JPS62178589A - ピラゾ−ル系化合物及びそれらを含有する除草剤 - Google Patents
ピラゾ−ル系化合物及びそれらを含有する除草剤Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、下記一般式(1)で表されるピラゾール系化
合物及びその塩、それらを有効成分として含有する除草
剤並びにそれらの製造方法に関する。
合物及びその塩、それらを有効成分として含有する除草
剤並びにそれらの製造方法に関する。
〔式中、R2及びR3はメチル基又はメトキシ基である
〕 (発明の開示) 本発明のピラゾール系化合物は、ナトリウム、カリウム
などのアルカリ金属塩、マグネシウム、カルシウムなど
のアルカリ土類金属塩或いはジメチルアミン、トリエチ
ルアミンなどのアミン塩を形成することもできる。
〕 (発明の開示) 本発明のピラゾール系化合物は、ナトリウム、カリウム
などのアルカリ金属塩、マグネシウム、カルシウムなど
のアルカリ土類金属塩或いはジメチルアミン、トリエチ
ルアミンなどのアミン塩を形成することもできる。
本発明化合物は、例えば次のような方法によって製造す
ることができる。
ることができる。
CB)
ェニル基であり、R2及びR1は前述の通りである〕上
記反応は必要に応じて溶媒の存在下で行われる。
記反応は必要に応じて溶媒の存在下で行われる。
溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロ
ベンゼンなどの芳香族炭化水素M:ジクロロルム、四塩
化炭素、塩化メチレン、ジクロロエタン、トリクロロエ
タン、ヘキサン、シクロヘキサンなどの環状又は非環状
脂肪族炭化水素類ニジエチルエーテル、ジオキサン、テ
トラヒドロフランなどのエーテル類:アセトン、メチル
エチルケトン、メチルイソブチルケ゛トンなどのケトン
類ニアセトニトリル、プロピオニトリル、アクリロニト
リルなどのニトリル類ニジメチルスルホキシド、スルホ
ランなどの非プロトン性極性溶媒などが挙げられる。
ベンゼンなどの芳香族炭化水素M:ジクロロルム、四塩
化炭素、塩化メチレン、ジクロロエタン、トリクロロエ
タン、ヘキサン、シクロヘキサンなどの環状又は非環状
脂肪族炭化水素類ニジエチルエーテル、ジオキサン、テ
トラヒドロフランなどのエーテル類:アセトン、メチル
エチルケトン、メチルイソブチルケ゛トンなどのケトン
類ニアセトニトリル、プロピオニトリル、アクリロニト
リルなどのニトリル類ニジメチルスルホキシド、スルホ
ランなどの非プロトン性極性溶媒などが挙げられる。
前記(A)及び(C)反応において、必要に応じて反応
を促進させるために、1.8−ジアザビシクロ(5,4
,0)−7−ウンデセンを添加してもよい、又、前記C
B)反応においては、必要に応じて反応を促進させるた
めの触媒として、1.4−ジアザビシクロ(2,2,2
)オクタンを添加してもよい。
を促進させるために、1.8−ジアザビシクロ(5,4
,0)−7−ウンデセンを添加してもよい、又、前記C
B)反応においては、必要に応じて反応を促進させるた
めの触媒として、1.4−ジアザビシクロ(2,2,2
)オクタンを添加してもよい。
前記(A)及びCB)の反応式中の(ff)で表される
原料化合物は、例えば次のような方法で製造す料化合物
は、例えば次のような方法で製造すること(式中、R+
は前述の通りである。)次に本発明化合物の具体的合
成例を記載する。
原料化合物は、例えば次のような方法で製造す料化合物
は、例えば次のような方法で製造すること(式中、R+
は前述の通りである。)次に本発明化合物の具体的合
成例を記載する。
合成例1
N−((4,6−シメトキシピリミジンー2−イル)ア
ミノカルボニル)−4−(1,3−ジオキソラン−2−
イル)−1−メチルピラゾール−5−スルホンアミド(
化合物No、 1 )の合成(1) 4−(1,3
−ジオキソラン−2−イル)−1−メチルピラゾール−
4−カルボキシアルデヒド8.8g、エチレングリコー
ル5.9 ml及びNafion H(デエボン社製品
) 0.3gをベンゼン100+slに加え、加熱して
還流下共沸脱水しながら7.5時間反応した。
ミノカルボニル)−4−(1,3−ジオキソラン−2−
イル)−1−メチルピラゾール−5−スルホンアミド(
化合物No、 1 )の合成(1) 4−(1,3
−ジオキソラン−2−イル)−1−メチルピラゾール−
4−カルボキシアルデヒド8.8g、エチレングリコー
ル5.9 ml及びNafion H(デエボン社製品
) 0.3gをベンゼン100+slに加え、加熱して
還流下共沸脱水しながら7.5時間反応した。
反応終了後、反応液をヂ遇し、ベンゼンを減圧下で留去
した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し
て、オイル状の4− (1,3−ジオキソラン−2−イ
ル)−1−メチルピラゾール9.7gを得た。
した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し
て、オイル状の4− (1,3−ジオキソラン−2−イ
ル)−1−メチルピラゾール9.7gを得た。
(2) 200 mlの無水エチルエーテル中に、前
記工程〔1〕で得た4−(1,3−ジオキソラン−2−
イル)−1−メチルピラゾール3.6gを加え、窒素気
流下で0〜2℃において10分間にわたって17−1の
1.55Mブチルリチウムのヘキサン溶液を加えた。混
合物を更に30分間攪拌し、次に1.2 mlの液化二
酸化硫黄を、反応混合物の温度が−40〜−50℃に保
たれるような速度でガスとして加えた。
記工程〔1〕で得た4−(1,3−ジオキソラン−2−
イル)−1−メチルピラゾール3.6gを加え、窒素気
流下で0〜2℃において10分間にわたって17−1の
1.55Mブチルリチウムのヘキサン溶液を加えた。混
合物を更に30分間攪拌し、次に1.2 mlの液化二
酸化硫黄を、反応混合物の温度が−40〜−50℃に保
たれるような速度でガスとして加えた。
次いで30分間攪拌した後、氷水に浸して更に30分間
反応さ善た。生成した沈澱を濾過し、無水エチルエーテ
ルで洗浄後、減圧下で乾燥して4.2gのリチウム−4
−(1,3−ジオキソラン−2−イル)−1−メチルピ
ラゾール−5−スルフィネートを結晶物として得た。
反応さ善た。生成した沈澱を濾過し、無水エチルエーテ
ルで洗浄後、減圧下で乾燥して4.2gのリチウム−4
−(1,3−ジオキソラン−2−イル)−1−メチルピ
ラゾール−5−スルフィネートを結晶物として得た。
この結晶物4.2gを氷水60−1に溶解させ、次に水
冷下でイソプロピルアルコール40■lを加え、更に5
〜10℃においてN−クロロスクシンイミド2.8gと
20m1のイソプロピルアルコールを加えて10℃で7
0分間反応させた。
冷下でイソプロピルアルコール40■lを加え、更に5
〜10℃においてN−クロロスクシンイミド2.8gと
20m1のイソプロピルアルコールを加えて10℃で7
0分間反応させた。
反応後生酸物を水中に投入して塩化メチレンで抽出した
。抽出層を水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥して一過
後、ろ液にアンモニアガスを10〜20℃で吹き込んだ
。
。抽出層を水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥して一過
後、ろ液にアンモニアガスを10〜20℃で吹き込んだ
。
反応終了後、反応物に窒素ガスを吹き込み、減圧下で塩
化メチレンを留去して得られた固体に、無水のアセトン
を加えて加温し、−過した。ろ液のアセトンを減圧下で
留去して得られた結晶を塩化メチレンで洗浄して、融点
126〜129℃の4− (1,3−ジオキソラン−2
−イル)−1−メチルピラゾール−5−スルホンアミド
を1.2g得た。
化メチレンを留去して得られた固体に、無水のアセトン
を加えて加温し、−過した。ろ液のアセトンを減圧下で
留去して得られた結晶を塩化メチレンで洗浄して、融点
126〜129℃の4− (1,3−ジオキソラン−2
−イル)−1−メチルピラゾール−5−スルホンアミド
を1.2g得た。
[3〕 前記工程〔2〕で得た4−(1,3−ジオキソ
ラン−2−イル)−1−メチルピラゾール−5−スルホ
ンアミド0.45g及びフェニル−N−(4゜6−シメ
トキシビリミジンー2−イル)力、−バメート0.58
gを無水アセトニトリル10■lに溶解させ、そこへ1
.8−ジアザビシクロ(5,4,0)−7−ウンデセン
0.33gを滴下し、室温で40分間攪拌下反応した。
ラン−2−イル)−1−メチルピラゾール−5−スルホ
ンアミド0.45g及びフェニル−N−(4゜6−シメ
トキシビリミジンー2−イル)力、−バメート0.58
gを無水アセトニトリル10■lに溶解させ、そこへ1
.8−ジアザビシクロ(5,4,0)−7−ウンデセン
0.33gを滴下し、室温で40分間攪拌下反応した。
反応終了後、生成物を氷水中に投入し、希塩酸を加えて
微酸性にして析出した結晶を濾過し、水洗後乾燥して融
点163〜165℃の目的物0.41gを得た。
微酸性にして析出した結晶を濾過し、水洗後乾燥して融
点163〜165℃の目的物0.41gを得た。
合成例2゜
N−((4−メトキシ−6−メチルピリミジン−2、−
イル)アミノカルボニル)−4−(1,3−ジオキソラ
ン−2−イル)−1−メチルピラゾール−5−スルホン
アミド(化合物No、 2 )の合成4− (1,3−
ジオキソラン−2−イル)−1−メチルピラゾール−5
−スルホンアミド0.3g及びフェニル−N−(4−メ
トキシ−6−メチルピリミジン−2−イル)カーバメー
)0.37gを無水アセトニトリル5mlに溶解させ、
そこへ1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)−7−ウ
ンデセン0.22 gを滴下し、室温で30分間攪拌下
反応した。
イル)アミノカルボニル)−4−(1,3−ジオキソラ
ン−2−イル)−1−メチルピラゾール−5−スルホン
アミド(化合物No、 2 )の合成4− (1,3−
ジオキソラン−2−イル)−1−メチルピラゾール−5
−スルホンアミド0.3g及びフェニル−N−(4−メ
トキシ−6−メチルピリミジン−2−イル)カーバメー
)0.37gを無水アセトニトリル5mlに溶解させ、
そこへ1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)−7−ウ
ンデセン0.22 gを滴下し、室温で30分間攪拌下
反応した。
反応終了後、生成物を氷水中に投入し、希塩酸を加えて
中和した0次に酢酸エチルで抽出し、水洗後無水硫酸ナ
トリウムで乾燥して、減圧下で酢酸エチルを留去して得
られた結晶をエチルエーテルで洗浄して、融点143〜
148℃の目的物0.084gを得た。
中和した0次に酢酸エチルで抽出し、水洗後無水硫酸ナ
トリウムで乾燥して、減圧下で酢酸エチルを留去して得
られた結晶をエチルエーテルで洗浄して、融点143〜
148℃の目的物0.084gを得た。
本発明のピラゾール系化合物は、後記試験例にみる通り
、除草剤の有効成分として使用した場合に優れた除草効
果を示す、特に水田に繁茂する有害雑草を、水稲に薬害
を与えること無(選択的に且つ低薬量で防除できる。又
、それら有害雑草が、比較的生育・の進んだものであっ
ても防除てきるので、水田用除草剤として好適なもので
ある。更には、畑地における有害雑草をも防除できるの
で好ましいものである。
、除草剤の有効成分として使用した場合に優れた除草効
果を示す、特に水田に繁茂する有害雑草を、水稲に薬害
を与えること無(選択的に且つ低薬量で防除できる。又
、それら有害雑草が、比較的生育・の進んだものであっ
ても防除てきるので、水田用除草剤として好適なもので
ある。更には、畑地における有害雑草をも防除できるの
で好ましいものである。
本発明の除草剤の適用範囲は、前述の農耕地以外に、果
樹園、桑園、山林、農道、グランド、工場敷地など多岐
にわたり、また適用方法も土壌処理、茎葉処理を適宜選
択できる。
樹園、桑園、山林、農道、グランド、工場敷地など多岐
にわたり、また適用方法も土壌処理、茎葉処理を適宜選
択できる。
本発明除草剤を施用する場合、通常は担体、必要に応じ
て希釈剤、溶剤、乳化剤、展着剤、界面活性剤などの各
種補助剤と混合して、粒剤、水和剤、乳剤、液剤などに
製剤して使用する。有効成分化合物と農薬用補助剤との
適当な配合重量比は、−mに0.002:99.998
〜90:10 、望ましくは0.03:99.997〜
60;40である。有効成分化合物の使用a量は、気象
条件、土壌条件、薬剤の製剤形態、対象雑草の種類、施
用時期などの相違により一概に規定できないが、一般に
1アール当たりの施用有効成分量としては0.05〜5
0g、望ましくは0.1〜30 gである。
て希釈剤、溶剤、乳化剤、展着剤、界面活性剤などの各
種補助剤と混合して、粒剤、水和剤、乳剤、液剤などに
製剤して使用する。有効成分化合物と農薬用補助剤との
適当な配合重量比は、−mに0.002:99.998
〜90:10 、望ましくは0.03:99.997〜
60;40である。有効成分化合物の使用a量は、気象
条件、土壌条件、薬剤の製剤形態、対象雑草の種類、施
用時期などの相違により一概に規定できないが、一般に
1アール当たりの施用有効成分量としては0.05〜5
0g、望ましくは0.1〜30 gである。
本発明除草剤は、他の農薬、肥料、土壌、薬害軽減剤な
どと混用或いは併用することができ、この場合に一層優
れた効果、作用性を示すことがある。他の除草剤と混用
或いは併用する場合、その混合相手除草剤の有効成分と
しては、例えば次のようなものが挙げられる。
どと混用或いは併用することができ、この場合に一層優
れた効果、作用性を示すことがある。他の除草剤と混用
或いは併用する場合、その混合相手除草剤の有効成分と
しては、例えば次のようなものが挙げられる。
2.4−ジクロロフェニル−3゛−メトキシ−4′−ニ
トロフェニルエーテル、2. 4−’、;クロロフェニ
ルー3°−メトキシカルボニル−4” −二トロフェニ
ルエーテル、2−クロロ−2’、6’ −ジエチル−N
−(ブトキシメチル)アセトアニリド、2−クロロ−2
’ 、6’−ジエチル−N−(プロポキシエチル)アセ
トアニリド、S−((2−メチル−1−ピペリジル)−
カルボニルメチル)−0,0−ジ−n−プロピルジチオ
ホスフェート、s−(4−クロロベンジル)−N、N−
ジエチルチオールカーバメート、S−エチル−ヘキサヒ
ドロ−IH−アゼピン−1−カーボチオエート、5−(
1−メチル−1−フェネチル)ピペリジン−1−カーボ
チオエート、5−ターシャリ−ブチル−3−(2,4−
ジクロロ−5−イソプロポキシフェニル)−1,3,4
−オキサジアソ°リンー2−オン、ベンズチアソ゛−/
レー2−イルオキシ酢酸N−メチルアニリド、4−(2
゜4−ジクロロベンゾイル)−1,3−ジメチル−5−
フェナシルオキシとラゾール、4− (2,4−ジクロ
ロベンゾイル)−1,3−ジメチルピラゾール−5−イ
ル−p’−)ルエンスルホネート、4− (2゜4−ジ
クロロ−3−メチルベンゾイル)、−1,3−ジメチル
−5−フェナシルオキシピラゾール、3゜7−ジクロロ
−8−キノリンカルボン酸。
トロフェニルエーテル、2. 4−’、;クロロフェニ
ルー3°−メトキシカルボニル−4” −二トロフェニ
ルエーテル、2−クロロ−2’、6’ −ジエチル−N
−(ブトキシメチル)アセトアニリド、2−クロロ−2
’ 、6’−ジエチル−N−(プロポキシエチル)アセ
トアニリド、S−((2−メチル−1−ピペリジル)−
カルボニルメチル)−0,0−ジ−n−プロピルジチオ
ホスフェート、s−(4−クロロベンジル)−N、N−
ジエチルチオールカーバメート、S−エチル−ヘキサヒ
ドロ−IH−アゼピン−1−カーボチオエート、5−(
1−メチル−1−フェネチル)ピペリジン−1−カーボ
チオエート、5−ターシャリ−ブチル−3−(2,4−
ジクロロ−5−イソプロポキシフェニル)−1,3,4
−オキサジアソ°リンー2−オン、ベンズチアソ゛−/
レー2−イルオキシ酢酸N−メチルアニリド、4−(2
゜4−ジクロロベンゾイル)−1,3−ジメチル−5−
フェナシルオキシとラゾール、4− (2,4−ジクロ
ロベンゾイル)−1,3−ジメチルピラゾール−5−イ
ル−p’−)ルエンスルホネート、4− (2゜4−ジ
クロロ−3−メチルベンゾイル)、−1,3−ジメチル
−5−フェナシルオキシピラゾール、3゜7−ジクロロ
−8−キノリンカルボン酸。
次に本発明除草剤の試験例を記載する。
試験例1゜
1 /10.00<1アールポツトに水田土壌を詰め、
ホタルイの種子並びにウリカワの塊茎を播種し、湿潤状
態に保った。ホタルイが1葉期に生育した後、約3cm
に湛水し、本発明化合物の水和剤を水で希釈し、所定量
をピペットで滴下処理した。薬剤処理21日後に生育状
態を肉眼で観察し、下記の基準(1〜5の5点法)に基
づいて生育抑制適度を評価し、表1の結果を得た。
ホタルイの種子並びにウリカワの塊茎を播種し、湿潤状
態に保った。ホタルイが1葉期に生育した後、約3cm
に湛水し、本発明化合物の水和剤を水で希釈し、所定量
をピペットで滴下処理した。薬剤処理21日後に生育状
態を肉眼で観察し、下記の基準(1〜5の5点法)に基
づいて生育抑制適度を評価し、表1の結果を得た。
生育抑制程度
5;完全な枯死状態〜1:無処理区と同等の生育表1
試験例2゜
1 /10,000アールポツトに水田土壌を入れて飽
水させた後、ヒエの種子を播種し、軽く覆土して、畑状
態で発芽させた0、子葉鞘が出現したときに湛水して水
深3cI11とし、本発明化合物の水和剤を水で希釈し
、所定量をとベットで滴下処理した。薬剤処理21日後
に生育状態を肉眼で観察し、前記試験例1の基準に基づ
いて評価し、表2の結果を得た。
水させた後、ヒエの種子を播種し、軽く覆土して、畑状
態で発芽させた0、子葉鞘が出現したときに湛水して水
深3cI11とし、本発明化合物の水和剤を水で希釈し
、所定量をとベットで滴下処理した。薬剤処理21日後
に生育状態を肉眼で観察し、前記試験例1の基準に基づ
いて評価し、表2の結果を得た。
表2
試験例3
1 /10,000アールポツトに水田土壌を詰め入水
後代径を行い、翌日2.5葉期の水稲(品m、日本晴)
をポット当たり2本ゴフ移植した。移植後4日目に本発
明化合物の水和剤を水で希釈し、所定量をピペットで滴
下処理した。薬剤処理30日後に生育状態を肉眼で観察
し、前記試験例1の基準に基づいて評価し、表3の結果
を得た。
後代径を行い、翌日2.5葉期の水稲(品m、日本晴)
をポット当たり2本ゴフ移植した。移植後4日目に本発
明化合物の水和剤を水で希釈し、所定量をピペットで滴
下処理した。薬剤処理30日後に生育状態を肉眼で観察
し、前記試験例1の基準に基づいて評価し、表3の結果
を得た。
表3
次に本発明除草剤の製剤例を記載する。
製剤例
+11 ジ−クライト 78重量
部(2) ラベリン3 2Ii
ffi部(商品名:第−工業製薬部) (3) ツルポール5039 5重
量部(商品名:束部化学工業製) (4) カープレツクス 15重量
部(商品名:塩野義製薬製) 以上(1)〜(4)の゛成分の混合物と、本発明化合物
とを9:1の重量割合で混合して水和剤を得た。
部(2) ラベリン3 2Ii
ffi部(商品名:第−工業製薬部) (3) ツルポール5039 5重
量部(商品名:束部化学工業製) (4) カープレツクス 15重量
部(商品名:塩野義製薬製) 以上(1)〜(4)の゛成分の混合物と、本発明化合物
とを9:1の重量割合で混合して水和剤を得た。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R_2及びR_3はメチル基又はメトキシ基で
ある〕で表されるピラゾール系化合物。 2、一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R_2及びR_3はメチル基又はメトキシ基で
ある〕で表されるピラゾール系化合物の少なくとも一種
を含有することを特徴とする除草剤。 3、一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Xはアミノ基又は▲数式、化学式、表等があり
ます▼基 (R_1はアルキル基、アルケニル基又はフェニル基で
ある)である〕で表される化合物と、 一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Yはアミノ基、−NCO基又は▲数式、化学式
、表等があります▼基であり、Xがアミノ基の場合Yは
▲数式、化学式、表等があります▼ 基又は−NCO基であり、Xが▲数式、化学式、表等が
あります▼ 基の時はYはアミノ基であり、R_2及びR_3はメチ
ル基又はメトキシ基であり、R_1は前述の通りである
。〕で表される化合物とを反応させることを特徴とする
、 一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R_2及びR_3は前述の通りである〕で表さ
れるピラゾール系化合物の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1986286A JPS62178589A (ja) | 1986-01-31 | 1986-01-31 | ピラゾ−ル系化合物及びそれらを含有する除草剤 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1986286A JPS62178589A (ja) | 1986-01-31 | 1986-01-31 | ピラゾ−ル系化合物及びそれらを含有する除草剤 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62178589A true JPS62178589A (ja) | 1987-08-05 |
Family
ID=12011029
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1986286A Pending JPS62178589A (ja) | 1986-01-31 | 1986-01-31 | ピラゾ−ル系化合物及びそれらを含有する除草剤 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62178589A (ja) |
-
1986
- 1986-01-31 JP JP1986286A patent/JPS62178589A/ja active Pending
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