JP2689093B2 - 置換ピリジンスルホンアミド系化合物、それらを含有する除草剤並びにそれらの化合物の製造方法 - Google Patents
置換ピリジンスルホンアミド系化合物、それらを含有する除草剤並びにそれらの化合物の製造方法Info
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Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、新規な置換ピリジンス
ルホンアミド系化合物及びその塩、それらを有効成分と
して含有する除草剤並びにそれらの化合物の製造方法に
関する。 【０００２】 【先行技術及び本発明に至った経緯】本発明の置換ピリ
ジンスルホンアミド系化合物は、該ピリジン環にＮ−置
換アミノカルボニル基を有することを特徴とする。前記
置換ピリジンスルホンアミド系化合物は特開昭５９−３
９８７８号公報、特開昭５９−５９６７１号公報、特開
昭５９−９８０６６号公報において広く一般式で示され
ていることにより、概念的には知られている。しかしな
がら本発明化合物は前記明細書中には何ら具体的に開示
されていない。また、或る置換ピリジンスルホンアミド
系化合物は米国特許第４，４３５，２０６号明細書に記
載されているが、該明細書にはピリジン環にＮ−置換ア
ミノカルボニル基を有するピリジンスルホンアミド系化
合物は記載されていない。一方、スルホンアミド系化合
物を有効成分とする除草剤は従来多くの類縁体が開発さ
れているが、トウモロコシに対して安全性が高く、しか
も高い除草効果を有するものは未だ開発されていない。
本発明者等は、スルホンアミド系化合物についてその化
学構造と植物に対する生理活性とを詳細に検討し、特に
トウモロコシ畑用除草剤を見出すべく検討を重ねた結
果、ピリジンスルホンアミド系化合物において、ピリジ
ン環にＮ−置換アミノカルボニル基を有し、かつ他の特
定の置換基を有してもよく、さらにスルホンアミド部分
の窒素原子に置換ピリミジン−２−イル−アミノカルボ
ニル基を結合させた化合物がトウモロコシ畑用除草剤と
して有用であるとの知見を得て、本発明を完成した。 【０００３】 【発明の開示】本発明は、一般式（Ｉ）： 【０００４】 【化９】 【０００５】〔Ｒ1 及びＲ2 は水素原子、アルキル基、
ハロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコ
キシ基、ハロアルコキシ基、アルコキシアルキル基、ハ
ロアルコキシアルキル基、シクロアルキル基、ハロシク
ロアルキル基、アルコキシカルボニル基、ハロアルコキ
シカルボニル基、フェニル基又はハロフェニル基であ
り、Ｒ1 及びＲ2 の一方が水素原子の場合他方は水素原
子以外のものであり、Ｒ1及びＲ2 が隣接している窒素
原子と共に複素環を形成してもよく、Ｙはハロゲン原
子、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシ基、ハロ
アルコキシ基、アルキルチオ基、ハロアルキルチオ基、
アルコキシアルキル基、ハロアルコキシアルキル基又は 【０００６】 【化１０】 【０００７】（Ｒ3 及びＲ4 は水素原子又はアルキル基
である）であり、ｎは０又は１或いは２の整数であり、
Ｘ1 及びＸ2 はメチル基、メトキシ基又はエトキシ基で
ある〕である｝で表わされる置換ピリジンスルホンアミ
ド系化合物及びその塩、それらを含有する除草剤並びに
それらの化合物の製造方法である。一般式（Ｉ）で表さ
れる化合物中には、一般式（Ｉ’）で表される化合物す
なわち 一般式（Ｉ’）： 【０００８】 【化１１】【０００９】（式中、Ｒ1 及びＲ2 は水素原子、アルキ
ル基、ハロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、
アルコキシ基、ハロアルコキシ基、アルコキシアルキル
基、ハロアルコキシアルキル基、シクロアルキル基、ハ
ロシクロアルキル基、アルコキシカルボニル基、ハロア
ルコキシカルボニル基、フェニル基又はハロフェニル基
であり、Ｒ1 及びＲ2 の一方が水素原子の場合他方は水
素原子以外のものであり、Ｒ1 及びＲ2 が隣接している
窒素原子と共に複素環を形成してもよく、Ｙはハロゲン
原子、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシ基、ハ
ロアルコキシ基、アルキルチオ基、ハロアルキルチオ
基、アルコキシアルキル基、ハロアルコキシアルキル基
又は 【００１０】 【化１２】 【００１１】（Ｒ３及びＲ４は水素原子又はアルキル基
である）であり、ｎは０又は１或いは２の整数であり、
Ｘ１及びＸ２はメチル基、メトキシ基又はエトキシ基で
ある。但しＲ１及びＲ２が共にメチル基であり、ｎが０
であり、かつＸ１及びＸ２が共にメトキシ基である化合
物及びその塩、Ｒ １ が水素原子又は（Ｃ １ −Ｃ ３ ）アル
キル基であり、Ｒ ２ が（Ｃ １ −Ｃ ３ ）アルキル基であ
り、ｎが１であり、Ｘ １ 及びＸ ２ の一方がメトキシ基で
あって、他方がメチル基、メトキシ基又はエトキシ基で
あり、かつＹが塩素原子、弗素原子、臭素原子、メチル
基、メトキシ基、トリフルオロメチル基又はジフルオロ
メトキシ基である化合物及びその塩、並びにＲ １ が水素
原子又は（Ｃ １ −Ｃ ３ ）アルキル基であり、Ｒ ２ が（Ｃ
１ −Ｃ ２ ）アルコキシ基であり、Ｒ １ 及びＲ ２ が一緒に
なって−（ＣＨ ２ ） ｍ −（ｍは２、３又は４である）を
形成し、ｎが１であり、Ｘ １ 及びＸ ２ の一方がメトキシ
基であって、他方がメチル基、メトキシ基又はエトキシ
基であり、かつＹがトリフルオロメチル基又はジフルオ
ロメトキシ基である化合物及びその塩を除く）で表わさ
れる置換ピリジンスルホンアミド系化合物が含まれる。 【００１２】前記一般式（Ｉ）中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、
Ｒ4 及びＹに含まれるアルキル基或いはアルキル部分と
しては、炭素数１〜６のもの、例えば、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基などが挙げられ、Ｒ1 及び
Ｒ2 に含まれるアルケニル基としては、炭素数２〜６の
もの、例えば、プロペニル基、ブテニル基などが挙げら
れ、アルキニル基としては、炭素数２〜６のもの、例え
ば、プロピニル基、ブチニル基などが挙げられ、シクロ
アルキル基としては炭素数３〜６のもの、例えばシクロ
プロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シク
ロヘキシル基などが挙げられ、Ｒ1 、Ｒ2 及びＹに関す
るハロゲン原子としては、弗素原子、塩素原子、臭素原
子、沃素原子が挙げられる。また、Ｒ1 とＲ2 は窒素原
子と共に複素環を形成してもよいが、その複素環として
は例えばモルフォリン環、エチレンイミン環、ピロリジ
ン環、ピペリジン環などが挙げられる。 【００１３】本発明の置換ピリジンスルホンアミド系化
合物の塩は前記一般式（Ｉ）の化合物と塩基性の塩形成
物質との塩であり、具体的には例えばナトリウム、カリ
ウムなどのアルカリ金属塩、マグネシウム、カルシウム
などのアルカリ土類金属塩或いはモノメチルアミン、ジ
メチルアミン、トリエチルアミンなどのアミン塩などが
挙げられ、またそれらは、通常の方法で製造することが
できる。前記一般式（Ｉ）に於いてＲ1 及びＲ2 に含ま
れるハロアルキル基、ハロアルコキシ基、ハロアルコキ
シアルキル基、ハロアルコキシカルボニル基、ハロシク
ロアルキル基又はハロフェニル基、並びにＹに含まれる
ハロアルキル基、ハロアルコキシ基、ハロアルキルチオ
基又はハロアルコキシアルキル基はいずれもそれらが１
ケ又は２ケ以上のハロゲン原子により置換されたものを
表わす。前記一般式（Ｉ）で表わされる置換ピリジンス
ルホンアミド系化合物中、下記一般式で表わされる化合
物及びその塩が望ましい。 【００１４】 【化１３】 【００１５】更に望ましい態様を下記する。 （１）Ｒ1 は水素原子又はアルキル基、好ましくは水素
原子又はメチル基であり、Ｒ2 はアルキル基好ましくは
メチル基である。 （２）Ｙはハロゲン原子、アルキル基、ハロアルキル
基、アルコキシ基又はアルコキシアルキル基であり、好
ましくは塩素原子、臭素原子、メチル基又はジフルオロ
メチル基であってしかもそれらがピリジン核の６位に位
置し、ｎは０又は１である。 【００１６】（３）Ｘ1 及びＸ2 はメトキシ基である。 （４）具体的には下記化合物が望ましいものとして挙げ
られる。 Ｎ−〔（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ア
ミノカルボニル〕−３−メチルアミノカルボニル（又は
ジメチルアミノカルボニル）−２−ピリジンスルホンア
ミド或いは６−クロロ（又はブロモ、ジフルオロメチル
或いはメチル）−Ｎ−〔（４，６−ジメトキシピリミジ
ン−２−イル）アミノカルボニル〕−３−ジメチルアミ
ノカルボニル−２−ピリジンスルホンアミド。 【００１７】前記一般式（Ｉ）で表わされる本発明の置
換ピリジンスルホンアミド系化合物及びそれらの塩は、
例えば次のような方法によって製造することができる。 一般式（II）： Ｒ−ＳＯ2 Ｚ1 …（II） 〔式中、Ｒは前述の通りであり、Ｚ1 は−ＮＨ2 基、−
ＮＣＯ基、−ＮＨＣＯＣｌ基又は−ＮＨＣＯＯＲ5 基
（Ｒ5 はアルキル基又はアリール基である）である〕で
表わされるピリジン系化合物と、一般式（III)： 【００１８】 【化１４】 【００１９】〔式中、Ｘ3 及びＸ4 はハロゲン原子、メ
チル基、メトキシ基、又はエトキシ基であり、Ｚ2 は−
ＮＨ2 基、−ＮＣＯ基、−ＮＨＣＯＣｌ基又は−ＮＨＣ
ＯＯＲ5 基（Ｒ5 は前述の通りである）であり、Ｚ1 が
−ＮＨ2 基の場合Ｚ2 は−ＮＣＯ基、−ＮＨＣＯＣｌ基
又は−ＮＨＣＯＯＲ5 基であり、Ｚ2 が−ＮＨ2 基の場
合Ｚ1 は−ＮＣＯ基、−ＮＨＣＯＣｌ基又は−ＮＨＣＯ
ＯＲ5 基である）で表わされるピリミジン系化合物とを
反応させ、次いでＸ3 及び／又はＸ4 がハロゲン原子の
場合メトキシ化或いはエトキシ化を行ない、さらに所望
により塩形成処理を行なう。具体的には、次の〔Ａ〕〜
〔Ｇ〕法によって製造することができる。 【００２０】 【化１５】 【００２１】更に、別法として次のものが挙げられる。前記〔Ａ〕〜〔Ｈ〕の反応式において、Ｈａｌ．はハロ
ゲン原子であり、Ｒ、Ｒ5 、Ｘ1 、Ｘ2 及びＸ3 は前述
の通りである。前記一般式（II−５）で表わされる化合
物は、前記〔Ａ〕〜〔Ｆ〕法に準じて製造でき、また前
記一般式（II−６）で表わされる化合物は前記（II−
２）〜（II−４）で表わされる化合物とアンモニアとを
反応させることにより容易に得られる。前記一般式(III
−１）及び（II−２）中のＲ5 で表わされるアリール基
としては、塩素原子或いはメチル基で置換されてもよい
フェニル基又はナフチル基などが挙げられる。上記反応
〔Ａ〕及び〔Ｄ〕の反応においては、必要に応じて反応
を促進させるために、１，８−ジアザビシクロ〔５・４
・０〕−７−ウンデセンを添加してもよく、また
〔Ｂ〕、〔Ｃ〕、〔Ｅ〕及び〔Ｆ〕においては、必要に
応じて１，４−ジアザビシクロ〔２・２・２〕オクタン
を添加してもよい。さらに〔Ｂ〕、〔Ｃ〕、〔Ｅ〕及び
〔Ｆ〕の反応においては、必要に応じてトリエチルアミ
ン、ピリジンなどの塩基を添加してもよい。また上記反
応〔Ａ〕〜〔Ｈ〕は、必要に応じて溶媒の存在下で行わ
れる。溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、
クロロベンゼンなどの芳香族炭化水素類：クロロホル
ム、四塩化炭素、塩化メチレン、ジクロロエタン、トリ
クロロエタン、ヘキサン、シクロヘキサンなどの環状又
は非環状脂肪族炭化水素類：ジエチルエーテル、ジオキ
サン、テトラヒドロフランなどのエーテル類：アセトニ
トリル、プロピオニトリル、アクリロニトリルなどのニ
トリル類：ジメチルスルホキシド、スルホランなどの非
プロトン性極性溶媒などが挙げられる。 （１）前記反応式中の出発原料である一般式（II−１）
中のピリジン系化合物（II−１′）は、下記第１〜２フ
ローに示した工程により製造することが示される。 【００２２】 【化１６】【００２３】 【化１７】【００２４】（注）ＥＧはエチレングリコール、ＭｅＯ
Ｈはメタノール、ＥｔＯＨはエタノール、ＤＭＦはジメ
チルホルムアミド、ＤＭＳＯはジメチルスルホキシド、
Ｂｚはベンジル基、−Ｂｕ（ｔ）はターシャリーブチル
基、ＡｃＯＨは酢酸、をそれぞれ表わす。また１）及び
２）の各物質は１）の物質の作用後、２）の物質を作用
させることを表わす。 （２）一般式（II−１′）において、Ｙが弗素原子で置
換されたアルキル基のものの場合は、下記第３フローに
示した工程によっても製造することが示される。 【００２５】 【化１８】【００２６】（３）一般式（II−１′）において、Ｙが
アルコキシ基、ハロアルコキシ基、アルキルチオ基又は
ハロアルキルチオ基の場合は、下記第４フローに示した
工程によっても製造することが示される。 【００２７】 【化１９】【００２８】（４）一般式（II−１′）において、Ｙが
アルコキシメチル基又はハロアルコキシメチル基のもの
の場合は、第５フローに示した工程によっても製造する
ことが示される。 【００２９】 【化２０】【００３０】（５）一般式（II−１′）において、Ｙが 【００３１】 【化２１】 【００３２】基のものの場合は、第６フローに示した工
程によっても製造することが示される。 【００３３】 【化２２】【００３４】（６）一般式（II−１′）において、Ｙが
ハロゲン原子である場合、第７フローに示した工程によ
っても製造することが示される。 【００３５】 【化２３】【００３６】（７）一般式（II−１′）において、３−
ピリジンスルホンアミド系化合物は、第８フローに示し
た工程によっても製造することが示される。 【００３７】 【化２４】【００３８】（８）一般式（II−１）において、ピリジ
ン−Ｎ−オキシド系化合物（II−１″）は、第９フロー
に示した工程によっても製造することが示される。 【００３９】 【化２５】【００４０】（９）前記一般式（II−２）〜（II−４）
で表わされる化合物は、一般式（II−１）で表わされる
化合物から製造することが示される。 【００４１】 【化２６】 【００４２】なお、原料化合物の製造法における各反応
の反応温度、反応時間、必要に応じて使用される溶媒、
アルカリ性物質などの反応条件は、通常同様の反応にお
ける反応条件から適宜選択できる。本発明化合物の具体
的な中間体の合成例を下記する。 【００４３】中間体合成例１ ２−アミノスルホニル−５−クロロ−Ｎ，Ｎ−ジメチル
ニコチンアミドの合成 〔Ｉ〕 ２，５−ジクロロニコチン酸６．５ｇを２４．
７ｍｌの塩化チオニル中に投入し還流下で２時間反応さ
せた。反応後、過剰の塩化チオニルを留去し、３９ｍｌ
の塩化メチレンを加えた。さらにその中へジメチルアミ
ンの塩酸塩２．７７ｇを投入し、次いでトリエチルアミ
ン８．６０ｇを約１時間で滴下した後、室温で約１時間
反応させた。反応終了後、反応物を水中に投入し、塩化
メチレン抽出を行ない、塩化メチレン層を無水硫酸ナト
リウムで乾燥した後、塩化メチレンを減圧留去した。得
られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精
製し、融点１２０〜１２２℃の２，５−ジクロロ−Ｎ，
Ｎ−ジメチルニコチンアミド５．５ｇを得た。 【００４４】〔II〕 無水炭酸カリウム１．８９ｇのジ
メチルスルホキシド２８ｍｌの懸濁液に８０℃で前記工
程〔Ｉ〕で得られた２，５−ジクロロ−Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルニコチンアミド３．０ｇ、ベンジルメルカプタン１．
７０ｇ及びジメチルスルホキシド５ｍｌの混合物を約１
時間で滴下し、次いで１３０〜１４０℃で３０分間反応
させた。反応終了後、反応物を水中に投入し塩化メチレ
ン抽出を行った。塩化メチレン層を無水硫酸ナトリウム
で乾燥した後、塩化メチレンを減圧留去し、得られた残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製しオイ
ル状の２−ベンジルチオ−５−クロロ−Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルニコチンアミド２．１８ｇを得た。 【００４５】〔III 〕 前記工程〔II〕で得られた２−
ベンジルチオ−５−クロロ−Ｎ，Ｎ−ジメチルニコチン
アミド２．３６ｇの２０ｍｌ ５０％酢酸溶液中に０〜
５℃で塩素ガスを導入した。過剰の塩素が出始めた段階
で反応を終了した。反応終了後、反応物を氷１５０ｇと
塩化メチレン２００ｍｌ中に投入し塩化メチレン層を分
液し、さらに３００ｍｌの氷水で洗浄し塩化メチレン層
を０℃に冷却した。続いてこの中へｔｅｒｔ−ブチルア
ミンを滴下し室温にもどるまで撹拌し、反応液が弱アル
カリ性であることを確認し、反応を終了した。反応終了
後、反応物を水中に投入し塩化メチレン抽出し、無水硫
酸ナトリウムで乾燥の後、塩化メチレンを留去した。得
られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精
製し、融点１４３〜１４５℃の２−ｔｅｒｔ−ブチルア
ミノスルホニル−５−クロロ−Ｎ，Ｎ−ジメチルニコチ
ンアミド１．２１ｇを得た。 【００４６】〔IV〕 トリフルオロ酢酸１０ｍｌ中に前
記工程〔III 〕で得られた２−ｔｅｒｔ−ブチルアミノ
スルホニル−５−クロロ−Ｎ，Ｎ−ジメチルニコチンア
ミド１．０ｇを加え還流下で約１時間反応させた。反応
終了後、反応物よりトリフルオロ酢酸を減圧留去した
後、得られた残渣物をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーにより精製して融点１５５〜１５７℃の２−アミノ
スルホニル−５−クロロ−Ｎ，Ｎ−ジメチルニコチンア
ミド０．７１ｇを得た。 【００４７】中間体合成例２ ２−アミノスルホニル−６−クロロ−Ｎ，Ｎ−ジメチル
ニコチンアミドの合成 〔Ｉ〕 ２，６−ジクロロニコチン酸２３ｇを１００ｍ
ｌの塩化チオニル中に投入し還流下で１時間半反応させ
た。反応後、過剰の塩化チオニルを留去し、３００ｍｌ
の塩化メチレンを加えた。さらにその中へジメチルアミ
ンの塩酸塩１１．７ｇを投入し、次いでトリエチルアミ
ン１５．８ｇを約１時間で滴下した後、室温で約１時間
反応させた。反応終了後、反応物を水５００ｍｌ中に投
入し、塩化メチレン抽出を行ない、塩化メチレン層を無
水硫酸ナトリウムで乾燥した後塩化メチレンを減圧留去
した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーで精製し、融点６２．５〜６５℃の２，６−ジクロ
ロ−Ｎ，Ｎ−ジメチルニコチンアミド１９ｇを得た。 【００４８】〔II〕 無水炭酸カリウム６．６ｇのジメ
チルスルホキシド５０ｍｌの懸濁液に１３０〜１４０℃
で前記工程〔Ｉ〕で得られた２，６−ジクロロ−Ｎ，Ｎ
−ジメチルニコチンアミド７．０ｇ、ベンジルアルコー
ル３．８ｇ及びジメチルスルホキシド２０ｍｌの混合物
を約１時間で滴下し、次いで１５０℃で約２時間反応さ
せた。反応終了後、反応物を水中に投入し塩化メチレン
抽出を行った。塩化メチレン層は無水硫酸ナトリウムで
乾燥した後、塩化メチレンを減圧留去し、得られた残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製しオイル
状の６−ベンジルオキシ−２−クロロ−Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルニコチンアミド６．０ｇを得た。 【００４９】〔III 〕 無水炭酸カリウム２．２ｇのジ
メチルスルホキシド３０ｍｌの懸濁液中に１５０℃で前
記工程〔II〕で得られた６−ベンジルオキシ−２−クロ
ロ−Ｎ，Ｎ−ジメチルニコチンアミド２．９ｇ、ベンジ
ルメルカプタン１．５ｇ及びジメチルスルホキシド２０
ｍｌの混合物を約３０分で滴下し、次いで１５０℃で約
１．５時間反応させた。反応終了後、反応物を水中に投
入し塩化メチレン抽出を行ない、塩化メチレン層を無水
硫酸ナトリウムで乾燥した後塩化メチレンを減圧留去
し、得られた残渣物をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーで精製しオイル状の６−ベンジルオキシ−２−ベン
ジルチオ−Ｎ，Ｎ−ジメチルニコチンアミド０．９８ｇ
を得た。 【００５０】〔IV〕 濃塩酸６ｃｃ中に前記工程〔III
〕で得られた６−ベンジルオキシ−２−ベンジルチオ
−Ｎ，Ｎ−ジメチルニコチンアミド０．６９ｇを投入
し、室温で撹拌下約１５時間反応させた。反応終了後、
反応物を水中に投入し、塩化メチレンで目的物を抽出し
た。塩化メチレン層は無水硫酸ナトリウムで乾燥した
後、塩化メチレンを減圧留去した。得られた残渣物をシ
リカゲルクロマトグラフィーで精製し、融点５２〜６０
℃の２−ベンジルチオ−Ｎ，Ｎ−ジメチル−６−ヒドロ
キシニコチンアミド０．４１ｇを得た。 【００５１】〔Ｖ〕 ５ｃｃの塩化チオニル中に前記工
程〔IV〕で得られた２−ベンジルチオ−Ｎ，Ｎ−ジメチ
ル−６−ヒドロキシニコチンアミド１．０ｇ及びジメチ
ルホルムアミド０．３ｍｌを加え還流下で約１時間反応
させた。反応終了後、反応物を氷中に投入し、塩化メチ
レンで目的物を抽出した。塩化メチレン層を水洗いした
後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、塩化メチレンを減圧
留去した後、得られた残渣物をシリカゲルクロマトグラ
フィーで精製し、オイル状の２−ベンジルチオ−６−ク
ロロ−Ｎ，Ｎ−ジメチルニコチンアミド０．４５ｇを得
た。 【００５２】〔VI〕 このものを用い、前記中間体合成
例１の工程〔III 〕及び〔IV〕と同様の方法で融点１７
１〜１７３℃の２−アミノスルホニル−６−クロロ−
Ｎ，Ｎ−ジメチルニコチンアミドを得た。 【００５３】中間体合成例３ ２−アミノスルホニル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−６−エトキ
シニコチンアミドの合成 〔Ｉ〕 無水エタノール５０ｍｌ中に金属ナトリウム
０．２３１ｇを投入し、ナトリウムエトキサイドのエタ
ノール溶液を調製した。この中へ前記中間体合成例１の
工程〔Ｉ〕と同様の方法で得られた２，６−ジクロロ−
Ｎ，Ｎ−ジメチルニコチンアミド２．０ｇを投入し、約
１時間還流下で反応させた。反応液を水中に投入し、塩
化メチレン抽出を行なった。塩化メチレン層は無水硫酸
ナトリウムで乾燥した後、塩化メチレンを減圧留去し
た。シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、
油状の２−クロロ−Ｎ，Ｎ−ジメチル−６−エトキシニ
コチンアミド１．９５ｇを得た。 〔II〕 このものを用い、前記中間体合成例１の工程
〔II〕、〔III 〕及び〔IV〕と同様の方法で融点１５
０．５〜１５１．５℃の２−アミノスルホニル−Ｎ，Ｎ
−ジメチル−６−エトキシニコチンアミドを得た。 【００５４】中間体合成例４ ２−アミノスルホニル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−６−フルオ
ロニコチンアミドの合成 〔Ｉ〕 ２−ｔｅｒｔ−ブチルアミノスルホニル−６−
クロロ−Ｎ，Ｎ−ジメチルニコチンアミド０．３０２ｇ
及びスプレードライフッ化カリウム０．１１６ｇのジメ
チルスルホキシドスラリー溶液１０ｍｌを１５０℃で撹
拌下約３時間反応させた。反応終了後、反応液を１００
ｍｌの水中に投入し塩化メチレンで抽出した。抽出物は
水洗をくり返した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した
後、塩化メチレンを減圧留去し、シリカゲルクロマトグ
ラフィーで精製して２−ｔｅｒｔ−ブチルアミノスルホ
ニル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−６−フルオロニコチンアミド
０．２０４ｇを得た。 〔II〕 このものを用い、前記中間体合成例１の工程
〔IV〕と同様の方法で融点１６４〜１６５℃の２−アミ
ノスルホニル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−６−フルオロニコチ
ンアミドを得た。 【００５５】中間体合成例５ ２−アミノスルホニル−Ｎ−メチルニコチンアミドの合
成 〔Ｉ〕 乾燥したメタノール２５０ｍｌに室温で塩酸ガ
スを飽和させた後、２５０ｍｌのメタノール及び２−メ
ルカプトニコチン酸３０ｇを加え、室温で終夜反応させ
た。反応後、アンモニアガスで反応液を弱アルカリ性と
した後、メタノールを減圧留去した。続いて生じた結晶
を水洗後、濾取し、減圧乾燥して融点１３６〜１４０℃
のメチル ２−メルカプトニコチネート２４ｇを得た。 【００５６】〔II〕 前記工程〔Ｉ〕で得たメチル ２
−メルカプトニコチネート１０ｇを、５０ｍｌの酢酸を
５０ｍｌの水で希釈した溶液に加えた後、０℃以下で塩
素ガスを反応系内に導入し、過剰の塩素が出始めた段階
で反応を終了した。反応後、生じた溶液を氷１５０ｇと
塩化メチレン５００ｍｌの混合物中に投入し、塩化メチ
レン層を分液した。さらに５００ｍｌの氷水で洗浄し、
塩化メチレン層を０℃に冷却した。続いてこの中へ、ｔ
ｅｒｔ−ブチルアミン１２．９ｇを滴下し、室温にもど
るまで撹拌した。撹拌後、この反応液を５００ｍｌの水
中に投入し、塩化メチレン抽出し、無水硫酸ナトリウム
で乾燥の後、塩化メチレンを留去し、粗結晶１３ｇを得
た。このものを塩化メチレン、ノルマルヘキサンで再結
晶し、融点１６９〜１７１℃のメチル ２−ｔｅｒｔ−
ブチルアミノスルホニルニコチネートを得た。 【００５７】〔III 〕 無水メタノール２０ｍｌに大過
剰のメチルアミンを吸収させた後、室温で前記工程〔I
I〕で得たメチル ２−ｔｅｒｔ−ブチルアミノスルホ
ニルニコチネート１．０ｇを加え、１５時間撹拌し反応
を終了した。反応後、反応物を水中に投入し塩化メチレ
ンで抽出し、抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、塩
化メチレンを減圧で留去して、融点１８９〜１９２℃の
２−ｔｅｒｔ−ブチルアミノスルホニル−Ｎ−メチルニ
コチンアミド０．７３ｇを得た。 〔IV〕 このものを用い、前記中間体合成例１の工程
〔IV〕と同様の方法で融点２０７〜２０９．５℃の２−
アミノスルホニル−Ｎ−メチルニコチンアミドを得た。 【００５８】中間体合成例６ ２−アミノスルホニル−Ｎ，Ｎ−ジメチルニコチンアミ
ドの合成 〔Ａ法〕 〔Ｉ〕 ジメチルアミン１．３ｍｌを１０ｍｌの無水ベ
ンゼンに溶解した溶液に窒素雰囲気下１０℃以下で１９
％トリメチルアルミニウムのノルマルヘキサン溶液１０
ｍｌを加えた。室温になるまで反応させた後、メチル
２−ｔｅｒｔ−ブチルアミノスルホニルニコチネートを
ベンゼン４０ｍｌ、塩化メチレン２０ｍｌに溶解した溶
液を滴下した。続いて還流下で約９時間撹拌し反応を終
了した。反応終了後、反応液を希塩酸中に投入し、塩化
メチレンで抽出し、抽出物を無水硫酸ナトリウムで乾燥
した後、減圧下で塩化メチレンを留去し、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーで精製して２−ｔｅｒｔ−ブチ
ルアミノスルホニル−Ｎ，Ｎ−ジメチルニコチンアミド
１．０ｇを得た。 【００５９】〔II〕 このものを用い、前記中間体合成
例１の工程〔IV〕と同様の方法で融点２０９〜２１１℃
の２−アミノスルホニルＮ，Ｎ−ジメチルニコチンアミ
ドを得た。 〔Ｂ法〕２−ベンジルチオ−Ｎ，Ｎ−ジメチルニコチン
アミド２．７ｇの５０ｍｌ ５０％酢酸溶液中に０〜５
℃で塩素ガスを過剰の塩素が出るまで導入した。反応終
了後、反応混合物を２００ｍｌの氷水中に投入し、６０
ｍｌの塩化メチレンで抽出した。次いで塩化メチレン層
を１００ｍｌの氷水で洗浄し、０℃に冷却してアルカリ
性になるまでアンモニアガスを導入した。塩化メチレン
を留去した後、残渣に水１５ｍｌを加え撹拌した。生じ
た結晶を濾取し、少量の水で洗浄した後、減圧乾燥して
融点２０９〜２１１℃を有する２−アミノスルホニル−
Ｎ，Ｎ−ジメチルニコチンアミド１．２７ｇを得た。 【００６０】中間体合成例７ ２−アミノスルホニル−Ｎ−エチル−Ｎ−メチルニコチ
ンアミドの合成 〔Ｉ〕 ２−クロロニコチン酸３０ｇ及び塩化チオニル
の混合物を還流下で４時間反応させた。反応液より、過
剰の塩化チオニルを減圧で留去した後、塩化メチレン５
００ｍｌを加え室温でメチルアミンガスを反応液が弱ア
ルカリ性になるまで導入した。生じたメチルアミンの塩
酸塩を濾別し、濾液を濃縮した。生じた結晶をノルマル
ヘキサンと塩化メチレンより再結晶して、融点１０６〜
１０７℃の２−クロロ−Ｎ−メチルニコチンアミド２７
ｇを得た。 【００６１】〔II〕 ジメチルホルムアミド５０ｍｌ中
に懸濁させた６０％ナトリウムハイドロライド１．１７
ｇ中に前記工程〔Ｉ〕で得られた２−クロロ−Ｎ−メチ
ルニコチンアミド５ｇのジメチルホルムアミド１０ｍｌ
溶液を０〜５℃で滴下した。０〜５℃で約３０分間反応
させた後、３．５ｇのエチルブロマイドを０℃で滴下し
た。室温で約２．５時間反応させた後、水中に投入し、
塩化メチレンで抽出した。抽出物は水洗を行なった後、
無水硫酸ナトリウムで乾燥し、塩化メチレンを減圧で留
去した。シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製を
行ない、オイル状の２−クロロ−Ｎ−エチル−Ｎ−メチ
ルニコチンアミド５．７ｇを得た。 〔III 〕 このものを用い、前記中間体合成例１の工程
〔II〕〜〔IV〕と同様の方法で融点２０２〜２０３℃の
２−アミノスルホニル−Ｎ−エチル−Ｎ−メチルニコチ
ンアミドを得た。 【００６２】中間体合成例８ ２−アミノスルホニル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−６−メチル
ニコチンアミドの合成 〔Ｉ〕 ２−ヒドロキシ−６−メチルニコチン酸１．３
５ｇ及び塩化チオニル１５ｍｌの混合物にジメチルホル
ムアミドを一滴加え、還流下で約２時間反応させた後、
過剰の塩化チオニルを減圧留去し、残渣に塩化メチレン
５０ｍｌを加えた。このものを３０％ジメチルアミン水
溶液３０ｍｌ及び塩化メチレン５０ｍｌの混合物中に滴
下し、室温で１５分間反応させた。 【００６３】反応終了後、反応混合物を水中投入し、塩
化メチレン抽出した。塩化メチレン層は水洗した後、無
水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧で塩化メチレンを留去
し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製
し、融点６６〜６７．５℃の２−クロロ−３−Ｎ，Ｎ−
ジメチルアミノカルボニル−６−メチルピリジン１．５
７ｇ（ｍ．ｐ．６６〜６７．５℃）を得た。 〔II〕 このものを用い、前記中間体合成例１の工程
〔II〕〜〔IV〕と同様の方法で融点１８８．５〜１９
０．５℃の２−アミノスルホニル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−
６−メチルニコチンアミドを得た。 【００６４】中間体合成例９ ２−アミノスルホニル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−６−メトキ
シニコチンアミドの合成 〔Ｉ〕 ２，６−ジクロロニコチン酸３３ｇ及び塩化チ
オニル１００ｍｌを混合し、還流下で約３時間反応を行
なった。反応終了後、過剰の塩化チオニルを減圧留去し
た後、塩化メチレン５００ｍｌをこの中へ投入した。室
温から４０℃でこの混合物中に無水メタノールを滴下し
た。滴下終了後、約１時間還流下で反応させた。反応終
了後、反応液を５００ｍｌの水中に投入し、塩化メチレ
ンで分液し、水洗した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥
し、減圧で塩化メチレンを留去した。次いでシリカゲル
カラムクロマトグラフィーで精製して、融点４５．５〜
４８．０℃のメチル ２，６−ジクロロニコチネート２
７ｇを得た。 【００６５】〔II〕 このものを用い、６位のメトキシ
化反応、２位のベンジルチオ化反応、アミド化反応、２
位のターシャリーブチルアミノスルホニル化反応次いで
脱ターシャリーブチル化反応を行ない（それぞれ前記中
間体合成例３の工程〔Ｉ〕、同合成例１の工程〔II〕、
同合成例６の〔Ａ法〕工程〔Ｉ〕、同合成例１の工程
〔III 〕及び〔IV〕と同様の方法）２−アミノスルホニ
ル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−６−メトキシニコチンアミドを
得た。 【００６６】中間体合成例１０ ２−アミノスルホニル−６−ジフルオロメチル−Ｎ，Ｎ
−ジメチルニコチンアミドの合成 〔Ｉ〕 前記中間体合成例５の工程〔Ｉ〕及び〔II〕と
同様な方法で得たメチル２−ｔｅｒｔ−ブチルアミノス
ルホニル−６−メチルニコチネート１１．５ｇ、四塩化
炭素１８６ｍｌ、Ｎ−ブロモスクシンイミド１４．８４
ｇ及び過酸化ベンゾイル０．６８ｇの混合物を３時間加
熱還流した。反応終了後、反応混合物を濾過し、濾液を
減圧濃縮しシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精
製してメチル ２−ｔｅｒｔ−ブチルアミノスルホニル
−６−ジブロモメチルニコチネート４．５ｇを得た。 【００６７】〔II〕 このものの４．４ｇ、エタノール
３５ｍｌ、及び水２９ｍｌの混合物に硝酸銀３．７ｇを
加え３時間加熱還流した。反応終了後、反応混合物を水
中に投入し、塩化メチレンで抽出し、水洗後、無水硫酸
ナトリウムで乾燥し溶媒を留去した。残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィーにて精製してメチル ２−ｔ
ｅｒｔ−ブチルアミノスルホニル−６−ホルミルニコチ
ネート２．９２ｇを得た。 【００６８】〔III 〕 このホルミルニコチネート０．
４８ｇの塩化メチレン１９ｍｌ溶液に氷冷下ジエチルア
ミノ三ふっ化イオウ０．６２ｇの塩化メチレン５ｍｌ溶
液を加え室温で１時間撹拌した。反応終了後、反応混合
物を水中投入し、塩化メチレンで抽出して水洗を行な
い、無水硫酸ナトリウムで乾燥後溶媒を留去した。残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、メ
チル ２−ｔｅｒｔ−ブチルアミノスルホニル−６−ジ
フルオロメチルニコチネート０．２５ｇを得た。 【００６９】〔IV〕 このものの０．５０ｇと、ジメチ
ルアミンを飽和させた無水メタノール１０ｍｌとの混合
物を室温で１晩放置した。反応終了後、反応物より溶媒
を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
で精製し２−ｔｅｒｔ−ブチルアミノスルホニル−６−
ジフルオロメチル−Ｎ，Ｎ−ジメチルニコチンアミド
０．１５ｇを得た。 〔Ｖ〕 このものを用い、前記中間体合成例１の工程
〔IV〕と同様の方法で、２−アミノスルホニル−６−ジ
フルオロメチル−Ｎ，Ｎ−ジメチルニコチンアミドを得
た。 【００７０】中間体合成例１１ ２−アミノスルホニル−６−ブロモ−Ｎ，Ｎ−ジメチル
ニコチンアミドの合成 〔Ｉ〕 ２−ベンジルチオ−６−クロロ−Ｎ，Ｎ−ジメ
チルニコチンアミド１．２ｇに酢酸５ｍｌを加え、１０
℃まで昇温し臭化水素ガスを３０分間導入し、更に３０
分間反応を行った。反応終了後、反応混合物を冷却した
後、氷水中に投入し、塩化メチレンで抽出し重ソウ水で
洗浄し、更に水洗を行った。ついで無水硫酸ナトリウム
で乾燥し、塩化メチレンを留去後、シリカゲルカラムク
ロマトグラフィーで精製して融点１０５〜１０６℃の２
−ベンジルチオ−６−ブロモ−Ｎ，Ｎ−ジメチルニコチ
ンアミド１．０ｇを得た。 〔II〕 このものを用い、前記中間体合成例１の工程
〔III 〕及び〔IV〕と同様の方法で融点１５４〜１５６
℃の２−アミノスルホニル−６−ブロモ−Ｎ，Ｎ−ジメ
チルニコチンアミドを得た。 前記一般式（II−１′）で表わされる化合物につき、そ
の代表例を第１表に掲載する。 【００７１】 【表１】【００７２】 【表２】【００７３】 【表３】【００７４】次に本発明化合物の具体的合成例を記載す
る。 合成例Ｎｏ．１ ５−クロロ−Ｎ−〔（４，６−ジメトキシピリミジン−
２−イル）アミノカルボニル〕−３−ジメチルアミノカ
ルボニル−２−ピリジンスルホンアミド（化合物Ｎｏ．
９）の合成 ２−アミノスルホニル−５−クロロ−Ｎ，Ｎ−ジメチル
ニコチンアミド０．３０ｇ及び２−フェノキシカルボニ
ルアミノ−４，６−ジメトキシピリミジン０．３５ｇを
無水アセトニトリル１０ｍｌに加えた懸濁液に１，８−
ジアザビシクロ〔５・４・０〕−７−ウンデセン０．１
９ｇを加え室温で４５分間反応させた。反応終了後、反
応物を水中に投入し、不溶物を濾別した後、濃塩酸で弱
酸性として塩化メチレンで抽出した。次いで無水硫酸ナ
トリウムで乾燥後、溶媒を留去し、融点１５２〜１５５
℃の目的物０．２６ｇを得た。 合成例 Ｎｏ．２〜Ｎｏ．１３ 前記合成例１と同様の方法を行ない、第２表の結果を得
た。 【００７５】 【表４】【００７６】 【表５】【００７７】合成例Ｎｏ．１４ Ｎ−〔（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ア
ミノカルボニル〕−３−ジメチルアミノカルボニル−２
−ピリジンスルホンアミドの合成 方法１：２０％ホスゲンの酢酸エチル溶液６．３ｇに１
５℃で２−アミノ−４，６−ジメトキシピリミジン２５
０ｍｇ、トリエチルアミン０．６５ｇ及び酢酸エチル
２．５ｇの混合溶液を滴下し、１５℃に保ちながら１時
間反応を行った。次いで、９０℃の油浴上で加温し、過
剰のホスゲン及び酢酸エチルを留去した後、２−アミノ
スルホニル−Ｎ，Ｎ−ジメチルニコチンアミド３００ｍ
ｇを１０ｍｌのアセトニトリルに溶解した溶液を加え、
更に０．２ｇのトリエチルアミンを滴下し、室温で１時
間反応した。反応終了後、生成物を水中に投入し、塩酸
で酸性化し、析出した結晶を濾取し、水洗及び乾燥を行
ない０．４６ｇの目的物を得た。 【００７８】方法２： 〔Ｉ〕６０％水素化ナトリウムの５ｍｌジメチルホルム
アミドスラリー中に−５℃で２−アミノスルホニル−
Ｎ，Ｎ−ジメチルニコチンアミド２．１３ｇを加え約１
時間反応させた。この中へ−５℃でジフェニルカーボネ
ート２．１４ｇのジメチルホルムアミド１０ｍｌ溶液を
滴下した。約３０分で室温にもどし反応を完了した。反
応液を水中に投入し、塩化メチレン洗浄を行なった後、
水層を塩酸酸性とし、塩化メチレン抽出を行なった。塩
化メチレン層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧
下塩化メチレンを留去した。生じた結晶を酢酸エチル、
ヘキサンより再結晶し、融点１８９〜１９４℃のＮ，Ｎ
−ジメチル−２−フェノキシカルボニルアミノスルホニ
ルニコチンアミド０．９１ｇを得た。 【００７９】〔II〕 前記工程〔Ｉ〕で得たＮ，Ｎ−ジ
メチル−２−フェノキシカルボニルアミノスルホニルニ
コチンアミド０．２８ｇ及び２−アミノ−４−クロロ−
６−メトキシピリミジン０．１４ｇを無水ジオキサン８
ｍｌ中に加え、還流下で約４０分間反応させた。反応終
了後、反応混合物を２００ｍｌの水中に投入し、生じた
結晶を濾取し融点１５７〜１５８．５℃のＮ−〔（４−
クロロ−６−メトキシピリミジン−２−イル）アミノカ
ルボニル〕−３−ジメチルアミノカルボニル−２−ピリ
ミジンスルホンアミドを０．２１ｇ得た。 〔III 〕 無水メタノール７ｍｌ中に金属ナトリウム１
８．３ｍｇを加えたのち前記工程〔Ｉ〕で得たＮ−
〔（４−クロロ−６−メトキシピリミジン−２−イル）
アミノカルボニル〕−３−ジメチルアミノカルボニル−
２−ピリミジンスルホンアミド０．１１ｇを加え１２時
間加熱還流させた。反応終了後、反応混合物を水中に投
入し塩酸で酸性化し、生じた結晶を濾取し水洗及び乾燥
を行ない、目的物７０ｍｇを得た。前記一般式（Ｉ）で
表わされる本発明化合物及びその塩の代表例を第３表に
掲載する。 【００８０】 【表６】【００８１】 【表７】【００８２】 【表８】【００８３】 【表９】【００８４】本発明化合物は、コゴメガヤツリ、ホタル
イ、ハマスゲなどのカヤツリグサ科雑草、イヌビエ、メ
ヒシバ、エノコログサ、オヒシバ、カラスムギ、セイバ
ンモロコシ、シバムギなどのイネ科雑草、イチビ、マル
バアサガオ、シロザ、アメリカキンゴジカ、スベリヒ
ユ、アオビユ、エビスグサ、イヌホオズキ、タデ、ハコ
ベ、オナモミ、タネツケバナなどの広葉雑草など、広い
範囲の雑草を防除することができるので、その適用範囲
は畑地は勿論畑地以外に果樹園、桑畑などの農耕地、山
林、農道、グランド、工場敷地、芝地などの非農耕地と
多岐にわたることができ、また、適用方法も土壌処理、
茎葉処理を適宜選択できる。 【００８５】特に、本発明化合物は、後記試験例にみる
通り、トウモロコシに害を与えずに有害雑草を防除する
ことができることから、非常に有用である。本発明除草
剤を施用する場合、通常は担体、必要に応じて希釈剤、
溶剤、乳化剤、展着剤、界面活性剤などの各種補助剤と
混合して、粒剤、水和剤、乳剤、液剤などに製剤して使
用する。有効成分化合物と農薬用補助剤との適当な配合
重量比は、一般に１：９９〜９０：１０、望ましくは
５：９５〜６０：４０である。有効成分化合物の使用適
量は気象条件、土壌条件、薬剤の製剤形態、対象雑草の
種類、施用時期などの相違により一概に規定できない
が、一般に１アール当りの施用有効成分量としては０．
１ｇ〜１００ｇ、望ましくは０．２ｇ〜５０ｇ、更に望
ましくは０．５ｇ〜１０ｇである。 【００８６】本発明除草剤は、他の農薬、肥料、土壌、
薬害軽減剤などと混用或いは併用することができ、この
場合に一層優れた効果・作用性を示すことがある。他の
除草剤と混用或いは併用する場合、その混合相手除草剤
の有効成分としては、例えば次のようなものが挙げられ
る。その場合相乗効果が得られることもある。 ・３，６−ジクロロ−２−メトキシ安息香酸 ・２，５−ジクロロ−３−アミノ安息香酸 ・２，４−ジクロロフェノキシ酢酸 ・４−クロロ−２−メチルフェノキシ酢酸 ・２−クロロ−４，６−ビス（エチルアミノ）−１，
３，５−トリアジン 【００８７】・２−クロロ−４−エチルアミノ−６−イ
ソプロピルアミノ−１，３，５−トリアジン ・２−（４−クロロ−６−エチルアミノ−１，３，５−
トリアジン−２−イルアミノ）−２−メチルプロピオニ
トリル ・２−エチルアミノ−４−イソプロピルアミノ−６−メ
チルチオ−１，３，５−トリアジン ・２−クロロ−２′，６′−ジエチル−Ｎ−（メトキシ
メチル）アセトアニリド ・２−クロロ−６′−エチル−Ｎ−（２−メトキシ−１
−メチルエチル）アセト−ｏ−トルイジド 【００８８】・２−クロロ−Ｎ−イソプロピルアセトア
ニリド ・２−クロロ−Ｎ，Ｎ−ジ−２−プロペニルアセトアミ
ド ・Ｓ−エチル ジプロピルチオカーバメート ・Ｓ−エチル ジイソブチルチオカーバメート ・Ｓ−プロピル ジプロピルチオカーバメート ・Ｎ−（１−エチルプロピル）−２，６−ジニトロ−
３，４−キシリジン ・α，α，α−トリフルオロ−２，６−ジニトロ−Ｎ，
Ｎ−ジプロピル−ｐ−トルイジン 【００８９】・２−（３，５−ジクロロフェニル）−２
−（２，２，２−トリクロロエチル）オキシラン ・３−イソプロピル−（１Ｈ）−ベンゾ−２，１，３−
チアジアジン−４−オン−２，２−ジオキシド ・３−（３，４−ジクロロフェニル）−１−メトキシ−
１−メチルウレア ・３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシベンゾニトリル ・２−クロロ−４−トリフルオロメチルフェニル−３−
エトキシ−４−ニトロフェニルエーテル 【００９０】具体的には例えば本発明化合物中、Ｎ−
〔４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）アミノカ
ルボニル〕−３−メチルアミノカルボニル（又はジメチ
ルアミノカルボニル）−２−ピリジンスルホンアミド或
いは６−クロロ（又はブロモ、ジフルオロメチル或いは
メチル）−Ｎ−〔（４，６−ジメトキシピリミジン−２
−イル）アミノカルボニル〕−３−ジメチルアミノカル
ボニル−２−ピリジンスルホンアミドと上記混合相手除
草剤中、２−クロロ−４−エチルアミノ−６−イソプロ
ピルアミノ−１，３，５−トリアジン、２−（４−クロ
ロ−６−エチルアミノ−１，３，５−トリアジン−２−
イルアミノ）−２−メチルプロピオニトリル、２−クロ
ロ−２′，６′−ジエチル−Ｎ−（メトキシメチル）ア
セトアニリド、２−クロロ−６′−エチル−Ｎ−（２−
メトキシ−１−メチルエチル）アセト−ｏ−トルイジド
又はＮ−（１−エチルプロピル）−２，６−ジニトロ−
３，４−キシリジンとを混用した場合、トウモロコシに
薬害を与えずに、雑草をほぼ完全に防除することができ
る。 【００９１】試験例１ １／１，５００アールポットに畑作土壌をつめ、各種植
物の種を播種した。その後、植物が一定の葉令（トウモ
ロコシ２．２〜３．５葉期、小麦２．０〜３．５葉期、
オナモミ２．０〜３．５葉期、アサガオ０．５〜１．２
葉期、タデ０．５〜１．２葉期、アメリカキンゴジカ
０．１〜１．５葉期、オアビユ０．１〜１．５葉期、ヒ
エ２．０〜２．５葉期）に達したとき、本発明除草剤の
水和剤を所定量となるように秤量し、アール当り５リッ
トルの水に希釈した。更にその水溶液に農業用展着剤を
０．２％となるように加えて、小型スプレーで茎葉処理
した。処理後、２２〜３７日目に各種植物の生育状態を
肉眼で観察調査を行い、１０段階（１：無処理区と同様
〜１０：完全に抑制）で生育抑制程度を評価し、第４表
の結果を得た。 【００９２】 【表１０】【００９３】 【表１１】【００９４】 【表１２】【００９５】 【表１３】【００９６】 【表１４】 【００９７】試験例２ １／１０，０００アールポットに畑土壌を詰め、それぞ
れ別々のポットにメヒシバ、イヌホオズキを播種した。
その後、メヒシバが２葉期、イヌホオズキ０．５葉期に
生育した時、供試化合物の有効成分が所定量となるよう
に秤量し、これらをアール当り５リットルの水に希釈し
た。更にこの水溶液に農業用展着剤を０．２％となるよ
うに加えて、小型スプレーで茎葉散布した。処理後２３
日目に各雑草の生育状態を肉眼観察し、試験例１と同様
の方法で生育抑制程度を評価して、第５表の結果を得
た。 【００９８】 【表１５】 【００９９】試験例３ 長さ約１５ｃｍのセイバンモロコシ地下茎を１／３，０
００アールポットに２本植え込み、温室内で生育させ
た。葉令が４〜５葉期に達した時、供試化合物の有効成
分が所定量になるように秤量し、これらをアール当り５
リットルの水に希釈した。更にこの水溶液に農業用展着
剤を０．２％となるように加えて、小型スプレーで茎葉
散布した。処理後３５日目に、セイバンモロコシの生育
抑制程度を肉眼観察し、試験例１と同様の方法で生育抑
制程度を評価して、第６表の結果を得た。 【０１００】 【表１６】 【０１０１】試験例４ ハマスゲ塊茎を１／１０，０００アールポットに４粒植
え込み、温室内で生育させた。葉令が３〜４期に達した
時、本発明化合物の有効成分が所定量となるように秤量
し、これらをアール当り５リットルの水に希釈した。更
にこの水溶液に農業用展着剤を０．２％となるように加
えて、小型スプレーで茎葉散布した。処理後５１日目に
ハマスゲの生育抑制程度を肉眼観察し、試験例１と同様
の方法で生育抑制程度を評価して、第７表の結果を得
た。 【０１０２】 【表１７】 【０１０３】次に、本発明除草性組成物の製剤例を記載
する。 製剤例１ （１）ニューライト（商品名：日本耐火原料（株）製） ９７重量部 （２）ディクスゾールＷ−９２ (商品名：第一工業製薬（株）製） ２重量部 （３）化合物Ｎｏ．１５ １重量部 以上の各成分を混合、粉砕して粉剤が得られる。 製剤例２ （１）水溶性デンプン ５５重量部 （２）リグニンスルホン酸ソーダ ５重量部 （３）化合物Ｎｏ．５９ ４０重量部 以上の各成分を混合して水溶剤が得られる。 【０１０４】製剤例３ （１）カオリン ７８重量部 （２）ラベリンＳ（商品名：第一工業製薬（株）製） ２重量部 （３）ソルポール５０３９ (商品名：東邦化学工業（株）製） ５重量部 （４）カープレックス（商品名：塩野義製薬（株）製） １５重量部 以上（１）〜（４）の成分の混合物と本発明化合物とを
９：１の重量割合で混合して水和剤が得られる。 製剤例４ （１）珪藻土 ６３重量部 （２）ディクスゾールＷ−６６ (商品名：第一工業製薬（株）製） ５重量部 （３）ディクスゾールＷ−０９Ｂ (商品名：同上） ２重量部 （４）化合物Ｎｏ．２９ ３０重量部 以上の各成分を混合して水和剤が得られる。 【０１０５】製剤例５ （１）ハイフィラーＮｏ．１０ (商品名：松村産業（株）製） ３３重量部 （２）ソルポール５０５０ (商品名：東邦化学（株）製） ３重量部 （３）ソルポール５０７３ (商品名：同上） ４重量部 （４）化合物Ｎｏ．３４ ６０重量部 以上の各成分を混合して、水和剤が得られる。 製剤例６ （１）フェニルスルホン酸ナトリウム ４重量部 （２）ポリカルボン酸ナトリウム ３重量部 （３）アルキルアリールスルホン酸ナトリウム １重量部 （４）カオリン １２重量部 （５）化合物Ｎｏ．２５ ８０重量部 以上の各成分に水を加え混練し、乾燥後破壊して水和剤
が得られる。
ルホンアミド系化合物及びその塩、それらを有効成分と
して含有する除草剤並びにそれらの化合物の製造方法に
関する。 【０００２】 【先行技術及び本発明に至った経緯】本発明の置換ピリ
ジンスルホンアミド系化合物は、該ピリジン環にＮ−置
換アミノカルボニル基を有することを特徴とする。前記
置換ピリジンスルホンアミド系化合物は特開昭５９−３
９８７８号公報、特開昭５９−５９６７１号公報、特開
昭５９−９８０６６号公報において広く一般式で示され
ていることにより、概念的には知られている。しかしな
がら本発明化合物は前記明細書中には何ら具体的に開示
されていない。また、或る置換ピリジンスルホンアミド
系化合物は米国特許第４，４３５，２０６号明細書に記
載されているが、該明細書にはピリジン環にＮ−置換ア
ミノカルボニル基を有するピリジンスルホンアミド系化
合物は記載されていない。一方、スルホンアミド系化合
物を有効成分とする除草剤は従来多くの類縁体が開発さ
れているが、トウモロコシに対して安全性が高く、しか
も高い除草効果を有するものは未だ開発されていない。
本発明者等は、スルホンアミド系化合物についてその化
学構造と植物に対する生理活性とを詳細に検討し、特に
トウモロコシ畑用除草剤を見出すべく検討を重ねた結
果、ピリジンスルホンアミド系化合物において、ピリジ
ン環にＮ−置換アミノカルボニル基を有し、かつ他の特
定の置換基を有してもよく、さらにスルホンアミド部分
の窒素原子に置換ピリミジン−２−イル−アミノカルボ
ニル基を結合させた化合物がトウモロコシ畑用除草剤と
して有用であるとの知見を得て、本発明を完成した。 【０００３】 【発明の開示】本発明は、一般式（Ｉ）： 【０００４】 【化９】 【０００５】〔Ｒ1 及びＲ2 は水素原子、アルキル基、
ハロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコ
キシ基、ハロアルコキシ基、アルコキシアルキル基、ハ
ロアルコキシアルキル基、シクロアルキル基、ハロシク
ロアルキル基、アルコキシカルボニル基、ハロアルコキ
シカルボニル基、フェニル基又はハロフェニル基であ
り、Ｒ1 及びＲ2 の一方が水素原子の場合他方は水素原
子以外のものであり、Ｒ1及びＲ2 が隣接している窒素
原子と共に複素環を形成してもよく、Ｙはハロゲン原
子、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシ基、ハロ
アルコキシ基、アルキルチオ基、ハロアルキルチオ基、
アルコキシアルキル基、ハロアルコキシアルキル基又は 【０００６】 【化１０】 【０００７】（Ｒ3 及びＲ4 は水素原子又はアルキル基
である）であり、ｎは０又は１或いは２の整数であり、
Ｘ1 及びＸ2 はメチル基、メトキシ基又はエトキシ基で
ある〕である｝で表わされる置換ピリジンスルホンアミ
ド系化合物及びその塩、それらを含有する除草剤並びに
それらの化合物の製造方法である。一般式（Ｉ）で表さ
れる化合物中には、一般式（Ｉ’）で表される化合物す
なわち 一般式（Ｉ’）： 【０００８】 【化１１】【０００９】（式中、Ｒ1 及びＲ2 は水素原子、アルキ
ル基、ハロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、
アルコキシ基、ハロアルコキシ基、アルコキシアルキル
基、ハロアルコキシアルキル基、シクロアルキル基、ハ
ロシクロアルキル基、アルコキシカルボニル基、ハロア
ルコキシカルボニル基、フェニル基又はハロフェニル基
であり、Ｒ1 及びＲ2 の一方が水素原子の場合他方は水
素原子以外のものであり、Ｒ1 及びＲ2 が隣接している
窒素原子と共に複素環を形成してもよく、Ｙはハロゲン
原子、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシ基、ハ
ロアルコキシ基、アルキルチオ基、ハロアルキルチオ
基、アルコキシアルキル基、ハロアルコキシアルキル基
又は 【００１０】 【化１２】 【００１１】（Ｒ３及びＲ４は水素原子又はアルキル基
である）であり、ｎは０又は１或いは２の整数であり、
Ｘ１及びＸ２はメチル基、メトキシ基又はエトキシ基で
ある。但しＲ１及びＲ２が共にメチル基であり、ｎが０
であり、かつＸ１及びＸ２が共にメトキシ基である化合
物及びその塩、Ｒ １ が水素原子又は（Ｃ １ −Ｃ ３ ）アル
キル基であり、Ｒ ２ が（Ｃ １ −Ｃ ３ ）アルキル基であ
り、ｎが１であり、Ｘ １ 及びＸ ２ の一方がメトキシ基で
あって、他方がメチル基、メトキシ基又はエトキシ基で
あり、かつＹが塩素原子、弗素原子、臭素原子、メチル
基、メトキシ基、トリフルオロメチル基又はジフルオロ
メトキシ基である化合物及びその塩、並びにＲ １ が水素
原子又は（Ｃ １ −Ｃ ３ ）アルキル基であり、Ｒ ２ が（Ｃ
１ −Ｃ ２ ）アルコキシ基であり、Ｒ １ 及びＲ ２ が一緒に
なって−（ＣＨ ２ ） ｍ −（ｍは２、３又は４である）を
形成し、ｎが１であり、Ｘ １ 及びＸ ２ の一方がメトキシ
基であって、他方がメチル基、メトキシ基又はエトキシ
基であり、かつＹがトリフルオロメチル基又はジフルオ
ロメトキシ基である化合物及びその塩を除く）で表わさ
れる置換ピリジンスルホンアミド系化合物が含まれる。 【００１２】前記一般式（Ｉ）中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、
Ｒ4 及びＹに含まれるアルキル基或いはアルキル部分と
しては、炭素数１〜６のもの、例えば、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基などが挙げられ、Ｒ1 及び
Ｒ2 に含まれるアルケニル基としては、炭素数２〜６の
もの、例えば、プロペニル基、ブテニル基などが挙げら
れ、アルキニル基としては、炭素数２〜６のもの、例え
ば、プロピニル基、ブチニル基などが挙げられ、シクロ
アルキル基としては炭素数３〜６のもの、例えばシクロ
プロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シク
ロヘキシル基などが挙げられ、Ｒ1 、Ｒ2 及びＹに関す
るハロゲン原子としては、弗素原子、塩素原子、臭素原
子、沃素原子が挙げられる。また、Ｒ1 とＲ2 は窒素原
子と共に複素環を形成してもよいが、その複素環として
は例えばモルフォリン環、エチレンイミン環、ピロリジ
ン環、ピペリジン環などが挙げられる。 【００１３】本発明の置換ピリジンスルホンアミド系化
合物の塩は前記一般式（Ｉ）の化合物と塩基性の塩形成
物質との塩であり、具体的には例えばナトリウム、カリ
ウムなどのアルカリ金属塩、マグネシウム、カルシウム
などのアルカリ土類金属塩或いはモノメチルアミン、ジ
メチルアミン、トリエチルアミンなどのアミン塩などが
挙げられ、またそれらは、通常の方法で製造することが
できる。前記一般式（Ｉ）に於いてＲ1 及びＲ2 に含ま
れるハロアルキル基、ハロアルコキシ基、ハロアルコキ
シアルキル基、ハロアルコキシカルボニル基、ハロシク
ロアルキル基又はハロフェニル基、並びにＹに含まれる
ハロアルキル基、ハロアルコキシ基、ハロアルキルチオ
基又はハロアルコキシアルキル基はいずれもそれらが１
ケ又は２ケ以上のハロゲン原子により置換されたものを
表わす。前記一般式（Ｉ）で表わされる置換ピリジンス
ルホンアミド系化合物中、下記一般式で表わされる化合
物及びその塩が望ましい。 【００１４】 【化１３】 【００１５】更に望ましい態様を下記する。 （１）Ｒ1 は水素原子又はアルキル基、好ましくは水素
原子又はメチル基であり、Ｒ2 はアルキル基好ましくは
メチル基である。 （２）Ｙはハロゲン原子、アルキル基、ハロアルキル
基、アルコキシ基又はアルコキシアルキル基であり、好
ましくは塩素原子、臭素原子、メチル基又はジフルオロ
メチル基であってしかもそれらがピリジン核の６位に位
置し、ｎは０又は１である。 【００１６】（３）Ｘ1 及びＸ2 はメトキシ基である。 （４）具体的には下記化合物が望ましいものとして挙げ
られる。 Ｎ−〔（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ア
ミノカルボニル〕−３−メチルアミノカルボニル（又は
ジメチルアミノカルボニル）−２−ピリジンスルホンア
ミド或いは６−クロロ（又はブロモ、ジフルオロメチル
或いはメチル）−Ｎ−〔（４，６−ジメトキシピリミジ
ン−２−イル）アミノカルボニル〕−３−ジメチルアミ
ノカルボニル−２−ピリジンスルホンアミド。 【００１７】前記一般式（Ｉ）で表わされる本発明の置
換ピリジンスルホンアミド系化合物及びそれらの塩は、
例えば次のような方法によって製造することができる。 一般式（II）： Ｒ−ＳＯ2 Ｚ1 …（II） 〔式中、Ｒは前述の通りであり、Ｚ1 は−ＮＨ2 基、−
ＮＣＯ基、−ＮＨＣＯＣｌ基又は−ＮＨＣＯＯＲ5 基
（Ｒ5 はアルキル基又はアリール基である）である〕で
表わされるピリジン系化合物と、一般式（III)： 【００１８】 【化１４】 【００１９】〔式中、Ｘ3 及びＸ4 はハロゲン原子、メ
チル基、メトキシ基、又はエトキシ基であり、Ｚ2 は−
ＮＨ2 基、−ＮＣＯ基、−ＮＨＣＯＣｌ基又は−ＮＨＣ
ＯＯＲ5 基（Ｒ5 は前述の通りである）であり、Ｚ1 が
−ＮＨ2 基の場合Ｚ2 は−ＮＣＯ基、−ＮＨＣＯＣｌ基
又は−ＮＨＣＯＯＲ5 基であり、Ｚ2 が−ＮＨ2 基の場
合Ｚ1 は−ＮＣＯ基、−ＮＨＣＯＣｌ基又は−ＮＨＣＯ
ＯＲ5 基である）で表わされるピリミジン系化合物とを
反応させ、次いでＸ3 及び／又はＸ4 がハロゲン原子の
場合メトキシ化或いはエトキシ化を行ない、さらに所望
により塩形成処理を行なう。具体的には、次の〔Ａ〕〜
〔Ｇ〕法によって製造することができる。 【００２０】 【化１５】 【００２１】更に、別法として次のものが挙げられる。前記〔Ａ〕〜〔Ｈ〕の反応式において、Ｈａｌ．はハロ
ゲン原子であり、Ｒ、Ｒ5 、Ｘ1 、Ｘ2 及びＸ3 は前述
の通りである。前記一般式（II−５）で表わされる化合
物は、前記〔Ａ〕〜〔Ｆ〕法に準じて製造でき、また前
記一般式（II−６）で表わされる化合物は前記（II−
２）〜（II−４）で表わされる化合物とアンモニアとを
反応させることにより容易に得られる。前記一般式(III
−１）及び（II−２）中のＲ5 で表わされるアリール基
としては、塩素原子或いはメチル基で置換されてもよい
フェニル基又はナフチル基などが挙げられる。上記反応
〔Ａ〕及び〔Ｄ〕の反応においては、必要に応じて反応
を促進させるために、１，８−ジアザビシクロ〔５・４
・０〕−７−ウンデセンを添加してもよく、また
〔Ｂ〕、〔Ｃ〕、〔Ｅ〕及び〔Ｆ〕においては、必要に
応じて１，４−ジアザビシクロ〔２・２・２〕オクタン
を添加してもよい。さらに〔Ｂ〕、〔Ｃ〕、〔Ｅ〕及び
〔Ｆ〕の反応においては、必要に応じてトリエチルアミ
ン、ピリジンなどの塩基を添加してもよい。また上記反
応〔Ａ〕〜〔Ｈ〕は、必要に応じて溶媒の存在下で行わ
れる。溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、
クロロベンゼンなどの芳香族炭化水素類：クロロホル
ム、四塩化炭素、塩化メチレン、ジクロロエタン、トリ
クロロエタン、ヘキサン、シクロヘキサンなどの環状又
は非環状脂肪族炭化水素類：ジエチルエーテル、ジオキ
サン、テトラヒドロフランなどのエーテル類：アセトニ
トリル、プロピオニトリル、アクリロニトリルなどのニ
トリル類：ジメチルスルホキシド、スルホランなどの非
プロトン性極性溶媒などが挙げられる。 （１）前記反応式中の出発原料である一般式（II−１）
中のピリジン系化合物（II−１′）は、下記第１〜２フ
ローに示した工程により製造することが示される。 【００２２】 【化１６】【００２３】 【化１７】【００２４】（注）ＥＧはエチレングリコール、ＭｅＯ
Ｈはメタノール、ＥｔＯＨはエタノール、ＤＭＦはジメ
チルホルムアミド、ＤＭＳＯはジメチルスルホキシド、
Ｂｚはベンジル基、−Ｂｕ（ｔ）はターシャリーブチル
基、ＡｃＯＨは酢酸、をそれぞれ表わす。また１）及び
２）の各物質は１）の物質の作用後、２）の物質を作用
させることを表わす。 （２）一般式（II−１′）において、Ｙが弗素原子で置
換されたアルキル基のものの場合は、下記第３フローに
示した工程によっても製造することが示される。 【００２５】 【化１８】【００２６】（３）一般式（II−１′）において、Ｙが
アルコキシ基、ハロアルコキシ基、アルキルチオ基又は
ハロアルキルチオ基の場合は、下記第４フローに示した
工程によっても製造することが示される。 【００２７】 【化１９】【００２８】（４）一般式（II−１′）において、Ｙが
アルコキシメチル基又はハロアルコキシメチル基のもの
の場合は、第５フローに示した工程によっても製造する
ことが示される。 【００２９】 【化２０】【００３０】（５）一般式（II−１′）において、Ｙが 【００３１】 【化２１】 【００３２】基のものの場合は、第６フローに示した工
程によっても製造することが示される。 【００３３】 【化２２】【００３４】（６）一般式（II−１′）において、Ｙが
ハロゲン原子である場合、第７フローに示した工程によ
っても製造することが示される。 【００３５】 【化２３】【００３６】（７）一般式（II−１′）において、３−
ピリジンスルホンアミド系化合物は、第８フローに示し
た工程によっても製造することが示される。 【００３７】 【化２４】【００３８】（８）一般式（II−１）において、ピリジ
ン−Ｎ−オキシド系化合物（II−１″）は、第９フロー
に示した工程によっても製造することが示される。 【００３９】 【化２５】【００４０】（９）前記一般式（II−２）〜（II−４）
で表わされる化合物は、一般式（II−１）で表わされる
化合物から製造することが示される。 【００４１】 【化２６】 【００４２】なお、原料化合物の製造法における各反応
の反応温度、反応時間、必要に応じて使用される溶媒、
アルカリ性物質などの反応条件は、通常同様の反応にお
ける反応条件から適宜選択できる。本発明化合物の具体
的な中間体の合成例を下記する。 【００４３】中間体合成例１ ２−アミノスルホニル−５−クロロ−Ｎ，Ｎ−ジメチル
ニコチンアミドの合成 〔Ｉ〕 ２，５−ジクロロニコチン酸６．５ｇを２４．
７ｍｌの塩化チオニル中に投入し還流下で２時間反応さ
せた。反応後、過剰の塩化チオニルを留去し、３９ｍｌ
の塩化メチレンを加えた。さらにその中へジメチルアミ
ンの塩酸塩２．７７ｇを投入し、次いでトリエチルアミ
ン８．６０ｇを約１時間で滴下した後、室温で約１時間
反応させた。反応終了後、反応物を水中に投入し、塩化
メチレン抽出を行ない、塩化メチレン層を無水硫酸ナト
リウムで乾燥した後、塩化メチレンを減圧留去した。得
られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精
製し、融点１２０〜１２２℃の２，５−ジクロロ−Ｎ，
Ｎ−ジメチルニコチンアミド５．５ｇを得た。 【００４４】〔II〕 無水炭酸カリウム１．８９ｇのジ
メチルスルホキシド２８ｍｌの懸濁液に８０℃で前記工
程〔Ｉ〕で得られた２，５−ジクロロ−Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルニコチンアミド３．０ｇ、ベンジルメルカプタン１．
７０ｇ及びジメチルスルホキシド５ｍｌの混合物を約１
時間で滴下し、次いで１３０〜１４０℃で３０分間反応
させた。反応終了後、反応物を水中に投入し塩化メチレ
ン抽出を行った。塩化メチレン層を無水硫酸ナトリウム
で乾燥した後、塩化メチレンを減圧留去し、得られた残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製しオイ
ル状の２−ベンジルチオ−５−クロロ−Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルニコチンアミド２．１８ｇを得た。 【００４５】〔III 〕 前記工程〔II〕で得られた２−
ベンジルチオ−５−クロロ−Ｎ，Ｎ−ジメチルニコチン
アミド２．３６ｇの２０ｍｌ ５０％酢酸溶液中に０〜
５℃で塩素ガスを導入した。過剰の塩素が出始めた段階
で反応を終了した。反応終了後、反応物を氷１５０ｇと
塩化メチレン２００ｍｌ中に投入し塩化メチレン層を分
液し、さらに３００ｍｌの氷水で洗浄し塩化メチレン層
を０℃に冷却した。続いてこの中へｔｅｒｔ−ブチルア
ミンを滴下し室温にもどるまで撹拌し、反応液が弱アル
カリ性であることを確認し、反応を終了した。反応終了
後、反応物を水中に投入し塩化メチレン抽出し、無水硫
酸ナトリウムで乾燥の後、塩化メチレンを留去した。得
られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精
製し、融点１４３〜１４５℃の２−ｔｅｒｔ−ブチルア
ミノスルホニル−５−クロロ−Ｎ，Ｎ−ジメチルニコチ
ンアミド１．２１ｇを得た。 【００４６】〔IV〕 トリフルオロ酢酸１０ｍｌ中に前
記工程〔III 〕で得られた２−ｔｅｒｔ−ブチルアミノ
スルホニル−５−クロロ−Ｎ，Ｎ−ジメチルニコチンア
ミド１．０ｇを加え還流下で約１時間反応させた。反応
終了後、反応物よりトリフルオロ酢酸を減圧留去した
後、得られた残渣物をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーにより精製して融点１５５〜１５７℃の２−アミノ
スルホニル−５−クロロ−Ｎ，Ｎ−ジメチルニコチンア
ミド０．７１ｇを得た。 【００４７】中間体合成例２ ２−アミノスルホニル−６−クロロ−Ｎ，Ｎ−ジメチル
ニコチンアミドの合成 〔Ｉ〕 ２，６−ジクロロニコチン酸２３ｇを１００ｍ
ｌの塩化チオニル中に投入し還流下で１時間半反応させ
た。反応後、過剰の塩化チオニルを留去し、３００ｍｌ
の塩化メチレンを加えた。さらにその中へジメチルアミ
ンの塩酸塩１１．７ｇを投入し、次いでトリエチルアミ
ン１５．８ｇを約１時間で滴下した後、室温で約１時間
反応させた。反応終了後、反応物を水５００ｍｌ中に投
入し、塩化メチレン抽出を行ない、塩化メチレン層を無
水硫酸ナトリウムで乾燥した後塩化メチレンを減圧留去
した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーで精製し、融点６２．５〜６５℃の２，６−ジクロ
ロ−Ｎ，Ｎ−ジメチルニコチンアミド１９ｇを得た。 【００４８】〔II〕 無水炭酸カリウム６．６ｇのジメ
チルスルホキシド５０ｍｌの懸濁液に１３０〜１４０℃
で前記工程〔Ｉ〕で得られた２，６−ジクロロ−Ｎ，Ｎ
−ジメチルニコチンアミド７．０ｇ、ベンジルアルコー
ル３．８ｇ及びジメチルスルホキシド２０ｍｌの混合物
を約１時間で滴下し、次いで１５０℃で約２時間反応さ
せた。反応終了後、反応物を水中に投入し塩化メチレン
抽出を行った。塩化メチレン層は無水硫酸ナトリウムで
乾燥した後、塩化メチレンを減圧留去し、得られた残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製しオイル
状の６−ベンジルオキシ−２−クロロ−Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルニコチンアミド６．０ｇを得た。 【００４９】〔III 〕 無水炭酸カリウム２．２ｇのジ
メチルスルホキシド３０ｍｌの懸濁液中に１５０℃で前
記工程〔II〕で得られた６−ベンジルオキシ−２−クロ
ロ−Ｎ，Ｎ−ジメチルニコチンアミド２．９ｇ、ベンジ
ルメルカプタン１．５ｇ及びジメチルスルホキシド２０
ｍｌの混合物を約３０分で滴下し、次いで１５０℃で約
１．５時間反応させた。反応終了後、反応物を水中に投
入し塩化メチレン抽出を行ない、塩化メチレン層を無水
硫酸ナトリウムで乾燥した後塩化メチレンを減圧留去
し、得られた残渣物をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーで精製しオイル状の６−ベンジルオキシ−２−ベン
ジルチオ−Ｎ，Ｎ−ジメチルニコチンアミド０．９８ｇ
を得た。 【００５０】〔IV〕 濃塩酸６ｃｃ中に前記工程〔III
〕で得られた６−ベンジルオキシ−２−ベンジルチオ
−Ｎ，Ｎ−ジメチルニコチンアミド０．６９ｇを投入
し、室温で撹拌下約１５時間反応させた。反応終了後、
反応物を水中に投入し、塩化メチレンで目的物を抽出し
た。塩化メチレン層は無水硫酸ナトリウムで乾燥した
後、塩化メチレンを減圧留去した。得られた残渣物をシ
リカゲルクロマトグラフィーで精製し、融点５２〜６０
℃の２−ベンジルチオ−Ｎ，Ｎ−ジメチル−６−ヒドロ
キシニコチンアミド０．４１ｇを得た。 【００５１】〔Ｖ〕 ５ｃｃの塩化チオニル中に前記工
程〔IV〕で得られた２−ベンジルチオ−Ｎ，Ｎ−ジメチ
ル−６−ヒドロキシニコチンアミド１．０ｇ及びジメチ
ルホルムアミド０．３ｍｌを加え還流下で約１時間反応
させた。反応終了後、反応物を氷中に投入し、塩化メチ
レンで目的物を抽出した。塩化メチレン層を水洗いした
後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、塩化メチレンを減圧
留去した後、得られた残渣物をシリカゲルクロマトグラ
フィーで精製し、オイル状の２−ベンジルチオ−６−ク
ロロ−Ｎ，Ｎ−ジメチルニコチンアミド０．４５ｇを得
た。 【００５２】〔VI〕 このものを用い、前記中間体合成
例１の工程〔III 〕及び〔IV〕と同様の方法で融点１７
１〜１７３℃の２−アミノスルホニル−６−クロロ−
Ｎ，Ｎ−ジメチルニコチンアミドを得た。 【００５３】中間体合成例３ ２−アミノスルホニル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−６−エトキ
シニコチンアミドの合成 〔Ｉ〕 無水エタノール５０ｍｌ中に金属ナトリウム
０．２３１ｇを投入し、ナトリウムエトキサイドのエタ
ノール溶液を調製した。この中へ前記中間体合成例１の
工程〔Ｉ〕と同様の方法で得られた２，６−ジクロロ−
Ｎ，Ｎ−ジメチルニコチンアミド２．０ｇを投入し、約
１時間還流下で反応させた。反応液を水中に投入し、塩
化メチレン抽出を行なった。塩化メチレン層は無水硫酸
ナトリウムで乾燥した後、塩化メチレンを減圧留去し
た。シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、
油状の２−クロロ−Ｎ，Ｎ−ジメチル−６−エトキシニ
コチンアミド１．９５ｇを得た。 〔II〕 このものを用い、前記中間体合成例１の工程
〔II〕、〔III 〕及び〔IV〕と同様の方法で融点１５
０．５〜１５１．５℃の２−アミノスルホニル−Ｎ，Ｎ
−ジメチル−６−エトキシニコチンアミドを得た。 【００５４】中間体合成例４ ２−アミノスルホニル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−６−フルオ
ロニコチンアミドの合成 〔Ｉ〕 ２−ｔｅｒｔ−ブチルアミノスルホニル−６−
クロロ−Ｎ，Ｎ−ジメチルニコチンアミド０．３０２ｇ
及びスプレードライフッ化カリウム０．１１６ｇのジメ
チルスルホキシドスラリー溶液１０ｍｌを１５０℃で撹
拌下約３時間反応させた。反応終了後、反応液を１００
ｍｌの水中に投入し塩化メチレンで抽出した。抽出物は
水洗をくり返した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した
後、塩化メチレンを減圧留去し、シリカゲルクロマトグ
ラフィーで精製して２−ｔｅｒｔ−ブチルアミノスルホ
ニル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−６−フルオロニコチンアミド
０．２０４ｇを得た。 〔II〕 このものを用い、前記中間体合成例１の工程
〔IV〕と同様の方法で融点１６４〜１６５℃の２−アミ
ノスルホニル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−６−フルオロニコチ
ンアミドを得た。 【００５５】中間体合成例５ ２−アミノスルホニル−Ｎ−メチルニコチンアミドの合
成 〔Ｉ〕 乾燥したメタノール２５０ｍｌに室温で塩酸ガ
スを飽和させた後、２５０ｍｌのメタノール及び２−メ
ルカプトニコチン酸３０ｇを加え、室温で終夜反応させ
た。反応後、アンモニアガスで反応液を弱アルカリ性と
した後、メタノールを減圧留去した。続いて生じた結晶
を水洗後、濾取し、減圧乾燥して融点１３６〜１４０℃
のメチル ２−メルカプトニコチネート２４ｇを得た。 【００５６】〔II〕 前記工程〔Ｉ〕で得たメチル ２
−メルカプトニコチネート１０ｇを、５０ｍｌの酢酸を
５０ｍｌの水で希釈した溶液に加えた後、０℃以下で塩
素ガスを反応系内に導入し、過剰の塩素が出始めた段階
で反応を終了した。反応後、生じた溶液を氷１５０ｇと
塩化メチレン５００ｍｌの混合物中に投入し、塩化メチ
レン層を分液した。さらに５００ｍｌの氷水で洗浄し、
塩化メチレン層を０℃に冷却した。続いてこの中へ、ｔ
ｅｒｔ−ブチルアミン１２．９ｇを滴下し、室温にもど
るまで撹拌した。撹拌後、この反応液を５００ｍｌの水
中に投入し、塩化メチレン抽出し、無水硫酸ナトリウム
で乾燥の後、塩化メチレンを留去し、粗結晶１３ｇを得
た。このものを塩化メチレン、ノルマルヘキサンで再結
晶し、融点１６９〜１７１℃のメチル ２−ｔｅｒｔ−
ブチルアミノスルホニルニコチネートを得た。 【００５７】〔III 〕 無水メタノール２０ｍｌに大過
剰のメチルアミンを吸収させた後、室温で前記工程〔I
I〕で得たメチル ２−ｔｅｒｔ−ブチルアミノスルホ
ニルニコチネート１．０ｇを加え、１５時間撹拌し反応
を終了した。反応後、反応物を水中に投入し塩化メチレ
ンで抽出し、抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、塩
化メチレンを減圧で留去して、融点１８９〜１９２℃の
２−ｔｅｒｔ−ブチルアミノスルホニル−Ｎ−メチルニ
コチンアミド０．７３ｇを得た。 〔IV〕 このものを用い、前記中間体合成例１の工程
〔IV〕と同様の方法で融点２０７〜２０９．５℃の２−
アミノスルホニル−Ｎ−メチルニコチンアミドを得た。 【００５８】中間体合成例６ ２−アミノスルホニル−Ｎ，Ｎ−ジメチルニコチンアミ
ドの合成 〔Ａ法〕 〔Ｉ〕 ジメチルアミン１．３ｍｌを１０ｍｌの無水ベ
ンゼンに溶解した溶液に窒素雰囲気下１０℃以下で１９
％トリメチルアルミニウムのノルマルヘキサン溶液１０
ｍｌを加えた。室温になるまで反応させた後、メチル
２−ｔｅｒｔ−ブチルアミノスルホニルニコチネートを
ベンゼン４０ｍｌ、塩化メチレン２０ｍｌに溶解した溶
液を滴下した。続いて還流下で約９時間撹拌し反応を終
了した。反応終了後、反応液を希塩酸中に投入し、塩化
メチレンで抽出し、抽出物を無水硫酸ナトリウムで乾燥
した後、減圧下で塩化メチレンを留去し、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーで精製して２−ｔｅｒｔ−ブチ
ルアミノスルホニル−Ｎ，Ｎ−ジメチルニコチンアミド
１．０ｇを得た。 【００５９】〔II〕 このものを用い、前記中間体合成
例１の工程〔IV〕と同様の方法で融点２０９〜２１１℃
の２−アミノスルホニルＮ，Ｎ−ジメチルニコチンアミ
ドを得た。 〔Ｂ法〕２−ベンジルチオ−Ｎ，Ｎ−ジメチルニコチン
アミド２．７ｇの５０ｍｌ ５０％酢酸溶液中に０〜５
℃で塩素ガスを過剰の塩素が出るまで導入した。反応終
了後、反応混合物を２００ｍｌの氷水中に投入し、６０
ｍｌの塩化メチレンで抽出した。次いで塩化メチレン層
を１００ｍｌの氷水で洗浄し、０℃に冷却してアルカリ
性になるまでアンモニアガスを導入した。塩化メチレン
を留去した後、残渣に水１５ｍｌを加え撹拌した。生じ
た結晶を濾取し、少量の水で洗浄した後、減圧乾燥して
融点２０９〜２１１℃を有する２−アミノスルホニル−
Ｎ，Ｎ−ジメチルニコチンアミド１．２７ｇを得た。 【００６０】中間体合成例７ ２−アミノスルホニル−Ｎ−エチル−Ｎ−メチルニコチ
ンアミドの合成 〔Ｉ〕 ２−クロロニコチン酸３０ｇ及び塩化チオニル
の混合物を還流下で４時間反応させた。反応液より、過
剰の塩化チオニルを減圧で留去した後、塩化メチレン５
００ｍｌを加え室温でメチルアミンガスを反応液が弱ア
ルカリ性になるまで導入した。生じたメチルアミンの塩
酸塩を濾別し、濾液を濃縮した。生じた結晶をノルマル
ヘキサンと塩化メチレンより再結晶して、融点１０６〜
１０７℃の２−クロロ−Ｎ−メチルニコチンアミド２７
ｇを得た。 【００６１】〔II〕 ジメチルホルムアミド５０ｍｌ中
に懸濁させた６０％ナトリウムハイドロライド１．１７
ｇ中に前記工程〔Ｉ〕で得られた２−クロロ−Ｎ−メチ
ルニコチンアミド５ｇのジメチルホルムアミド１０ｍｌ
溶液を０〜５℃で滴下した。０〜５℃で約３０分間反応
させた後、３．５ｇのエチルブロマイドを０℃で滴下し
た。室温で約２．５時間反応させた後、水中に投入し、
塩化メチレンで抽出した。抽出物は水洗を行なった後、
無水硫酸ナトリウムで乾燥し、塩化メチレンを減圧で留
去した。シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製を
行ない、オイル状の２−クロロ−Ｎ−エチル−Ｎ−メチ
ルニコチンアミド５．７ｇを得た。 〔III 〕 このものを用い、前記中間体合成例１の工程
〔II〕〜〔IV〕と同様の方法で融点２０２〜２０３℃の
２−アミノスルホニル−Ｎ−エチル−Ｎ−メチルニコチ
ンアミドを得た。 【００６２】中間体合成例８ ２−アミノスルホニル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−６−メチル
ニコチンアミドの合成 〔Ｉ〕 ２−ヒドロキシ−６−メチルニコチン酸１．３
５ｇ及び塩化チオニル１５ｍｌの混合物にジメチルホル
ムアミドを一滴加え、還流下で約２時間反応させた後、
過剰の塩化チオニルを減圧留去し、残渣に塩化メチレン
５０ｍｌを加えた。このものを３０％ジメチルアミン水
溶液３０ｍｌ及び塩化メチレン５０ｍｌの混合物中に滴
下し、室温で１５分間反応させた。 【００６３】反応終了後、反応混合物を水中投入し、塩
化メチレン抽出した。塩化メチレン層は水洗した後、無
水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧で塩化メチレンを留去
し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製
し、融点６６〜６７．５℃の２−クロロ−３−Ｎ，Ｎ−
ジメチルアミノカルボニル−６−メチルピリジン１．５
７ｇ（ｍ．ｐ．６６〜６７．５℃）を得た。 〔II〕 このものを用い、前記中間体合成例１の工程
〔II〕〜〔IV〕と同様の方法で融点１８８．５〜１９
０．５℃の２−アミノスルホニル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−
６−メチルニコチンアミドを得た。 【００６４】中間体合成例９ ２−アミノスルホニル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−６−メトキ
シニコチンアミドの合成 〔Ｉ〕 ２，６−ジクロロニコチン酸３３ｇ及び塩化チ
オニル１００ｍｌを混合し、還流下で約３時間反応を行
なった。反応終了後、過剰の塩化チオニルを減圧留去し
た後、塩化メチレン５００ｍｌをこの中へ投入した。室
温から４０℃でこの混合物中に無水メタノールを滴下し
た。滴下終了後、約１時間還流下で反応させた。反応終
了後、反応液を５００ｍｌの水中に投入し、塩化メチレ
ンで分液し、水洗した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥
し、減圧で塩化メチレンを留去した。次いでシリカゲル
カラムクロマトグラフィーで精製して、融点４５．５〜
４８．０℃のメチル ２，６−ジクロロニコチネート２
７ｇを得た。 【００６５】〔II〕 このものを用い、６位のメトキシ
化反応、２位のベンジルチオ化反応、アミド化反応、２
位のターシャリーブチルアミノスルホニル化反応次いで
脱ターシャリーブチル化反応を行ない（それぞれ前記中
間体合成例３の工程〔Ｉ〕、同合成例１の工程〔II〕、
同合成例６の〔Ａ法〕工程〔Ｉ〕、同合成例１の工程
〔III 〕及び〔IV〕と同様の方法）２−アミノスルホニ
ル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−６−メトキシニコチンアミドを
得た。 【００６６】中間体合成例１０ ２−アミノスルホニル−６−ジフルオロメチル−Ｎ，Ｎ
−ジメチルニコチンアミドの合成 〔Ｉ〕 前記中間体合成例５の工程〔Ｉ〕及び〔II〕と
同様な方法で得たメチル２−ｔｅｒｔ−ブチルアミノス
ルホニル−６−メチルニコチネート１１．５ｇ、四塩化
炭素１８６ｍｌ、Ｎ−ブロモスクシンイミド１４．８４
ｇ及び過酸化ベンゾイル０．６８ｇの混合物を３時間加
熱還流した。反応終了後、反応混合物を濾過し、濾液を
減圧濃縮しシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精
製してメチル ２−ｔｅｒｔ−ブチルアミノスルホニル
−６−ジブロモメチルニコチネート４．５ｇを得た。 【００６７】〔II〕 このものの４．４ｇ、エタノール
３５ｍｌ、及び水２９ｍｌの混合物に硝酸銀３．７ｇを
加え３時間加熱還流した。反応終了後、反応混合物を水
中に投入し、塩化メチレンで抽出し、水洗後、無水硫酸
ナトリウムで乾燥し溶媒を留去した。残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィーにて精製してメチル ２−ｔ
ｅｒｔ−ブチルアミノスルホニル−６−ホルミルニコチ
ネート２．９２ｇを得た。 【００６８】〔III 〕 このホルミルニコチネート０．
４８ｇの塩化メチレン１９ｍｌ溶液に氷冷下ジエチルア
ミノ三ふっ化イオウ０．６２ｇの塩化メチレン５ｍｌ溶
液を加え室温で１時間撹拌した。反応終了後、反応混合
物を水中投入し、塩化メチレンで抽出して水洗を行な
い、無水硫酸ナトリウムで乾燥後溶媒を留去した。残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、メ
チル ２−ｔｅｒｔ−ブチルアミノスルホニル−６−ジ
フルオロメチルニコチネート０．２５ｇを得た。 【００６９】〔IV〕 このものの０．５０ｇと、ジメチ
ルアミンを飽和させた無水メタノール１０ｍｌとの混合
物を室温で１晩放置した。反応終了後、反応物より溶媒
を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
で精製し２−ｔｅｒｔ−ブチルアミノスルホニル−６−
ジフルオロメチル−Ｎ，Ｎ−ジメチルニコチンアミド
０．１５ｇを得た。 〔Ｖ〕 このものを用い、前記中間体合成例１の工程
〔IV〕と同様の方法で、２−アミノスルホニル−６−ジ
フルオロメチル−Ｎ，Ｎ−ジメチルニコチンアミドを得
た。 【００７０】中間体合成例１１ ２−アミノスルホニル−６−ブロモ−Ｎ，Ｎ−ジメチル
ニコチンアミドの合成 〔Ｉ〕 ２−ベンジルチオ−６−クロロ−Ｎ，Ｎ−ジメ
チルニコチンアミド１．２ｇに酢酸５ｍｌを加え、１０
℃まで昇温し臭化水素ガスを３０分間導入し、更に３０
分間反応を行った。反応終了後、反応混合物を冷却した
後、氷水中に投入し、塩化メチレンで抽出し重ソウ水で
洗浄し、更に水洗を行った。ついで無水硫酸ナトリウム
で乾燥し、塩化メチレンを留去後、シリカゲルカラムク
ロマトグラフィーで精製して融点１０５〜１０６℃の２
−ベンジルチオ−６−ブロモ−Ｎ，Ｎ−ジメチルニコチ
ンアミド１．０ｇを得た。 〔II〕 このものを用い、前記中間体合成例１の工程
〔III 〕及び〔IV〕と同様の方法で融点１５４〜１５６
℃の２−アミノスルホニル−６−ブロモ−Ｎ，Ｎ−ジメ
チルニコチンアミドを得た。 前記一般式（II−１′）で表わされる化合物につき、そ
の代表例を第１表に掲載する。 【００７１】 【表１】【００７２】 【表２】【００７３】 【表３】【００７４】次に本発明化合物の具体的合成例を記載す
る。 合成例Ｎｏ．１ ５−クロロ−Ｎ−〔（４，６−ジメトキシピリミジン−
２−イル）アミノカルボニル〕−３−ジメチルアミノカ
ルボニル−２−ピリジンスルホンアミド（化合物Ｎｏ．
９）の合成 ２−アミノスルホニル−５−クロロ−Ｎ，Ｎ−ジメチル
ニコチンアミド０．３０ｇ及び２−フェノキシカルボニ
ルアミノ−４，６−ジメトキシピリミジン０．３５ｇを
無水アセトニトリル１０ｍｌに加えた懸濁液に１，８−
ジアザビシクロ〔５・４・０〕−７−ウンデセン０．１
９ｇを加え室温で４５分間反応させた。反応終了後、反
応物を水中に投入し、不溶物を濾別した後、濃塩酸で弱
酸性として塩化メチレンで抽出した。次いで無水硫酸ナ
トリウムで乾燥後、溶媒を留去し、融点１５２〜１５５
℃の目的物０．２６ｇを得た。 合成例 Ｎｏ．２〜Ｎｏ．１３ 前記合成例１と同様の方法を行ない、第２表の結果を得
た。 【００７５】 【表４】【００７６】 【表５】【００７７】合成例Ｎｏ．１４ Ｎ−〔（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ア
ミノカルボニル〕−３−ジメチルアミノカルボニル−２
−ピリジンスルホンアミドの合成 方法１：２０％ホスゲンの酢酸エチル溶液６．３ｇに１
５℃で２−アミノ−４，６−ジメトキシピリミジン２５
０ｍｇ、トリエチルアミン０．６５ｇ及び酢酸エチル
２．５ｇの混合溶液を滴下し、１５℃に保ちながら１時
間反応を行った。次いで、９０℃の油浴上で加温し、過
剰のホスゲン及び酢酸エチルを留去した後、２−アミノ
スルホニル−Ｎ，Ｎ−ジメチルニコチンアミド３００ｍ
ｇを１０ｍｌのアセトニトリルに溶解した溶液を加え、
更に０．２ｇのトリエチルアミンを滴下し、室温で１時
間反応した。反応終了後、生成物を水中に投入し、塩酸
で酸性化し、析出した結晶を濾取し、水洗及び乾燥を行
ない０．４６ｇの目的物を得た。 【００７８】方法２： 〔Ｉ〕６０％水素化ナトリウムの５ｍｌジメチルホルム
アミドスラリー中に−５℃で２−アミノスルホニル−
Ｎ，Ｎ−ジメチルニコチンアミド２．１３ｇを加え約１
時間反応させた。この中へ−５℃でジフェニルカーボネ
ート２．１４ｇのジメチルホルムアミド１０ｍｌ溶液を
滴下した。約３０分で室温にもどし反応を完了した。反
応液を水中に投入し、塩化メチレン洗浄を行なった後、
水層を塩酸酸性とし、塩化メチレン抽出を行なった。塩
化メチレン層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧
下塩化メチレンを留去した。生じた結晶を酢酸エチル、
ヘキサンより再結晶し、融点１８９〜１９４℃のＮ，Ｎ
−ジメチル−２−フェノキシカルボニルアミノスルホニ
ルニコチンアミド０．９１ｇを得た。 【００７９】〔II〕 前記工程〔Ｉ〕で得たＮ，Ｎ−ジ
メチル−２−フェノキシカルボニルアミノスルホニルニ
コチンアミド０．２８ｇ及び２−アミノ−４−クロロ−
６−メトキシピリミジン０．１４ｇを無水ジオキサン８
ｍｌ中に加え、還流下で約４０分間反応させた。反応終
了後、反応混合物を２００ｍｌの水中に投入し、生じた
結晶を濾取し融点１５７〜１５８．５℃のＮ−〔（４−
クロロ−６−メトキシピリミジン−２−イル）アミノカ
ルボニル〕−３−ジメチルアミノカルボニル−２−ピリ
ミジンスルホンアミドを０．２１ｇ得た。 〔III 〕 無水メタノール７ｍｌ中に金属ナトリウム１
８．３ｍｇを加えたのち前記工程〔Ｉ〕で得たＮ−
〔（４−クロロ−６−メトキシピリミジン−２−イル）
アミノカルボニル〕−３−ジメチルアミノカルボニル−
２−ピリミジンスルホンアミド０．１１ｇを加え１２時
間加熱還流させた。反応終了後、反応混合物を水中に投
入し塩酸で酸性化し、生じた結晶を濾取し水洗及び乾燥
を行ない、目的物７０ｍｇを得た。前記一般式（Ｉ）で
表わされる本発明化合物及びその塩の代表例を第３表に
掲載する。 【００８０】 【表６】【００８１】 【表７】【００８２】 【表８】【００８３】 【表９】【００８４】本発明化合物は、コゴメガヤツリ、ホタル
イ、ハマスゲなどのカヤツリグサ科雑草、イヌビエ、メ
ヒシバ、エノコログサ、オヒシバ、カラスムギ、セイバ
ンモロコシ、シバムギなどのイネ科雑草、イチビ、マル
バアサガオ、シロザ、アメリカキンゴジカ、スベリヒ
ユ、アオビユ、エビスグサ、イヌホオズキ、タデ、ハコ
ベ、オナモミ、タネツケバナなどの広葉雑草など、広い
範囲の雑草を防除することができるので、その適用範囲
は畑地は勿論畑地以外に果樹園、桑畑などの農耕地、山
林、農道、グランド、工場敷地、芝地などの非農耕地と
多岐にわたることができ、また、適用方法も土壌処理、
茎葉処理を適宜選択できる。 【００８５】特に、本発明化合物は、後記試験例にみる
通り、トウモロコシに害を与えずに有害雑草を防除する
ことができることから、非常に有用である。本発明除草
剤を施用する場合、通常は担体、必要に応じて希釈剤、
溶剤、乳化剤、展着剤、界面活性剤などの各種補助剤と
混合して、粒剤、水和剤、乳剤、液剤などに製剤して使
用する。有効成分化合物と農薬用補助剤との適当な配合
重量比は、一般に１：９９〜９０：１０、望ましくは
５：９５〜６０：４０である。有効成分化合物の使用適
量は気象条件、土壌条件、薬剤の製剤形態、対象雑草の
種類、施用時期などの相違により一概に規定できない
が、一般に１アール当りの施用有効成分量としては０．
１ｇ〜１００ｇ、望ましくは０．２ｇ〜５０ｇ、更に望
ましくは０．５ｇ〜１０ｇである。 【００８６】本発明除草剤は、他の農薬、肥料、土壌、
薬害軽減剤などと混用或いは併用することができ、この
場合に一層優れた効果・作用性を示すことがある。他の
除草剤と混用或いは併用する場合、その混合相手除草剤
の有効成分としては、例えば次のようなものが挙げられ
る。その場合相乗効果が得られることもある。 ・３，６−ジクロロ−２−メトキシ安息香酸 ・２，５−ジクロロ−３−アミノ安息香酸 ・２，４−ジクロロフェノキシ酢酸 ・４−クロロ−２−メチルフェノキシ酢酸 ・２−クロロ−４，６−ビス（エチルアミノ）−１，
３，５−トリアジン 【００８７】・２−クロロ−４−エチルアミノ−６−イ
ソプロピルアミノ−１，３，５−トリアジン ・２−（４−クロロ−６−エチルアミノ−１，３，５−
トリアジン−２−イルアミノ）−２−メチルプロピオニ
トリル ・２−エチルアミノ−４−イソプロピルアミノ−６−メ
チルチオ−１，３，５−トリアジン ・２−クロロ−２′，６′−ジエチル−Ｎ−（メトキシ
メチル）アセトアニリド ・２−クロロ−６′−エチル−Ｎ−（２−メトキシ−１
−メチルエチル）アセト−ｏ−トルイジド 【００８８】・２−クロロ−Ｎ−イソプロピルアセトア
ニリド ・２−クロロ−Ｎ，Ｎ−ジ−２−プロペニルアセトアミ
ド ・Ｓ−エチル ジプロピルチオカーバメート ・Ｓ−エチル ジイソブチルチオカーバメート ・Ｓ−プロピル ジプロピルチオカーバメート ・Ｎ−（１−エチルプロピル）−２，６−ジニトロ−
３，４−キシリジン ・α，α，α−トリフルオロ−２，６−ジニトロ−Ｎ，
Ｎ−ジプロピル−ｐ−トルイジン 【００８９】・２−（３，５−ジクロロフェニル）−２
−（２，２，２−トリクロロエチル）オキシラン ・３−イソプロピル−（１Ｈ）−ベンゾ−２，１，３−
チアジアジン−４−オン−２，２−ジオキシド ・３−（３，４−ジクロロフェニル）−１−メトキシ−
１−メチルウレア ・３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシベンゾニトリル ・２−クロロ−４−トリフルオロメチルフェニル−３−
エトキシ−４−ニトロフェニルエーテル 【００９０】具体的には例えば本発明化合物中、Ｎ−
〔４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）アミノカ
ルボニル〕−３−メチルアミノカルボニル（又はジメチ
ルアミノカルボニル）−２−ピリジンスルホンアミド或
いは６−クロロ（又はブロモ、ジフルオロメチル或いは
メチル）−Ｎ−〔（４，６−ジメトキシピリミジン−２
−イル）アミノカルボニル〕−３−ジメチルアミノカル
ボニル−２−ピリジンスルホンアミドと上記混合相手除
草剤中、２−クロロ−４−エチルアミノ−６−イソプロ
ピルアミノ−１，３，５−トリアジン、２−（４−クロ
ロ−６−エチルアミノ−１，３，５−トリアジン−２−
イルアミノ）−２−メチルプロピオニトリル、２−クロ
ロ−２′，６′−ジエチル−Ｎ−（メトキシメチル）ア
セトアニリド、２−クロロ−６′−エチル−Ｎ−（２−
メトキシ−１−メチルエチル）アセト−ｏ−トルイジド
又はＮ−（１−エチルプロピル）−２，６−ジニトロ−
３，４−キシリジンとを混用した場合、トウモロコシに
薬害を与えずに、雑草をほぼ完全に防除することができ
る。 【００９１】試験例１ １／１，５００アールポットに畑作土壌をつめ、各種植
物の種を播種した。その後、植物が一定の葉令（トウモ
ロコシ２．２〜３．５葉期、小麦２．０〜３．５葉期、
オナモミ２．０〜３．５葉期、アサガオ０．５〜１．２
葉期、タデ０．５〜１．２葉期、アメリカキンゴジカ
０．１〜１．５葉期、オアビユ０．１〜１．５葉期、ヒ
エ２．０〜２．５葉期）に達したとき、本発明除草剤の
水和剤を所定量となるように秤量し、アール当り５リッ
トルの水に希釈した。更にその水溶液に農業用展着剤を
０．２％となるように加えて、小型スプレーで茎葉処理
した。処理後、２２〜３７日目に各種植物の生育状態を
肉眼で観察調査を行い、１０段階（１：無処理区と同様
〜１０：完全に抑制）で生育抑制程度を評価し、第４表
の結果を得た。 【００９２】 【表１０】【００９３】 【表１１】【００９４】 【表１２】【００９５】 【表１３】【００９６】 【表１４】 【００９７】試験例２ １／１０，０００アールポットに畑土壌を詰め、それぞ
れ別々のポットにメヒシバ、イヌホオズキを播種した。
その後、メヒシバが２葉期、イヌホオズキ０．５葉期に
生育した時、供試化合物の有効成分が所定量となるよう
に秤量し、これらをアール当り５リットルの水に希釈し
た。更にこの水溶液に農業用展着剤を０．２％となるよ
うに加えて、小型スプレーで茎葉散布した。処理後２３
日目に各雑草の生育状態を肉眼観察し、試験例１と同様
の方法で生育抑制程度を評価して、第５表の結果を得
た。 【００９８】 【表１５】 【００９９】試験例３ 長さ約１５ｃｍのセイバンモロコシ地下茎を１／３，０
００アールポットに２本植え込み、温室内で生育させ
た。葉令が４〜５葉期に達した時、供試化合物の有効成
分が所定量になるように秤量し、これらをアール当り５
リットルの水に希釈した。更にこの水溶液に農業用展着
剤を０．２％となるように加えて、小型スプレーで茎葉
散布した。処理後３５日目に、セイバンモロコシの生育
抑制程度を肉眼観察し、試験例１と同様の方法で生育抑
制程度を評価して、第６表の結果を得た。 【０１００】 【表１６】 【０１０１】試験例４ ハマスゲ塊茎を１／１０，０００アールポットに４粒植
え込み、温室内で生育させた。葉令が３〜４期に達した
時、本発明化合物の有効成分が所定量となるように秤量
し、これらをアール当り５リットルの水に希釈した。更
にこの水溶液に農業用展着剤を０．２％となるように加
えて、小型スプレーで茎葉散布した。処理後５１日目に
ハマスゲの生育抑制程度を肉眼観察し、試験例１と同様
の方法で生育抑制程度を評価して、第７表の結果を得
た。 【０１０２】 【表１７】 【０１０３】次に、本発明除草性組成物の製剤例を記載
する。 製剤例１ （１）ニューライト（商品名：日本耐火原料（株）製） ９７重量部 （２）ディクスゾールＷ−９２ (商品名：第一工業製薬（株）製） ２重量部 （３）化合物Ｎｏ．１５ １重量部 以上の各成分を混合、粉砕して粉剤が得られる。 製剤例２ （１）水溶性デンプン ５５重量部 （２）リグニンスルホン酸ソーダ ５重量部 （３）化合物Ｎｏ．５９ ４０重量部 以上の各成分を混合して水溶剤が得られる。 【０１０４】製剤例３ （１）カオリン ７８重量部 （２）ラベリンＳ（商品名：第一工業製薬（株）製） ２重量部 （３）ソルポール５０３９ (商品名：東邦化学工業（株）製） ５重量部 （４）カープレックス（商品名：塩野義製薬（株）製） １５重量部 以上（１）〜（４）の成分の混合物と本発明化合物とを
９：１の重量割合で混合して水和剤が得られる。 製剤例４ （１）珪藻土 ６３重量部 （２）ディクスゾールＷ−６６ (商品名：第一工業製薬（株）製） ５重量部 （３）ディクスゾールＷ−０９Ｂ (商品名：同上） ２重量部 （４）化合物Ｎｏ．２９ ３０重量部 以上の各成分を混合して水和剤が得られる。 【０１０５】製剤例５ （１）ハイフィラーＮｏ．１０ (商品名：松村産業（株）製） ３３重量部 （２）ソルポール５０５０ (商品名：東邦化学（株）製） ３重量部 （３）ソルポール５０７３ (商品名：同上） ４重量部 （４）化合物Ｎｏ．３４ ６０重量部 以上の各成分を混合して、水和剤が得られる。 製剤例６ （１）フェニルスルホン酸ナトリウム ４重量部 （２）ポリカルボン酸ナトリウム ３重量部 （３）アルキルアリールスルホン酸ナトリウム １重量部 （４）カオリン １２重量部 （５）化合物Ｎｏ．２５ ８０重量部 以上の各成分に水を加え混練し、乾燥後破壊して水和剤
が得られる。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所
(Ｃ０７Ｄ 401/12
213:00
239:47）
(Ｃ０７Ｄ 401/12
213:82
239:52）
(72)発明者 本多 千元
東京都千代田区富士見２丁目10番30号
石原産業株式会社 東京本社内
(72)発明者 村井 重夫
滋賀県草津市西渋川二丁目３番１号 石
原産業株式会社 中央研究所内
(56)参考文献 特開 昭62−223180（ＪＰ，Ａ)
Claims (1)
- (57)【特許請求の範囲】 １．一般式（Ｉ’） 【化１】 （式中、Ｒ１及びＲ２は水素原子、アルキル基、ハロア
ルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ
基、ハロアルコキシ基、アルコキシアルキル基、ハロア
ルコキシアルキル基、シクロアルキル基、ハロシクロア
ルキル基、アルコキシカルボニル基、ハロアルコキシカ
ルボニル基、フェニル基又はハロフェニル基であり、Ｒ
１及びＲ２の一方が水素原子の場合他方は水素原子以外
のものであり、Ｒ１及びＲ２が隣接している窒素原子と
共に複素環を形成してもよく、Ｙはハロゲン原子、アル
キル基、ハロアルキル基、アルコキシ基、ハロアルコキ
シ基、アルキルチオ基、ハロアルキルチオ基、アルコキ
シアルキル基、ハロアルコキシアルキル基又は 【化２】 （Ｒ３及びＲ４は水素原子又はアルキル基である）であ
り、ｎは０又は１或いは２の整数であり、Ｘ１及びＸ２
はメチル基、メトキシ基又はエトキシ基である。但しＲ
１及びＲ２が共にメチル基であり、ｎが０であり、かつ
Ｘ１及びＸ２が共にメトキシ基である化合物及びその
塩、Ｒ１が水素原子又は（Ｃ１−Ｃ３）アルキル基であ
り、Ｒ２が（Ｃ１−Ｃ３）アルキル基であり、ｎが１で
あり、Ｘ１及びＸ２の一方がメトキシ基であって、他方
がメチル基、メトキシ基又はエトキシ基であり、かつＹ
が塩素原子、弗素原子、臭素原子、メチル基、メトキシ
基、トリフルオロメチル基又はジフルオロメトキシ基で
ある化合物及びその塩、並びにＲ１が水素原子又は（Ｃ
１−Ｃ３）アルキル基であり、Ｒ２が（Ｃ１−Ｃ２）ア
ルコキシ基であり、Ｒ１及びＲ２が一緒になって−（Ｃ
Ｈ２）ｍ−（ｍは２、３又は４である）を形成し、ｎが
１であり、Ｘ１及びＸ２の一方がメトキシ基であって、
他方がメチル基、メトキシ基又はエトキシ基であり、か
つＹがトリフルオロメチル基又はジフルオロメトキシ基
である化合物及びその塩を除く）で表わされる置換ピリ
ジンスルホンアミド系化合物或いはその塩。 ２．一般式（Ｉ’） 【化３】 （式中、Ｒ１及びＲ２は水素原子、アルキル基、ハロア
ルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ
基、ハロアルコキシ基、アルコキシアルキル基、ハロア
ルコキシアルキル基、シクロアルキル基、ハロシクロア
ルキル基、アルコキシカルボニル基、ハロアルコキシカ
ルボニル基、フェニル基又はハロフェニル基であり、Ｒ
１及びＲ２の一方が水素原子の場合他方は水素原子以外
のものであり、Ｒ１及びＲ２が隣接している窒素原子と
共に複素環を形成してもよく、Ｙはハロゲン原子、アル
キル基、ハロアルキル基、アルコキシ基、ハロアルコキ
シ基、アルキルチオ基、ハロアルキルチオ基、アルコキ
シアルキル基、ハロアルコキシアルキル基又は 【化４】 （Ｒ３及びＲ４は水素原子又はアルキル基である）であ
り、ｎは０又は１或いは２の整数であり、Ｘ１及びＸ２
はメチル基、メトキシ基又はエトキシ基である。但しＲ
１及びＲ２が共にメチル基であり、ｎが０であり、かつ
Ｘ１及びＸ２が共にメトキシ基である化合物及びその
塩、Ｒ１が水素原子又は（Ｃ１−Ｃ３）アルキル基であ
り、Ｒ２が（Ｃ１−Ｃ３）アルキル基であり、ｎが１で
あり、Ｘ１及びＸ２の一方がメトキシ基であって、他方
がメチル基、メトキシ基又はエトキシ基であり、かつＹ
が塩素原子、弗素原子、臭素原子、メチル基、メトキシ
基、トリフルオロメチル基又はジフルオロメトキシ基で
ある化合物及びその塩、並びにＲ１が水素原子又は（Ｃ
１−Ｃ３）アルキル基であり、Ｒ２が（Ｃ１−Ｃ２）ア
ルコキシ基であり、Ｒ１及びＲ２が一緒になって−（Ｃ
Ｈ２）ｍ−（ｍは２、３又は４である）を形成し、ｎが
１であり、Ｘ１及びＸ２の一方がメトキシ基であって、
他方がメチル基、メトキシ基又はエトキシ基であり、か
つＹがトリフルオロメチル基又はジフルオロメトキシ基
である化合物及びその塩を除く）で表わされる置換ピリ
ジンスルホンアミド系化合物或いはその塩の少なくとも
一種を有効成分として含有することを特徴とする除草
剤。 ３．一般式（ＩＩ） 【化５】 （式中、Ｒ１及びＲ２は水素原子、アルキル基、ハロア
ルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ
基、ハロアルコキシ基、アルコキシアルキル基、ハロア
ルコキシアルキル基、シクロアルキル基、ハロシクロア
ルキル基、アルコキシカルボニル基、ハロアルコキシカ
ルボニル基、フェニル基又はハロフェニル基であり、Ｒ
１及びＲ２の一方が水素原子の場合他方は水素原子以外
のものであり、Ｒ１及びＲ２が隣接している窒素原子と
共に複素環を形成してもよく、Ｙはハロゲン原子、アル
キル基、ハロアルキル基、アルコキシ基、ハロアルコキ
シ基、アルキルチオ基、ハロアルキルチオ基、アルコキ
シアルキル基、ハロアルコキシアルキル基又は 【化６】 （Ｒ３及びＲ４は水素原子又はアルキル基である）であ
り、ｎは０又は１或いは２の整数であり、Ｚ１は−ＮＨ
２基、−ＮＣＯ基、−ＮＨＣＯＣｌ基又は−ＮＨＣＯＯ
Ｒ５基（Ｒ５はアルキル基又はアリール基である）で表
わされるピリジン系化合物と、一般式（ＩＩＩ） 【化７】 （式中、Ｘ３及びＸ４はハロゲン原子、メチル基、メト
キシ基又はエトキシ基であり、Ｚ２は−ＮＨ２基、−Ｎ
ＣＯ基、−ＮＨＣＯＣｌ基又は−ＮＨＣＯＯＲ５基（Ｒ
５は前述の通り）であり、Ｚ１がＮＨ２基である場合Ｚ
２は−ＮＣＯ基、−ＮＨＣＯＣｌ基又は−ＮＨＣＯＯＲ
５基であり、Ｚ２が−ＮＨ２基の場合Ｚ１は−ＮＣＯ
基、−ＮＨＣＯＣｌ基又は−ＮＨＣＯＯＲ５基である）
で表わされるピリミジン系化合物とを反応させ、ついで
Ｘ３及び／又はＸ４がハロゲン原子である場合には該ハ
ロゲン原子のメトキシ化或いはエトキシ化を行ない、さ
らに所望により塩基性の塩形成物質で処理を行なうこと
を特徴とする一般式（Ｉ’） 【化８】 （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｙ及びｎは前述の通りであり、Ｘ
１及びＸ２はメチル基、メトキシ基又はエトキシ基であ
る。但しＲ１及びＲ２が共にメチル基であり、ｎが０で
あり、かつＸ１及びＸ２が共にメトキシ基である化合物
及びその塩、Ｒ１が水素原子又は（Ｃ１−Ｃ３）アルキ
ル基であり、Ｒ２が（Ｃ１−Ｃ３）アルキル基であり、
ｎが１であり、Ｘ１及びＸ２の一方がメトキシ基であっ
て、他方がメチル基、メトキシ基又はエトキシ基であ
り、かつＹが塩素原子、弗素原子、臭素原子、メチル
基、メトキシ基、トリフルオロメチル基又はジフルオロ
メトキシ基である化合物及びその塩、並びにＲ１が水素
原子又は（Ｃ１−Ｃ３）アルキル基であり、Ｒ２が（Ｃ
１−Ｃ２）アルコキシ基であり、Ｒ１及びＲ２が一緒に
なって−（ＣＨ２）ｍ−（ｍは２、３又は４である）を
形成し、ｎが１であり、Ｘ１及びＸ２の一方がメトキシ
基であって、他方がメチル基、メトキシ基又はエトキシ
基であり、かつＹがトリフルオロメチル基又はジフルオ
ロメトキシ基である化合物及びその塩を除く）で表わさ
れる置換ピリジンスルホンアミド系化合物及びその塩の
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6295947A JP2689093B2 (ja) | 1986-01-30 | 1994-11-07 | 置換ピリジンスルホンアミド系化合物、それらを含有する除草剤並びにそれらの化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (9)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1900686 | 1986-01-30 | ||
| JP61019863 | 1986-01-31 | ||
| JP8684786 | 1986-04-15 | ||
| JP61-86847 | 1986-07-29 | ||
| JP61-19006 | 1986-07-29 | ||
| JP61-178489 | 1986-07-29 | ||
| JP17848986 | 1986-07-29 | ||
| JP61-19863 | 1986-07-29 | ||
| JP6295947A JP2689093B2 (ja) | 1986-01-30 | 1994-11-07 | 置換ピリジンスルホンアミド系化合物、それらを含有する除草剤並びにそれらの化合物の製造方法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62017323A Division JP2567235B2 (ja) | 1986-01-30 | 1987-01-29 | 置換ピリジンスルホンアミド系化合物、それらを含有する除草剤並びにそれらの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07233163A JPH07233163A (ja) | 1995-09-05 |
| JP2689093B2 true JP2689093B2 (ja) | 1997-12-10 |
Family
ID=27520101
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6295947A Expired - Lifetime JP2689093B2 (ja) | 1986-01-30 | 1994-11-07 | 置換ピリジンスルホンアミド系化合物、それらを含有する除草剤並びにそれらの化合物の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2689093B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2011035324A1 (en) * | 2009-09-21 | 2011-03-24 | Vanderbilt University | O-benzyl nicotinamide analogs as mglur5 positive allosteric modulators |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| ZA871590B (en) * | 1986-03-07 | 1988-11-30 | Du Pont | Herbicidal pyridine sulfonamides |
-
1994
- 1994-11-07 JP JP6295947A patent/JP2689093B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07233163A (ja) | 1995-09-05 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |