JPS61126085A - １−（置換チエニル）メタンスルホンアミド系化合物及びそれらを含有する除草剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、、ｌ−（置換チェニル）メタンスルホンアミ
ド系化合物又はそれらを有効成分として含有する除草剤
に関する。

更（＝詳しくは１本発明は一般式（１）〔式中Ｘ及びＹ
は、一方がＣ０ＯＲ基であ（式中具は前述の通りである
）である〕で表わされる１−（ｆＷＪＪチェニル）メタ
ンスルホンアミド系化合物又はそれらを有効成分として
含有する除草剤である。

本発明の１−（置換チェニル）メタンスルホンアミド系
化合物は、ナトリウム、カリウムなどのアルカリ金属塩
、マグネシウム、カルシウムなどのアルカリ土類金属塩
或いはジメチルアミン、トリエチルアミンなどのアミン
塩を形成することもできる。

前記一般式（１）の本発明化合物は、例えば次のような
方法（＝よって製造することができる。

（式中２１及びＺ２は、一方が（アミノスルホニルフメ
ｔル基であり、他方はＣ０ＯＲ基である。Ｚ３及びＺ４
は、一方が（インシアナートスルホニル）メチル基であ
り、他方はＣ００Ｒ基である。Ｒ，ｌはアルキル基、ア
ルケニル基又はフェニル基であり、Ｘ、Ｙ、几は前述の
通りである。）と記反応は必要に応じて溶媒の存在下で
行なわれる。

溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キンＬ／７、クロ
ロベンゼンなどの芳香族炭化水素類：クロロホルム、四
塩化炭素、塩化メチレン、ジクロロエタン、トリクロロ
エタン、ヘキナン、ンクロヘキサンなどの環状又は非壌
状脂肪族炭化水素類ニジエテルエーテル、メチルエチル
エーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランなどのエー
テル類ニア七トン、メチルエチルケトン、メチルイソブ
チルケトンなどのケトン類ニアセトニトリル、プロピオ
ニトリル、アクリロニトリルなどのニトリル類：ジメチ
ルスルホキンド、スルホランなどの非プロトン性極性溶
媒などが挙げられや。

前記（Ａ）反応において、必要に応じて反応を促進させ
るために、１，８−ジアザビンクロ（５，４，０）−７
−クンデセンを添加してもよい。また、前記（Ｂ）反応
（＝おいては、必要（＝応じて反応を促進させるための
触媒として１，４−ジアザビンクロ（２，２゜２〕オク
タンを添加してもよい。

前記（Ａ）の反応式中の（１）で表わされる原料化合物
は、例えば次のような方法で製造することができる。

また前記ＣＢ）の反応式中の面で表わされる原料化合物
は、例えば次のような方法で製造することができる。

（式中８２はメチル、エチル、ｎ−プロピル、　　　′
イソプロピル、ｎ−ｆｆ−ル、イソブチル。

５ｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチルなどのアルキル基で
ある。） 原料化合物類の製造法におＣする各反応の反応温度１反
応時間、必要に応じて使用される溶媒、アルカリ性物質
などの反応条件は、通常同様の反応における反応条件か
ら適宜選択できる。なお５本発明化合物の一部の化合物
Ｃ：ついては、前記の方法以外（：例えば次の方法で製
造することもできる。

（式中ＨＡＬはハロゲン原子であり、Ｒは前述の通りで
ある。〕 次に本発明化合物に係る合成例を記載する。

合成例１ ２−（Ｎ−＋（４，６−ジフトキンビリミジン−２−イ
ル〕アミノカルボニル）アミノスルホニルメチル）−８
−ｆオフエンカルボン酸メチルの合成〔１〕 ８−シアノチオフェン８．５７．９を無水ジエチルエー
テル６０ｍ１ｊに溶かし窒素雰囲気下に。

−６０℃以下まで冷却した。これ（ニー６０℃以下でｎ
−ブチルリチウムのｎ−ヘキナン溶液（１，５５Ｍ）２
　Ｌ８−を滴下しこの温度で２時間攪拌した。次に無水
テトラヒドロフラン１２０−を加え、−６０℃以下で、
粉末状バラホルムアルデヒド２．９５Ｎを加えた後。

徐々Ｃ：室温Ｃ：戻し、室温で１６時間攪拌した。

水中シー投入した後、ジエチルエーテル（二て抽出し、
エーテル層は、水洗後無水硫酸ナトリウム（二て乾燥し
、溶媒を減圧留去した。

得られた油状物は、カラムクロマトグラフィー。

減圧蒸留及び再度のカラムクロマトグラフィー（二ヨり
精製して、屈折率（ｎ　Ｄ２１・６）：　１．５１８８
の３−シアノ−２−テニルアルコール１．５２１１（純
度的８８％〕を得た。

〔２〕 前記〔１〕と同様（ニジて合成した３−シアノー２−テ
ニルアルコールｌ＠度約９２％）０．５Ｉ、ＩＯＮ水酸
化ナトリウム水溶液５Ｎ及びエタノール５ｄを混合し、
２．５時間加熱還流した。冷却後、水を加え、濃塩酸（
：て酸性とし、酢酸エチルにて抽出した。抽出層は乾燥
後減圧留去した。

残渣をｎ−ヘキサンにて洗浄して、融点１４０−１４５
°Ｃの２−ヒドロキシメチル−３−チオフェンカルボン
酸０．４９Ｉｉを得た。

〔８〕　　　　′ ら、Ｎ−メチル−Ｎ−二トロンクレア（含水晶）１．１
．９を一時（二加え、１５分間攪拌し、分液（二てジア
ゾメタンのジエチルエーテル溶液を得た。

このエーテル溶液を２−ヒトσキシメチルー８−ｆ−オ
フエンカルボン酸０．８１のジエチルエーテル（３０ｊ
Ｉ７り溶液中に、黄色が退色しなくなるまで加えた。得
られたエーテル溶液は乾燥後溶媒を減圧留去した。残渣
をｎ−へキチン中で粉砕し、Ｆ取すること（−より、融
点４９−５ｉ３℃の２−ヒドロキシメチル−８−チオフ
ェンカルボン酸メチル０．２９．９’を得た。

〔４〕 ２−とドａキシメチル−８−チオフェンカルボン酸メチ
ル０．２Ｉを０℃以下に冷却し、塩化チオニル０．５−
を加えて、１５分間０℃以下で攪拌した。水を加え１０
分間攪拌後塩化メチレン（二て抽出した。塩化メチレン
層は、乾燥後、溶媒を減圧留去した。残渣をガラスチュ
ーブオープンにて蒸留して（オープン温度１８０　’Ｃ
、圧力４．５　ｍｍＨ，９）、屈折率（１Ｄ２ａ２）：
１．５５５９の２−クロロメチル−８−チオフェンカル
ボン酸メチル０．１８．Ｐを得た。

〔５〕 ２−クロロメチル−３−チオフェンカルボン酸メチル０
．７，９．″ｆオ尿素０．３４１ｉ、及びエタノール７
．６−を混合し、１．５時間加熱還流させた。溶媒を減
圧留去し残った固体をｎ−へキチンで洗浄した後、水２
５ｄ！にとかし０〜５℃で塩素ガスを２０分間通じた。

塩化メチレンにて抽出し、塩化メチレン層は乾燥後溶媒
を減圧留去した。残渣を塩化メチレン（：て希釈し室温
でアンモニアガスを１０分間通じた後、１８時間室温で
攪拌した。

水中投入し、希塩酸で酸性とした後酢酸工ｔル（ユて抽
出した。抽出層は乾燥後溶媒を減圧留去し、残渣をカラ
ムクロマトグラフィー（二より精製して、融点ｇ？−１
０８℃の２−（アミノスルホニルメチシン−８−チオフ
ェンカルボン酸メチルｏ、ｚ’ｔｉを得た。

〔６〕 ２−（アミノスルホニルメチルノー８−チオフェンカル
ボン酸メチル０．１３　Ｎ及びフェニル−Ｎ−（４，６
−シメトキシビリミジンー２−イル）カーバメー）　０
．　ｌ　６　！ｉを無水アセトニトリル８−にとかし、
室温で１，８−ジアザビンクロ（５，４，０）　−７−
クンデセン（ＤＢＵ）０．０９Ｎの無水アセト−トリル
（ｌ−）溶液を加え室温で４．５時間攪拌した。次１：
水を加え、希塩酸Ｃ＝で酸性とすると白色結晶が析出し
た。この結晶をｒ取し、融点１７９−１８１℃の目的物
０．　ｌ　９　、ｆを得た。

合成例２ ２−（Ｎ−（（４，６−シメトキシビリミジンー２−イ
ル）アミノカルボニル）アミノスルホニルメチルツー８
−チオフェンカルボン酸ｎ−プロビルの合成。

３−シアノ−２−テールアルコール１．４５Ｎと塩化チ
オニル８−を０℃で混合し、０°Ｃ以下で約１時間攪拌
した後、水中に投入し塩化メチレンｌ二て抽出した。抽
出層は２回水洗後、乾燥し溶媒を減圧留去した。残渣を
カラムクルマドグラフィー（二より精製して、融点６５
−６８℃の３−シアノ−２−テニルクロライド１．０５
．！ｉ’を得た。

〔２〕 ３−シアノ−２−テニルクロライド０．３８Ｌｔオ尿素
０．２２Ｆ及びエタノール５−を混合し１６５時間加熱
還流した後、溶媒を減圧留去した。残った固体を水９Ｑ
Ｒｔ（二溶かし０〜５℃で塩素ガスを２０分間通じた後
塩化メチレン１；で抽出した。抽出層は、２回水洗し、
乾燥後溶媒を減圧留去した。残渣を塩化メチレン２０−
にて希釈し、室温でアンモニアガスを４０分間通じた後
、室温で更（二３０分間攪拌した。水中投入後、希塩酸
にて酸性とし、酢酸エチル（二で抽出した。抽出層は、
乾燥後溶媒を減圧留去し、残渣をカラムクロマトグラフ
ィーにより精製して融点１４５−１５３℃の１−（３−
シアノ−２−チェニル）メタンスルホンアミド０．１７
　Ｊを得た。

〔８〕 １−（３−シアノ−２−チェニル）メタンスルホンアミ
ド０．１．Ｆ、ＩＯＮ水酸化ナトリウム水溶液ｚＭｔ、
エタノールｚＩＬｔを混合し、２時間加熱還流した後、
水中に投入し、希塩酸（二て酸性とし酢酸エチル（＝て
抽出した。抽出層は乾燥後、溶媒を減圧留去したつ残渣
として融点１９９−２０５℃の２−（アミノスルホニル
メチル）−３−ｆオフエンカルボン酸０．１．９が得ら
れた。

〔４〕 前記〔３〕工程と同様の方法で得られた２−（アミノス
ルホ斗ルメチル）−３−？オフエンカルボン酸０．２Ｎ
、ｎ−プロパツール５ｄ及び少量の三弗化ホク素エーテ
ラートを混合し、１０時間加熱還流した。水を加えた後
。

酢酸エテル（二で抽出し、抽出層は乾燥後溶媒を減圧留
去した。残渣をカラムクロマトグラフィー（二て精製後
、ｎ−へキナンー塩化メチレンの混合溶媒中で結晶化さ
せｒ取すること（；　　　　・より融点８４−８７℃の
２−（アミノスルホ＝ｋ）　ｆ−ル）−８１−オフエン
カルボン酸ｎ−プロピル０．１８　、Ｆを得た。

〔５〕 ２−（アミノスルホニルメチル）−８−チオフェンカル
ボンａｎ−７’ロピル０．１２　、Ｐ、フェニル−Ｎ−
（４，６−ジフトキンビリミジン−２−イルフカーパメ
ー）０．１８．Ｆ及び無水アセトニトリル５ｄを混合し
、室温でＤ　Ｂ　Ｕ　Ｏ。

０７Ｎの無水アセトニトリル（１ｄ）溶液を加え室温で
８時間攪拌した。水を加え、希塩酸で酸性としたら結晶
が析出したので、これをｒ取し、融点１４５−１４９℃
の目的物０．１６＃を得た。

本発明に包含される化合物の具体例並び（＝前述の一般
的合成例及び具体的合成例（二重じて製造された比較化
合物を下記する。

化合物４１：２−　（Ｎ−（（４，６−シメトキシビリ
ミジンー２−、イル）アミノカ ルボニル）アミノスルホニルメチ ル）−３−ｆオフエンカルボン酸メ チル ｍ、ｐ、１７９−１８１℃ 化合物７に２：ｚ−（Ｎ−（（４，６−シメトキシビリ
ミジンー２−イル）アミノ力 ルボニル）アミノスルホニルメチ ル）　　−ｆ３−？オフエンカルボン酸ｎ−プロピル ｍ、ｐ、ｌ　４５−１４９℃ 比較化合物Ａ：２−（Ｎ−（（４，６−シメトキシー　
１．８．５−　）リアジン−２−イル）アミノカルボニ
ル）アミノス ルホニルメチル）−８−？オフエ ンカルボン酸メチル ｍ、ｐ、１４３−１４６℃ 比較化合物Ｂ：２−（Ｎ−（（４，６−ジメテルビリミ
ジンー２−イル）アミノカル ボニル）アミノスルホニルメチル） −ａ−ｆオフエンカルボン酸メｔル ｍ−ｐ、６９−７２℃ 比較化合物Ｃ：２−（Ｎ−（（４−メトキシ−〇−メチ
ルピリミジンー２−イル） アミノカルボニル）アミノスルホ ニルメチル）−１３−ｆオフエンカ ルボン酸メチル ｍ、ｐ−１６６−１７０℃ （比較化合物Ａ−Ｃは、新規化合物である。）本発明の
１−（置換チェニル）メタンスルホンアミド系化合物は
、後記試験例（；みる通り。

除草剤の有効成分として使用した場合に優れた除草効果
を示す、特に水出口繁茂する有害雑草を、水稲に薬害を
与えること無く選択的に且つ低薬量で防除できる。また
、それら有害雑草が、比較的生育の進んだものであって
も防除できるので、水田用除草剤として好適なものであ
る。

更Ｃ：は、畑地（＝おける有害雑草をも防除できるので
好ましいものである。

本発明の除草剤の適用範囲は、前述の農耕地以外に、果
樹園、桑園、山林、農道、グランド。

工場敷地など多岐にわたり、また適用方法も土壌処理、
茎葉処理を適宜選択できる。

本発明除草剤を施用する場合１通常は担体。

必要に応じて希釈剤、溶剤、乳化剤、展着剤、界面活性
剤などの各種補助剤と混合して１粒剤。

水和剤、乳剤、液剤、など（＝製剤して使用する。

有効成分化合物と農薬用補助剤との適当な配合重量比は
、一般（二０．０５：９９．９５〜９０　：ｌＱ。

望ましくは、０．１：９９．９〜６〇二４０である。

有効成分化合物の使用適量は、気象条件、土壌条件、薬
剤の製剤形態、対象雑草の種類、施用時期などの相違に
より一概（＝規定できないが。

一般Ｃ；１アール当りの施用有効成分量としては０、１
〜１００Ｉ、望ましくは０．５〜５０ＩＩである。

本発明除草剤は、他の農薬、肥料、土壌、薬害軽減剤な
どと混用或いは併用することができ。

この場合（ニ一層優れた効果１作用性を示すことがある
。他の除草剤と混用或いは併用する場合。

その混合相手除草剤の有効成分としては、例えば次のよ
うなものが挙げられる。

２．４−９クロロフェニル−８′−メトキン−４′−二
トａフェニルエーテル、２，４−ジクロロフェニル−８
′−メトキシカルボニル−４′−二トロフェニルエーテ
ル、２−クロロ−２’、６’−ジエチル−Ｎ−（ブトキ
シメチル）アセトアニリド、２−クロａ　−２’　＋　
６’−ジエチル−Ｎ−（プロボキシエテルファセトアニ
リド、８−（２−メチル−１−ピペリジル−カルボニル
メチル）−〇、Ｏ−ジーｎ−プσピルジテオホスフェ−
１−１８−（４−クロロベンジル）Ｎ、Ｎ−ジエチルチ
オールカーバメート、８−エチル−へキサヒドロ−ＩＨ
−アゼピン−１−カーポチオエ−）、８−（１−メチル
−１−フェネチル）ピペリジン−１−カーポｔオエート
、５−ｔａｒｔ−ブチル−３−（２，４−ジクロロ−５
−イソプロポキシフェニルＪｌ、８．４−オキサジアゾ
リン−２−オン、ベンズチアゾール−２−イルオキシ−
酢酸Ｎ−メチルアニリド、４−（２，４−ジクロロベン
ゾイル）−１，３−ジメチル−５−フェナシルオキシピ
ラゾール、４−（２，４−ジクロロベンゾイル）−１，
８−ジメチルピラゾール−５−イル−ｐ−）ルエンスル
ホネート、４−（２，４−ジクσｃ７−８−メチルベン
ゾイル）−１，８−ジメチル−５−フェナシルオキシピ
ラゾール 次に本発明除草剤の試験例を記載する。

試験例１゜ １１５．０（）Ｏアールポット（二水田土壌を詰め。

タマガヤツリ、コナギ、ホタルイ及びアゼナの種子並び
にウリカワの塊茎を播種し、湿潤状態に保った。ホタル
イが１葉期に生育した後約５スジー潅水し、本発明化合
物の水和剤を水で希釈し、所定量をビペブトで滴下処理
した。薬剤処理２１日後に生育状態を肉眼で観察し、下
記の基準（１〜５の５点法）（＝基づいて生育抑制程度
を評価し、表１の結果を得た。

生育抑制程度 ５：完全な枯死状態 １：無処理区と同様の生育 Ｄ　：Ｎ−（（４，６−ジフトキンビリミジン−２−イ
ル〕アミノカルボニル）−１−（２−メトキシカルボニ
ルフェニル）メタンスルホンアミド 試験例２゜ １１５０００アールボツＨ二水田土壌を詰め。

入水後代掻を行ない、翌日２．５葉期の水稲（品種二日
本晴）をボｙ）当り２本移植した。移植後８８目（二本
発明化合物の水和剤を水で希釈し。

所定量をビペブトで滴下処理した。薬剤処理８０日後（
二生育状態を肉眼で観察し、前記試験例１の基準に基づ
いて評価し、表２の結果を得た。

６６試験ヶ０．ユおい、、□ユ／Ｗ。種子オ播種するこ
と及び２．５葉期の水稲（品種二日本晴）をポット当り
２本移植すること１表８に示す各薬剤を処理すること以
外は同様にして試験し、表８の結果を得た。

表８ 四　表ａ中の化合物イル二は次のものである。

化合物イ：　ｓ　−＜　４−クロロベンジル）Ｎ。

Ｎ−ジエテルテオールカーパメー ト 化合物コニ２−クロロ−２’　、　６’−ジエチル−Ｎ
−（プロポキシエテル）アセト アニリド 化合物ハ：５−（１−メｔルーｌ−フェネｔル）ピペリ
ジン−１−カーボチオ エート 化合物二二ペンズチアゾールー２−イルオキシアセトＮ
−メチルアニリド 次に１本発明除草剤の製剤例を記載する。

製剤例１゜ （υベントナイト　　　　　　　　６１重量部（２１ジ
−クライト　　　　　　　　３８重量部（３１リグニン
スルホン酸ソーダ　　　５重量部（相比合物／Ｋｌ　　
　　　　　　　　　１重量部以上の各成分に適量の造粒
所要水を加え。

混合、造粒して粒剤を得た。

製剤例２゜ １１１ジ−クライト　　　　　　　　７８重量部（２Ｊ
ラペリンＳ（商品名：第−工業製薬袋）２重量部 （３）ンルｌ−ル５０８９（商品名：東邦化学工業製〕
５重量部 （引力−プレツクス（商品名：塩野義製薬製）１５重量
部 以上（１）〜（４）の成分の混合物と、化合物腐ｌとを
４＝１の重量割合で混合して水和剤を得た。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中Ｘ及びＹは、一方がＣＯＯＲ基であ り、他方は基 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中Ｒは、Ｃ＿１＿−＿６のアルキル基である。）で
   ある〕で表わされる１−（置換チエニル）メタンスルホ
   ンアミド系化合物及びその塩。 ２、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中Ｘ及びＹは、一方がＣＯＯＲ基であ り、他方は 基▲数式、化学式、表等があります▼ （式中ＲはＣ＿１＿−＿６のアルキル基である）である
   〕で表わされる１−（置換チエニル）メタンスルホンア
   ミド系化合物及びその塩の少なくとも一種を有効成分と
   して含有することを特徴とする除草剤。 ３、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中Ｚ＾１及びＺ＾２は、　一方がＣＯＯＲ基であり
   、他方は（アミノスルホニル）メチル基である）で表わ
   される化合物と、 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中Ｒ＾１はアルキル基、アルケニル基又はフエニル
   基である）で表わされる化合物とを反応させることを特
   徴とする一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中Ｘ及びＹは、一方がＣＯＯＲ基であ り、他方が 基▲数式、化学式、表等があります▼ （式中Ｒは前述の通りである）である〕で 表わされる１−（置換チエニル）メタンスルホンアミド
   系化合物の製造方法。 ４、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中Ｚ＾３及びＺ＾４は、一方がＣＯＯＲ基であり、
   他方は（イソシアナートスルホニル）メチル基である）
   で表わされる化合物と、 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされる化合物とを反応させることを特徴とする一
   般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中Ｘ及びＹは、一方がＣＯＯＲ基であ り、他方は 基▲数式、化学式、表等があります▼ （式中Ｒは前述の通りである）である〕で 表わされる１−（置換チエニル）メタンスルホンアミド
   系化合物の製造方法。