JPS61139951A - 光情報記録媒体 - Google Patents
光情報記録媒体Info
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- JPS61139951A JPS61139951A JP59260798A JP26079884A JPS61139951A JP S61139951 A JPS61139951 A JP S61139951A JP 59260798 A JP59260798 A JP 59260798A JP 26079884 A JP26079884 A JP 26079884A JP S61139951 A JPS61139951 A JP S61139951A
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- JP
- Japan
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- layer
- substrate
- recording medium
- recording
- light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
し技術分野〕
本発明はレーザによる書込み記録に適した光情報記録媒
体に関する。
体に関する。
従来、凹凸状情報トラックを基板上に形成する方法とし
てはインジェクション法とフォトポリメリゼーション法
（Ｐｈ１ｌｉｐｓ ｔａｃｈ、 Ｒｅｖ、 ４０巻２９
８〜３０９頁（１９８２）参照）が知られている。
てはインジェクション法とフォトポリメリゼーション法
（Ｐｈ１ｌｉｐｓ ｔａｃｈ、 Ｒｅｖ、 ４０巻２９
８〜３０９頁（１９８２）参照）が知られている。
しかしながら、インジェクション法により作製された光
メモリディスク基板は複屈折が多くもどり光が変動して
ノイズが多くなる。また、耐溶剤性がよくないことから
情報トラック上に湿式ツーディング法によって反射膚、
記録層および保護層を形成するとプレグルーブが消失す
るおそれかめる。また、色素の金属反射を応用し比記録
材料を用いる場合、プレグルーブが消失しないまでもし
み込みなどにより反射率が低下Ｌ Ｅ 録再主装置のフ
ォーカシング、トラッキング、信号読出しく大きな負担
を与えるという欠点がある。
メモリディスク基板は複屈折が多くもどり光が変動して
ノイズが多くなる。また、耐溶剤性がよくないことから
情報トラック上に湿式ツーディング法によって反射膚、
記録層および保護層を形成するとプレグルーブが消失す
るおそれかめる。また、色素の金属反射を応用し比記録
材料を用いる場合、プレグルーブが消失しないまでもし
み込みなどにより反射率が低下Ｌ Ｅ 録再主装置のフ
ォーカシング、トラッキング、信号読出しく大きな負担
を与えるという欠点がある。
一方、ベースポリマー、希釈剤、光開始剤などを用いる
フォトボリメリゼーション法にょるプレグルーブの形成
では上記の複屈折と耐溶剤性の点については改良される
がその多くは記録材料薄膜の保存性に影響を与える。特
に、光劣化、熱劣化などによるピンホールの発生、尺射
率および光吸収の低下が生じるという欠点がある。保存
性に影響を与えないものでも基板にポリメチルメタクリ
レ−） （ＰＭＭＡ）を用いるとフォトポリマ一層と基
板との接着性が悪く基板上に接着力を上げる丸めのプレ
コート層を設ける必要がある。
フォトボリメリゼーション法にょるプレグルーブの形成
では上記の複屈折と耐溶剤性の点については改良される
がその多くは記録材料薄膜の保存性に影響を与える。特
に、光劣化、熱劣化などによるピンホールの発生、尺射
率および光吸収の低下が生じるという欠点がある。保存
性に影響を与えないものでも基板にポリメチルメタクリ
レ−） （ＰＭＭＡ）を用いるとフォトポリマ一層と基
板との接着性が悪く基板上に接着力を上げる丸めのプレ
コート層を設ける必要がある。
本発明は上記従来技術に鑑みてなされたものであって、
その目的は光情報記録媒体の寿命を長くすること（保存
性の向上）にする。また、本発明の別の目的は基板に対
する接着力が大きくかつ情報トラック形成用型（スタン
パ）からの剥離性が良くかつ耐溶剤性のすぐれた下引層
を提供することである。
その目的は光情報記録媒体の寿命を長くすること（保存
性の向上）にする。また、本発明の別の目的は基板に対
する接着力が大きくかつ情報トラック形成用型（スタン
パ）からの剥離性が良くかつ耐溶剤性のすぐれた下引層
を提供することである。
本発明者は上記目的を達成するために鋭意研究を行った
結果、光情報記録媒体の保存性の向上と転写性の向上に
は基板の材質と下引層の材料との関係、および下引層の
材料と記録層との相互作用が影響することに着目し本発
明をなすに至った。
結果、光情報記録媒体の保存性の向上と転写性の向上に
は基板の材質と下引層の材料との関係、および下引層の
材料と記録層との相互作用が影響することに着目し本発
明をなすに至った。
すなわち１本発明は基板と下引層と記録層とをこの順序
で有する光情報記録媒体において、基板としてポリカー
ボネート樹脂を用い、また記録層としてメタリックな光
反射を示す色素膜を用い式らに下引層として前記基板と
前記記録層に影響を与えないアクリル酸エステルまたは
メタクリル酸エステルの重合体硬化層を用いることを特
徴とするものである。
で有する光情報記録媒体において、基板としてポリカー
ボネート樹脂を用い、また記録層としてメタリックな光
反射を示す色素膜を用い式らに下引層として前記基板と
前記記録層に影響を与えないアクリル酸エステルまたは
メタクリル酸エステルの重合体硬化層を用いることを特
徴とするものである。
本発明の光情報記録媒体は基本的には基板とその上に設
けられた下引層とざらＫその上に設けられた記録層とか
ら構成される。必要に応じてきらに保護層などの他の層
を設けることもできる。また、別の基板を対向させたり
あるいは記録層同士を内側にして２枚の記録媒体全対向
させたいわゆるエアーサンドインチ構造にすることも可
能である。
けられた下引層とざらＫその上に設けられた記録層とか
ら構成される。必要に応じてきらに保護層などの他の層
を設けることもできる。また、別の基板を対向させたり
あるいは記録層同士を内側にして２枚の記録媒体全対向
させたいわゆるエアーサンドインチ構造にすることも可
能である。
本発明の下引層は平坦であってもあるいはその表面に凹
凸パターンによるプレグルーブまたはプレフォーマット
が形成されていてもよい。
凸パターンによるプレグルーブまたはプレフォーマット
が形成されていてもよい。
凹凸パターンは情報トラック形成用型（スタンバ−）に
存在するもとの形状の正確な転写であって、通常高いレ
ベルに位置する凸部と低いレベルに位置する凹部とが交
互に存在する構造となっていて凹凸の高略は通常λ／１
０〜λ／４に調整されている。
存在するもとの形状の正確な転写であって、通常高いレ
ベルに位置する凸部と低いレベルに位置する凹部とが交
互に存在する構造となっていて凹凸の高略は通常λ／１
０〜λ／４に調整されている。
本発明における下引層はアクリル酸エステルまたはメタ
クリル酸エステルおよび重合開始剤必要に応じてさらに
増感剤、貯蔵安定剤など他の成分を含む重合性組成物を
適当な手段によって重合硬化させて形成することができ
る。重合性組成物の重合には紫外線または可視光線など
の活性線照射を用いるのが好ましいが熱、Ｘ線、放射線
などの他の手段を用いることもできる。
クリル酸エステルおよび重合開始剤必要に応じてさらに
増感剤、貯蔵安定剤など他の成分を含む重合性組成物を
適当な手段によって重合硬化させて形成することができ
る。重合性組成物の重合には紫外線または可視光線など
の活性線照射を用いるのが好ましいが熱、Ｘ線、放射線
などの他の手段を用いることもできる。
下引層を形成するために用いられるアクリル酸エステル
またはメタクリル酸エステルとしては下記一般式〔Ｉ〕
、［１１〕および〔１〕で表わされる化合物をあげるこ
とができる。
またはメタクリル酸エステルとしては下記一般式〔Ｉ〕
、［１１〕および〔１〕で表わされる化合物をあげるこ
とができる。
一般式ＣＩ）
ただし、Ｒ１は水素またはメチル基を表わし、Ｒ７は０
２〜Ｃ４アルキレン基を表わしそしてｎは付加モル数の
平均値で１〜２０の数を示す。
２〜Ｃ４アルキレン基を表わしそしてｎは付加モル数の
平均値で１〜２０の数を示す。
上記一般式ＣＤの化合物の代表例としては、エチレング
リコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジア
クリレート、イソプロピレングリコールジアクリレート
、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレン
グリコールジアクリレート、トリプロピレングリコール
ジアクリレートなどやそれに対応するジメタクリレート
ヲアげることができる。
リコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジア
クリレート、イソプロピレングリコールジアクリレート
、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレン
グリコールジアクリレート、トリプロピレングリコール
ジアクリレートなどやそれに対応するジメタクリレート
ヲアげることができる。
一般式〔■〕
ただし、Ｒ１は水素またはメチル基を表わし、Ｒ２はア
ルキレン基金表わしそしてｎは１〜１０の整数を示す。
ルキレン基金表わしそしてｎは１〜１０の整数を示す。
上記一般式〔川〕の化合物の代表例としては、１．２−
メタンジオールジアクリレート、１．２−エタンジオー
ルジアクリレー）、 １．２−プロピレンジオールジ
アクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート
、ネオペンチルグリコールジアクリレート、１，３−ブ
タンジオールジアクリレー）、 １．６−ヘキサンシ
オールジアクリレー）ｔ、 １．５−ペンタンジオー
ルジアクリレー）、 １．７−へブタンジオールジア
クリレート、１．６−へブタンジオールジアクリレート
、１．８−オクタンジオールジアクリレートまたはそれ
らに対応するジメタクリレートｔ−あげることができる
。
メタンジオールジアクリレート、１．２−エタンジオー
ルジアクリレー）、 １．２−プロピレンジオールジ
アクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート
、ネオペンチルグリコールジアクリレート、１，３−ブ
タンジオールジアクリレー）、 １．６−ヘキサンシ
オールジアクリレー）ｔ、 １．５−ペンタンジオー
ルジアクリレー）、 １．７−へブタンジオールジア
クリレート、１．６−へブタンジオールジアクリレート
、１．８−オクタンジオールジアクリレートまたはそれ
らに対応するジメタクリレートｔ−あげることができる
。
一般式ＣＵＤ
ｌま
ただし、Ｒ１は水素またはメチル基ｔ−表わし、Ｂ２は
０２〜Ｃ４アルキレン基を表わし、ｎは付加モル数の平
均値で０〜８の数をそれぞれ示しそして２は隣接する炭
素原子と一緒になって脂環式炭化水素基および多脂環式
炭化水素基などの環状脂肪族基を形成する。ここで「脂
環式炭化水素基」とはシクロプロパン、シクロブタン、
シクロにフタン、シクロヘキサンなどの環状脂肪族基全
意味し、ｔ７′？、「多脂環式炭化水素基」とは二環系
炭化水素例えばビシクロへブタンなどのビシクロ化合物
および三環糸炭化水素例えばトリシクロデカンなどのト
リシクロ化合物ならびに前記ビシクロまたはトリシクロ
化合物に縮合環が結合したものの環状脂肪族基を意味す
る。この一般式［１１］の化合物の代表例として２，３
−ビスアクリロイルオキシエチルオキシメチル−ビシク
ロ−〔２・２・１〕へブタン、１，２−ビスアクリロイ
ルオキシメチルシクロヘキサン、６．８−ビスアクリロ
イルオキシメチルトリシクロ［５，２，１，０１デカン
、３，４−ビスアクリロイルオキシエチルオキシメチル
−ビシクロ〔４・３・０〕ノナン、３．４−ビスアクロ
イルオキシエチルオキシエチルオキシメチル−ビシクロ
〔４・４・０〕デカン、２，３−ビスメタクリロイルオ
キシエチルオキシメチルビシクロ〔２・２・１〕へブタ
ン、３．８−ビスメタクリロイルオキシメチルシクロヘ
キサンなどｔ−５ｆｆることができる。
０２〜Ｃ４アルキレン基を表わし、ｎは付加モル数の平
均値で０〜８の数をそれぞれ示しそして２は隣接する炭
素原子と一緒になって脂環式炭化水素基および多脂環式
炭化水素基などの環状脂肪族基を形成する。ここで「脂
環式炭化水素基」とはシクロプロパン、シクロブタン、
シクロにフタン、シクロヘキサンなどの環状脂肪族基全
意味し、ｔ７′？、「多脂環式炭化水素基」とは二環系
炭化水素例えばビシクロへブタンなどのビシクロ化合物
および三環糸炭化水素例えばトリシクロデカンなどのト
リシクロ化合物ならびに前記ビシクロまたはトリシクロ
化合物に縮合環が結合したものの環状脂肪族基を意味す
る。この一般式［１１］の化合物の代表例として２，３
−ビスアクリロイルオキシエチルオキシメチル−ビシク
ロ−〔２・２・１〕へブタン、１，２−ビスアクリロイ
ルオキシメチルシクロヘキサン、６．８−ビスアクリロ
イルオキシメチルトリシクロ［５，２，１，０１デカン
、３，４−ビスアクリロイルオキシエチルオキシメチル
−ビシクロ〔４・３・０〕ノナン、３．４−ビスアクロ
イルオキシエチルオキシエチルオキシメチル−ビシクロ
〔４・４・０〕デカン、２，３−ビスメタクリロイルオ
キシエチルオキシメチルビシクロ〔２・２・１〕へブタ
ン、３．８−ビスメタクリロイルオキシメチルシクロヘ
キサンなどｔ−５ｆｆることができる。
また、本発明における下引層を形成するにあたっては上
記エステル類の他に必要に応じて既知の重合開始剤（例
えばベンゾインエーテル類）、増感剤（例えばアミン類
）、貯蔵安定剤（例えば第４級アンモニウ、ムクロライ
ド）などを用いることができる。１合開始剤はアクリル
酸エステルまたはメタクリル酸エステルの七ツマー１０
０重量部に対して０．０５から１０１ｊＬｆ部の範囲好
ましくは０．２から５′ｊＬ量部の範囲で用いられる。
記エステル類の他に必要に応じて既知の重合開始剤（例
えばベンゾインエーテル類）、増感剤（例えばアミン類
）、貯蔵安定剤（例えば第４級アンモニウ、ムクロライ
ド）などを用いることができる。１合開始剤はアクリル
酸エステルまたはメタクリル酸エステルの七ツマー１０
０重量部に対して０．０５から１０１ｊＬｆ部の範囲好
ましくは０．２から５′ｊＬ量部の範囲で用いられる。
増感剤は七ツマー１００重量部に対して１０１〜５１Ｌ
量部の範囲で含有させるのが好ましい。
量部の範囲で含有させるのが好ましい。
また、貯蔵安定剤は七ツマー１００重量部に対して０．
００１〜２重量部の範囲で含有させるのが好ましい。
００１〜２重量部の範囲で含有させるのが好ましい。
本発明における記録層はメタリックな光反射性を示す色
素膜で構成されている。色素膜の形成には染料、顔料な
どの記録材料の他に目的に応じて他の成分例えばバイン
ダー、安定剤（遷移金属錯体など）を含有させることも
できる。
素膜で構成されている。色素膜の形成には染料、顔料な
どの記録材料の他に目的に応じて他の成分例えばバイン
ダー、安定剤（遷移金属錯体など）を含有させることも
できる。
また、本発明における記録材料としてはシアニン色素お
よびメロシアニン色素を用いるのが好ましく、その具体
的化合物は下記の一般式（１）、（りおよび（３）に包
含されるものである。
よびメロシアニン色素を用いるのが好ましく、その具体
的化合物は下記の一般式（１）、（りおよび（３）に包
含されるものである。
ただし、Ｒ１およびＢ２は、置換もしくは未置換のアル
キル基、置換も−しくけ未置換のアラルキル基またはア
ルケニル基を示し、ｚｌおよびｚｌは置換または未置換
の複素環を完成するに必要な原子群を示し、ｚ５は置換
もしくは未置換の５貴環またはる置場を完成するに必要
な原子群を示し、また前記５員環もしくは６員堀は芳香
族環と縮合していてもよく、Ｒ３は水素ふ子またはハロ
ゲン原子を示し、Ｒ４およびＲ５は水素原子、ハロゲン
原子、ヒドロキシ基、カルボキシル基、アルキル基、置
換もしくは未置換のアリール基またはアシルオキシ基金
示し、ρは酸アニオンを示し、そしてｔ、ｍおよびｎは
０または１である。
キル基、置換も−しくけ未置換のアラルキル基またはア
ルケニル基を示し、ｚｌおよびｚｌは置換または未置換
の複素環を完成するに必要な原子群を示し、ｚ５は置換
もしくは未置換の５貴環またはる置場を完成するに必要
な原子群を示し、また前記５員環もしくは６員堀は芳香
族環と縮合していてもよく、Ｒ３は水素ふ子またはハロ
ゲン原子を示し、Ｒ４およびＲ５は水素原子、ハロゲン
原子、ヒドロキシ基、カルボキシル基、アルキル基、置
換もしくは未置換のアリール基またはアシルオキシ基金
示し、ρは酸アニオンを示し、そしてｔ、ｍおよびｎは
０または１である。
メロシアニン色素
′ｃ２Ｈ５
２Ｈ５
してｎは１または２を示す。
本発明による記録層の形式には種々の方法が適用されつ
るが色素自体の昇華性の点から蒸着とかスパッタリング
などの方法は好ましくなく通常有機溶媒を用いるコーテ
ィング法を適用することが好ましい。コーティング法を
適用する場合には本発明における記録層は所定の色素を
有機溶媒に溶解した溶液を下引層または案内溝を有する
下引層上に塗布して形成することができる。さらに、記
録層の形成には安定剤、抗酸化剤、難燃剤、界面活性剤
、分散剤などを含有させてもよいが、バインダーは反射
率を低下させる傾向があるので好ましくない。塗布に用
いる有機溶媒としては例えばメタノール、メチレンジク
ロライド、１．２−ジクロロエタンなどをあげることが
できる。塗布はスプレーコーチインク、スピンコーチイ
ンク、ローラーコーティング、ディッピングなどの慣用
のコーティング法によって行なわれる。記録層の膜痺は
１０〜１１０００ｎ好ましくは２０〜７０ ｎｍの範囲
にあることが適当である。また、下引層の膜厚は１〜２
００μｍ好ましくは１０〜１００μｍの範囲にあること
が適当である。
るが色素自体の昇華性の点から蒸着とかスパッタリング
などの方法は好ましくなく通常有機溶媒を用いるコーテ
ィング法を適用することが好ましい。コーティング法を
適用する場合には本発明における記録層は所定の色素を
有機溶媒に溶解した溶液を下引層または案内溝を有する
下引層上に塗布して形成することができる。さらに、記
録層の形成には安定剤、抗酸化剤、難燃剤、界面活性剤
、分散剤などを含有させてもよいが、バインダーは反射
率を低下させる傾向があるので好ましくない。塗布に用
いる有機溶媒としては例えばメタノール、メチレンジク
ロライド、１．２−ジクロロエタンなどをあげることが
できる。塗布はスプレーコーチインク、スピンコーチイ
ンク、ローラーコーティング、ディッピングなどの慣用
のコーティング法によって行なわれる。記録層の膜痺は
１０〜１１０００ｎ好ましくは２０〜７０ ｎｍの範囲
にあることが適当である。また、下引層の膜厚は１〜２
００μｍ好ましくは１０〜１００μｍの範囲にあること
が適当である。
本発明における記録層の形成には通常有機溶媒によるコ
ーティングが用いられることから、下引層は該溶媒に不
溶であることと下引層を構成する材料が記録層を構成す
る成分と相互作用がない（反応して分解しない）ことが
必要であるので下引層はアクリル酸エステル１合体訃よ
びメタクリル酸エステル重合体で構成されているのが必
要であり、特に光硬化型のものが好ましい。
ーティングが用いられることから、下引層は該溶媒に不
溶であることと下引層を構成する材料が記録層を構成す
る成分と相互作用がない（反応して分解しない）ことが
必要であるので下引層はアクリル酸エステル１合体訃よ
びメタクリル酸エステル重合体で構成されているのが必
要であり、特に光硬化型のものが好ましい。
また、下引層が形成される基板としてはポリカーボネー
ト樹脂が用いられる。ポリカーボネート樹脂は構造単位
中に炭酸エステル型構造を有する高分子物質の総称であ
って機械的強度にすぐれ、衝撃力に強く、耐熱変形性お
よび耐寒性が強いものである。
ト樹脂が用いられる。ポリカーボネート樹脂は構造単位
中に炭酸エステル型構造を有する高分子物質の総称であ
って機械的強度にすぐれ、衝撃力に強く、耐熱変形性お
よび耐寒性が強いものである。
本発明の光情報記録媒体は基本的には基板上に設けられ
た下引層上に記録層を設けたものであるが、さらに目的
に応じて記録層の上に保護層金膜けることができる。保
り層はキズ、ホコリ、汚れなどからの保護および記録層
の化学的安定性の向上を目的として設けられ、膜厚は０
．１μｍ以上好ましくは５０μｍ以上が適当である。ま
た、保護層の材料としては例えばアイオノマー樹脂、ポ
リアミド系樹脂、ビニル糸樹脂、天然高分子、シリコー
ン、液状ゴムなどの高分子材料、無機化合物例えば５１
０２、ＭｇＦ２、Ｅｌｏ、ＴｌＯ２、謔 ＺｎＯ１ＴＩＮ、８１Ｎなど、金属または半金属例えば
Ｚｎ、 Ｃｕ％Ｓ％Ｎ１、Ｃｒ、 Ｇｅ、 Ｓｅ、Ｃｄ
、 Ａｇ、 Ａｔなどを用いることができる。
た下引層上に記録層を設けたものであるが、さらに目的
に応じて記録層の上に保護層金膜けることができる。保
り層はキズ、ホコリ、汚れなどからの保護および記録層
の化学的安定性の向上を目的として設けられ、膜厚は０
．１μｍ以上好ましくは５０μｍ以上が適当である。ま
た、保護層の材料としては例えばアイオノマー樹脂、ポ
リアミド系樹脂、ビニル糸樹脂、天然高分子、シリコー
ン、液状ゴムなどの高分子材料、無機化合物例えば５１
０２、ＭｇＦ２、Ｅｌｏ、ＴｌＯ２、謔 ＺｎＯ１ＴＩＮ、８１Ｎなど、金属または半金属例えば
Ｚｎ、 Ｃｕ％Ｓ％Ｎ１、Ｃｒ、 Ｇｅ、 Ｓｅ、Ｃｄ
、 Ａｇ、 Ａｔなどを用いることができる。
本発明における下引層に凹凸パターンを形成するには従
来のインジェクション法などを適用できるが情報の正確
な書込み読出しが可能な凹凸パターンを下引層上に形成
させるためには以下に説明するような方法を用いること
が好ましい。
来のインジェクション法などを適用できるが情報の正確
な書込み読出しが可能な凹凸パターンを下引層上に形成
させるためには以下に説明するような方法を用いること
が好ましい。
まず、第１図に示すように表面に転写すべき凹凸パター
ン１が形成されているを（スタンパ−）２を用意する。
ン１が形成されているを（スタンパ−）２を用意する。
この型の材質は一般的にはニッケル、クロムまたはこれ
らの合金などであり必要に応じて表面硬化などの処理が
しであるものでおるが、紫外光に透明な例えば石英ガラ
スが望ましい。次に、第２図に示すように型２の上に本
発明の上記エステル類を主成分とする重合性組成物３を
適用し、その上に基板４ｔ−重ね合せた後活性線を照射
して重合性組成物３を光硬化させる。活性線の光源とし
ては低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノン
ランプ、メタルハライドランプ、カーボンアーク、紫外
用叶い光灯などが用いられる。活性線照射後、第３図に
示すように型２ｔ−剥離すると型２の凹凸パターン１が
正確に転写された重合体層３′が基板４上に残る。
らの合金などであり必要に応じて表面硬化などの処理が
しであるものでおるが、紫外光に透明な例えば石英ガラ
スが望ましい。次に、第２図に示すように型２の上に本
発明の上記エステル類を主成分とする重合性組成物３を
適用し、その上に基板４ｔ−重ね合せた後活性線を照射
して重合性組成物３を光硬化させる。活性線の光源とし
ては低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノン
ランプ、メタルハライドランプ、カーボンアーク、紫外
用叶い光灯などが用いられる。活性線照射後、第３図に
示すように型２ｔ−剥離すると型２の凹凸パターン１が
正確に転写された重合体層３′が基板４上に残る。
以下に実施例を掲げて本発明金さらに説明するが、本発
明はこれらの実施例によって限定されるものではない。
明はこれらの実施例によって限定されるものではない。
実施例 １
トリプロピレングリコール １００部ジアク
リレート ２．２−ジメトキシ−２−７５部 エニルアセトフエノン 上記成分をよく混合して重合性液を調製した。
リレート ２．２−ジメトキシ−２−７５部 エニルアセトフエノン 上記成分をよく混合して重合性液を調製した。
この液を表面に凹凸ノモターンｆ：南するニッケルスタ
ンパ−に滴下し、これに奇人化成のＭＩＪカ−ボネート
樹脂５５０３をｔ’２閣の厚さにフラットにインジェク
ションしたポリカーボネート板を重ね合せた後、強度８
０ Ｗ１５１の高圧水銀灯を用いて１分間紫外線を照射
し虎。次いで、基板をニッケルスタンパ−から剥離する
と基板上に凹凸パターンが正確に転写された。この際、
剥ｌｌ！に要した力は０．２ Ｋ４／ｃｍ２でちゃ、−
力先硬化層の基板に対する接着力は１４Ｋｆ／、２であ
った。このようにして作製した記録媒体をイソプロピル
アルコールに１５分間浸漬後乾燥したがスタンパで−か
ら転写され次凹凸には変化がなく、また２、２−ジクロ
ルエタンに３０秒間接触後乾燥し九がやはり凹凸には変
化が認められなかっ九、さらに、上記凹凸パターンの上
に式 の色素の０．７％の２，２−ジクロルエタン溶液を１０
００ ｒｐｍでスピンコードし乾燥後１５０℃および５
４０００ルツクスのタングステン光下で試験した結果を
後記の表に示す。
ンパ−に滴下し、これに奇人化成のＭＩＪカ−ボネート
樹脂５５０３をｔ’２閣の厚さにフラットにインジェク
ションしたポリカーボネート板を重ね合せた後、強度８
０ Ｗ１５１の高圧水銀灯を用いて１分間紫外線を照射
し虎。次いで、基板をニッケルスタンパ−から剥離する
と基板上に凹凸パターンが正確に転写された。この際、
剥ｌｌ！に要した力は０．２ Ｋ４／ｃｍ２でちゃ、−
力先硬化層の基板に対する接着力は１４Ｋｆ／、２であ
った。このようにして作製した記録媒体をイソプロピル
アルコールに１５分間浸漬後乾燥したがスタンパで−か
ら転写され次凹凸には変化がなく、また２、２−ジクロ
ルエタンに３０秒間接触後乾燥し九がやはり凹凸には変
化が認められなかっ九、さらに、上記凹凸パターンの上
に式 の色素の０．７％の２，２−ジクロルエタン溶液を１０
００ ｒｐｍでスピンコードし乾燥後１５０℃および５
４０００ルツクスのタングステン光下で試験した結果を
後記の表に示す。
実施例 ２〜８
実施例１における重合性液の代りに各実施例において下
記成分をよく混合して重合性液を調製した以外には実施
例１と同様にして転写を行って各記録媒体を作製し評価
を行なった。
記成分をよく混合して重合性液を調製した以外には実施
例１と同様にして転写を行って各記録媒体を作製し評価
を行なった。
実施例 ２ エチレングリコールジアクリレート
１００部ジエチルチオキサントン ０．
５部’３）リエチレングリコールジアクリ １００
部レート クロロチオキサントン ０．５部’
４ １．６−ヘキサンシオールジアクリ １０
０部レート ジエチルチオキサントン ０．５部実施例
５ １，６−ヘキサンシオールジアクリ １００部
レート ２．２−ジメトキシ−２−フェニル ３部アセト
フェノン ／４ラジメチルアミノ安恵香酸イン １部ペンチ
ル ’ ６ ２．３−ビスアクリロイルオキシエチル
オキシメチル〔２・２・１〕ヘプ １００部タン ２．２−ジメトキシ−２−フェニル ３部アセト
フェノン ＃ ７ １．２−ビスアクリロイルオキシメ
１００部チルヘキサン ジエチルチオキサントン ０．５部’
８ ３．８−ビスアクリロイルオキシエチルオキシ
メチルトリシクロ １００部〔５・２・１・０〕デカ
ン クロルチオキサントン ０．５部実施例
１ １．４ ０．２ ０ ２．０’
１．１２ １．７ Ｑ、２ ０
２．３ １．’３３ １５ ０．２ ０
２．１ １２４ ｔ４ ０．１９
０ ｔ２ １．０５ ｔ５ ０．
２ ０ １１．。
１００部ジエチルチオキサントン ０．
５部’３）リエチレングリコールジアクリ １００
部レート クロロチオキサントン ０．５部’
４ １．６−ヘキサンシオールジアクリ １０
０部レート ジエチルチオキサントン ０．５部実施例
５ １，６−ヘキサンシオールジアクリ １００部
レート ２．２−ジメトキシ−２−フェニル ３部アセト
フェノン ／４ラジメチルアミノ安恵香酸イン １部ペンチ
ル ’ ６ ２．３−ビスアクリロイルオキシエチル
オキシメチル〔２・２・１〕ヘプ １００部タン ２．２−ジメトキシ−２−フェニル ３部アセト
フェノン ＃ ７ １．２−ビスアクリロイルオキシメ
１００部チルヘキサン ジエチルチオキサントン ０．５部’
８ ３．８−ビスアクリロイルオキシエチルオキシ
メチルトリシクロ １００部〔５・２・１・０〕デカ
ン クロルチオキサントン ０．５部実施例
１ １．４ ０．２ ０ ２．０’
１．１２ １．７ Ｑ、２ ０
２．３ １．’３３ １５ ０．２ ０
２．１ １２４ ｔ４ ０．１９
０ ｔ２ １．０５ ｔ５ ０．
２ ０ １１．。
６ １．２ ０．２ ０ １．１
１．０７ １．３ ０．２ ０
１，２ １．０８ １．５ ０．２
０ １ ｔ１注１）光硬化層の基板に対する
接着強度を示す。
１．０７ １．３ ０．２ ０
１，２ １．０８ １．５ ０．２
０ １ ｔ１注１）光硬化層の基板に対する
接着強度を示す。
２）基板のスタンパ−からの剥離性を示す。
３）光硬化層のエチレンジクロライド（Ｉ！ＤＣ）に対
する抵抗を示す。
する抵抗を示す。
４）波長７９０ ｎｍの光学濃度（０，Ｄ、）の変化率
の対数を時間で割った相対値を示す。
の対数を時間で割った相対値を示す。
５）光学濃度の自然対数の時間変化の傾きの゛相対値を
示す。
示す。
本発明の光情報記録媒体は記録感度が高いばかりでなく
また熱および光に対してきわめて安定であるので保存性
が高くしたがって書き込んだ情報の経時変化も少ないか
ら書き込み情報の変化もなく正確な情報を読み取ること
ができさらに製造も容易であるという利点を有する。
また熱および光に対してきわめて安定であるので保存性
が高くしたがって書き込んだ情報の経時変化も少ないか
ら書き込み情報の変化もなく正確な情報を読み取ること
ができさらに製造も容易であるという利点を有する。
第１図ないし第３図は本発明の下引層に凹凸パターンを
形成する好ましい方法を説明する模式図である。 １・・・凹凸パターン、２・・・型、３・・・重合性組
成物の層、３′・・・光硬化層、４・・・基板、扇１図 第２図 第３図
形成する好ましい方法を説明する模式図である。 １・・・凹凸パターン、２・・・型、３・・・重合性組
成物の層、３′・・・光硬化層、４・・・基板、扇１図 第２図 第３図
Claims (1)
- 基板上に下引層または凹凸パターンを有する下引層を
設けさらにこの上に記録層を形成させてなりそして前記
基板がポリカーボネート樹脂であり、前記下引層がアク
リル酸エステルまたはメタクリル酸エステルの重合体硬
化層でありそして前記記録層がメタリックな光反射を示
す色素膜であることを特徴とする、光情報記録媒体。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59260798A JPS61139951A (ja) | 1984-12-12 | 1984-12-12 | 光情報記録媒体 |
| US06/699,110 US4614705A (en) | 1984-02-17 | 1985-02-07 | Optical information recording medium |
| DE19853505355 DE3505355A1 (de) | 1984-02-17 | 1985-02-15 | Optischer informationsaufzeichnungstraeger |
| GB08504106A GB2157013B (en) | 1984-02-17 | 1985-02-18 | Optical information recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59260798A JPS61139951A (ja) | 1984-12-12 | 1984-12-12 | 光情報記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61139951A true JPS61139951A (ja) | 1986-06-27 |
Family
ID=17352889
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59260798A Pending JPS61139951A (ja) | 1984-02-17 | 1984-12-12 | 光情報記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61139951A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0287345A (ja) * | 1988-09-24 | 1990-03-28 | Taiyo Yuden Co Ltd | 光情報記録媒体の製造方法 |
-
1984
- 1984-12-12 JP JP59260798A patent/JPS61139951A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0287345A (ja) * | 1988-09-24 | 1990-03-28 | Taiyo Yuden Co Ltd | 光情報記録媒体の製造方法 |
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