酸又はそのニスチルと、エチレングリ
コール、ジエチレングリコール、テトラメチレングリコ
ール、ネオペンチルグリコール等のジオールとを重縮合
させて得ることのできる結晶性芳香族ポリエステルであ
る。該ポリエステルは芳香族ジカルボン酸とグリコール
を直接重縮合させて得られる他、芳香族ジカルボン酸ジ
アルキルエステルとグリコールとをエステル交換反応さ
せた後、重縮合せしめる、あるいは芳香族ジカルボン酸
のジグリコールエステルを重縮合せしめる等の方法によ
っても得られる。
かかるポリマーの代表的なものとしては、ポリエチレン
テレフタレート、ポリエチレン−2,6ナフタレート、
ポリテトラメチレンテレフタレート、ポリテトラメチレ
ン−2,6−ナフタレート等であり、そしてポリエチレ
ンテレフタレート、或いはポリエチレン−2,6−ナフ
タレートはテレフタル酸或いはナフタレン−2,6−ジ
カルボン酸とエチレングリコールとが結合したポリエス
テルのみならず、繰り返し単位の80モル%以上がエチ
レンテレフタレート、或いはエチレン−2゜6−ナフタ
レート単位よりなり、繰り返し単位の20モル%以下が
他の成分である共重合ポリエステル、またはこれらのポ
リエステルに他のポリマーを添加、混合した混合ポリエ
ステルであっても良い。特にジオール成分としてポリエ
チレングリコール、ポリテトラメチレングリコール等ポ
リアルキレンゲリコールを共重合する事も必要に応じて
好ましい手段である。ポリエステルに他のポリマーを添
加、混合する場合はポリエステルの性質を本質的に変化
させない範囲内で添加、混合する必要があり、ポリオレ
フィン、ポリアミド、ポリカーボネートその他のポリエ
ステル等を15重景%未満の割合で添加することが出来
る。
また前記ポリエステルには、必要に応じて滑剤等として
作用する不活性微粒子を含有せしめてもよい。不活性微
粒子の添加量は通常0.005〜2wt%含有せしめる
事が好ましい。又粒子の平均粒径としては、0.005
〜5.QPmの範囲である。
この目的に合致した不活性微粒子としては、ポリエステ
ル樹脂の溶融・製膜時に不溶な高融点有機化合物、架橋
化ポリマー及びポリエステル合成時に使用する金属化合
物触媒、例えばアルカリ金属化合物、アルカリ土類金属
化合物などによってポリエステル製造時にポリマー内部
に形成されるいわゆる内部析出粒子、及び例えばMgO
,ZnO,MgCO3、CaCO3、B a SO2,
Al403 HS + 02 HT l 02 + S
 I CHL I F、タルク、カオリン等の粘度鉱物
、セライト、雲母等や、Ca、Ba、Zn、Mnなどの
テレフタル酸塩等の不活性外部添加粒子を挙げることが
出来る。
又、金属せっけん、デンプン、カルボキシメチルセルロ
ース等の不活性有機化合物等も不活性微粒子化合物の例
として挙げることが出来る。
もちろんこれらの粒子に加え、必要に応じて染料、顔料
、帯電防止剤、導電性物質、磁性物質、酸化防止剤、消
泡剤等の化合物等の添加剤を含有することができる。
本発明において、フィルムの厚み方向の屈折率n、が1
.493以上のフィルムにおいて120℃〜170℃の
温度でかつ低テンシヨン下で熱処理すると極めて良好な
低収縮化が達成されると同時に、波シワ等のない平面性
にすぐれたフィルムが得られるのである。
平均屈折率iは厚み方向の屈折率%−主配向方向の屈折
率nr、主配向方向と直角な方向の屈折率をn(+  
とすると 階=1/3 (n4 +n@ +ny )で与えられる
ここで平均屈折率6は1.600以上かつ1゜610以
下であることが好ましい。平均屈折率Rが1.600よ
り低い場合には、低収縮化処理しても効果が低いので好
ましくない。一方、平均屈折率nが1.610を超える
とフィルムの機械的強度が低下してしまうので好ましく
ない。
驚くべきことに、n、が1.493以上のフィルムはn
tA  が1.493未満のフィルムに比べ、インライ
ンでの処理での低収縮化効果が大きい上に製膜後オフラ
インで低テンシヨン下で熱処理する場合も低収縮化の効
果が大きい上し3波シワ等が少なく平面性が良好となる
事が判明した。
本発明において低収縮化工程により達せらるべき収縮率
は120℃、3分の熱処理時間において縦横共に0.4
%以下である。好ましくは0.2%以下、更に好ましく
は0.1%以下である。
低収縮化処方としては前記のごとくフィルム製膜時に種
々の収縮工程をおり込む事もできるが、本発明において
はn(A  が1.493以上となるよう二軸延伸熱固
定した後、低テンシヨン下で熱処理する方法が最適であ
る。該熱処理においてフィルムのテンシ1ンは1 g/
mm2〜1 kg/mmが好ましい。又熱処理温度とし
ては120℃〜170℃、数秒〜数十独行なうことが好
ましい。
該方法で得られるフィルムの厚みは特に限定されないが
2P〜300Pが好ましい。
使用すべき用途としては特に限定されないが、低収縮で
ある事が必要な用途、例えば電気電絶用途、ビデオ・オ
ーディオ用途、フロッピーディスク、垂直磁気記録用途
、液晶パネル基材、太陽電池基板用途等あるが、特にメ
ンブレンスイッチの回路基板用途として有用である。該
メンブレンスイッチの回路基板用途として用いる場合に
は、オリゴマーの析出を防止するためフィルムの両面に
フィルム製造工程中、又は工程後、シランカップリング
剤等、水溶性樹脂、エマルジョン樹脂を塗布する事も有
用である。
次に本発明のポリエステルフィルムの製膜方法を具体的
に説明する。
重合体中に不活性微粒子を適切量含有せしめたポリマー
レジンを常法の手段で乾燥し、押出機を通して押出しを
し、回転冷却体ドラム上で冷却固化し未延伸ポリエステ
ルシートを形成する。この際、静電印加冷却法等公知の
冷却手段をとることができる。このようにして得た未延
伸フィルムは、まず第一軸方向、通常は縦方向にその複
屈折率Δnが0.070以下となるよう延伸し、次に一
軸方向と直角方向に90〜150℃の温度で2,5〜4
.5倍延伸し、二軸延伸フィルムを作成し、200℃〜
250℃で1秒から10分間熱固定する。但し必要に応
じて熱固定前に再延伸を行なう事も可能である。
本発明においては第一軸延伸方向、通常は縦延伸後の△
nを0.070以下とすることが必須である。Δnが0
.070を超えるとフィルムのn。
を1.493以上とするのは困難であり好ましくない。
又厚み斑を改良するために第一軸延伸を多段にすること
も好ましい。又、収縮率を低下させるへく縦延伸工程に
スーパードロー又はスーパードロー近傍の延伸を適用し
たり、縦方向及び/又は横方向に縦延伸後及び/又は横
延伸後、及び/又は熱固定後に弛緩工程を導入すること
も好適である。
このようにして得られた二軸延伸熱固定フィルムを低テ
ンシヨン下で熱処理を行ない、更に収縮率を低下させる
かくして縦横共に極めて収縮率の小さいフィルムを得る
ことが出来た。
711例− 以下に本発明を実施例で更に詳しく説明するが、本発明
はこれら実施例に限定されるものでないことは言うまで
もない。
フィルムの各物性値の測定法を以下に示す。
(1)複屈折率 カールツアイス社製偏光顕微鏡によりリターデーション
を測定し、次式により複屈折率(八〇)を求めた。
△n = R/ d  但し R:リターデーションd
:フィルム厚さ く2)収縮率 測定すべきフィルムを長手方向及び11方向に長さ50
cm(1,))、巾15mmに切断し、オーブン中に所
定温度で所定時間、熱処理した後、フィルムの長さく1
)を測定し下記式からその収縮率を求めた。
収縮率=  1.−]  X100(%)t。
(3)屈折率 アツベの屈折計(株式会社アタゴ製)により25℃での
N a −D線に対する値を求めた。
(4)平面性 一11= フィルムの外観を観察して判断した。
×:波シワの発生大 Δ:波シワはよく見ると判る程度 ○:波シワ発生なし 大澹漬1,2,3.ル臥 (ポリエステルチップの製造法) ジメチルテレフタレート100部、エチレングリコール
70部及び酢酸カルシウム−水塩0.07部を反応器に
とり加熱昇温すると共にメタノールを留去させエステル
交換反応を行ない、反応開始後約4時間半を要して23
0℃に達せしめ、実質的にエステル交換反応を終了した
次にリン酸0.04部及び二酸化アンチモン0゜035
部を添加し、常法に従って重合した。即ち反応温度は徐
々に昇温し最終的に280℃とし、一方、圧力は徐々に
減じ最終的に0.5mmHgとした。4時間後反応を終
了し、常法に従いチップ化してポリエステル(A)を得
た。
一方ポリエステル(A)の製造においてエステル交換終
了後、平均粒径1.2Pの無定形シリカ0.10部を添
加する他は、ポリエステル(A)の製造と同様にして無
定形シリカ含有ポリエステル(B)を得た。
又、一方ポリエステル(B)において無定形シリカの粒
径を30mと、添加量を0.05部として無定形シリカ
含有ポリエステル(C)を得た。
各ポリエステル(A)αB)αC)はCl30.63に
調整した。
(製膜法) 上記のポリエステル(A)とポリエステル(B)とポリ
エステル(C)を55:5:40にブレンドした後、常
法により乾燥し、285℃で溶融押出し冷却固化し無定
形シートを得た。
該無定形シートをまずTRヒーターを複数個使用して1
05℃で3.4倍に縦方向に延伸しΔnを0.040と
したのち、更に105℃で×1゜20倍及びXi、30
倍延伸してそれぞれΔn=0.059,0.068とし
た。かくして得られた縦延伸フィルムをテンターで14
5℃で3.7倍に横方向に延伸し、235℃で熱固定し
たのち縦横に0.2%ずつ@緩を行なって巻き取り、5
0.−の二軸配向フィルム(サンプルNo、]及び2)
を得た。次にこのサンプルNo、]の二軸延伸フィルム
を70g/mm2の張力下において150°C15秒間
の熱処理をロール搬送により熱風炉の中で行い、サンプ
ルフィルム(サンプルN o 。
3及び4)を得た。
比較例1及び2 縦延伸温度85℃、縦延伸倍率386倍、横延伸温度1
20℃、横延伸倍率3.9倍にした以外は実施例1と同
様の製膜を行ない、熱固定弛緩後のフィルムをサンプル
No5、サンプルN o 5の熱処理フィルムをサンプ
ルNo6とした。
これらのフィルムの物性を第1表に示す。
第1表から分る様に本発明法によれば、収縮率が極めて
低く、平面性に優れたフィルムを得られることが分る。
災朋on員 本発明のフィルムの厚み方向の屈折率n、が1゜493
以上、平均屈折率りが1.600以上、1゜610以下
、120℃、3分の収縮率が縦横共に0.4%以内のポ
リエステルフィルムは平面性及び低収縮性においてすぐ
れたものであり、メンブレンスイッチの回路基板として
有用なフィルムである。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)フィルムの厚み方向の屈折率n_αが1.493
    以上でかつ平均屈折率@n@が1.600以上、1.6
    10以下であって、120℃、3分の収縮率が縦横共に
    0.4%以内であることを特徴とする平面性、低収縮性
    にすぐれたポリエステルフィルム。
  2. (2)未延伸フィルムを第一軸方向延伸後の複屈折率が
    0.070以下となるように一軸方向に延伸し、次いで
    該一軸方向と直角方向に延伸し、熱固定し巻きとったフ
    ィルムを、1kg/mm^2以下のテンション下で12
    0℃〜170℃で熱処理することを特徴とする、フィル
    ムの厚み方向の屈折率n_αが1.493以上でかつ平
    均屈折率@n@が1.600以上、1.610以下であ
    って、120℃、3分の収縮率が縦横共に0.4%以内
    である平面性、低収縮性にすぐれたポリエステルフィル
    ムの製造法。
JP24585A 1985-01-07 1985-01-07 低収縮ポリエステルフイルム及びその製造法 Granted JPS61160224A (ja)

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