JPS61151188A - チオフエン系化合物及びそれらを含有する除草剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、Ｎ−〔（４，６−ジメトキ シピリミジン２−イル）アミノカルボニル）−１−（３
−アセチル−２−チエニル）メタンスルホンアミド（以
下チオフェン系化合物と略す）及びその塩、それらを有
効成分として含有する除草剤並びにそれらの製造方法に
関する。

（発明の開示） 本発明のチオフェン系化合物は、ナト リウム、カリウムなどのアルカリ金属塩、マグネシウム
、カルシウムなどのアルカリ土類金属塩或いはジメチル
アミン、トリエチルアミンなどのアミ、ン塩を形成する
こともできる。

本発明化合物は、例えば次のような方 法によって製造することができる。

（式中、Ｒ１はアルキル基、アルケニル基又はフェニル
基である）、上記反応は必要に応じて溶媒の存在下で行
なわれる。

溶媒としては、ベンゼン、トルエン、 キシレン、クロロベンゼンなどの芳香族炭化水素類：ク
ロロホルム、四塩化炭素、塩化メチレン、ジクロロエタ
ン、トリクロロエタン、ヘキサン、シクロヘキサン′な
どの環状又は非環状脂肪族炭化水素類；ジエチルエーテ
ル、メチルエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロ
フランなどのエーテル！Ｉ：アセトン、メチルエチルケ
トン、メチルイソブチルケトンなど　、のケトン頬ニア
セトニトリル、プロピオニトリル、アクリロニトリルな
どのニトリル類ニジメチルスルホキシド、スルホランな
どの非プロトン性極性溶媒などが挙げられる。

前記（Ａ）反応において、必要に応じ て反応を促進させるために、１，８−ジアザビシクロ（
５，４，０）−７−ウンデセンを添加してもよい、又、
前記ＣＢ）反応においては、必要に応じて反応を促進さ
せるための触媒として１，４−ジアザビシクロ（２，２
，２３オクタンを添加してもよい。

前記（Ａ）の反応式中の（Ｉｆ）で表される原料化合物
は、例えば次のような方法で製造することができる。

又前記（Ｂ）の反応式中の（ＩＶ）で表される原料化合
物は、例えば次のような方法で製造することができる。

（式中Ｒ１はメチル、エチル、ｎ−プ ロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、エソブチル、ｓｅ
ｃ　　−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチルなとのアルキル基で
ある。）′ 原料化合物類の製造法における各反応 の反応温度、反応時間、必要に応じて使用される溶媒、
アルカリ性物質などの反応条件は、通常同様の反応にお
ける反応条件から適宜選択できる。なお、本発明化合物
については、前記の方法以外に例えば次の方法で製造す
ることもできる。

−ノ瞠−一→　σ） （式中ＨＡＬはハロゲン原子である。）次に本発明化合
物に係わる合成例を記載する。

例　Ｎ−（４，６−シメトキシビリミジンー２−イル）
アミノカルボニル〕　−１−（３−アセチル−２−チエ
ニル）メタンスルホンアミ下の合成 〔１〕 ３−シアノチオフェン３．５７ｇを無水ジエチルエーテ
ル６０■ｌに溶かし窒素雰囲気下に、−６０℃以下まで
冷却した。

これに−６０℃以下でｎ−ブチルリチウムのｎ−ヘキサ
ン溶液（１，５５Ｍ　）　２１、Ｎ　ｍ　ｊ！を滴下し
この温度で２時間攪拌した０次に無水テトラヒドロフラ
ン１２０ｍｊ！を加え、−６０℃以下で、粉末状ノ々ラ
ホルムアルデヒド２．９５ｇを加えた後、徐々に室温に
戻し、室温で１６時間攪拌した。

水中に投入した後、ジエチルエーテルにて抽出し、エー
テル層は、水洗後無水硫酸ナトリウムにて乾燥し、溶媒
を減、圧留去した。

得られた油状物は、カラムクロマトグラフィー、減圧蒸
留及び再度のカラムクロマトグラフィーにより精製して
、屈折率（ｎｏ　””）：１．５１８　Ｂの３−シフ／
　−２−テニルアルコール１．５２ｇ（純度約８８％）
を得た。

（２〕 ３−シアノ−２−テニルアルコール １．４５ｇと塩化チオニル８　ｔａｌｌを０℃で混合し
、０℃以下で約１時間攪拌した後、水中に投入し塩化メ
チレジにて抽出した。

抽出層は２回水洗後、乾燥し溶媒を減圧留去した。残渣
をカラムクロマトグラフィーにより精製して、融点６５
−６８℃の３−シアノ−２−テニルクロライド１．０５
ｇを得た。

（３〕 ３−シアノ−２−テニルクロライド ０．３８ｇ、チオ尿素０．２２ｇ及びエタノール５　ａ
ｌｌを混合し１．５時間加熱還流した後、溶媒を減圧留
去した。残った固体を水２０＋＋＋４！に溶かし０〜５
℃で塩素ガスを２０分間通じた後塩化メチレンにて抽出
した。抽出層は、２回水洗し、乾燥後溶媒を減圧留去し
た。残渣を塩化メチレン２０＋ｗｆにて希釈し、室温で
アンモニアガスを４０分間通じた後、室温で更に３０分
間攪拌した。水中投入後、希塩酸にて酸性とし、酢酸エ
チルにて抽出した。抽出層は、乾燥後溶媒を減圧留去し
、残渣をカラムクロマトグラフィーにより精製して融点
１４５−１５３℃の１−（３−シアノ−２−チエニル）
メタンスルホンアミド０．１７　ｇを得た。

〔４〕 １−　（３−シアノ−２−チエニル）メタンスルホンア
ミド０．１ｇ、ＩＯＮ水酸化ナトリウム水溶液２　ｍｌ
、エタノール２　ｔａｌｌを混合し、２時間加熱還流し
た後、水中に投入し、希塩酸にて酸性とし酢酸エチルに
て抽出した。抽出層は乾燥後、溶媒を減圧留去した。残
渣として融点 １９９−２０５℃の２−　（アミノスルホニルメチル゛
）　−３−チオフェンカルボン酸０．１ｇが得られた。

〔５〕 ２−　（アミノスルホニルメチル）−３−チオフェンカ
ルボン酸０．４ｇを無水テトラヒドロフラン１５ｖｓ　
ｌ及び無水ジエチルエーテル１５−Ｅに溶かし、窒素雰
囲気下に、氷冷しなから、ヨウ化メチル３．１ｇ、マグ
ネシウム０．５３　ｇ及び無水ジエチル゛エーテル２７
１　ｊ！から常法に従い調製したグリニヤール試薬のエ
ーテル溶液のうち１２＋ｗｊ！を１３℃以下で滴下し、
徐々に室温に戻し、２時間攪拌した。更に３ｍｌを水冷
下に滴下し、徐々に室温に戻し、 ３時間攪拌した。反応終了後、反応物を水中に投入し、
希塩酸にて酸性とし、酢酸エチル、亜硫酸ナトリウム水
溶液を加え、充分振盪し、分液した。を線層は乾燥後溶
媒を減圧留去し、残渣をカラムクロマトグラフィーによ
り精製して融点 １１１−１１６℃の１−　（３−アセチル−２エニル）
メタンスルホンアミド０．０５　ｇを得た。

〔６〕 １−　（３−アセチル−２−チエニル）メタンスルホン
アミド０．０９　ｇ及びフェニル−Ｎ−（４，６−ジメ
トキシピリミジン２−イル）カーバメー）　０．１２４
ｇを無水アセトニトリル４ｓｅｊ！に溶かし、室温で１
、Ｎ−ジアザビシクロ（５，４゜０〕　−７−ウンデセ
ン０．０７　ｇの無水アセトニトリル（１＋ｍｊｔ）溶
液を加え、室温で３時間攪拌した０反応終了後、反応物
を水中に投入し、希塩酸にて酸性とし、析出した結晶を
濾取して、融点１７３−１７７℃の目的物０．１１　ｇ
を得た。

尚、このようにして得られた目的物を、当モルの水酸化
ナトリウムの水溶液に加えることにより、Ｎ−〔（４，
６−ジメトキシピリミジン２−イル）アミノカルボニル
）−１−（３−アセチル−２−チエニル）メタンスルホ
ンアミドのナトリウム塩の水溶液を得ることができる。

本発明のチオフェン系化合物は、後記 試験例にみる通り、除草剤の有効成分として使用した場
合に優れた除草効果を示す。特に水田に繁茂する有害雑
草を、 水稲に薬害を与えること無く選択的に且つ低薬量で防除
できる。又、それら有害雑草が、比較的生育の進んだも
のであっても防除できるので、水田用除草剤として好適
なものである。更には、畑地における有害雑草をも防除
できるので好ましいものである。

本発明の除草剤の適用範囲は、前述の 農耕地以外に、果樹園、桑園、山林、農道、グランド、
工場敷地など多岐にわたり、また適用方法も土壌処理、
茎葉処理を適宜選択できる。

本発明除草剤を施用する場合、通常は 担体、必要に応じて希釈剤、溶剤、乳化剤、展着剤、界
面活性剤などの各種補助剤と混合して、粒剤、水和剤、
乳剤、液剤、などに製剤して使用する。有効成分化合物
と農薬用補助剤との適当な配合重量比は、一般に０．０
５　：　９９．９５〜９０：１０１望ましくは０．１　
：　９９．９〜６０：４０である。有効成分化合物の使
用適量は、気象条件、土壌条件、薬剤の製剤形態、対象
雑草の種類、施用時期などの相違により一概に規定でき
ないが、一般に１アール当たりの施用有効成分量として
は０．１〜１００ｇ、望ましくは０．５〜５０ｇである
。

本発明除草剤は、他の農薬、肥料、土 壌、薬害軽減剤などと混用或いは併用することができ、
この場合に一層優れた効果、作用性を示すことがある。

他の除草剤と混用或いは併用する場合、その混合相手除
草剤の有効成分としては、例えば次のようなものが挙げ
られる。

２．４−ジクロロフェニル−３１−メトキシ−４′−二
トロフェニルエーテル、２゜４−ジクロロフェニル−３
１−メトキシカルボニル−４′−二トロフェニルエーテ
ル、２−クロロ−２’、６’−ジエチル−Ｎ−（ブトキ
シメチル）アセトアニリド、２−クロロ−２’、　　６
’−ジエチル−Ｎ−（プロポキシエチル）アセトアニリ
ド、５−〔（２−メチル−１−ピペリジル）−カルボニ
ルメチル）−０，０−ジ−ｎ−プロピルジチオホスフェ
ート、５−（４−クロロベンジル）−Ｎ、Ｎ　　−ジエ
チルチオールカーバメート、Ｓ−エチル−ヘキサヒドロ
−ＩＨ−アゼピン−１−カーボチオエート、Ｓ−（１−
メチル−！−フェネチル）ビピペリジンー１−カーボチ
オエート、５−ｔｅｒｔ−ブチル−３−（２，４−ジク
ロロ−５−イソプロポキシフェニル）−１，３゜４−オ
キサジアゾリン−２−オン、 ベンズチ°アゾールー２−イルオキシ酢酸Ｎ−メチルア
ニリド、４−　　（２，４−ジクロロベンゾイル）−１
，３−ジメチル−５−フェナシルオキシピラゾール、４
−　（２，４−ジクロロベンゾイル）−１，３−ジメチ
ルとラグ−ルー５−イル−ｐ−トルエンスルホネート、
４−　　（２゜４−ジクロロ−３−メチルベンゾイル）
１．３−ジメチル−５−フェナシルオキシピラゾール 次に本発明除草剤の試験例を記載する。

試験例１゜ １１５．０００アールポツトに水田土壌を詰め、タマガ
ヤツリ、コナギ、ホタルイ及びアゼナの種子並びにウリ
カワの塊茎を播種し、湿潤状態に保った。ホタルイが１
葉期に生育した後約５ｃｍに湛水し本発明化合物の水和
剤を水で希釈し、所定量をピペットで滴下処理した。薬
剤処理１１日後に生育状態を肉眼で観察し、下記の基準
（１〜５の５点法）に蟇づいて生育抑制程度を評価し、
表１の結果を得た。

生育抑制程度 ５：完全な枯死状態 １；無処理区と同様の生育 表１ （注）表３中の化合物イル二は次のものである。

化合物イ：５−（４−クロロベンジル）Ｎ、Ｎ−ジエチ
ルチオールカ ーバメート 化合物口：２−クロロ−２’、　　６’−ジエチル−Ｎ
−（プロポキシエチル） アセトアニリド 化合物ハ：５−（１−メチル−１−フェネチル）ピペリ
ジン−１−カ ーボチオエート 化合物二：ベンズチアゾールー２−イルオキシアセト−
Ｎ−メチルア ニリド 次に本発明除草剤の製剤例を記載する。

製剤例 （１）ジ−クライト　　　　　７８重量部（２）ラベリ
ンＳ（商品名：第−工業製薬型）　　　　　　　　　　
　２重量部 （３）ツルポール５０３９　（商品名：東邦化学工業部
）　　　　　　５重量部 （４）カープレックス（商品名：塩野義製薬製）　　　
　　　　　　１５重量部 以上（１）〜（４）の成分の混合物と、本発明化合物と
を９：１の重量割合で混合して水和剤を得た。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、Ｎ−〔（４，６−ジメトキシピリミジン２−イル）
   アミノカルボニル〕−１− （３−アセチル−２−チエニル）メタン スルホンアミド及びその塩。 ２、Ｎ−〔（４，６−ジメトキシピリミジン２−イル）
   アミノカルボニル〕−１− （３−アセチル−２−チエニル）メタン スルホンアミド及びその塩の少なくとも 一種を含有することを特徴とする除草剤 ３、１−（３−アセチル−２−チエニル）メタンスルホ
   ンアミドと 一般式；▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒはアルキル基、アルケニル 基又はフェニル基である）で表される化 合物とを反応させることを特徴とする、 Ｎ−〔（４，６−ジメトキシピリミジン−２イル）アミ
   ノカルボニル〕−１−（３− アセチル−２−チエニル）メタンスルホ ンアミドの製造方法。 ４、１−（３−アセチル−２−チエニル）メタンスルホ
   ニルイソシアネートと、 式；▲数式、化学式、表等があります▼ で表される化合物とを反応させることを 特徴とする、Ｎ−〔４，６−ジメトキシ ピリミジン−２−イル）アミノカルボニ ル〕−１−（３−アセチル−２−チエニ ル）メタンスルホンアミドの製造方法。