JPS63190887A

JPS63190887A - スルホンアミド系化合物及びその塩、それらを含有する除草組成物並びにそれらの製造方法

Info

Publication number: JPS63190887A
Application number: JP62018506A
Authority: JP
Inventors: Fumio Kimura; 木村　史雄; Takahiro Haga; 隆弘芳賀; Kazuyuki Maeda; 和之前田; Hiroshi Shimoharada; 下原田　洋; Tsunezou Yoshida; 吉田　常象; Masahiko Ikeguchi; 雅彦池口
Original assignee: Ishihara Sangyo Kaisha Ltd
Current assignee: Ishihara Sangyo Kaisha Ltd
Priority date: 1986-02-07
Filing date: 1987-01-30
Publication date: 1988-08-08
Anticipated expiration: 2009-11-09
Also published as: JPH0688997B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は、下記一般式（＋）で表わされるスルホンアミ
ド系化合物及びその塩、それらを有効成分として含有す
る除草組成物並びにそれらの製造方法に関する。

（式中、ｘ８、Ｘｔ及びＸ、は水素原子又は）＼ロゲン
原子であり、Ｙｌ、Ｙｔ及びＹ、はノ１０ゲン原子であ
り、Ｒはメチル基又はメトキシ基である）。

〔従来の技術〕

イソチアゾールスルホンアミド系化合物が除草剤として
有用であることは、特開昭５８−２１９１７９１９１７
９号公報記化合物が広く一般式で示されていることによ
り、概念的に知られている。

しかしながら該公報には本発明化合物は具体的に開示さ
れておらず、また前記スルホンアミド系化合物の水稲用
除草剤としての適用性も明記されていない、また特開昭
５９−１４８０号及び特開昭６０−４８９８８号公報に
よってもスルホンアミド系化合物の除草剤としての有用
性は知られているが、これら公報類より開示されている
ものは、特に、前記スルホンアミド系化合物のイソチア
ゾール核の５位において前者が置換基を何ら有さない点
で、また後者が本発明化合物の該当する置換基とその種
類を異にする点で、それぞれ本発明化合物と明瞭に化学
構造を異にする。

〔発明の目的〕

本発明は新規なスルホンアミド系化合物及びその塩、そ
れらを有効成分とする除草組成物並びにそれらの製造方
法を提供することを目的とする。

〔発明の構成〕

本発明は、下記一般式（１）“で表わされるスルホンア
ミド系化合物及びその塩、それらを有効成分として含有
する除草組成物並びにそれらの製造方法である。

（式中、Ｘｔ、Ｘｔ及びＸ３は水素原子又はハロゲン原
子であり、Ｙｌ、Ｙｌ及びＹ、はハロゲン原子であり、
Ｒはメチル基又はメトキシ基である）。

本発明者等は、前記スルホンアミド系化合物に着目して
、その化学構造と植物に対する生理活性との関係につい
て種々検討を行なっていたところ、イソチアゾール環の
３位にハロゲン原子で置換されてもよいメチル基を有し
、かつ、その５位に２゜２．２−）リハロゲノエトキシ
基を有し、さらにその４位のスルホニルウレア鎖に特定
のピリミジニル基を有する特定の前記スルホンアミド系
化合物が、極めて優れた除草効果を示すこと、特に水田
に繁茂する有害雑草を水稲に殆ど薬害を与えることなく
、選択的に、かつ低薬量で防除できることを見出し、本
発明をなすに至った。

前記一般式で示される本発明の化合物において、ハロゲ
ン原子（Ｘ＋〜ｓ　、”Ｙ１＋４　）としては弗素、塩
素、臭素及び沃素が例示される。

前記一般式（１）において、ＸＩ、ＸＩ及びＸ。

は水素原子又は弗素原子の場合が望ましく、水素原子の
場合がさらに望ましい＠　Ｙｌ　、Ｙｚ及びＹ３は塩素
原子又は弗素原子の場合が望ましく、弗素原子の場合が
さらに望ましい。

前記スルホンアミド系化合物の塩は、−Ｓ式（１）の化
合物と塩基性の塩形成物質との塩であり、具体的には、
例えばナトリウム、カリウムなどのアルカリ金属塩、マ
グネシウム、カルシウムなどのアルカリ土類金属塩或い
はメチルアミン、ジメチルアミン、トリエチルアミンな
どの直換又は無置換のアミン塩が挙げられる。

前記一般式（１）で表わされるスルホンアミド系化合物
は、例えば次のような方法で製造できる。

〔式中、Ｑ、は−ＣＸ＋　ＸＩ　ＸＩ基（Ｘ、、ＸＩ及
びＸ、は水素原子又はハロゲン原子である）であり、Ｑ
、は−ＣＨ！　ＣＹＩ　Ｙｘ　Ｙｘ基（ｙ、、Ｙ２及び
Ｙ、はハロゲン原子である）であり、Ｒ１は−ＮＨ８基
、−ＮＣＯＩ＆、−ＮＨＣＯＲ。

基（Ｒｓはアルキル基、アルケニル基又はフエ二〇ル基である）又は−ＮＨＣＯＲ基である〕で表わされる
イソチアゾール系化合物と、（式中、Ｒは前述の通りであり、Ｒ１は−ＮＨ１基、−
ＮＧＯ基、−Ｎ　ＨＣＯＲｚ基＜Ｒｓは前述の通りであ
る）又は−ＮＨＣＣｊｔ基であり、Ｒ８！１が−ＮＨ，基の場合Ｒ８は−ＮＧＯ基、−ＮＨＣ０Ｒｆ
ｆ基又は−ＮＨＣＣｊ基であり、Ｒ８が−ＮＲ１基の場
合Ｒ自は−ＮＧＯ基、−ＮＨＣＯＲ。

基又は−ＮＨＣＯＲ基である）で表わされるピリミジン
系化合物とを反応させ、次いで所望により塩基性の塩形
成物質で処理する。

ここでいう塩基性の塩形成物質による処理は通常の方法
で行ないうる。

次に、上記の製法について具体的に例示する。

（Ａ）０．５〜２４時間０．５〜２４時間（ＩＩＩ−３１（Ｄ）（Ｅ）０．５〜２４時間ＣＦ）０．５〜２４時間更に、別法として次の反応が挙げられる。

ＣＧ）０〜１００℃、０．５〜２４時間ＳｂＦ３　　（ＳｂＣ１％）０−１００℃、０．５〜２４時間０〜８０℃、０．５〜２４時間１３０〜２５０℃、０．５〜２４時間１３０〜２５０℃、０．５〜２４時間 □→　（１）前記製法（Ｋ）において用いられるＭＯＣＮのＭはナト
リウム、カリウムなどのアルカリ金属、カルシウム、マ
グネシウムなどのアルカリ土類金属、トリエチルアミン
などのアミン類を意味する。

前記（Ａ）〜（Ｍ）の反応は、必要に応じて溶媒の存在
下で行なわれる。溶媒としては、ベンゼン、トルエン、
キシレン、クロロベンゼンなどの芳香族炭化水素類：ク
ロロホルム、四塩化炭素、ジクロロメタン、ジクロロエ
タン、トリクロロエタン、ヘキサン、シクロヘキサンな
どの環状又は非環状脂肪族炭化水素類ニジエチルエーテ
ル、ジオキサン、テトラヒドロフランなどのエーテル類
：アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケ
トンなどのケトンＷＩニアセトニトリル、プロピオニト
リル、アクリロニトリルなどのニトリル類ニジメチルス
ルホキシド、スルホランなどの非プロトン性極性溶媒：
酢酸エチルなどのエステル類などが挙げられる。

前記（Ｃ）〜（Ｆ）の反応においては、必要に応じて反
応を促進させるための触媒として、１゜４−ジアザビシ
クロ（２，２，２）オクタンを添加してもよい、また、
前記（Ａ）及びＣＢ）の反応において、必要に応じて反
応を促進させるために、１，８−ジアザビシクロ（５，
４，０）　−７−ウンデセンを添加してもよい、さらに
、前記ＣＤ）及びＣＦ）の反応においては、必要に応じ
てトリエチルアミンなどの塩基を添加してもよい。

前記製法（Ａ）〜（Ｋ）中、工業的には製法（Ｃ）〜（
Ｆ）が好ましい。

前記反応式中の一般式（ｎ−１）で表わされる原料化合
物は、例えば、次のような方法で製造することが示され
る。

（１）５−ハロゲノ−３−メチルイソチアゾール及びβ
−イミノチオカルボン酸系化合物を出発原料とする場合
を下記第１ルートに示す。

（ＸＸ−↓】（注）■　の工程では１）ＮａＮＯｘ　、ＡｃＯ’Ｈ。

ＨｓＰＯ４及びＨＣｌを作用させた後、２）ＣｕＣ１（
又はＣｕＣｊｍ　）　、ＳＯｇ及びＡｃＯＨを作用させ
る。ＮＨｌ　−Ｂｕ　（ｔ）或いはＮＨ−Ｂｕ　（ｔ）
中のＢｕ　（ｔ）はターシャリブチル基を表わす、また
、ＡｃＯＨは酢酸を表わす。

（２）３−メチルイソチアゾール及び３−ブロモイソチ
アゾールを出発原料とする場合を下記第２ルートに示す
。

（ＩＩ−１１（注）■　の工程ではＣｊＳＯｓＨ又は発煙硝酸を作用
させ、■　の工程では発煙硝酸を作用させる。また、ｎ
−ＢｕＬｌはノルマルブチルリチウムを表わす。

＋３）　Ｑ　ｌがＣＨ１Ｆ基、ＣＨＦ、基及びＣＦ２基
である一般式（ｎ−１）で表わされる化合物を製造する
場合を下記第３ルートに示す。

第３ルート（注）Ｅ　ｔｔ　Ｎ５Ｆａは三弗化ジエチルアミノ硫黄
を、ＢＰＯは過酸化ベンゾイルをそれぞれ表わす。

また、一般式＜ｌｌ−２）〜（Ｉｔ−４）で表わされる
原料化合物は、例えば、次のような方法で製造すること
が示される（第４ルート）（注）ＤＭＦはＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミドを表わす
、ＭＯＣＮは前記製法（Ｋ）の場合と同じ。

Ｑｔ中のハロゲン変換を行なう場合を下記する。

前記反応式中の一般式（Ｉ［１−１）、ＣＩ［ｌ−３）
及び（ＩＩＩ−４）で表わされる原料化合物は下記の通
り、−ａ式（ＩＩＩ−２）で表わされる化合物から容易
に誘導できる。

なお、別法（Ｇ）〜（Ｍ）で使用する原料物質は、ここ
に記載された前記一般式（ＩＩ−１）、（１１１−１）
、（ＩＩＩ−２）及び（１５３）の各化合物の製造方法
に準じて製造することが示される。

前記一般式（１）で表わされるスルホンアミド系化合物
を製造する際経由する中間体を前述したが、この中で一
般式（■）で表わされる化合物の代表例を第１表に示す
。

一般式（■）：第１表次に本発明化合物の合成例を下記する。

合成例１．　　Ｎ−（（４，６−シメトキシピリミジン
ー２−イル）アミノカルボニル〕−３−メチル−５−（２，２゜２−トリフルオロエトキシ）−４− イソチアゾールスルホンアミド（化合物阻１）の合成〔Ｉ〕　３−メチル−５−（２，２，２−）リフルオロ
エトキシ）−４−イソチアゾールスルホンアミドの合成ａ法：（ｌ）５−ブロモ−３−メチルイソチアゾール５０．０
ｇに３０％発煙硫酸２００ｇを水冷下に３０分間にわた
って滴下し、次いで反応液を１７０〜１８０℃に加熱し
て、５６５時間反応させた。

反応終了後、反応物を氷水１．５１中へ注ぎ、炭酸カル
シウムで、１１７に調整した。生成した硫酸カルシウム
を濾別し、濾液に２Ｎ−硫ａ　２（１０ｍ　ｌを加え、
加温した後再び濾過し、得られた濾液の水を留去して、
５−ブロモ−３−メチル−４−イソチアゾールスルホン
酸６６．３　ｇを得た。

（２）　　前記工程＋１１で得た５−ブロモー３−メチ
ル−４−イソチアゾールスルホン酸６６．０ｇにオキシ
塩化リン１７９．０ｇを１０分間にわたって滴下し、次
いで反応液を還流温度まで加熱して４時間反応させた。

反応終了後、反応物を冷却し、氷水ｌｌ中へ注ぎ、攪拌
後クロロホルム５００ｖｇ　１で２回抽出し、抽出層を
水洗し、無水硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、クロロホ
ルムを留去し、さらに減圧蒸溜して、沸点１２０〜１２
５℃八〇輪ｍ１１ｇへ５−ブロモー３−メチル−４−イ
ソチアゾールスルホニルクロライド３９．３　ｇを得た
。

（３１２８％アンモニア水５８５ｍｆｆ１に前記工程（
２）で得た５−ブロモ−３−メチル−４−イソチアゾー
ルスルホニルクロライド３９．０ｇを１．４−ジオキサ
ン１９５ｍ　Ｉｔに溶解した溶液を約１時間にわたって
氷水で冷却して５℃以下に保持しながら滴下し、反応さ
せた。

反応終了後、反応物を食塩水２５０ｍｆｆ１中へ注ぎ、
酢酸エチル２５０＋ｓｊ！で抽出した。抽出層を乾燥し
、酢酸エチルを留去し、得られた残渣をメタノールで再
結晶して、融点１４８〜１５０℃の５−ブロモー３−メ
チル−４−イソチアゾールスルホンアミド２７．５ｇを
得た。

（４）窒素気流下で２．２．２−トリフルオロエタノー
ル４９．２　ｇと金属ナトリウム５．５ｇとを３０分間
攪拌し、１，４−ジオキサン９０ｇ＋　１２を加え、９
０〜１００℃で１．５時間攪拌した０次いで前記工程（
３）で得た５−ブロモー３−メチル−４−イソチアゾー
ルスルホンアミド２７．Ｏｇを加え、還流温度で　３゜
５時間反応させた。

反応終了後、反応物を冷却し、ジクロロメタン３５０ｍ
　ＩＩ中へ注ぎ、次いで濃塩酸２０−１及び食塩水３５
０ｒａ　１を加え、分液して得られた抽出層を乾燥し、
ジクロロメタンを留去し、得られた粘稠性物質をエタノ
ールで再結晶して、融点１４８〜１４９℃の３−メチル
−５−（２，２，２−）リフルオロエトキシ）−４−イ
ソチアゾールスルホンアミド２０．３ｇを得た。

ｂ法：（工）５−ブロモ−３−メチル−４−イソチアゾールス
ルホニルクロライド１５．０　ｇのジクロロメタン８０
ｍｊ！溶液に、ターシャリ−ブチルアミン３９．６ｇを
ジクロロメタン１００ｍ　ｌに溶解した溶液を水冷下に
３０分間にわたって滴下し、滴下後室塩で１．５時間反
応させた。

反応終了後、反応物を冷水１５０−１中に注ぎ、分液し
て得られたジクロロメタン層を乾燥し、ジクロロメタン
を留去して、融点１１８〜１２３℃のＮ−ターシャリ−
ブチル−５−ブロモ−３−メチル−４−イソチアゾール
スルホンアミド１６．１ｇを得た。

（２）　　窒素気流下で２．２．２−）リフルオロエタ
ノール４０ｍＡ！と金属ナトリウム１．９ｇとを１５分
間攪拌し、次いで前記工程ｉｌ＋で得られたＮ−ターシ
ャリ−ブチル−５−ブロモ−３−メチル−４−イソチア
ゾールスルホンアミド５．Ｏｇを加え、還流温度で１８
時間反応させた。

反応終了後、反応物を冷却し、酢酸エチル６４ｗｈｌと
冷水６４ｍｊの混合溶液中へ注ぎ、抽出層を水洗し、乾
燥し、酢酸エチルを留去して油状のＮ−ターシャリ−ブ
チル−３−メチル−５−（２゜２．２−トリフルオロエ
トキシ）−４−イソチアゾールスルホンアミド６．１ｇ
を得た（ここで得られる油状物をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーにより精製して得られるものの融点は８
７〜９０℃である）。

（３）前記工程（２）で得られたＮ−ターシャリ−ブチ
ル−３−メチル−５−（２，２，２−トリフルオロエト
キシ）−４−イソチアゾールスルホンアミド６．１ｇと
トリフルオロ酢酸７０Ｉ１１とを還流温度で１９時間攪
拌下で反応させた。

反応終了後、反応物を冷却し、酢酸エチル７８ｍ１と冷
水７８ｓ１の混合溶液中へ注ぎ、抽出層を水及び炭酸カ
リウム水溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウムを用いて乾
燥し、酢酸エチルを留去し、得られた油状物をジクロロ
メタンとノルマルヘキサンとの混合溶媒で結晶化させ、
３−メチル−５−（２，２，２−トリフルオロエトキシ
）−４−イソチアゾールスルホンアミド４．２ｇを得た
。

（ＩＩ）目的物（化合物患１）の合成ａ法：ホスゲン３．９６ｇを酢酸エチル４６．０４　ｇに溶解
させた溶液に前記（１）のａ　法工程（４）で得た３−
メチル−５−（２，２，２−トリフルオロエトキシ）−
４−イソチアゾールスルホンアミド５．５２　ｇ、トリ
エチルアミン８．０８　ｇ及び酢酸エチル５０ｍｆの溶
液を冷却下３０分間にわたって０〜３℃に保持しながら
滴下した。

次いで、２−アミノ−４，６−シメトキシピリミジン６
．２ｇを加え、１５分後さらにトリエチルアミン４．０
４　ｇを滴下し、１時間反応させた。

反応終了後、反応物をトリエチルアミン２０ｇを含む水
５００ｍ　ＩＩ中へ注ぎ、塩酸でｐＨ３に調整して、白
色沈澱を析出させ、濾過して得られた沈澱を水洗し、重
炭酸ナトリウム水溶液で洗浄し、酢酸エチルエステルで
精製して融点１９９〜２００℃の目的物４．５ｇを得た
。

ｂ　法：＋１１　　ホスゲン９．９ｇを熔解させた酢酸エチル溶
液４９．５ｇに２−アミノ−４，６−ジメトキシピリミ
ジン７．７５　ｇ　、　　ｌ−リエチルアミン２０．２
ｇ及び酢酸エチル７７．５ｇの？ｆｌ　？ａを冷却下６
０分間にわたって１０〜１２℃に保持しながら滴下し、
その後１０〜１５℃で１６時間攪拌下に反応させた。

反応終了後、反応物から減圧下５０℃以下で酢酸エチル
及びホスゲンを留去し、室温まで冷却した。

（２）前記工程（１１で得られたものに酢酸エチル２０
０ｍ１及び３−メチル−５−（２，２，２−トリフルオ
ロエトキシ）イソチアゾール−４−スルホンアミド９．
６６ｇを加え、さらにトリエチルアミン５゜３ｇを滴下
し、１時間反応させた。

反応終了後、反応物について前記目的物の合成例ａ　法
と同様の後処理を施して、目的物１５．２　ｇを得た。

Ｃ法：ｆｌｌ　　クロロベンゼン８０ｇにホスゲン１５．０ｇ
を室温で吹き込み、これに２−アミノ−４，６−シメト
キシピリミジン１５．５ｇのクロロベンゼン２５０ｍ　
Ａ！溶液を５０〜５５℃で攪拌下に滴下した。その後、
この温度で１時間反応させた。

反応終了後、反応物から析出した結晶を濾別後、クロロ
ベンゼンを留去し、次いで減圧蒸留を行い、２−イソシ
アナート−４，６−シメトキシビリミジン３．０ｇを得
た。

（２）前記工程＋１１で得られた２−イソシアナート−
４，６−ジメトキシピリミジンを用いて、前記工程（Ｉ
Ｉ）のｂ法の（２）の方法に準じて目的物が得られる。

合成例２．　　Ｎ−（（４−メチル−６−メドキシピリ
ミジンー２−イル）アミノカルボニル〕−３−メチル−５−（２゜２．２−トリフルオロエトキシ）− ４−イソチアゾールスルホンアミド（化合物隘２）の合成〔Ｉ〕　３−メチル−５−（２，２，２−トリフルオロ
エトキシ）−４−イソチアゾールスルホンアミドの合成（ｔｌ　　２，２．２−トリフルオロエタノール３０ｍ
ｊ！に金属ナトリウム０．８ｇを溶解させ、これに５−
ブロモ−３−メチル−４−二トロイソチアゾール４．０
ｇ、酸化第２１ｉｉＯ，７ｇ及びヨウ化カリウム１６■
を加え、加熱還流下に３０分間反応させた。

反応終了後、反応混合物を水２００ｍｊ！の中へ注ぎ、
酢酸エチルで抽出し、抽出層を水洗乾燥し、酢酸エチル
を減圧留去した。残渣物をノルマルヘキサン／エーテル
混合溶媒で再結晶し、融点６３〜６４℃の３−メチル−
４−二トロー５−　（２，２゜２−トリフルオロエトキ
シ）イソチアゾール３．６ｇを得た。

（２）前記工程Ｔｌｌで得た３−メチル−４−二トロー
５−　（２，２，２−）リフルオロエトキシ）イソチア
ゾール３．３ｇを酢酸５０ｊ！に溶解させ、還元鉄３．
８ｇを加えて５分間加熱還流下反応させた。

反応終了後、反応物を水２００ｍ１中へ注ぎ、酢酸エチ
ルで抽出し、抽出層を炭酸カリウム水溶液、ついで水で
洗浄した後、乾燥し、酢酸エチルを減圧留去した。残漬
物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、油
状物質の４−アミノ−３−メチル−５−（２，２，２−
トリフルオロエトキシ）イソチアゾール２．１ｇを得た
。

（３）前記工程（２）で得た４−アミノ−３−メチル−
５−（２，２，２−トリフルオロエトキシ）イソチアゾ
ール２．１ｇに酢酸５■１１８５％リン酸６−ｌ及び濃
塩酸３　ｍｌを加え、これに−２０〜−１０℃で亜硝酸
ナトリウム０．７７　ｇの２　ｍｌ水溶液を滴下した。

この溶液を一５℃で３０分間攪拌し、ついで塩化第１銅
０．３ｇを含存する亜硫酸ガスを飽和させた酢酸溶液３
０１１１に−１０〜−５℃で徐々に滴下した。

滴下後、０〜５℃で１時間撹拌した。

反応終了後、反応物を氷水中に注ぎ、ジクロロメタンで
抽出した。抽出層を水で充分に洗浄し、乾燥後溶媒を減
圧留去し、油状の塩化３−メチル−５−（２，２，２−
トリフルオロエトキシ）−４−イソチアゾールスルホニ
ル１．２ｇを得た。

（４）前記工程（３）で得られた塩化３−メチル−５−
（２，２，２−）リフルオロエトキシ）−４−イソチア
ゾールスルホニル１．２ｇをｉｆ）＋　Ｉｔのテトラヒ
ドロフランに溶解させた溶液を２８％アンモニア水１２
ａ＋ｊ！に氷冷下加え、ついで室温に戻し３時間攪拌し
た。

反応終了後、反応物を水２００ｍ　ｍ！中に投入し、酢
酸エチルで抽出し、抽出層を水洗、乾燥して溶媒を減圧
留去した。残漬物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーで精製し、融点１４９〜１５０℃の３−メチル−５−
（２，２，２−）リフルオロエトキシ）−４−イソチア
ゾールスルホンアミド０．６６ｇを得た。

（ＩＩ）目的物（化合物陽２）の合成３−メチル−５−（２，２，２−トリフルオロエトキシ
）−４−イソチアゾールスルホンアミド２３３■を２０
１１１のアセトニトリルに溶解し、トリエチルアミン８
８■を加えた後、フェニルＮ−（４−メチル−６−メド
キシピリミジンー２−イル）カーバメート２３０ｗを添
加した。ｙｔいて１．８−ジアザビシクロ（５，４，０
）−７−ウンデセン２０■を加え、室温で２時間攪拌し
、反応させた。

反応終了後、反応物を水１００ｍ　ｉ中へ注ぎ、更に濃
塩酸を滴下し、酸性（ｐＨ３）にすると白色結晶が析出
した。この結晶を濾過、減圧乾燥して融点１５９〜１６
１℃の目的物１６５　ｆｆｆを得た。

合成例３．　　　Ｎ−（４，６−シメトキシビリミジン
ー２−イルアミノカルボニル）−３−メチル−５−（２
，２，２−）リクロロエトキシ）−４−イソチアゾール
スルホンアミド（化合物隘３）の合成〔Ｉ〕　３−メチル−５−（２，２，２−トリクロロエ
トキシ）−４−イソチアゾールスルホンアミドの合成（１）５−ブロモ−３−メチル−４−二トロイソチアゾ
ール８．９ｇ、２，２．２−トリクロロエタノール１２
ｇ及び無水テトラヒドロフラン１００＋ｍ　ｊ！の混合
溶液を氷水で冷却しながら、６０％水素化ナトリウム３
．２ｇを小量づつ加え、０℃で３０分間攪拌反応させた
。

反応終了後、反応物を水３０（）ｍｌの中へ注ぎ、酢酸
エチルで抽出し、抽出層を水洗し、乾燥し、酢酸エチル
を減圧留去した０次いで得られた残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーで精製し、融点６０〜６１℃の３
−メチル−４−二トロー５−（２，２，２−トリクロロ
エトキシ）イソチアゾール８．７ｇを得た。

（２）前記工程＋１１で得られた３−メチル−４−二ト
ロー５−　（２，２，２−トリクロロエトキシ）イソチ
アゾール８．７ｇを酢酸２００ｍ　ｌに溶解し、７０℃
に加熱して還元鉄８．３ｇを少量づつ添加した０次いで
、放冷下に２．２５時間攪拌し、反応させた。

反応終了後、反応物を水４００ｍ　ｌ中へ注ぎ、酢酸エ
チルで抽出し、抽出層を炭酸カリウム水溶液で、次いで
水で洗浄した後、乾燥し、酢酸エチルを減圧留去した。

得られた残漬物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
で精製し、融点５８〜６０℃の４−アミノ−３−メチル
−５−（２，２，２−）リクロロエトキシ）イソチアゾ
ール３．９ｇを得た。

（３）前記工程（２）で得られたべ一アミノー３−メチ
ルー５−　（２，２，２−）リクロロエトキシ）イソチ
アゾール３．６ｇに酢酸８．３ｗ　１．８５％リン酸１
０．９ＩＩＩｔ及び濃塩酸５．７ｍＡを加え、そこへ−
１０℃で亜硝酸ナトリウム１．０３ｇの３−１水溶液を
滴下した。

この溶液を０℃で２時間攪拌し、次いで塩化第１銅０．
４１ｇを含有する亜硫酸ガスを飽和させた酢酸５３−２
中に−１０〜−５℃で徐々に滴下した０滴下後、０〜５
℃で１時間攪拌し、更に室温で３０分間撹拌し、反応さ
せた。

反応終了後、反応物を氷水に注ぎ、酢酸エチルで抽出し
た。抽出層を水で充分に洗浄し、乾燥後溶媒を減圧留去
した０次いで得られた残渣物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーで精製し、融点７１〜７４℃の塩化３−メ
チル−５−（２，２，２−トリクロロエトキシ）−４−
イソチアゾールスルホニル２．３ｇを得た。

（４）前記工程（３）で得られた塩化３−メチル−５−
（２，２，２−トリクロロエトキシ）−４−イソチアゾ
ールスルホニル２．２ｇをアセトン５０ｍｊ！に溶解さ
せ、これに炭酸水素ナトリウム０．５４　ｇを加えた。

上記混合液を−３０〜−４０℃に冷却し、２８％アンモ
ニア水１膳！を加えた後徐々に室温に戻し、１．５時間
攪拌し、反応させた。

反応終了後、反応物を水２００ｍ　ＩＩ中へ注ぎ、酢酸
エチルで抽出し、抽出層を水洗、乾燥して溶媒を減圧留
去した。得られた残漬物にエーテル／　ｎ　−ヘキサン
−１／１の混合溶媒１０＋＊ｌを加えると結晶化して融
点１４０〜１４２℃の３−メチル−５−（２，２，２−
トリクロロエトキシ）−４−イソチアゾールスルホンア
ミド１．３ｇを得た。

（ＩＩ）目的物（化合物患３）の合成前記合成例３の工程（１）　＋４１で得られた３−メチ
ル−５−（２，２，２−トリクロロエトキシ）−４−イ
ソチアゾールスルホンアミド２００■及びフェニルＮ−
（４，６−シメトキシピリミジ二／−２−イル）カーバ
メート１７７■をアセトニトリル２０ｍ　ｌに溶解し、
室温で１．８−ジアザビシクロ（５，４，０）−７−ウ
ンデセン１０３＊を加え、１５時間攪拌し、反応させた
。

反応終了後、反応物を水１００ｍ　ｌ中に注ぎ、濃塩酸
を滴下して酸性にすると白色結晶が析出した。

この結晶を濾過し、減圧乾燥して融点１７６〜１８０℃
の目的物２７０■を得た。

合成例４．　　Ｎ−（（４，６−シメトキシピリミジン
ー２−イル）アミノカルボニル〕−３−ジフルオロメチル−５− （２，２，２−）リフルオロエトキシ）−４−イソチアゾールスルホンアミド（化合物阻８）の合成〔Ｉ〕　３−ジフルオロメチル−５−（２，２，２−ト
リフルオロエトキシ）−４−イソチアゾールスルホンア
ミドの合成＋１１　　前記合成例２の工程（１）＋３１と同様の方
法で得られた塩化３−メチル−５−（２，２，２−トリ
フルオロエトキシ）−４−イソチアゾールスルホニル３
．７ｇのジクロロメタン１０１１１溶液に室温でターシ
ャリ−ブチルアミン９．１ｇを加え、還流温度で３０分
間反応させた。

反応終了後、反応物を水２０（１ｍ　ｌ中に注ぎ、酢酸
エチルで抽出した。抽出層を水洗し、乾燥して溶媒を減
圧留去した。得られた残漬物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーで精製し、融点８７〜９０℃のＮ−ターシ
ャリ−ブチル−３−メチル−５−（２，２，２−トリフ
ルオロエトキシ）−４−イソチアゾールスルホンアミド
２．２ｇを得た。

（２）前記工程（１１で得られたＮ−ターシャリ−ブチ
ル−３−メチル−５−（２，２，２−）リフルオロエト
キシ）−４−イソチアゾールスルホンアミＦ１．０６ｇ
％Ｎ−ブロモスクシンイミド１．１４　ｇ　＆び過酸化
ベンゾイル５０■を無水四塩化炭素−無水ベンゼン（９
：１混合溶媒５０１０中還流温度で２３時間光照射して
反応させた。

反応終了後、反応物を水２００ｍ　ｌ！中に注ぎ、酢酸
エチルで抽出し、抽出層を炭酸カリウム水溶液で洗浄し
、乾燥した後、溶媒を減圧留去した。得られた残渣物を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、融点１
３５〜１３８℃のＮ−ターシャリ−ブチル−３−ジブロ
モメチル−５−（２，２゜２−トリフルオロエトキシ）
−４−イソチアソールスルホンアミド０．５　ｇを得た
。

（３）前記工程偉）で得られたＮ−ターシャリ−ブチル
−３−ジブロモメチル−５−（２，２，２−トリフルオ
ロエトキシ）−４−イソチアゾールスルホンアミド１．
５５　ｇのエタノール溶液６−１と硝酸銀０．６　ｇの
水溶液１０Ｉ１１とを混合し、還流温度で２０分間反応
させ、次いで硝酸１１０．６ｇを加えて、さらに還流温
度で１時間反応させた。

反応終了後、反応物を水３００ａ　ｍ！中に注ぎ、酢酸
エチルで抽出した。抽出層を乾燥し、溶媒を減圧留去し
た。得られた残渣物をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーで精製し、油状のＮ−ターシャリ−ブチル−３−ホ
ルミル−５−（２，２，２−トリフルオロエトキシ）−
４−イソチアゾールスルホンアミド１．２ｇを得た。

（４）前記工程（３）で得られたＮ−ターシャリ−ブチ
ル−３−ホルミル−５−（２，２，２−）リフルオロエ
トキシ）−４−イソチアゾールスルホンアミド１．１ｇ
をジクロロメタン１０ｍｊｌに溶解し・−７０℃で三フ
ッ化ジエチルアミノ硫黄１．５ｍｊｌを加え、この混合
液を徐々に室温に戻し、３時間攪拌下に反応させた。

反応終了後、反応物を水２００ｍ　ｉ中へ注ぎ、酢酸エ
チルで抽出した。抽出層を乾燥した後、溶媒を減圧留去
した。得られた残漬物をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーで精製し、融点１０５〜１０６℃のＮ−ターシャ
リ−ブチル−３−ジフルオロメチル−５−（２，２，２
−１リフルオロエトキシ−４−イソチアゾールスルホン
アミド０．７　ｇを得た。

（５）前記工程（４）で得られたＮ−ターシャリ−ブチ
ル−３−ジフルオロメチル−５−（２，２，２−トリフ
ルオロエトキシ）−４−イソチアゾールスルホンアミド
０．７ｇにトリフルオロ酢酸８　ｍｌを加え、還流温度
で２時間反応させた。

反応終了後、反応物を水２００ｍ　Ｊ！中に注ぎ、酢酸
エチルで抽出した。抽出層を乾燥した後、溶媒を減圧留
去した。得られた残渣物をエーテル／ヘキサン混合溶媒
で処理して融点１０２〜１０４℃の３−ジフルオロメチ
ル−５−（２，２，２−トリフルオロエトキシ−４−イ
ソチアゾールスルホンアミド０．１３ｇを得た。

（Ｉ［）目的物（化合物阻８）の合成前記合成例４の工程臼〕（５）で得られた３−ジフルオ
ロメチル−５−（２，２，２−）リフルオロエトキシ）
−４−イソチアゾールスルホンアミド０．０８ｇを用い
て、前記合成例３の工程（Ｉｆ）の方法に準じて反応を
行い、融点２００〜２０２℃の目的物０．１１ｇを得た
。

合成例５．　　Ｎ−（（４，６−シメトキシピリミジン
ー２−イル）アミノカルボニル〕−３−フルオロメチル−５＝（２，２，２−）リフルオロエトキシ）−４−イソチアゾールスルホンアミド（化合物部７）の合成〔■〕　３−フルオロメチル−５−（２，２，，２−ト
リフルオロエトキシ）−４−イソチアゾールスルホンア
ミドの合成＋ｌｌ　　Ｎ−ターシャリーブチノｖ−３−ホルミル−
５−（２，２，２−）リフルオロエトキシ）−４−イソ
チアゾールスルホンアミド１．Ｏｇのメタノール溶液２
０ｓ１を１０〜１５℃で水素化ホウ素カリウム７２■の
メタノール／　０．２Ｎ−水酸化ナトリウム水溶液（８
ａｉｌ／２　ｍｊりに加え、室温で１５時間攪拌しなが
ら反応させた。

反応終了後、反応物を水２００ｍ　ｊ中に注ぎ、酢酸エ
チルで抽出した。抽出層を乾燥した後、溶媒を減圧留去
した。得られた残漬物をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーで精製し、融点１１３〜１１６℃のＮ−ターシャ
リ−ブチル−３−ヒドロキシメチル−５−（２，２，２
−）リフルオロエトキシ）−４−イソチアゾールスルホ
ンアミド０．５４　ｇを得た。

（２）前記工程（１）で得られたＮ−ターシャリ−ブチ
ル−３−ヒドロキシメチル−５−（２，２，２−トリフ
ルオロエトキシ）−４−イソチアゾールスルホンアミド
０．５１　ｇを塩化メチレン２０−βに溶解し、これに
−７０℃で三フフ化ジエチルアミノ硫黄０．４７　ｇの
塩化メチレン溶液２　ｍｌを加え、徐々に室温まで戻し
、１５時間撹拌下に反応させた。

反応終了後、反応物を水３０抛ｌに注ぎ、酢酸エチルで
抽出した。抽出層を乾燥した後溶媒を減圧留去した。得
られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精
製し、油状のＮ−ターシャリ−ブチル−３−フルオロメ
チル−５−（２，２゜２−トリフルオロエトキシ）−４
−イソチアゾールスルホンアミド０．４４　ｇを得た。

（３）前記工程（２）で得られたＮ−ターシャリ−ブチ
ル−３−フルオロメチル−５−（２，２，２−）リフル
オロエトキシ）−４−イソチアゾールスルホンアミド０
．４４　ｇにトリフルオロ酢酸１５ｍｊ！を加え、室温
で１５時間攪拌下に反応させた。

反応終了後、反応物を水２００ｍ　Ｉｆ中へ注ぎ、酢酸
エチルで抽出した。抽出層を乾燥した後溶媒を減圧留去
した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーで精製し、融点７０〜７３℃の３−フルオロメチル
−５−（２，２，２−）リフルオロエトキシ）−４−イ
ソチアゾールスルホンアミド０．３０ｇを得た。

（ｎ）目的物（化合動磁７）の合成前記合成ｇ１５の工程（１）　１３＞で得られた３−フ
ルオロメチル−５−（２，２，２−）リフルオロエトキ
シ）−４−イソチアゾールスルホンアミド０．１０５　
ｇを用いて、前記合成例３の工程〔■〕の方法に準じて
反応を行い、融点１９９〜２０１　’Ｃの目的物０．１
３８　ｇを得た。

前記一般式（１）に包含される本発明化合物の例を下記
第２表に示す。

一般式（■）：前記一般式（１）で表わされるスルホンアミド系化合物
の塩としては例えば次のものが挙げられる。

化合物１ｍ９　　Ｎ−（（４，６−シメトキシビリミジ
ンー２−イル）アミノカルボニル〕−３−メチル−５−（２，２゜２−トリクロロエトキシ）−４−イソチアゾールスルホンアミドのモノメチルアミン塩融点１６５〜１６７℃ 化合物１ｋｌＯＮ−（（４，６−シメトキシビリミジン
ー２−イル）アミノカルボニル〕−３−メチル−５−（２−クロロ−２，２−ジフルオロエトキシ） −４−イソチアゾールスルホンアミドのモノメチルアミン塩融点１６９〜１７１　を化合物ｌｌ＆Ｌｉｌ　　Ｎ−（（４，６−シメトキシピ
リミジンー２−イル）アミノカルボニル〕−３−メチル−５−（２，２゜２−トリフルオロエトキシ）−４− イソチアゾールスルホンアミドのカルシウム塩融点２２９〜２３２℃ 本発明のスルホンアミド系化合物及びその塩は後記試験
例にみる通り、除草組成物の有効成分として使用した場
合に優れた除草効果を示す、特に水田に繁茂する有害雑
草、例えばホタルイ、ミズガヤツリ、クマガヤッリ、マ
ツバイ、クログワイなどのカヤツリグサ科、ウリカワ、
オモダカ、ヘラオモダカなどのオモダカ科、コナギなど
のミズアオイ科、アゼナなどのゴマノハグサ科、キカシ
グサなどのミソハギ科、ヒエのようなイネ科などの雑草
、を水稲に薬害を与えることなく選択的にかつ低薬量で
防除できる。また、それら有害雑草が、比較的生育の進
んだものであっても防除できるので、水田用除草組成物
として好適なものである。更には、畑地における有害雑
草をも防除できるので好ましいものである。

本発明の除草組成物の適用範囲は、前述の農耕地以外に
、果樹園、桑園、山林、１道、グランド、工場敷地など
多岐にわたり、また適用方法も土壌処理、茎葉処理を適
宜選択できる。

本発明の除草組成物を施用する場合、通常は担体、必要
に応じて希釈剤、溶剤、乳化剤、展着剤、界面活性剤な
どの各種補助剤と混合して、粒剤、水和剤、乳剤、液剤
、水溶剤などに製剤して使用する。

製剤に使用する補助剤としては、珪藻土、消石灰、炭酸
カルシウム、滑石、ホワイトカーボン、タルク、カオリ
ン、ベントナイト、ジ−クライト、クレー、澱粉などの
固型担体；水、トルエン、キシレン、ソルベントナフサ
、ジオキサン、アセトン、イソホロン、メチルイソブチ
ルケトン、クロロベンゼン、シクロヘキサン、ジメチル
スルホキシド、ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチル−２
−ピロリドン、アルコールなどの溶剤；アルキル硫酸ソ
ーダ、アルキルベンゼンスルホン酸ソーダ、リグニンス
ルホン酸ソーダ、ポリオキシエチレンアルキルアリール
エーテルサルフェート、ポリオキシエチレングリコ−ル
ア」レキルエーテル、ポリオキシエチレンラウリルエー
テル、ポリオキシエチレンアルキル了り−ルエーテル、
ポリオキシエチレンＩＩ＝　ＩＩＪｊ酸エステル、ポリ
オキシエチレンソルビタン脂肪酸エステルなどのｌｌｊ
ｌｉ着剤、界面活性剤などが挙げられるが、もちろんこ
れらのみに限定されるものではない。

有効成分化合物と農薬用補助剤との適当な配合重量比は
一般に０．０２　：　９９．９８〜９０　：　１０、望
ましくは０．０３　：　９９．９７〜６０　：　４０で
ある。有効成分化合物の使用適量は、気象条件、土壌条
件、薬剤の製剤形態、対象雑草の種類、施用時期などの
相違により一概に規定できないが、一般に１アール当り
の施用有効成分量としては０．０５〜５０ｇ、望ましく
は０．１〜３０ｇである０本発明除草剤は、他の農薬、
２料、土壌、薬害軽減剤などと混用或いは併用すること
ができ、この場合に一層優れた効果、作用性を示すこと
がある。他の除草剤と混用或いは併用する場合、その混
合相手除草剤の有効成分としては、例えば次のようなも
のが挙げられる。

２．４−ジクロロフェニル−３°　−メトキシ−４″−
ニトロフェニルエーテル、２，４−ジクロロフェニル−
３°　−メトキシカルボニル−４°　−ニトロフェニル
エーテル、２−クロロ−２°。

６゛−ジエチル−Ｎ−（ブトキシメチル）アセトアニリ
ド、２−クロロ−２’、６’　　−ジエヂルーＮ−（プ
ロポキシエチル）アセトアニリド、Ｓ−〔（２−メチル
−１−ピペリジル）−カルボニルメチル）−０，Ｏ−ジ
−ｎ−プロピルジチオホスフェート、５−（４−クロロ
ベンジル）−トＬ　Ｎ−ジエチルチオールカーバメート
、Ｓ−エチル−ヘキサヒドロ−ＩＨ−アゼピン−１−カ
ーボチオエート、５−（１−メチル−１−フェネチル）
ピペリジン−１−カーボチオエート、Ｓ−ベンジル−Ｎ
−エチル−Ｎ−（１，２−ジメチルプロピル）チオカー
バメート、２−ナフチル−Ｎ−メチル−Ｎ−（２−メト
キシ−６−ピリジル）チオカーバメート、０−（メタ−
ターシャリ−ブチルフェニル）−Ｎ−メチル−Ｎ−（６
−メドキシビリジンー２−イル）−チオカーバメート、
５−ターシャリ−ブチル−３−（２，４−ジクロロ−５
−イソプロポキシフェニル）−１，３，４−オキサジア
ゾリン−２−オン、２−ベンズチアゾール−２−イルオ
キシ酢酸　Ｎ−メチルアニリド、４−（２，４−ジクロ
ロベンゾイル）−１，３−ジメチル−５−フェナシルオ
キシピラゾール、４−（２，４−ジクロロベンゾイル）
−１，３−ジメチルピラゾール−５−イル−ｐ−トルエ
ンスルホネート、４−　（２，４−ジクロロ−３−メチ
ルベンゾイル）−１，３−ジメチル−５−（４−メチル
フェナシルオキシ）ピラゾール、３．７−ジクロロ−８
−キノリンカルボン酸。

本発明除草組成物と他の除草性化合物と混用或いは併用
する場合、その配合比は気象条件、土壌条件、薬剤の製
剤形態、施用時期、施用方法などの相違により一概に規
定できないが、−１式（１）のイソチアゾール系化合物
及びその塩１重量部当り、混合相手除草性化合物０．１
〜２００重費部、望ましくは０．５〜１００重量部であ
り、施用適量は１アール当りの総荷動成分化合物量とし
て１〜１００　ｇであり、望ましくは２〜５０ｇである
。

また、その場合適当な薬剤の施用時期は普通、雑草発生
前から３〜４葉期の間であり、移植水稲田の場合は一般
に水稲移植前から移植後２０日前後である。尚、施用に
際して前記を効成分化合物は通常の農薬製剤法に準じて
前記のような各種補助剤と配合し、例えば乳剤、水和剤
、粒剤などの形態に製剤されるが、有効成分化合物を一
緒に混合、製剤してもよいし、或いは別々に製剤したも
のをさらに混合してもよい。

次に本発明除草組成物の試験例を記載する。

試験例１゜１　／　１０．０００アールポツトに水田土壌を詰め、
ホタルイの種子並びにウリカワの塊茎を植え、湿潤状態
に保った。ホタルイが０．５〜１葉期に生育した後、約
３ａｌｌに湛水し、所定化合物の水和剤を水で希釈し、
所定量をピペ７）で滴下処理した。

薬剤処理２０〜２１日後に生育状態を肉眼で観察し、下
記の規準（１〜５の５点法）に基づいて生育抑制程度を
評価し下記第３表の結果を得た。

生育抑制程度５：完全な枯死状態〜１：無処理区と同等の生育試験例
２゜１　／１０．０００アールポツトに水田土壌を入れて飽
水させた後、ヒエの種を播種し、軽く覆土して、畑伏態
で発芽させた。子葉鞘が出現したときに湛水して水深３
ｃ＋ｗとし、所定化合物の水和剤を水で希釈し、所定量
をピペットで滴下処理した。薬剤処理１６〜２２日後に
生育状態を肉眼で観察し、前記試験例１の規準に基づい
て評価し、下記第３表の結果を得た。

試験例３゜１　／１０，０００アールポツトに水田土壌を詰め入水
後代掻を行ない、翌日２．５葉期の水稲（品種：日本晴
）をポット当り１本づつ移植した。移植ｔ＆４日目に所
定化合物の水和剤を水で希釈し、所定量をピペットで滴
下処理した。薬剤処理２１〜３５日後に生育状態を肉眼
で観察し、前記試験例１の規準に基づいて評価し、下記
第３表の結果を得た。

第３表試験例４゜１　／１，７００アールプラスチツクケースに水田土壌
を詰め、入水して水田状態とし、ノビエ、ホタルイ及び
コナギの種子を播種すると共にクログワイ及びオモダカ
の塊茎を植込んだ、その後プラスチックケースを屋外に
置きノビエが２葉期に達したときに、各薬剤の粒剤を所
定量になるように施用した。

薬剤処理後１ケ月後に生育状態を肉眼で観察し、前記試
験例１の場合と同様にして生育抑制程度を評イ西し、そ
の結果を第４表に示す。

第４表〔ｕ０※：揮演す蓼ｌ麦２０日−噛りし芽力観められた
。

化合物Ａ：３，７−ジクロロー８−キノリンカルボン酸Ｂ：　　５−（（２−メチル−１−ピペリジル）−カル
ボニルメチル）−０，０ −ジ−ｎ−プロピルジチオホスフェートＣ：　Ｓ−ベンジル−Ｎ−エチル−Ｎ−（ｌ、２−ジメ
チルプロピル）チオカーバメートＤ：　２−ナフチル−Ｎ−メチル−Ｎ−（２−メトキシ
−６−ピリジル）チオカーバメートＥ：　２−ベンズチアゾール−２−イルオキシ酢酸Ｎ−
メチルアニリドＦ：　２−クロロ−２°、６゛　−ジエチル−Ｎ−（プ
ロポキシエチル）アセトアニリドその他の本発明化合物、例えば本発明化合物階２〜１０
なども、化合物阻１の場合と同様に他の薬剤との混合施
用により優れた除草効果が得られる。

試験例５屋外の０．３６ｒｒｒ角コンクリートポツトに水田土壌
を詰め入水し、代掻を行なった。２．５葉期の水稲苗（
品種：日本晴）をポット当り９株（３木／株）移植した
。水深を５ｃｍに保ち、移植後６日目に各薬剤の粒剤を
所定量になるように施用した。

薬剤処理の翌日より３備／８時間／日の条件で２日間に
亘って漏水させた。処理後５５日目に茎葉部を切断し９
株平均の茎数及び茎葉部を求め、それらを対無処理区比
で表した。その結果を第５表に示す。

次に本発明除草性組成物の製剤例を記載する。

製剤例１゜Ｔｌｌ　　ジ−クライト　　　　　　　　７８　　重量
部（２）　ラベリン３　　　　　　　　　　２　重量部
（商品名：　第−工業製薬製）（３）　　ツルポール５０３９　　　　　　　５　　重
量部（商品名：　東邦化学工業製）（４）カープレックス　　　　　　　１５　　重量部（
商品名：　塩野義製薬製）以上（１）〜（４）の成分の混合物と本発明化合物阻２
とを９：１の重量割合で混合して水和剤を得る。

製剤例２゜＋１１　　本発明化合物１１ｍ　１　　　　　　　０．
０８重量部（２）　　ツルポール５１４６　　　　　　
　　６　　重量部（商品名：　東邦化学工業製）（３）　　ノイゲンＩ！Ａ−１１２２重量部（商品名：
　第−工業製薬製）（４）　　ジ−クライト　　　　　　　　　２５　　重
量部（５）　　ベントナイト　　　　　　　　　６６．
９２重量部以上（１）〜（５）を少量の水と共に混練、
粒状に押し出し成型し乾燥して粒剤とする。

製剤例３゜［ｉｌ　　本発明化合ａｌｙＪＮｎ３　　　　　　　０
．１　ｍｍ部＋２１３．７−ジクロロ−８−キノリンカ
ルボン酸１　重量部（３）　　リグニンスルホン酸カルシウム３　重量部（４）ベントナイト　　　　　　　　４４　　重量部（
５）　　ジ−クライト　　　　　　　　　５１．９１！
ｉｔ部上記＋１１〜（５）を混合し、粉砕、造粒して粒
剤を得る。

製剤例４゜＋１１　　本発明化合物阻５　　　　　　３　重量部１
２１３．７−ジクロロ−８−キノリンカルボン酸２０　
　重量部（３）　　ジ−クライト　　　　　　　　　５２　　重
量部（４）ホワイトカーボン　　　　　　２０　　重量
部（５）　　ナフタレンスルホン酸ソーダとホルムアル
デヒドとの縮合物　　　　　　　　３　重量部（６）　
　ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテルの硫酸
塩　　　　　　　　　　２Ｉｉ量部上記＋１１〜（６）
を混合、粉砕して水和剤を得る。

製剤例５゜（Ａ）（１）　　本発明化合物阻１　　　　　　　０．０８重
量部（２）ベントナイト　　　　　　　　４０　　重量
部（３）　　ジ−クライト　　　　　　　　　５６．９
２重量部（４）　　リグニンスルホン酸カルシウム　３
　重１６１１上記＋１１〜（４）を混合、粉砕、造粒し
て粒剤（Ａ）を得る。

ＣＢ）ｆｌ１３，７−ジクロロ−８−キノリンカルボン酸　　
　　　　　　　　　　　　　１　重量部（２）ベントナ
イト　　　　　　　　４０　　重量部（３）　　ジ−ク
ライト　　　　　　　　　５６　　重量部（４）　　リ
グニンスルホン酸カルシウム３　重量部上記＋１１〜（４）を混合、粉砕、造粒して粒剤（Ｂ）
を得る。

前記粒剤（Ａ）及び（Ｂ）を１：ｌの重量割合で混合し
て粒剤を得る。

製剤例６゜＋１１　　水溶性デンプン　　　　　　　７５　　重量
部。

（２）　　リグニンスルホン酸ソーダ　　　５　重量部
（３）本発明化合物魚９　　　　　　２０　重量部以上
１１１〜（３）の各成分を混合して、水溶剤を得る。

製剤例７゜（１１ニューライト　　　　　　　　　９７　　重量部
（商品名：日本耐火原料側型）（２）ディスクシールド９２　　　　　２　重量部（商
品名：　第−工業製薬製）（３）本発明化合動磁８　　　　　　１　重量部以上＋
１１〜（３）の各成分を混合、粉砕して粉剤を得る。

Claims

【特許請求の範囲】１、一般式： ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｘ＿１、Ｘ＿２及びＸ＿３は水素原子又はハロ
ゲン原子であり、Ｙ＿１、Ｙ＿２及びＹ＿３はハロゲン
原子であり、Ｒはメチル基又はメトキシ基である）で表
わされるスルホンアミド系化合物及びその塩。２、一般式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｘ＿１、Ｘ＿２及びＸ＿３は水素原子又はハロ
ゲン原子であり、Ｙ＿１、Ｙ＿２及びＹ＿３はハロゲン
原子であり、Ｒ＿１は−ＮＨ＿２基、−ＮＣＯ基、▲数
式、化学式、表等があります▼基（Ｒ＿３はアルキル基
、アルケニル基又はフェニル基である）又は▲数式、化学式、表等
があります▼基である〕で表わされるイソチアゾール系化合物と、一般
式：▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒはメチル基又はメトキシ基であり、Ｒ＿２は
−ＮＨ＿２基、−ＮＣＯ基、▲数式、化学式、表等があ
ります▼基（Ｒ＿３は前述の通りである）又は▲数式、
化学式、表等があります▼基であり、Ｒ＿１が−ＮＨ＿
２基の場合はＲ＿２は−ＮＣＯ基、▲数式、化学式、表
等があります▼基又は▲数式、化学式、表等があります
▼基であり、Ｒ＿２が−ＮＨ＿２基の場合はＲ＿１は−ＮＣＯ基
、▲数式、化学式、表等があります▼基又は▲数式、化
学式、表等があります▼基である〕で表わされるピリミジン系化合物とを反応させ、次いで所
望により塩基性の塩形成物質で処理することを特徴とす
る一般式：▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｘ＿１、Ｘ＿２、Ｘ＿３、Ｙ＿１、Ｙ＿２、Ｙ
＿３及びＲは前述の通りである）で表わされるスルホン
アミド系化合物及びその塩の製造方法。３、一般式： ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｘ＿１、Ｘ＿２、及びＸ＿３は水素原子又はハ
ロゲン原子であり、Ｙ＿１、Ｙ＿２及びＹ＿３はハロゲ
ン原子であり、Ｒはメチル基又はメトキシ基である）で
表わされるスルホンアミド系化合物又はその塩を有効成
分として含有することを特徴とする除草組成物。