JPH04234850A - 置換ピリジンスルホンアミド系化合物及びそれらを含有する除草剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、新規な置換ピリジンス
ルホンアミド系化合物又はそれらの塩、それらを有効成
分として含有する除草剤並びにそれらの化合物の製造方
法に関する。

【０００２】

【先行技術及び本発明に至った経緯】従来、スルホンア
ミド系除草剤は、多くの類縁体が開発されている。例え
ば、麦類に安全性を有するものとして、２−クロロ−Ｎ
−〔（４−メトキシ−６−メチル−１，３，５−トリア
ジン−２−イル）アミノカルボニル〕ベンゼンスルホン
アミド（商標名Ｇｌｅａｎ（登録商標））などが知られ
ており、大豆に安全性を有するものとして、２−〔（４
−クロロ−６−メトキシピリミジン−２−イル）アミノ
カルボニル−アミノスルホニル〕安息香酸エチルエステ
ル（商標名Ｃｌａｓｓｉｃ（登録商標））などが知られ
ており、イネに安全性を有するものとして、２−〔（４
，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）アミノカルボ
ニル−アミノスルホニルメチル〕安息香酸メチルエステ
ル（商標名Ｌｏｎｄａｘ（登録商標））などが知られて
おり、また、非選択性除草剤としては、２−〔（４，６
−ジメチルピリミジン−２−イル）アミノカルボニル−
アミノスルホニル〕安息香酸メチルエステル（商標名Ｏ
ｕｓｔ（登録商標））などが知られている。

【０００３】本発明者達は、有用作物の中で特にトウモ
ロコシに対して安全性を有するスルホンアミド系化合物
を見出すために、その合成、探索を行い、本発明を完成
するに至った。

【０００４】

【発明の開示】本発明化合物は、下記一般式（Ｉ）で表
わされる新規な置換ピリジンスルホンアミド系化合物又
はそれらの塩である。一般式（Ｉ）

【０００５】

【化７】

【０００６】（式中、Ｒ１はアルキル基、ハロアルキル
基、アルコキシアルキル基又はアルケニル基であり、Ｒ
２は水素原子、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキ
シアルキル基又はアルケニル基であり、Ｒ３は水素原子
、ハロゲン原子、アルキル基、ハロアルキル基、アルコ
キシ基、アルキルチオ基、アルコキシアルキル基、アル
キルアミノ基又はジアルキルアミノ基であり、Ｘ及びＹ
はそれぞれ独立してハロゲン原子、アルキル基、アルコ
キシ基又はハロアルコキシ基である）。

【０００７】また本発明は上記一般式（Ｉ）で表わされ
る化合物を有効成分として含有する除草剤に関し、さら
に該化合物の製造方法並びに該化合物を製造するための
中間体に関する。

【０００８】前記一般式（Ｉ）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、
Ｘ及びＹに含まれるアルキル基或はアルキル部分として
は、炭素数１〜４の、例えばメチル基、エチル基、プロ
ピル基、ブチル基などが挙げられ、Ｒ１及びＲ２に含ま
れるアルケニル基としては、炭素数２〜４の、例えばプ
ロペニル基、ブテニル基などが挙げられ、Ｒ１、Ｒ２、
Ｒ３、Ｘ及びＹに含まれるハロゲン原子としては、弗素
原子、塩素原子、臭素原子又は沃素原子が挙げられる。

【０００９】本発明化合物の塩としては、ナトリウム塩
、カリウム塩などのアルカリ金属塩、マグネシウム塩、
カルシウム塩などのアルカリ土類金属塩或はメチルアミ
ン塩、ジメチルアミン塩、トリエチルアミン塩などの第
四級アンモニウム塩などが挙げられる。

【０００１０】前記一般式（Ｉ）で表わされる置換ピリ
ジンスルホンアミド系化合物中、下記一般式（Ｉ）′で
表わされる化合物又はそれらの塩が望ましい。一般式（
Ｉ）′

【０００１１】

【化８】

【０００１２】更に望ましい態様を下記する。 （１）Ｒ１′はアルキル基又はハロアルキル基であり、
好ましくはアルキル基であり、更に好ましくはメチル基
である。 （２）Ｒ２′はアルキル基であり、好ましくはメチル基
である。 （３）Ｒ３′は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、
ハロアルキル基、アルコキシ基又はアルコキシアルキル
基であり、好ましくは水素原子、ハロゲン原子、アルキ
ル基又はアルコキシ基である。 （４）Ｘ′及びＹ′はメチル基又はメトキシ基であり、
好ましくはメトキシ基である。

【０００１３】前記一般式（Ｉ）で表わされる新規な置
換ピリジンスルホンアミド系化合物は、例えば次の〔Ａ
〕〜〔Ｄ〕のような方法によって製造することができる
。

【０００１４】

【化９】

【０００１５】上記〔Ａ〕〜〔Ｄ〕の反応式中、Ｒ１は
アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシアルキル基又
はアルケニル基であり、Ｒ２は水素原子、アルキル基、
ハロアルキル基、アルコキシアルキル基又はアルケニル
基であり、Ｒ３は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基
、ハロアルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、ア
ルコキシアルキル基、アルキルアミノ基又はジアルキル
アミノ基であり、Ｘ及びＹはそれぞれ独立してメチル基
又はメトキシ基であり、Ｒ４はアルキル基又はアリール
（ａｒｙｌ）基である。

【０００１６】Ｒ４で表わされるアルキル基としては、
Ｒ１、Ｒ２及びＲ３について前記したものと同様なアル
キル基が挙げられ、アリール基としてはフェニル基、塩
素原子で置換されたフェニル基、メチル基で置換された
フェニル基、ナフチル基などが挙げられる。

【０００１７】反応〔Ａ〕は塩基の存在下でおこなわれ
、反応〔Ｂ〕、〔Ｃ〕及び〔Ｄ〕も必要に応じて塩基の
存在下でおこなわれる。塩基としてはトリエチルアミン
のような三級アミン、１，８−ジアザビシクロ〔５．４
．０〕−７−ウンデセンなどが使用される。

【０００１８】また反応〔Ａ〕、〔Ｂ〕、〔Ｃ〕及び〔
Ｄ〕は必要に応じて溶媒の存在下でおこなわれる。溶媒
としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベン
ゼンなどの芳香族炭化水素類；クロロホルム、四塩化炭
素、塩化メチレン、ジクロロエタン、トリクロロエタン
、ヘキサン、シクロヘキサンなどの環状又は非環状脂肪
族炭化水素類；ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラ
ヒドロフランなどのエーテル類；アセトニトリル、プロ
ピオニトリル、アクリロニトリルなどのニトリル類；酢
酸メチル、酢酸エチルなどのエステル類；ジメチルスル
ホキシド、スルホランなどの非プロトン性極性溶媒など
が挙げられる。

【０００１９】反応〔Ａ〕の反応温度は通常−２０〜＋
１００℃、望ましくは０〜４０℃であり、反応時間は　
　０．０１〜２４時間、望ましくは０．１〜１．５時間
であり、反応〔Ｂ〕の反応温度は通常０〜１５０℃であ
り、反応時間は０．１〜２４時間であり、反応〔Ｃ〕の
反応温度は通常０〜１５０℃であり、反応時間は０．１
〜２４時間であり、反応〔Ｄ〕の反応温度は通常−２０
〜＋１５０℃、望ましくは５０〜１１０℃であり、反応
時間は０．１〜２４時間である。

【０００２０】反応〔Ａ〕及び〔Ｂ〕中の（ＩＩ−１）
で表わされる原料化合物は、例えば次の〔Ｅ〕、〔Ｆ〕
及び〔Ｇ〕のような方法で合成することができる。

【０００２１】

【化１０】

【０００２２】

【化１１】

【０００２３】

【化１２】

【０００２４】

【化１３】

【０００２５】反応式〔Ｅ〕、〔Ｆ〕、〔Ｇ〕又は〔Ｈ
〕中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は前述の通りであり、Ｔは塩
素原子又は臭素原子であり、Ｈａｌは弗素原子、塩素原
子、臭素原子又は沃素原子である。またＰｈはフェニル
基を、Ｂｕ（ｔ）はターシャリーブチル基を、ａｑ．は
水溶液を各々示す。

【０００２６】なお（ＩＩ−１）で表わされる化合物中
、Ｒ３がアルコキシ基である化合物

【０００２７】

【化１４】

【０００２８】（式中Ｒ１及びＲ２は前述の通りであり
、Ｒ５は炭素数１〜４のアルキル基である）は、例えば
次の〔Ｉ〕のような方法でも合成することができる。

【０００２９】

【化１５】

【０００３０】反応式中Ｒ１、Ｒ２、Ｒ５、Ｔ、Ｂｕ（
ｔ）及びａｑ．は前述の通りである。

【０００３１】また反応〔Ｃ〕中の（ＩＩ−２）で表わ
される化合物は、例えば次の〔Ｊ〕のような方法で、さ
らに反応〔Ｄ〕中の（ＩＩ−３）で表わされる化合物は
、例えば次の〔Ｋ〕のような方法で製造することができ
る。

【０００３２】

【化１６】

【０００３３】反応式〔Ｋ〕中、Ｒ４は前述の通りであ
る。

【０００３４】前記一般式（Ｉ）で表わされる置換ピリ
ジンスルホンアミド系化合物は、下記のような別法によ
っても製造することができる。

【０００３５】

【化１７】

【０００３６】反応〔Ｌ〕中の（ＩＩ−５）で表わされ
る原料化合物は、例えば〔Ｍ〕のような方法で合成する
ことができる。

【０００３７】

【化１８】

【０００３８】反応式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｘ、Ｙ及
びＢｕ（ｔ）は前述の通りである。

【０００３９】上記〔Ｅ〕〜〔Ｍ〕の各反応の反応温度
、反応時間、必要に応じて使用される溶媒、アルカリ性
物質などの反応条件は、特に記載のない場合には通常類
似の反応における反応条件から適宜選択できる。

【０００４０】また、本発明の置換ピリジンスルホンア
ミド系化合物の塩は、通常の塩の製造方法によって容易
に得られる。

【０００４１】前記（ＩＩ−１）で表わされる中間体化
合物は新規化合物であり、その代表例を第１表に挙げる
。

【０００４２】

【表１】

【０００４３】

【表２】

【０００４４】次に本発明化合物の具体的合成例を記載
する。 合成例１　　　　Ｎ−〔（４，６　　−ジメトキシピリ
ミジン−２−イル）アミノカルボニル〕−３−（Ｎ′−
メチル−Ｎ′−メチルスルホニルアミノ）−２−ピリジ
ンスルホンアミド（後記化合物Ｎｏ．１）の合成

【００
０４５】（１）　　２，３−ジクロロピリジン１０ｇ、
無水炭酸カリウム１１．２ｇ及びジメチルスルホキシド
１００ｍｌを混合した懸濁液に、１１０℃でベンジルメ
ルカプタン１０．１ｇのジメチルスルホキシド１０ｍｌ
溶液を約２０分間で滴下した。次いで１２０〜１３０℃
で約１．５時間反応させた後、反応物を水中に投入し、
塩化メチレンで抽出した。塩化メチレン層を無水硫酸ナ
トリウムで乾燥した後、塩化メチレンを減圧留去し、得
られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精
製して、オイル状の２−ベンジルチオ−３−クロロピリ
ジン１２．５ｇを得た。

【０００４６】（２）　　前記工程（１）で得られた２
−ベンジルチオ−３−クロロピリジン１２．１ｇの５０
％酢酸水溶液１００ｍｌ中に、０〜５℃で塩素ガスを導
入し、過剰の塩素ガスが出始めた段階で反応を終了した
。 反応液を氷２００ｇ中に投入し、塩化メチレンで抽出し
た。抽出物を６００ｍｌの水で洗浄後、０℃に冷却し、
続いてこの中へｔｅｒｔ−ブチルアミン２０．２ｇを０
〜１０℃で滴下した。滴下終了後、室温で約１時間反応
させた。反応液を水中に投入し、塩化メチレンで抽出し
、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、塩化メチレンを減圧留
去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーで精製して、融点１３８〜１４１℃のＮ−ｔｅｒ
ｔ−ブチル−３−クロロ−２−ピリジンスルホンアミド
１０．１ｇを得た。

【０００４７】（３）　　前記工程（２）で得られたＮ
−ｔｅｒｔ−ブチル−３−クロロ−２−ピリジンスルホ
ンアミド３．０ｇ、２５％メチルアミン水溶液６０ｍｌ
及び塩化第一銅０．１ｇを１００ｍｌオートクレーブに
仕込み、１５０℃で約１３．５時間反応させた。反応終
了後、反応液を冷却し１００ｍｌの水中に投入した。生
じた結晶をろ取後、減圧乾燥して、融点２３０〜２３２
℃のＮ−ｔｅｒｔ−ブチル−３−メチルアミノ−２−ピ
リジンスルホンアミド１．７ｇを得た。

【０００４８】（４）　　前記工程（３）で得られたＮ
−ｔｅｒｔ−ブチル−３−メチルアミノ−２−ピリジン
スルホンアミド０．７ｇとジメチルホルムアミド２０ｍ
ｌとの混合物中に０〜５℃で６０％水素化ナトリウム０
．２５３ｇを分割投入した。０℃で約３０分間反応させ
た後、メタンスルホニルクロリド０．５６３ｇのジメチ
ルホルムアミド１０ｍｌ溶液を０〜１０℃で約１５分間
で滴下した。滴下終了後さらに室温で約３０分間反応さ
せた。反応物を水中に投入し、濃塩酸で弱酸性にｐＨ調
節した後、塩化メチレンで抽出した。抽出物を無水硫酸
ナトリウムで乾燥した後、塩化メチレンを減圧留去し、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して
、アメ状のオイルとしてＮ−ｔｅｒｔ−ブチル−３−（
Ｎ′−メチル−Ｎ′−メチルスルホニルアミノ）−２−
ピリジンスルホンアミド０．６６ｇを得た。この化合物
は下記のＮＭＲ値を示す。

【０００４９】

【化１９】

【０００５０】（５）　　前記工程（４）で得られたＮ
−ｔｅｒｔ−ブチル−３−（Ｎ′−メチル−Ｎ′−メチ
ルスルホニルアミノ）−２−ピリジンスルホンアミド０
．６６ｇとトリフルオロ酢酸５ｍｌとを混合し、還流下
で約２時間反応させた。反応終了後、反応物よりトリフ
ルオロ酢酸を減圧留去した。残渣を酢酸エチル及びｎ−
ヘキサンにより結晶化させ、生じた結晶をろ取後、乾燥
して、融点１７９〜１８３℃の３−（Ｎ−メチル−Ｎ−
メチルスルホニルアミノ）−２−ピリジンスルホンアミ
ド（前記中間体Ｎｏ．１）０．４４ｇを得た。この化合
物は下記のＮＭＲ値を示す。

【０００５１】

【化２０】

【０００５２】（６）　　前記工程（５）で得られた３
−（Ｎ−メチル−Ｎ−メチルスルホニルアミノ）−２−
ピリジンスルホンアミド０．２６５ｇ及び２−フェノキ
シカルボニルアミノ−４，６−ジメトキシピリミジン０
．２７６ｇを無水アセトニトリル１０ｍｌに加え、さら
にこの懸濁液に１，８−ジアザビシクロ〔５．４．０〕
−７−ウンデセン０．１５２ｇを加え室温で約３０分間
反応させた。反応終了後、反応液を２００ｍｌの水中に
投入し、濃塩酸で弱酸性とした。生じた結晶をろ取し、
減圧乾燥して、融点１８１〜１８４℃の目的物（化合物
Ｎｏ．１）０．４２０ｇを得た。この化合物は下記のＮ
ＭＲ値を示す。

【０００５３】

【化２１】

【０００５４】合成例２　　　　Ｎ−〔（４，６−ジメ
トキシピリミジン−２−イル）アミノカルボニル〕−３
−（Ｎ′−メチル−Ｎ′−メチルスルホニルアミノ）−
６−メチル−２−ピリジンスルホンアミド（後記化合物
Ｎｏ．１２）の合成

【０００５５】（１）　　２−クロロ−６−メチルピリ
ジン１２．８ｇ、無水炭酸カリウム１８ｇ及びジメチル
スルホキシド１００ｍｌを混合した懸濁液を予め１２０
〜１３０℃まで加熱し、そこへベンジルメルカプタン１
８．６ｇのジメチルスルホキシド１０ｍｌ溶液を約３０
分間かけて滴下した。次いで１５０℃で約１時間反応さ
せた後、反応液を冷却して水中に投入し、塩化メチレン
で抽出した。塩化メチレン層を無水硫酸ナトリウムで乾
燥した後、塩化メチレンを減圧留去し、得られた残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、油状
の２−ベンジルチオ−６−メチルピリジン７．５３ｇを
得た。

【０００５６】（２）　　前記工程（１）で得られた２
−ベンジルチオ−６−メチルピリジン７．５ｇの５０％
酢酸水溶液１４０ｍｌ中に０〜５℃で塩素ガスを導入し
、過剰の塩素ガスが出始めた段階で反応を終了した。過
剰の塩素ガスを乾燥窒素ガスで追い出した後、反応液を
氷水５００ｍｌ中に投入し、塩化メチレン５００ｍｌで
抽出した。塩化メチレン層を氷水洗浄した後、０〜５℃
に冷却し、続いてこの中へ、塩化メチレン溶液がアルカ
リ性を示すまで同温度でｔｅｒｔ−ブチルアミンを滴下
した。滴下終了後、室温で約１時間反応させた。反応終
了後、反応液を水中に投入し、塩化メチレンで抽出し、
無水硫酸ナトリウムで乾燥後、塩化メチレンを減圧留去
した。得られた残渣に酢酸エチルとｎ−ヘキサンを加え
、生じた結晶を濾取して、融点１２０．５〜１２３℃の
Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチル−６−メチル−２−ピリジンスル
ホンアミド３．５ｇを得、一方、濾液を濃縮して生じた
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して
、さらに上記スルホンアミド１．４５ｇを得た。

【０００５７】（３）　　前記工程（２）で得られたＮ
−ｔｅｒｔ−ブチル−６−メチル−２−ピリジンスルホ
ンアミド４．６ｇのテトラヒドロフラン６０ｍｌ溶液に
−７８℃で１．５７ｍｏｌ／ｌのｎ−ブチルリチウム２
６．８ｍｌを約１５分間かけて滴下した。この際最高−
４０℃まで発熱した。その後−７８℃で約１５分間反応
させ、続いて−７８〜−４０℃で臭素４．８ｇを約１０
分間かけて加え、徐々に昇温して室温で約３０分間反応
させた。反応終了後、反応液を水中に投入し、濃塩酸で
酸性にし、塩化メチレンで抽出し、無水硫酸ナトリウム
で乾燥後、塩化メチレンを減圧留去した。得られた残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、融
点１２３〜１２８℃の３−ブロモ−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチ
ル−６−メチル−２−ピリジンスルホンアミド２．１４
ｇを得た。

【０００５８】（４）　　前記工程（３）で得られた３
−ブロモ−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチル−６−メチル−２−ピ
リジンスルホンアミド２．０ｇ及び３０％メチルアミン
水溶液２０ｍｌを５０ｍｌミニオートクレーブに仕込み
１５０℃で約２時間反応させた。反応終了後、反応液を
冷却して１００ｍｌの水中に投入し、塩化メチレンで抽
出した。塩化メチレン層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し
た後、塩化メチレンを減圧留去した。得られた残渣に少
量の塩化メチレン及びｎ−ヘキサンを加え、生じた結晶
を濾取して、融点１４５〜１５６℃のＮ−ｔｅｒｔ−ブ
チル−６−メチル−３−メチルアミノ−２−ピリジンス
ルホンアミド２８５ｍｇを得、一方、濾液を濃縮して生
じた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製
して、さらに上記スルホンアミド３１５ｍｇを得た。

【０００５９】（５）　　前記工程（４）で得られたＮ
−ｔｅｒｔ−ブチル−６−メチル−３−メチルアミノ−
２−ピリジンスルホンアミド５９０ｍｇのＮ，Ｎ−ジメ
チルホルムアミド１５ｍｌ溶液に０〜５℃で６０％水素
化ナトリウム１９３ｍｇを加え１５分間反応させた。そ
の後、０〜５℃でメタンスルホニルクロリド５５１ｍｇ
のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１ｍｌ溶液を滴下して
約３０分間反応させ、さらに１５〜２０℃で約３０分間
反応させた。反応終了後、反応液を２００ｍｌの水中に
投入し、塩化メチレンで抽出した。塩化メチレン層を水
洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、塩化メチレン
を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーで精製して、油状のＮ−ｔｅｒｔ−ブチ
ル−３−（Ｎ′−メチル−Ｎ′−メチルスルホニルアミ
ノ）−６−メチル−２−ピリジンスルホンアミド６８０
ｍｇを得た。

【０００６０】（６）　　トリフルオロ酢酸１０ｍｌ中
に、前記工程（５）で得られたＮ−ｔｅｒｔ−ブチル−
３−（Ｎ′−メチル−Ｎ′−メチルスルホニルアミノ）
−６−メチル−２−ピリジンスルホンアミド６８０ｍｇ
を加え４０℃以下で約３０分間反応させ、さらに還流下
で３０分間反応させた。反応終了後、反応物よりトリフ
ルオロ酢酸を減圧留去し、得られた残渣に少量の酢酸エ
チルとｎ−ヘキサンを加えて結晶化させた。生じた結晶
を濾取し、減圧乾燥して、融点１２９．５〜１３２℃の
３−（Ｎ−メチル−Ｎ−メチルスルホニルアミノ）−６
−メチル−２−ピリジンスルホンアミド（前記中間体Ｎ
ｏ．１１）３８０ｍｇを得た。

【０００６１】（７）　　前記工程（６）で得られた３
−（Ｎ−メチル−Ｎ−メチルスルホニルアミノ）−６−
メチル−２−ピリジンスルホンアミド２００ｍｇ及び２
−フェノキシカルボニルアミノ−４，６−ジメトキシピ
リミジン２０８ｍｇを無水アセトニトリル１０ｍｌ中に
加えた懸濁液に、１，８−ジアザビシクロ〔５．４．０
〕−７−ウンデセン１２０ｍｇを加え室温で約１５分間
反応させた。反応終了後、反応物を５０ｍｌの水中に投
入し、濃塩酸で弱酸性として生じた結晶をろ取し、減圧
下乾燥して、融点１６２〜１６８℃の目的物（化合物Ｎ
ｏ．１２）３１０ｍｇを得た。

【０００６２】合成例３　　　　Ｎ−〔（４，６−ジメ
トキシピリミジン−２−イル）アミノカルボニル〕−３
−（Ｎ′−メチル−Ｎ′−メチルスルホニルアミノ）−
２−ピリジンスルホンアミド（後記化合物Ｎｏ．１）の
合成

【０００６３】（１）　　Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチル−３−
メチルアミノ−２−ピリジンスルホンアミド３．５０ｇ
及びトリフルオロ酢酸２０ｍｌの混合物を約５０℃にて
２時間反応させた。反応終了後、反応混合物を減圧濃縮
して得られた残渣に、酢酸エチルおよびｎ−ヘキサンを
加えて析出した固体を濾取し、３−メチルアミノ−２−
ピリジンスルホンアミド２．４１ｇを得た。この化合物
は下記のＮＭＲ値を示す。ＮＭＲ（アセトン−ｄ６）；
δ３．０（ｓ，３Ｈ，ＣＨ３）；６．６（ｓ，２Ｈ，Ｓ
０２ＮＨ２）；７．４（ｄｄ，１Ｈ）；７．５（ｄ，１
Ｈ）；７．９（ｄ，１Ｈ）

【０００６４】（２）　　前記工程（１）で得られた３
−メチルアミノ−２−ピリジンスルホンアミド２．４１
ｇ及びフェニル（４，６−ジメトキシピリミジン−２−
イル）カーバメート３．５４ｇ及びアセトニトリル３０
ｍｌの混合物に氷冷下で１，８−ジアザビシクロ〔５．
４．０〕−７−ウンデセン１．９６ｇを加え室温にて２
時間反応させた。反応終了後、反応混合物を水５００ｍ
ｌ中に投入し、生じた固体を濾別した。濾液に塩酸を加
えて弱酸性とし、析出した固体を濾取し、水洗し、乾燥
して融点１４５〜１４７℃のＮ−〔〔（４，６−ジメト
キシピリミジン−２−イル）アミノ〕カルボニル〕−３
−メチルアミノ−２−ピリジンスルホンアミド３．５６
ｇを得た。

【０００６５】（３）　　前記工程（２）で得られたＮ
−〔〔（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ア
ミノ〕カルボニル〕−３−メチルアミノ−２−ピリジン
スルホンアミドを用いて、前記合成例１（４）の方法に
準じて目的物（化合物Ｎｏ．１）を得ることができる。

【０００６６】次に前記一般式（Ｉ）で表わされる本発
明化合物の代表例を第２表に挙げる。

【０００６７】

【表３】

【０００６８】

【表４】

【０００６９】本発明の置換ピリジンスルホンアミド系
化合物は、後記試験例にみる通り、トウモロコシに対し
て安全性を示し、同時に低薬量でイネ科植物を含め広い
殺草スペクトラムを示す。

【０００７０】本発明除草剤の適用範囲は、畑地、果樹
園、桑園などの農耕地、山林、農道、グラウンド、工場
敷地などの非農耕地と多岐にわたり、又適用方法も土壌
処理、茎葉処理を適宜選択できる。本発明除草剤を施用
する場合、通常は担体、必要に応じて希釈剤、溶剤、乳
化剤、展着剤、界面活性剤などの各種補助剤と混合して
、粒剤、顆粒水和剤、水和剤、乳剤、液剤、水溶剤など
に製剤して使用する。有効成分化合物と農薬用補助剤と
の適当な配合重量比は、一般に１：９９〜９０：１０、
望ましくは５：９５〜８０：２０である。有効成分化合
物の使用適量は気象条件、土壌条件、薬剤の製剤形態、
対象雑草の種類、施用時期などの相違により一概に規定
できないが、一般に１アール当りの施用有効成分量とし
ては０．００５ｇ〜５０ｇ、望ましくは０．０１ｇ〜１
０ｇ、更に望ましくは０．０５ｇ〜５ｇである。

【０００７１】本発明除草剤は、他の農薬、農薬補助剤
、薬害軽減剤などと混用或は併用することができ、この
場合に一層優れた効果・作用性を示すことがある。他の
除草剤と混用或は併用する場合、その混合相手除草剤の
有効成分としては、例えば次のようなものが挙げられる
。その場合相乗効果が得られることもある。

【０００７２】 ・３，６−ジクロロ−２−メトキシ安息香酸・２，５−
ジクロロ−３−アミノ安息香酸・２，４−ジクロロフェ
ノキシ酢酸 ・４−クロロ−２−メチルフェノキシ酢酸・２−クロロ
−４，６−ビス（エチルアミノ）−１，３，５−トリア
ジン ・２−クロロ−４−エチルアミノ−６−イソプロピルア
ミノ−１，３，５−トリアジン ・２−（４−クロロ−６−エチルアミノ−１，３，５−
トリアジン−２−イルアミノ）−２−メチルプロピオニ
トリル ・２−エチルアミノ−４−イソプロピルアミノ−６−メ
チルチオ−１，３，５−トリアジン ・２−クロロ−２′，６′−ジエチル−Ｎ−（メトキシ
メチル）アセトアニリド

【０００７３】 ・２−クロロ−６′−エチル−Ｎ−（２−メトキシ−１
−メチルエチル）アセト−ｏ−トルイジド・２−クロロ
−Ｎ−イソプロピルアセトアニリド・２−クロロ−Ｎ，
Ｎ−ジ−２−プロペニルアセトアミド ・Ｓ−エチルジプロピルチオカーバメート・Ｓ−エチル
ジイソブチルチオカーバメート・Ｓ−プロピルジプロピ
ルチオカーバメート・Ｎ−（１−エチルプロピル）−２
，６−ジニトロ−３，４−キシリジン ・α，α，α−トリフルオロ−２，６−ジニトロ−Ｎ，
Ｎ−ジプロピル−ｐ−トルイジン ・２−（３，５−ジクロロフェニル）−２−（２，２，
２−トリクロロエチル）オキシラン

【０００７４】 ・３−イソプロピル−（１Ｈ）−ベンゾ−２，１，３−
チアジアジン−４−オン−２，２−ジオキシド・３−（
３，４−ジクロロフェニル）−１−メトキシ−１−メチ
ルウレア ・３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシベンゾニトリル・
２，６−ジブロモ−４−シアノフェニルオクタノエート ・２−クロロ−４−トリフルオロメチルフェニル−３−
エトキシ−４−ニトロフェニルエーテル・４−ヒドロキ
シ−３，５−ジヨードベンゾニトリル・４−シアノ−２
，６−ジヨードフェニルオクタノエート ・４−クロロ−２−オキソベンゾチアゾール−３−イル
酢酸 ・メチル３−〔〔〔〔（４−メトキシ−６−メチル−１
，３，５−トリアジン−２−イル）アミノ〕カルボニル
〕アミノ〕スルホニル〕−２−チオフェンカルボキシレ
ート ・Ｎ，Ｎ−ジメチル−２−〔３−（４，６−ジメトキシ
ピリミジン−２−イル）ウレイドスルホニル〕ニコチン
アミド ・Ｎ−〔４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ア
ミノカルボニル〕−２−（２−メチル−２Ｈ−テトラゾ
ル−５−イル）ベンゼンスルホンアミド・Ｎ−〔（４−
クロロ−６−メトキシピリミジン−２−イル）アミノカ
ルボニル〕−２−（２−メチル−２Ｈ−テトラゾル−５
−イル）ベンゼンスルホンアミド

【０００７５】 ・３−エチルアミノスルホニル−Ｎ−〔（４，６−ジメ
トキシピリミジン−２−イル）アミノカルボニル〕−ピ
リジン−２−スルホンアミド ・Ｎ−〔（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）
アミノカルボニル〕−３−プロピルスルホニルピリジン
−２−スルホンアミド ・Ｎ−〔（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）
アミノカルボニル〕−３−（エチルスルホニル）−２−
ピリジンスルホンアミド ・３−〔４，６−ビス（ジフルオロメトキシ）ピリミジ
ン−２−イル〕−１−（２−メトキシカルボニル−フェ
ニルスルホニル）−ウレア ・Ｏ−（６−クロロ−３−フェニル−４−ピリダジニル
）−Ｓ−オクチルチオカーバメート

【０００７６】次に本発明除草剤の試験例を記載する。 試験例 １／１，５００アールポットに畑作土壌をつめ、各種植
物の種子を播種した。その後、植物が一定の葉令（トウ
モロコシ２．２〜４．３葉期、小麦２．３〜３．０葉期
、大豆初生葉期〜１．５葉期、棉子葉期〜１．２葉期、
イネ１．５〜３．７葉期、オナモミ１．８〜３．５葉期
、アサガオ０．５〜２．５葉期、ヒエ１．７〜４．０葉
期、アオビユ０．１〜２．５葉期、アメリカキンゴジカ
０．１〜２．５葉期）に達したとき、本発明除草剤の水
和剤を所定量となるように秤量し、アール当り５リット
ルの水に希釈した。更にその水溶液に農業用展示着剤を
０．２％となるように加えて、小型スプレーで茎葉処理
した。処理後１７〜３５日目に、各種植物の生育状態を
肉眼で観察調査をおこない、１０段階（１：無処理区と
同様〜１０：完全に抑制）で生育抑制程度を評価し、第
３表の結果を得た。

【０００７７】

【表５】

【０００７８】

【表６】

【０００７９】次に、本発明除草剤の製剤例を記載する
。 製剤例１ （１）水溶性デンプン　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　５５重量部（２）リグニンスルホン酸ソ
ーダ　　　　　　　　　　　　　　５重量部（３）化合
物Ｎｏ．１７　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　４０重量部以上の各成分を混合して水溶剤が得られる
。

【０００８０】 製剤例２ （１）カオリン　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　７８重量部（２）ラベリンＳ　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　２重量部　　　　（商品名：第一工業製薬（株）製）
（３）ソルポール５０３９　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　５重量部　　　　（商品名：東邦化学工
業（株）製）（４）カープレックス 　　　　（商品名：塩野義製薬（株）製）　　　　　　
　　１５重量部以上（１）〜（４）の成分の混合物と化
合物Ｎｏ．４とを９：１の重量割合で混合して水和剤が
得られる。

【０００８１】 製剤例３ （１）珪藻土　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　６３重量部（２）ディクスゾー
ルＷ−６６ 　　　　（商品名：第一工業製薬（株）製）　　　　　
　　　５重量部（３）ディクスゾールＷ−０９１３ 　　　　（商品名：同上）　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　２重量部（４）化合物Ｎｏ．１
２　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　３０重量
部以上の各成分を混合して水和剤が得られる。

【０００８２】 製剤例４ （１）ハイフィラーＮｏ．１０ 　　　　（商品名：松村産業（株）製）　　　　　　　
　　　３３重量部（２）ソルポール５０５０ 　　　　（商品名：東邦化学工業（株）製）　　　　　
　　　３重量部（３）ソルポール５０７３（商品名：同
上）　　　　４重量部（４）化合物Ｎｏ．１５　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　６０重量部以上の各
成分を混合して水和剤が得られる。

【０００８３】 製剤例５ （１）化合物Ｎｏ．１６　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　４重量部（２）トウモロコシ油　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　７９重量部（
３）ソルポール３８１５ 　　　　（商品名：東邦化学工業（株）製）　　　　　
　１５重量部（４）有機ベントナイト　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　２重量部以上の（１）〜
（４）の成分を均一に混合し、ダイノーミル（ウイリー
・エ・バーホーヘン（株）製）で粉砕して、懸濁状組成
物が得られる。

【０００８４】 製剤例６ （１）化合物Ｎｏ．１　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　７５重量部（２）デモールＥＰパウダー 　　　　（商品名：花王（株）製）　　　　　　　　　
　　　　　１３．５重量部（３）塩化ナトリウム　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１０重量部（
４）デキストリン　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　０．５重量部（５）ＴＰ−８９１２
１ 　　　　（商品名：竹本油脂（株）製）　　　　　　　
　　　　　１重量部以上の各成分を高速混合細粒機に入
れ、さらにそこへ２０％の水を加え造粒・乾燥して顆粒
水和剤が得られる。

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　一般式（Ｉ） 【化１】 （式中、Ｒ１はアルキル基、ハロアルキル基、アルコキ
   シアルキル基又はアルケニル基であり、Ｒ２は水素原子
   、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシアルキル基
   又はアルケニル基であり、Ｒ３は水素原子、ハロゲン原
   子、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシ基、アル
   キルチオ基、アルコキシアルキル基、アルキルアミノ基
   又はジアルキルアミノ基であり、Ｘ及びＹはそれぞれ独
   立してハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基又はハ
   ロアルコキシ基である）で表わされる、置換ピリジンス
   ルホンアミド系化合物又はそれらの塩。
2. 【請求項２】　　一般式（Ｉ） 【化２】 （式中、Ｒ１はアルキル基、ハロアルキル基、アルコキ
   シアルキル基又はアルケニル基であり、Ｒ２は水素原子
   、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシアルキル基
   又はアルケニル基であり、Ｒ３は水素原子、ハロゲン原
   子、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシ基、アル
   キルチオ基、アルコキシアルキル基、アルキルアミノ基
   又はジアルキルアミノ基であり、Ｘ及びＹはそれぞれ独
   立してハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ又はハロ
   アルコキシ基である）で表わされる、置換ピリジンスル
   ホンアミド系化合物又はそれらの塩の少なくとも一種を
   有効成分として含有することを特徴とする除草剤。
3. 【請求項３】　　一般式（ＩＩ） 【化３】 （式中、Ｒ１はアルキル基、ハロアルキル基、アルコキ
   シアルキル基又はアルケニル基であり、Ｒ２は水素原子
   、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシアルキル基
   又はアルケニル基であり、Ｒ３は水素原子、ハロゲン原
   子、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシ基、アル
   キルチオ基、アルコキシアルキル基、アルキルアミノ基
   又はジアルキルアミノ基であり、Ｚ１は−ＮＨ２基、−
   ＮＣＯ基又は−ＮＨＣＯ２Ｒ４基であり、Ｒ４はアルキ
   ル基又はアリール基である）で表わされる置換ピリジン
   系化合物と、一般式（ＩＩＩ） 【化４】 （式中、Ｘ及びＹはそれぞれ独立してハロゲン原子、ア
   ルキル基、アルコキシ基又はハロアルコキシ基であり、
   Ｚ２はＺ１が−ＮＣＯ基又は−ＮＨＣＯ２Ｒ４基の場合
   −ＮＨ２基であり、Ｚ１が−ＮＨ２基の場合−ＮＣＯ基
   又は−ＮＨＣＯ２Ｒ４基であり、Ｒ４は前述の通りであ
   る）で表わされるピリミジン系化合物とを反応させるこ
   とを特徴とする、一般式（Ｉ） 【化５】 （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｘ及びＹは前述の通りであ
   る）で表わされる置換ピリジンスルホンアミド系化合物
   又はそれらの塩の製造方法。
4. 【請求項４】　　一般式（ＩＩ−１） 【化６】 （式中、Ｒ１はアルキル基、ハロアルキル基、アルコキ
   シアルキル基又はアルケニル基であり、Ｒ２は水素原子
   、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシアルキル基
   又はアルケニル基であり、Ｒ３は水素原子、ハロゲン原
   子、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシ基、アル
   キルチオ基、アルコキシアルキル基、アルキルアミノ基
   又はジアルキルアミノ基である）で表わされる、置換ピ
   リジン系化合物。