JPH0410247A - 情報記録媒体およびその製造方法 - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 19
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 159
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 26
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 18
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 18
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims description 12
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 claims description 8
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 abstract description 38
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 abstract description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 abstract description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 170
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 44
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 38
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 30
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 28
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 25
- 239000000463 material Substances 0.000 description 15
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 13
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 12
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 11
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 10
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 9
- -1 etc. Substances 0.000 description 7
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 6
- 206010011416 Croup infectious Diseases 0.000 description 5
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 5
- 201000010549 croup Diseases 0.000 description 5
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- 229910052752 metalloid Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000002738 metalloids Chemical class 0.000 description 4
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 4
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 4
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 4
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 3
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 3
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 3
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 3
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 3
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 3
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 3
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 2
- 238000005323 electroforming Methods 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N indolenine group Chemical group N1=CCC2=CC=CC=C12 RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000434 metal complex dye Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 2
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 2
- ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M thionine Chemical compound [Cl-].C1=CC(N)=CC2=[S+]C3=CC(N)=CC=C3N=C21 ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 2
- OKWLCUWJPPORKE-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4,5-pentanitro-6-(2-nitrophenyl)sulfanylbenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1SC1=C([N+]([O-])=O)C([N+]([O-])=O)=C([N+]([O-])=O)C([N+]([O-])=O)=C1[N+]([O-])=O OKWLCUWJPPORKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXOZSRCVHASUCW-UHFFFAOYSA-N 1,3,3,3-tetrafluoropropan-1-ol Chemical compound OC(F)CC(F)(F)F TXOZSRCVHASUCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YELMWJNXDALKFE-UHFFFAOYSA-N 3h-imidazo[4,5-f]quinoxaline Chemical compound N1=CC=NC2=C(NC=N3)C3=CC=C21 YELMWJNXDALKFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XURABDHWIADCPO-UHFFFAOYSA-N 4-prop-2-enylhepta-1,6-diene Chemical compound C=CCC(CC=C)CC=C XURABDHWIADCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N Abietic-Saeure Natural products C12CCC(C(C)C)=CC2=CCC2C1(C)CCCC2(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004709 Chlorinated polyethylene Substances 0.000 description 1
- 241000270281 Coluber constrictor Species 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 1
- 239000013032 Hydrocarbon resin Substances 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930192627 Naphthoquinone Natural products 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002319 Poly(methyl acrylate) Polymers 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 229920002367 Polyisobutene Polymers 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 229920001756 Polyvinyl chloride acetate Polymers 0.000 description 1
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 1
- KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N Rosin Natural products O(C/C=C/c1ccccc1)[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](CO)O1 KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 238000004873 anchoring Methods 0.000 description 1
- 239000001000 anthraquinone dye Substances 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000005422 blasting Methods 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 150000005690 diesters Chemical class 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- OQZCSNDVOWYALR-UHFFFAOYSA-N flurochloridone Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC(N2C(C(Cl)C(CCl)C2)=O)=C1 OQZCSNDVOWYALR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004508 fractional distillation Methods 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 1
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 1
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 1
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006270 hydrocarbon resin Polymers 0.000 description 1
- 239000001013 indophenol dye Substances 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 150000002791 naphthoquinones Chemical class 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002832 nitroso derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001007 phthalocyanine dye Substances 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052699 polonium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 1
- WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N pyrylium Chemical compound C1=CC=[O+]C=C1 WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009751 slip forming Methods 0.000 description 1
- GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N sodium;9,10-dioxoanthracene-2-sulfonic acid Chemical compound [Na+].C1=CC=C2C(=O)C3=CC(S(=O)(=O)O)=CC=C3C(=O)C2=C1 GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 1
- OKYDCMQQLGECPI-UHFFFAOYSA-N thiopyrylium Chemical compound C1=CC=[S+]C=C1 OKYDCMQQLGECPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N trans-cinnamyl beta-D-glucopyranoside Natural products OC1C(O)C(O)C(CO)OC1OCC=CC1=CC=CC=C1 KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000005691 triesters Chemical class 0.000 description 1
- AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N triphenylmethane Chemical compound C1=CC=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical class O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の分野]
本発明は、レーザーにより情報の記録が可能な情報記録
媒体およびその製造方法に関するものである。
媒体およびその製造方法に関するものである。
[発明の技術的背景]
近年において、レーザー光等の高エネルギー密度のビー
ムを用いる情報記録媒体が開発され、実用化されている
。情報の書き込みが可能なりRA W (Direct
Read After Write )型光ディスク
は、基本構造として、プラスチック、ガラス等からなる
円盤状の透明基板と、この上に設けられたBi、Sn、
In、Te等の金属または半金属、あるいは色素からな
る記録層とを有する。光ディスクへの情報の書き込みは
、たとえばレーザービームを光ディスクに照射すること
により行なわれる。
ムを用いる情報記録媒体が開発され、実用化されている
。情報の書き込みが可能なりRA W (Direct
Read After Write )型光ディスク
は、基本構造として、プラスチック、ガラス等からなる
円盤状の透明基板と、この上に設けられたBi、Sn、
In、Te等の金属または半金属、あるいは色素からな
る記録層とを有する。光ディスクへの情報の書き込みは
、たとえばレーザービームを光ディスクに照射すること
により行なわれる。
上記光ディスクに情報を記録するには、ディスクに照射
されるレーザービームを案内して所定の位置にトラッキ
ングさせる必要がある。このため、一般に基板表面には
スパイラル状または同心円状の凹部(溝)からなるグル
ープ(一般にプレグルーブと呼ばれる)が形成されてい
る。このようなプレグルーブは、一般に次のように形成
される。ガラス原板にフォトレジストを塗布して、レー
ザー露光、現像することによりスパイラル状または同心
円状にプレグルーブを形成させ、光デイスク原板を作成
する。この光デイスク原板に電極付けした後、電鋳を施
し、電鋳部分とレジスト層をガラス原板より剥離してレ
ジスト層を除去することにより電鋳部分であるスタンパ
を得ることができる。このようなスタンパは、プレグル
ーブの反転模様を有している。スタンパの作成では、レ
ーザー露光の露光条件、露光により形成された潜像を現
像する際の現像条件、電鋳部分とレジスト層をガラス原
板より剥離する条件、レジスト層の除去条件などの制御
が難しく、得らゎるスタンパの収率は高いとは言えない
。このスタンパを例えば射出成形機の金型内に装着し、
成形用樹脂を充填して射出成形することによりプレクル
ープを有する円盤状基板を得ることができる。
されるレーザービームを案内して所定の位置にトラッキ
ングさせる必要がある。このため、一般に基板表面には
スパイラル状または同心円状の凹部(溝)からなるグル
ープ(一般にプレグルーブと呼ばれる)が形成されてい
る。このようなプレグルーブは、一般に次のように形成
される。ガラス原板にフォトレジストを塗布して、レー
ザー露光、現像することによりスパイラル状または同心
円状にプレグルーブを形成させ、光デイスク原板を作成
する。この光デイスク原板に電極付けした後、電鋳を施
し、電鋳部分とレジスト層をガラス原板より剥離してレ
ジスト層を除去することにより電鋳部分であるスタンパ
を得ることができる。このようなスタンパは、プレグル
ーブの反転模様を有している。スタンパの作成では、レ
ーザー露光の露光条件、露光により形成された潜像を現
像する際の現像条件、電鋳部分とレジスト層をガラス原
板より剥離する条件、レジスト層の除去条件などの制御
が難しく、得らゎるスタンパの収率は高いとは言えない
。このスタンパを例えば射出成形機の金型内に装着し、
成形用樹脂を充填して射出成形することによりプレクル
ープを有する円盤状基板を得ることができる。
このようにして得られる円盤状基板は一般に第4図の円
盤状基板21の形状を有している。第4図は、従来の基
板を用いた光ディスクの半径部分断面図を示している。
盤状基板21の形状を有している。第4図は、従来の基
板を用いた光ディスクの半径部分断面図を示している。
第4図において、プレグルーブ22は円盤状基板21の
内周側および外周側以外に形成されており、円盤状基板
21の内周側、すなわち中央の孔部20の周縁の外側の
内周側基板領域24および基板外周縁の内側、すなわち
外周側基板領域25にはプレグルーブは形成されていな
い。そしてこのような基板のプレグルーブ上に記録層2
3が形成されている。また所望によりさらに反射層、保
護層が形成される。
内周側および外周側以外に形成されており、円盤状基板
21の内周側、すなわち中央の孔部20の周縁の外側の
内周側基板領域24および基板外周縁の内側、すなわち
外周側基板領域25にはプレグルーブは形成されていな
い。そしてこのような基板のプレグルーブ上に記録層2
3が形成されている。また所望によりさらに反射層、保
護層が形成される。
上記円盤状基板を成形するために使用されるプレグルー
ブの反転模様を有するスタンパは、前記したように光デ
イスク原板を用いて作成されるが、得られるスタンパの
内、形成されたプレグルーブに欠陥部分の発生したスタ
ンパもいくつか製造されることは避けられない。従って
、スタンパの良品の収率はかなり低いものとなっている
。
ブの反転模様を有するスタンパは、前記したように光デ
イスク原板を用いて作成されるが、得られるスタンパの
内、形成されたプレグルーブに欠陥部分の発生したスタ
ンパもいくつか製造されることは避けられない。従って
、スタンパの良品の収率はかなり低いものとなっている
。
さらに、このようなスタンパから得られる基板は、第4
図に示したように内周側および外周側か平坦であること
から、記録層上に反射層や保護層等を設けた場合、基板
とこれらの層との付着性が充分とはいえず、長期保存ま
たは使用することによりこれらの層が剥離するなどの問
題がある。
図に示したように内周側および外周側か平坦であること
から、記録層上に反射層や保護層等を設けた場合、基板
とこれらの層との付着性が充分とはいえず、長期保存ま
たは使用することによりこれらの層が剥離するなどの問
題がある。
特開平1−276442号公報には、基板の記録領域で
ない内周側および外周側に凹凸を設けることが開示され
ている。この凹凸は、プレグルーブとは不連続であり、
その形状はプレグルーブより幅、深さとも大きいもので
ある。このような基板を用いて光ディスクを作成した場
合、基板と保護層などとの付着性は改善される。しかし
ながら、該基板を成形するために用いられるスタンパは
従来通り作成する必要があり、スタンパの良品を高い収
率で得ることについては考慮されていない。
ない内周側および外周側に凹凸を設けることが開示され
ている。この凹凸は、プレグルーブとは不連続であり、
その形状はプレグルーブより幅、深さとも大きいもので
ある。このような基板を用いて光ディスクを作成した場
合、基板と保護層などとの付着性は改善される。しかし
ながら、該基板を成形するために用いられるスタンパは
従来通り作成する必要があり、スタンパの良品を高い収
率で得ることについては考慮されていない。
[発明の目的]
本発明は、記録領域が広く且つ良好な記録再生特性が長
期に亙って維持できる耐久性に優れた情報記録媒体を提
供することを目的とする。
期に亙って維持できる耐久性に優れた情報記録媒体を提
供することを目的とする。
また、本発明は、光ディスクを高い分留で製造すること
ができる新規な情報記録媒体の製造方法を提供すること
を目的とする。
ができる新規な情報記録媒体の製造方法を提供すること
を目的とする。
また、本発明は、製造されたスタンパを効率良く用いて
、良好な記録再生特性が長期に亙って維持できる耐久性
に優れた情報記録媒体を製造する方法を提供することを
目的とする。
、良好な記録再生特性が長期に亙って維持できる耐久性
に優れた情報記録媒体を製造する方法を提供することを
目的とする。
[発明の要旨]
本発明は、中央に孔部を有し且つ表面にトラッキング用
のプレグルーブを有する円盤状基板の該プレグルーブ上
に、レーザーにより情報の書き込みが可能な記録層か設
けられてなる情報記録媒体において、 該プレグルーブか該基板の外周縁まで設けられているこ
とを特徴とする情報記録媒体にある。
のプレグルーブを有する円盤状基板の該プレグルーブ上
に、レーザーにより情報の書き込みが可能な記録層か設
けられてなる情報記録媒体において、 該プレグルーブか該基板の外周縁まで設けられているこ
とを特徴とする情報記録媒体にある。
上記情報記録媒体は、中央に孔部を有する円盤状基板を
、プレグルーブの反転模様の外周直径か該基板の外径よ
り大きいスタンパを用いて成形用樹脂を射出成形するこ
とにより、該プレグルーブか基板の外周縁まで設けられ
た円盤状基板を作成し、次いで該円盤状基板のプレグル
ーブ上に、レーザーにより情報の書き込みが可能な記録
層を形成することからなる情報記録媒体の製造方法を利
用することにより有利に得ることがてきる。
、プレグルーブの反転模様の外周直径か該基板の外径よ
り大きいスタンパを用いて成形用樹脂を射出成形するこ
とにより、該プレグルーブか基板の外周縁まで設けられ
た円盤状基板を作成し、次いで該円盤状基板のプレグル
ーブ上に、レーザーにより情報の書き込みが可能な記録
層を形成することからなる情報記録媒体の製造方法を利
用することにより有利に得ることがてきる。
上記本発明の情報記録媒体の好ましい態様は以下の通り
である。
である。
1)該記録層か、色素からなる層であり、そして該記録
層上および該記録層の外周縁を越えて基板上に反射層が
設けられていることを特徴とする上記情報記録媒体。
層上および該記録層の外周縁を越えて基板上に反射層が
設けられていることを特徴とする上記情報記録媒体。
2)該記録層が、色素からなる層であり、そして該記録
層上に反射層か設けられ、該反射層および該反射層の外
周縁を越えて基板上に保護層が設けられていることを特
徴とする上記情報記録媒体。
層上に反射層か設けられ、該反射層および該反射層の外
周縁を越えて基板上に保護層が設けられていることを特
徴とする上記情報記録媒体。
3)該反射層か、記録層上および基板の外周縁近傍まで
連続して設けられていることを特徴とする上記情報記録
媒体。
連続して設けられていることを特徴とする上記情報記録
媒体。
4)該反射層上および基板の外周側面まで連続して、保
護層か形成されていることを特徴とする上記1)または
2)の情報記録媒体。
護層か形成されていることを特徴とする上記1)または
2)の情報記録媒体。
5)上記保護層が、紫外線硬化型樹脂の硬化物であるこ
とを特徴とする上記4)の情報記録媒体。
とを特徴とする上記4)の情報記録媒体。
上記本発明の情報記録媒体の製造方法の好ましい態様は
以下の通りである。
以下の通りである。
1)該記録層として、色素からなる層を形成し、そして
該記録層上および該記録層の外周縁を越えて基板上に反
射層を形成することを特徴とする上記情報記録媒体の製
造方法。
該記録層上および該記録層の外周縁を越えて基板上に反
射層を形成することを特徴とする上記情報記録媒体の製
造方法。
2)該記録層として、色素からなる層を形成し、該記録
層上に反射層を設け、そして該反射層および該反射層の
外周縁を越えて基板上に保護層を形成することを特徴と
する上記情報記録媒体の製造方法。
層上に反射層を設け、そして該反射層および該反射層の
外周縁を越えて基板上に保護層を形成することを特徴と
する上記情報記録媒体の製造方法。
3)該スタンパか、該円盤状基板の外径より内側の領域
にはプレグルーブの反転模様に欠陥がないスタンパであ
ることを特徴とする上記情報記録媒体の製造方法。
にはプレグルーブの反転模様に欠陥がないスタンパであ
ることを特徴とする上記情報記録媒体の製造方法。
4)該反射層を、記録層上および基板の外周縁近傍まで
連続して形成することを特徴とする上記1)の情報記録
媒体の製造方法。
連続して形成することを特徴とする上記1)の情報記録
媒体の製造方法。
5)該反射層上および性基板の外周側面まで連続して、
保護層を形成することを特徴とする上記1)または2)
の情報記録媒体の製造方法。
保護層を形成することを特徴とする上記1)または2)
の情報記録媒体の製造方法。
6)上記保護層が、紫外線硬化型樹脂の硬化物であるこ
とを特徴とする上記2)または5)の情報記録媒体の製
造方法。
とを特徴とする上記2)または5)の情報記録媒体の製
造方法。
[発明の効果]
本発明の情報記録媒体は、プレグルーブか上記のように
基板の外周縁まで設けられているので、記録層の基板に
対する付着性か向上し、また広い記録領域を得ることか
できる。さらに、このような光ティスフを製造するため
のスタンパは、該円盤状基板の外径より内側の領域には
プレグルーブの反転模様に欠陥かないスタンパてあれば
良く、作成すべき円盤状基板の外周縁より外周側に相当
する領域に欠陥を有するスタンパを用いて製造すること
もできるのでスタンパの収率か格段に向上する。従って
、上記光ディスクは、高い歩留で製造することができる
。
基板の外周縁まで設けられているので、記録層の基板に
対する付着性か向上し、また広い記録領域を得ることか
できる。さらに、このような光ティスフを製造するため
のスタンパは、該円盤状基板の外径より内側の領域には
プレグルーブの反転模様に欠陥かないスタンパてあれば
良く、作成すべき円盤状基板の外周縁より外周側に相当
する領域に欠陥を有するスタンパを用いて製造すること
もできるのでスタンパの収率か格段に向上する。従って
、上記光ディスクは、高い歩留で製造することができる
。
特に、色素記録層上に、該記録層の外周縁を越えて基板
上に反射層を設けた場合、基板上のプレグルーブの凹凸
により反射層の基板に対する付着性が向上することから
耐久性の向上した情報記録媒体を得ることができる。
上に反射層を設けた場合、基板上のプレグルーブの凹凸
により反射層の基板に対する付着性が向上することから
耐久性の向上した情報記録媒体を得ることができる。
[発明の詳細な記述]
本発明は、トラッキング用のプレグルーブか設けられた
円盤状基板の該プレグルーブ上に、レーサーにより情報
の書き込みまたは読み取りか可能な記録層か設けられた
基本構成を有する。
円盤状基板の該プレグルーブ上に、レーサーにより情報
の書き込みまたは読み取りか可能な記録層か設けられた
基本構成を有する。
本発明の情報記録媒体を添付図面を参照しながら詳しく
説明する。
説明する。
第1図は、本発明の情報記録媒体の基本的構成を示す平
面図である。
面図である。
第1図は、中央の孔部10、(下記第2図の円盤状基板
11上のプレグルーブ12上に設けられた)記録層13
、孔部の周縁の外側の内周部分である内周側基板領域(
記録層が設けられていない基板の露出領域)14、基板
の外周縁の内側部分である外周側基板領域(記録層が設
けられていない基板の露出領域)15からなる光ディス
クの記録層側から見た平面図である。
11上のプレグルーブ12上に設けられた)記録層13
、孔部の周縁の外側の内周部分である内周側基板領域(
記録層が設けられていない基板の露出領域)14、基板
の外周縁の内側部分である外周側基板領域(記録層が設
けられていない基板の露出領域)15からなる光ディス
クの記録層側から見た平面図である。
第1図のI−I断面図の中心より右側半分を第2図に示
す。
す。
第2図は、中央の孔部10を有する円盤状基板11に、
プレグルーブ12および記録層13か設けられ、孔部の
周縁の外側の内周部分である内周側基板領域(記録層が
設けられていない基板の露出領域)14および基板の外
周縁の内側部分である外周側基板領域(記録層が設けら
れていな5N基板の露出領域)15か設定されている光
ディスクかボされている。
プレグルーブ12および記録層13か設けられ、孔部の
周縁の外側の内周部分である内周側基板領域(記録層が
設けられていない基板の露出領域)14および基板の外
周縁の内側部分である外周側基板領域(記録層が設けら
れていな5N基板の露出領域)15か設定されている光
ディスクかボされている。
上記光ティスフでは、プレクループ12か内周側基板領
域14よりも外周側の全領域に形成されている。従って
、記録層13は外周側方向には所望の領域迄設けること
かてき、記録領域の拡大が図れる。また、基板のほぼ全
表面にプレグルーブの凹凸を有するので、記録層の基板
に対する付着力が均一で高いものとなる。
域14よりも外周側の全領域に形成されている。従って
、記録層13は外周側方向には所望の領域迄設けること
かてき、記録領域の拡大が図れる。また、基板のほぼ全
表面にプレグルーブの凹凸を有するので、記録層の基板
に対する付着力が均一で高いものとなる。
記録層が、色素からなる場合、その塗布液を一般にスピ
ンコード法により塗布して記録層を形成するが、このよ
うに塗布された記録層は一般に基板の外周縁上形成され
る。このため、外周側基板領域15を確保するには、外
周部分の余分な記録層を溶剤等で拭き取るか、下記のよ
うな条件でスピンコードを行なうことが好ましい。
ンコード法により塗布して記録層を形成するが、このよ
うに塗布された記録層は一般に基板の外周縁上形成され
る。このため、外周側基板領域15を確保するには、外
周部分の余分な記録層を溶剤等で拭き取るか、下記のよ
うな条件でスピンコードを行なうことが好ましい。
すなわち、色素塗布液をスピンコードにより比較的遅い
回転数の条件(一般に150〜250rpm)で塗布す
る。この際、塗布面は基板の外周側に塗布液が溜る傾向
にある。塗布後30〜70回転/秒つつ回転数を上げな
から10〜20秒で800〜1300回転にしくこの時
一般に塗布面の中央領域が半乾燥状態(流動性がなくな
った状態)になる)、その後−気に回転数を2500〜
3500rpmと極端に高くして、基板の外周側に溜っ
た塗布液を振りきるように除去して、外周側基板領域1
5を確保する。このようにして基板外周縁から0.2〜
2mmのドーナツ状の外周側基板領域か得られる。
回転数の条件(一般に150〜250rpm)で塗布す
る。この際、塗布面は基板の外周側に塗布液が溜る傾向
にある。塗布後30〜70回転/秒つつ回転数を上げな
から10〜20秒で800〜1300回転にしくこの時
一般に塗布面の中央領域が半乾燥状態(流動性がなくな
った状態)になる)、その後−気に回転数を2500〜
3500rpmと極端に高くして、基板の外周側に溜っ
た塗布液を振りきるように除去して、外周側基板領域1
5を確保する。このようにして基板外周縁から0.2〜
2mmのドーナツ状の外周側基板領域か得られる。
第3図は、第2図に示された光ディスクの記録層上に更
に反射層および保護層が順に設けられた光ディスクの断
面図が示されている。
に反射層および保護層が順に設けられた光ディスクの断
面図が示されている。
第3図は、中央の孔部10を有する円盤状基板11上に
、プレグルーブ12、記録層13、反射層16および保
護層17が設けられ、孔部の周縁の外側の内周部分であ
る内周側基板領域(記録層が設けられていない基板の露
出領域)14および基板の外周縁の内側部分である外周
側基板領域(記録層か設けられていない基板の露出領域
)15か設定されている光ディスクが示されている。
、プレグルーブ12、記録層13、反射層16および保
護層17が設けられ、孔部の周縁の外側の内周部分であ
る内周側基板領域(記録層が設けられていない基板の露
出領域)14および基板の外周縁の内側部分である外周
側基板領域(記録層か設けられていない基板の露出領域
)15か設定されている光ディスクが示されている。
上記光ディスクでは、プレグルーブ12か内周側基板領
域14以外の外周側の全領域に形成されている。反射層
16は記録層上たけでなく基板の外周縁上形成されてい
る。このため外周側基板領域15ては基板のプレグルー
ブ上に直接反射層が形成されている。反射層は一般に金
属をスパッタリング、真空蒸着等により形成されるが、
このように基板上に形成された反射層は、基板上のプレ
グルーブの凹凸により投錨効果が得られるので反射層の
付着性は向上する。従来、反射層は記録層上のみ設けら
れるか、あるいは反射層上および基板上に設けた場合も
基板表面には凹凸はないため充分に優れた付着性は得ら
れない。記録層上に上記反射層のように保護層を設けた
場合も上記反射層と同様の効果が得られるので保護層の
付着性も向上する。反射層16上に設けられる保護層1
7は、反射層16上のみだけでなく、基板の外周側の側
壁にも設けられている。このため、反射層の端部か保護
層により完全に覆ねねるので、長期保存あるいは長期使
用した際の反射層の剥離か防止できるとの効果か得られ
る。
域14以外の外周側の全領域に形成されている。反射層
16は記録層上たけでなく基板の外周縁上形成されてい
る。このため外周側基板領域15ては基板のプレグルー
ブ上に直接反射層が形成されている。反射層は一般に金
属をスパッタリング、真空蒸着等により形成されるが、
このように基板上に形成された反射層は、基板上のプレ
グルーブの凹凸により投錨効果が得られるので反射層の
付着性は向上する。従来、反射層は記録層上のみ設けら
れるか、あるいは反射層上および基板上に設けた場合も
基板表面には凹凸はないため充分に優れた付着性は得ら
れない。記録層上に上記反射層のように保護層を設けた
場合も上記反射層と同様の効果が得られるので保護層の
付着性も向上する。反射層16上に設けられる保護層1
7は、反射層16上のみだけでなく、基板の外周側の側
壁にも設けられている。このため、反射層の端部か保護
層により完全に覆ねねるので、長期保存あるいは長期使
用した際の反射層の剥離か防止できるとの効果か得られ
る。
L記のように反射層は基板の外周縁またはその近傍布設
けられることが好ましいか、記録層の外周縁より外周側
であれば付着性の向上の効果か得られるので基板の外周
縁布設けなくても良い。また、反射層の内周側の位置は
記録層の上だけでも良いか、記録層を越えて基板の内周
側にも設けられている方が耐久性向上の点から好ましい
。保護層は、反射層上のみたけでなく、基板の外周側の
側壁にも設けられることが好ましい。また、保護層の内
周側の位置は反射層の上だけでも良いか、反射層を越え
て基板の内周側にも設けられてしする方か耐久性向上の
点から好ましい。
けられることが好ましいか、記録層の外周縁より外周側
であれば付着性の向上の効果か得られるので基板の外周
縁布設けなくても良い。また、反射層の内周側の位置は
記録層の上だけでも良いか、記録層を越えて基板の内周
側にも設けられている方が耐久性向上の点から好ましい
。保護層は、反射層上のみたけでなく、基板の外周側の
側壁にも設けられることが好ましい。また、保護層の内
周側の位置は反射層の上だけでも良いか、反射層を越え
て基板の内周側にも設けられてしする方か耐久性向上の
点から好ましい。
上記以外の態様として、反射層をほぼ色素からなる記録
層上のみに設け、そして保護層を該反射層および該反射
層の外周縁を越えて基板上(すなわち外周側基板領域1
5)、所望により基板外周側面まで、設けられた構成を
採りてもよし\。このような光ティスフは保護層の基板
に対する付着性が向上するので耐久性も良好となる。
層上のみに設け、そして保護層を該反射層および該反射
層の外周縁を越えて基板上(すなわち外周側基板領域1
5)、所望により基板外周側面まで、設けられた構成を
採りてもよし\。このような光ティスフは保護層の基板
に対する付着性が向上するので耐久性も良好となる。
上記光ティスフは作成方法は、例えば、色素塗布液を通
常のスピンコード法により塗布して、基板の外周縁辺記
録層を形成し、そして反射層はマスクを介して基板の外
周縁より内側に、即ち外周側基板領域15に色素記録層
を露出させて形成する。この上に、保護層となる紫外線
効果樹脂塗布液をスピンコード法により塗布すると、露
出した色素記録層の部分は該塗布液により溶解され消失
し、外周側基板領域15では直接保護層か形成された形
になる。このようにして作成することかてきる。
常のスピンコード法により塗布して、基板の外周縁辺記
録層を形成し、そして反射層はマスクを介して基板の外
周縁より内側に、即ち外周側基板領域15に色素記録層
を露出させて形成する。この上に、保護層となる紫外線
効果樹脂塗布液をスピンコード法により塗布すると、露
出した色素記録層の部分は該塗布液により溶解され消失
し、外周側基板領域15では直接保護層か形成された形
になる。このようにして作成することかてきる。
上記第1〜3図て示した光ディスクの記録層は金属ある
いは半金属からなるものでも、また色素からなるもので
も何でも良い。記録層が色素層であって、その上に反射
率等の向上の目的からその上に反射層か形成され、さら
にその上に保護層を設けた場合に、本発明の効果が最良
の形て得ることができる。
いは半金属からなるものでも、また色素からなるもので
も何でも良い。記録層が色素層であって、その上に反射
率等の向上の目的からその上に反射層か形成され、さら
にその上に保護層を設けた場合に、本発明の効果が最良
の形て得ることができる。
本発明の情報記録媒体は、たとえば以下のように製造す
ることができる。
ることができる。
本発明において使用する基板は、従来の情報記録媒体の
基板として用いられている各種の材料から任意に選択す
ることができる。基板材料の例としては、ガラス、ポリ
メチルメタクリレート等のアクリル樹脂;ポリ塩化ビニ
ル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂:エボキ
シ樹脂:ポリカーボネート樹脂、アモルファスポリオレ
フィンおよびポリエステルを挙げることができる。好ま
しくは、基板の光学的特性、平面性、加工性、取扱い性
、経時安定性および製造コストなとの点から、ポリカー
ボネート、ポリオレフィンおよびポリメチルメタクリレ
ートを挙げることがてきる。
基板として用いられている各種の材料から任意に選択す
ることができる。基板材料の例としては、ガラス、ポリ
メチルメタクリレート等のアクリル樹脂;ポリ塩化ビニ
ル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂:エボキ
シ樹脂:ポリカーボネート樹脂、アモルファスポリオレ
フィンおよびポリエステルを挙げることができる。好ま
しくは、基板の光学的特性、平面性、加工性、取扱い性
、経時安定性および製造コストなとの点から、ポリカー
ボネート、ポリオレフィンおよびポリメチルメタクリレ
ートを挙げることがてきる。
本発明では、上記円盤状基板の表面にはトラッキング用
のプレグルーブが形成されており、且つプレグルーブが
基板の外周縁まで設けられてしする。このような円盤状
基板は、中央に孔部な有し且つその円盤状基板の外周縁
よりさらに外周側に相当する領域までトラッキング用の
プレグルーブの反転模様を有するスタンパを用し1て成
形用樹脂を射出成形することにより得ることかできる。
のプレグルーブが形成されており、且つプレグルーブが
基板の外周縁まで設けられてしする。このような円盤状
基板は、中央に孔部な有し且つその円盤状基板の外周縁
よりさらに外周側に相当する領域までトラッキング用の
プレグルーブの反転模様を有するスタンパを用し1て成
形用樹脂を射出成形することにより得ることかできる。
例えば、このようなスタンパを移動金型と固定金型とを
有する射出成形機の移動金型に装着して、移動金型と固
定金型か型閉した時に形成されるキャビティの基板表面
部分にあたる表面積を上記スタンパの表面積より小ざく
なるようにして上記基板成形用の溶融樹脂を充填し、成
形する。
有する射出成形機の移動金型に装着して、移動金型と固
定金型か型閉した時に形成されるキャビティの基板表面
部分にあたる表面積を上記スタンパの表面積より小ざく
なるようにして上記基板成形用の溶融樹脂を充填し、成
形する。
このような基板の外周縁よりさらに外周側に相当する領
域までプレグルーブの反転模様を有するスタンパは、次
のようにして形成することかスタンパの収率の向上を図
る上で有利である。すなわち、外径の大きなタイプの光
ティスフ用の基板の成形に用いられるスタンパを作成し
た場合、プレクループ模様に欠陥かあってその外径の大
きな基板の成形に使用できない不良品のスタンパか当然
作成される。このような不良品のスタンパの中て、上記
大きな外径に比へて小さな外径を有する光デイスク用の
円盤状基板の外周縁より外周側に相当する部分にのみ欠
陥を有するスタンパは、小さな外径を有する基板成形用
のスタンパとして使用することができる。
域までプレグルーブの反転模様を有するスタンパは、次
のようにして形成することかスタンパの収率の向上を図
る上で有利である。すなわち、外径の大きなタイプの光
ティスフ用の基板の成形に用いられるスタンパを作成し
た場合、プレクループ模様に欠陥かあってその外径の大
きな基板の成形に使用できない不良品のスタンパか当然
作成される。このような不良品のスタンパの中て、上記
大きな外径に比へて小さな外径を有する光デイスク用の
円盤状基板の外周縁より外周側に相当する部分にのみ欠
陥を有するスタンパは、小さな外径を有する基板成形用
のスタンパとして使用することができる。
例えば、外径120mm、プレグルーブの領域か内径か
44mmであフて外径が117mmであるスタンパを作
成し、プレグルーブに欠陥のないスタンパはそのまま1
20mm光ディスク基板の成形に使用し、欠陥品の中か
ら例えば外径80mmを超えた外周領域にのみプレグル
ーブの欠陥を有するスタンパは80mm用光ディスク基
板の成形用のスタンパとして使用することができる。
44mmであフて外径が117mmであるスタンパを作
成し、プレグルーブに欠陥のないスタンパはそのまま1
20mm光ディスク基板の成形に使用し、欠陥品の中か
ら例えば外径80mmを超えた外周領域にのみプレグル
ーブの欠陥を有するスタンパは80mm用光ディスク基
板の成形用のスタンパとして使用することができる。
このようなスタンパの作成は、従来の方法を用いて例え
ば以下のように行なうことかできる。
ば以下のように行なうことかできる。
まず、ガラス原板にレジストを塗布してレジスト原板を
作成し、該レジスト原板を記録信号の基本周期に対応す
る同期信号により決定される回転数にて回転させながら
情報信号に応じてスパイラル状又は同心円状にレーザー
露光して該レジスト層に該情報信号の潜像を形成して記
録済原板を作成し、そしてこの潜像を現像してガラス原
板上にトラッキング用のグループおよび記録信号に応じ
た微細凹凸パターンをスパイラル状又は同心円状に形成
させることにより得ることができる。ト記しジスト層へ
の露光は、記録装置を用いてレジスト原板の回転数を例
えば1800rpmにし、記録ヘッドをレジスト原板の
内周から外周方向に定速で移動させて、レジスト原板を
カッティングすることにより行なわれる。このようにし
て上記レジスト原板への露光すなわちカッティングを行
ない、これを現像することにより光デイスク原板が得ら
れる。
作成し、該レジスト原板を記録信号の基本周期に対応す
る同期信号により決定される回転数にて回転させながら
情報信号に応じてスパイラル状又は同心円状にレーザー
露光して該レジスト層に該情報信号の潜像を形成して記
録済原板を作成し、そしてこの潜像を現像してガラス原
板上にトラッキング用のグループおよび記録信号に応じ
た微細凹凸パターンをスパイラル状又は同心円状に形成
させることにより得ることができる。ト記しジスト層へ
の露光は、記録装置を用いてレジスト原板の回転数を例
えば1800rpmにし、記録ヘッドをレジスト原板の
内周から外周方向に定速で移動させて、レジスト原板を
カッティングすることにより行なわれる。このようにし
て上記レジスト原板への露光すなわちカッティングを行
ない、これを現像することにより光デイスク原板が得ら
れる。
次いで、凹凸パターンが形成されたレジスト層表面(光
デイスク原板上の)に、Niなとの導電性の高い金属を
スパッタリング等の方法により導電膜を形成する。次に
、その導電膜を電鋳法により成長させて電鋳層を形成す
る。一体止している電鋳部分とレジスト層をガラス原板
より剥離してレジスト層を除去することによりその電鋳
部分であるスタンパを得ることができる。このようにし
て得られるスタンパの表面形状は光デイスク原板のグル
ープが反転したもの、また光デイスク用基板上のグルー
プとも反転したものでもあるが、凹凸か逆になる以外寸
法は同しものである。
デイスク原板上の)に、Niなとの導電性の高い金属を
スパッタリング等の方法により導電膜を形成する。次に
、その導電膜を電鋳法により成長させて電鋳層を形成す
る。一体止している電鋳部分とレジスト層をガラス原板
より剥離してレジスト層を除去することによりその電鋳
部分であるスタンパを得ることができる。このようにし
て得られるスタンパの表面形状は光デイスク原板のグル
ープが反転したもの、また光デイスク用基板上のグルー
プとも反転したものでもあるが、凹凸か逆になる以外寸
法は同しものである。
このスタンパを航記したように金型に装着して基板材料
である成形用の合成樹脂を成形することにより微細凹凸
パターンなどが光デイスク原板と同し光デイスク基板を
製造することができる。
である成形用の合成樹脂を成形することにより微細凹凸
パターンなどが光デイスク原板と同し光デイスク基板を
製造することができる。
上記プレクループの形成は、上記のように射出成形等に
より基板表面に直接設けることが好ましい。また、下記
のプレグルーブ層材料を基板とスタンパの間に介在させ
て紫外線の照射により硬化させることにより基板と該材
料(液相)とを固着させる。これによりプレグルーブ層
上にプレグルーブを形成し、次いで、基板を母型から剥
離することによりプレグルーブ層の設けられた基板が得
られるので、この方法を用いてもよい。
より基板表面に直接設けることが好ましい。また、下記
のプレグルーブ層材料を基板とスタンパの間に介在させ
て紫外線の照射により硬化させることにより基板と該材
料(液相)とを固着させる。これによりプレグルーブ層
上にプレグルーブを形成し、次いで、基板を母型から剥
離することによりプレグルーブ層の設けられた基板が得
られるので、この方法を用いてもよい。
プレグルーブ層等の材料としては、アクリル酸のモノエ
ステル、ジエステル、トリエステルおよびテトラエステ
ルのうちの少なくとも一種の千ツマ−(またはオリゴマ
ー)と光重合開始剤との混合物を用いることができる。
ステル、ジエステル、トリエステルおよびテトラエステ
ルのうちの少なくとも一種の千ツマ−(またはオリゴマ
ー)と光重合開始剤との混合物を用いることができる。
プレグルーブ層の層厚は一般に0.05〜100μmの
範囲にあり、好ましくは0.1〜50μmの範囲である
。
範囲にあり、好ましくは0.1〜50μmの範囲である
。
上記基板(またはプレグルーブ層)上には、記録層か設
けられる。
けられる。
記録層に用いられる材料が金属の例としては、Te、Z
n、In、Sn、Zr、AM、Cu。
n、In、Sn、Zr、AM、Cu。
Ga等の金属;Bi、As、Sb等の半金属:Ge、S
i等の半導体:およびこれらの合金またはこれらの組合
せを挙げることができる。また、こ九らの金属または半
金属の硫化物、酸化物、ボウ化物、ケイ素化合物、炭化
物および窒化物等の化合物:およびこわらの化合物と金
属との混合物も記録層に用いることができる。ざらに相
変化記録に用いられる高分子化合物等を用いてもよい。
i等の半導体:およびこれらの合金またはこれらの組合
せを挙げることができる。また、こ九らの金属または半
金属の硫化物、酸化物、ボウ化物、ケイ素化合物、炭化
物および窒化物等の化合物:およびこわらの化合物と金
属との混合物も記録層に用いることができる。ざらに相
変化記録に用いられる高分子化合物等を用いてもよい。
記録層は、上記の記録材料を蒸着、スパッタリング、イ
オンブレーティングなどの方法によって基板上または中
間塗布層上に形成することができる。高分子化合物等は
塗布により設けることができる。上記記録層は単層また
は重層でもよいが、その層厚は光情報記録に要求される
光学濃度の点から一般に100乃至5500λの範囲で
ある。
オンブレーティングなどの方法によって基板上または中
間塗布層上に形成することができる。高分子化合物等は
塗布により設けることができる。上記記録層は単層また
は重層でもよいが、その層厚は光情報記録に要求される
光学濃度の点から一般に100乃至5500λの範囲で
ある。
記録層の材料か色素の場合、本発明に使用される色素は
、例えば、インドレニン系色素、イミダゾキノキサリン
系色素、イントリジン系色素などのシアニン系色素、フ
タロシアニン系色素、ピリリウム系・チオピリリウム系
色素、アズレニウム系色素、スクワリリウム系色素、N
i、Crなとの金属錯塩系色素、ナフトキノン系・アン
トラキノン系色素、インドフェノール系色素、インドア
ニリン系色素、トリフェニルメタン系色素、トリアリル
メタン系色素、メロシアン系色素、オキソノール系色素
、アミニウム系・ジインモニウム系色素およびニトロソ
化合物を挙げることかできる。
、例えば、インドレニン系色素、イミダゾキノキサリン
系色素、イントリジン系色素などのシアニン系色素、フ
タロシアニン系色素、ピリリウム系・チオピリリウム系
色素、アズレニウム系色素、スクワリリウム系色素、N
i、Crなとの金属錯塩系色素、ナフトキノン系・アン
トラキノン系色素、インドフェノール系色素、インドア
ニリン系色素、トリフェニルメタン系色素、トリアリル
メタン系色素、メロシアン系色素、オキソノール系色素
、アミニウム系・ジインモニウム系色素およびニトロソ
化合物を挙げることかできる。
色素層の形成は、上記色素、さらに所望により結合剤、
金属錯塩系色素またはアミニウム系・ジインモニウム系
色素(クエンチャ−)を溶剤に溶解して塗布液を調製し
、次いでこの塗布液を基板表面に塗布して塗膜を形成し
たのち乾燥することにより行なうことかできる。
金属錯塩系色素またはアミニウム系・ジインモニウム系
色素(クエンチャ−)を溶剤に溶解して塗布液を調製し
、次いでこの塗布液を基板表面に塗布して塗膜を形成し
たのち乾燥することにより行なうことかできる。
上記色素塗布液調製用の溶剤としては、酢酸エチル、酢
酸ブチル、セロソルブアセテートなとのエステル、メチ
ルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチル
ケトンなどのケトン、ジクロルメタン、1.2−ジクロ
ルエタン、クロロホルムなとのハロゲン化炭化水素、テ
トラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサンなとの
エーテル、エタノール、n−プロパツール、イソプロパ
ツール、n−ブタノールなどのアルコール、ジメチルホ
ルムアミドなどのアミド、2.2.3.3テトラフロロ
プロパツール等フッソ系溶剤などを挙げることができる
。なお、これらの非炭化水素系有機溶剤は、50容量%
以内である限り、脂肪族炭化水素溶剤、脂環族炭化水素
溶剤、芳香族炭化水素溶剤などの炭化水素系溶媒を含ん
でいてもよい。
酸ブチル、セロソルブアセテートなとのエステル、メチ
ルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチル
ケトンなどのケトン、ジクロルメタン、1.2−ジクロ
ルエタン、クロロホルムなとのハロゲン化炭化水素、テ
トラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサンなとの
エーテル、エタノール、n−プロパツール、イソプロパ
ツール、n−ブタノールなどのアルコール、ジメチルホ
ルムアミドなどのアミド、2.2.3.3テトラフロロ
プロパツール等フッソ系溶剤などを挙げることができる
。なお、これらの非炭化水素系有機溶剤は、50容量%
以内である限り、脂肪族炭化水素溶剤、脂環族炭化水素
溶剤、芳香族炭化水素溶剤などの炭化水素系溶媒を含ん
でいてもよい。
塗布液中にはさらに酸化防止剤、UV吸収剤、可塑剤、
滑剤なと各種の添加剤を目的に応して添加してもよい。
滑剤なと各種の添加剤を目的に応して添加してもよい。
結合剤を使用する場合に結合剤としては、例えばゼラチ
ン、ニトロセルロース、酢酸セルロース等のセルロース
誘導体、テキストラン、ロジン、ゴムなとの天然有機高
分子物質;およびポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
スチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ
塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポ
リ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリル
酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、
ポリビニルアルコール、塩素化ポリオレフィン、エポキ
シ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホ
ルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物など
の合成有機高分子物質を挙げることができる。
ン、ニトロセルロース、酢酸セルロース等のセルロース
誘導体、テキストラン、ロジン、ゴムなとの天然有機高
分子物質;およびポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
スチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ
塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポ
リ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリル
酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、
ポリビニルアルコール、塩素化ポリオレフィン、エポキ
シ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホ
ルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物など
の合成有機高分子物質を挙げることができる。
塗布方法としては、スプレー法、スピンコードン去、デ
イツプ法、ロールコート法、プレートコート法、ドクタ
ーロール法、スクリーン印刷法などを挙げることができ
る。
イツプ法、ロールコート法、プレートコート法、ドクタ
ーロール法、スクリーン印刷法などを挙げることができ
る。
色素層の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤に
対する色素の比率は一般に0.01〜99%(重量比)
の範囲にあり、好ましくは1.0〜95%(重量比)の
範囲にある。
対する色素の比率は一般に0.01〜99%(重量比)
の範囲にあり、好ましくは1.0〜95%(重量比)の
範囲にある。
上記色素層は単層でも重層でもよいが、その層厚は一般
に100〜5500又の範囲にあり、好ましくは200
〜3000スの範囲にある。
に100〜5500又の範囲にあり、好ましくは200
〜3000スの範囲にある。
上記記録層と基板の間には、塩素化ポリエチレン、ニト
ロセルロースあるいは弗素樹脂なとの高分子化合物から
なる中間層を介在させても良い。
ロセルロースあるいは弗素樹脂なとの高分子化合物から
なる中間層を介在させても良い。
上記記録層上には反射層が設けられてもよい。
記録層材料か色素の場合は、反射層を設けることか好ま
しい。
しい。
反射層の材料である光反射性物質はレーザー光に対する
反射率か高い物質であり、その例としては、Mg、Se
、Y、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo
、W、Mn、Re、Fe、Co、Ni、Ru、Rh、P
d、I r、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、A
J2、Ga、In、SiX Ge、Te、Pb、Po。
反射率か高い物質であり、その例としては、Mg、Se
、Y、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo
、W、Mn、Re、Fe、Co、Ni、Ru、Rh、P
d、I r、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、A
J2、Ga、In、SiX Ge、Te、Pb、Po。
Sn、Biなどの金属および半金属を挙げることかてき
る。これらのうちで好ましいものはAn、Au、Crお
よびNiである。こわらの物質は単独て用いてもよいし
、あるいは二種以上の組合せてまたは合金として用いて
もよい。
る。これらのうちで好ましいものはAn、Au、Crお
よびNiである。こわらの物質は単独て用いてもよいし
、あるいは二種以上の組合せてまたは合金として用いて
もよい。
反射層は、たとえばト記九反射性物質を蒸着、スパッタ
リンクまたはイオンブレーテインクすることにより基板
の上に形成することかできる。反射層の層厚は一般には
100〜3000又の範囲にある。
リンクまたはイオンブレーテインクすることにより基板
の上に形成することかできる。反射層の層厚は一般には
100〜3000又の範囲にある。
また、反射層の上には、記録層などを物理的および化学
的に保護する目的で保護層か設けられてもよい。この保
護層は、基板の記録層か設けられていない側にも耐傷性
、耐湿性を高める目的で設けられてもよい。
的に保護する目的で保護層か設けられてもよい。この保
護層は、基板の記録層か設けられていない側にも耐傷性
、耐湿性を高める目的で設けられてもよい。
保護層に用いられる材料の例としては、5iO1Sin
2.MgF2.SnO□、5i3Na等の無機物質:熱
可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、UV硬化性樹脂等の有機物
質を挙げることができる。
2.MgF2.SnO□、5i3Na等の無機物質:熱
可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、UV硬化性樹脂等の有機物
質を挙げることができる。
保護層は、たとえばプラスチ・ンクの押出加工で得られ
たフィルムを接着層を介して記録層(または銀塩層ある
いは反射層)上および/または基板上にラミネートする
ことにより形成すること力)てきる。あるいは真空蒸着
、スパッタリング、塗布等の方法により設けられてもよ
い。また、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂の場合には、こ
れらを適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのち、こ
の塗布液を塗布し、乾燥することによっても形成するこ
とができる。UV硬化性樹脂の場合には、そのままもし
くは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのちこの塗
布液を塗布し、UV光を照射して硬化させることによっ
ても形成することができる。これらの塗布液中には、更
に帯電防止剤、酸化防止剤、UV吸収剤等の各種添加剤
を目的に応して添加してもよい。
たフィルムを接着層を介して記録層(または銀塩層ある
いは反射層)上および/または基板上にラミネートする
ことにより形成すること力)てきる。あるいは真空蒸着
、スパッタリング、塗布等の方法により設けられてもよ
い。また、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂の場合には、こ
れらを適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのち、こ
の塗布液を塗布し、乾燥することによっても形成するこ
とができる。UV硬化性樹脂の場合には、そのままもし
くは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのちこの塗
布液を塗布し、UV光を照射して硬化させることによっ
ても形成することができる。これらの塗布液中には、更
に帯電防止剤、酸化防止剤、UV吸収剤等の各種添加剤
を目的に応して添加してもよい。
保護層の層厚は一般には0.1〜100μmの範囲にあ
る。
る。
本発明において、情報記録媒体は上述した構成からなる
単板であってもよいが、あるいは更に上記構成を有する
二枚の基板を反射層が内側となるように向い合わせ、接
着剤等を用いて接合することにより、貼合せタイプの記
録媒体を製造することもてきる。
単板であってもよいが、あるいは更に上記構成を有する
二枚の基板を反射層が内側となるように向い合わせ、接
着剤等を用いて接合することにより、貼合せタイプの記
録媒体を製造することもてきる。
本発明か通用できる情報記録媒体としては、再生専用型
、追記(DRAW)梨、書換可能型、光磁気などが挙げ
られる。
、追記(DRAW)梨、書換可能型、光磁気などが挙げ
られる。
上記情報記録媒体への記録は、例えば千゛記のように行
なわれる。
なわれる。
ます、情報記録媒体を定線速度または定角速度て回転さ
せながら、半導体レーザー光なとの記録用の光を、基板
側から該プレグルーブのグループにレーザー光を照射し
てCDフォーマットのEFM信号なとの信号を、該グル
ープの記録層に挿々の形状変化(金属記録層の場合は記
録層にピット、色素記録層および反射層を有する場合は
色素記録層および反射層の界面に空洞、等)を形成する
ことにより記録する。一般に、記録光としては750〜
850nmの範囲の発振波長を有する半導体レーザービ
ームが用いられる。一般に1〜15mWのレーザーパワ
ーで記録される。
せながら、半導体レーザー光なとの記録用の光を、基板
側から該プレグルーブのグループにレーザー光を照射し
てCDフォーマットのEFM信号なとの信号を、該グル
ープの記録層に挿々の形状変化(金属記録層の場合は記
録層にピット、色素記録層および反射層を有する場合は
色素記録層および反射層の界面に空洞、等)を形成する
ことにより記録する。一般に、記録光としては750〜
850nmの範囲の発振波長を有する半導体レーザービ
ームが用いられる。一般に1〜15mWのレーザーパワ
ーで記録される。
記録に際しては、上記トラッキング用プレグルーブを用
いてプッシュプル法などによるトラツキンク制御か行な
われる。情報の記録は、プレグルーブのグループまたは
グループ間のラントに行なわわる。
いてプッシュプル法などによるトラツキンク制御か行な
われる。情報の記録は、プレグルーブのグループまたは
グループ間のラントに行なわわる。
情報の再生は、例えば記録媒体を上記と同一の定線速度
または定角速度で回転させなから半導体レーザーなとの
レーザー光を基板側から照射してその反射光を検出する
ことにより、3ビーム法などによるトラッキンク制御を
行ないなから情報を再生することかできる。
または定角速度で回転させなから半導体レーザーなとの
レーザー光を基板側から照射してその反射光を検出する
ことにより、3ビーム法などによるトラッキンク制御を
行ないなから情報を再生することかできる。
以下に、本発明の実施例を記載する。たたし、これらの
各側は本発明を制限するものてはない。
各側は本発明を制限するものてはない。
[実施例1]
L久2ハ辺並戎
高蹟度に研磨された外径250mmのガラス板上に、シ
ランカップリング剤(商品名: HNDS、富士ハント
エレクトロニクステクノロジー■製)をスピンコード法
により塗布乾燥し、その上にポジ型フォトレジスト(商
品名:AZ−1350、ヘキスト社製)をスピンコード
法により塗布乾燥して層厚900又のレジスト層を設け
た。
ランカップリング剤(商品名: HNDS、富士ハント
エレクトロニクステクノロジー■製)をスピンコード法
により塗布乾燥し、その上にポジ型フォトレジスト(商
品名:AZ−1350、ヘキスト社製)をスピンコード
法により塗布乾燥して層厚900又のレジスト層を設け
た。
80℃て30分の加熱処理後、カッティングマシンを用
いて記録ヘットをレジスト層を有するカラス原板(レジ
スト原板)の内周から外周方向に定速で移動させて、レ
ジスト原板を露光し、内径44mmから外径117mm
の範囲にグループの潜像を形成した。次いで、このレジ
スト原板を現像液(AZデイベロツバ−、ヘキスト社製
)を用いてスピンナーを用いて洗浄し、スパイラル状の
クループを形成した。こうして、外径250 m mの
光デイスク原板を作成した。
いて記録ヘットをレジスト層を有するカラス原板(レジ
スト原板)の内周から外周方向に定速で移動させて、レ
ジスト原板を露光し、内径44mmから外径117mm
の範囲にグループの潜像を形成した。次いで、このレジ
スト原板を現像液(AZデイベロツバ−、ヘキスト社製
)を用いてスピンナーを用いて洗浄し、スパイラル状の
クループを形成した。こうして、外径250 m mの
光デイスク原板を作成した。
得られた光デイスク原板上に、Niを2000λの層厚
に蒸着し、これを成長させることにより300μmの層
厚の電鋳層を形成した。
に蒸着し、これを成長させることにより300μmの層
厚の電鋳層を形成した。
電鋳層とフォトレジスト層をガラス原板から分離し、さ
らにフォトレジスト層を除去してスタンパである電鋳層
を得た。
らにフォトレジスト層を除去してスタンパである電鋳層
を得た。
上記スタンパの製造を繰り返し行ない、10枚のスタン
パを得た。
パを得た。
そして得られたスタンパについて、クループ形状の欠陥
の有無を目視て観察した。
の有無を目視て観察した。
評価は、欠陥が無い場合をAA、欠陥のある場合をCC
とした。上記欠陥としては、異物混入(レジスト液の異
物)、キズあるいはしみ(ウォーターマーク)の存在を
意味する。
とした。上記欠陥としては、異物混入(レジスト液の異
物)、キズあるいはしみ(ウォーターマーク)の存在を
意味する。
その結果を第1表に示す。
第1表
スタンパNo、! 2 3 4 5
6 7 8 9 10半径(mm
) 44〜50 AA 〜60 AA 〜70 AA 〜80 AA 〜90 AA 〜I 0OAA 〜ll0AA 〜117AA 上記結果より、半径120mmの光デイスク基板用のス
タンパとして使用できるのは6枚で収率60%であるか
、不良品四枚の内、N092と8は半径80mmより外
周側にのみ欠陥かあるので80mmの光デイスク基板製
造用のスタンパとして使用できる。従って、80mm光
デイスク用スタンパを含めるとスタンパの収率は80%
となる。
6 7 8 9 10半径(mm
) 44〜50 AA 〜60 AA 〜70 AA 〜80 AA 〜90 AA 〜I 0OAA 〜ll0AA 〜117AA 上記結果より、半径120mmの光デイスク基板用のス
タンパとして使用できるのは6枚で収率60%であるか
、不良品四枚の内、N092と8は半径80mmより外
周側にのみ欠陥かあるので80mmの光デイスク基板製
造用のスタンパとして使用できる。従って、80mm光
デイスク用スタンパを含めるとスタンパの収率は80%
となる。
下記の構造を有するシアニン系色素:
17重量部と下記の構造を有する色素(IRG−023
、日本化薬■製): 1.7重量部とを、2,2,3,3−テトラフロロ−1
−ブロハ)−/L/(構造式: HCF2CF2C:H
20H)150重量部に溶解して色素塗布液を調製した
。
、日本化薬■製): 1.7重量部とを、2,2,3,3−テトラフロロ−1
−ブロハ)−/L/(構造式: HCF2CF2C:H
20H)150重量部に溶解して色素塗布液を調製した
。
上記NO62のスタンパを用いてポリカーボネートを射
出成形することにより得られたトラッキングガイドが設
けられた円盤状のポリカーボネート基板(外径:80m
m、内径:15mm、厚さ:1.2mm、トラックピッ
チ、1.6μm・グループの深さ二800λ、グループ
領域:内径44mmから外周縁まで)上に、塗布液をス
ピンコード法により回転数20Orpmの速度で塗布し
た後、毎秒50回転つつ回転数を上げ16秒で1100
0rpにした後、−気に3000rpmにして最外周の
色素を振りきフて除去し、基板の外周縁からおよそ0.
5〜1mm内側のドーナツ状領域に外周側基板領域を確
保し、乾燥後の層厚か1300λの記録層を形成した。
出成形することにより得られたトラッキングガイドが設
けられた円盤状のポリカーボネート基板(外径:80m
m、内径:15mm、厚さ:1.2mm、トラックピッ
チ、1.6μm・グループの深さ二800λ、グループ
領域:内径44mmから外周縁まで)上に、塗布液をス
ピンコード法により回転数20Orpmの速度で塗布し
た後、毎秒50回転つつ回転数を上げ16秒で1100
0rpにした後、−気に3000rpmにして最外周の
色素を振りきフて除去し、基板の外周縁からおよそ0.
5〜1mm内側のドーナツ状領域に外周側基板領域を確
保し、乾燥後の層厚か1300λの記録層を形成した。
−Y記記録層上および記録層を越えて基板の外周縁まで
の領域にAuをスパッタリンクすることにより1000
Xの層厚の反射層を形成した。その際、内径84mm、
深さが基板の厚さの凹部を有する旧状の載置台に基板を
はめ込んで、基板の外周側面にAuか付着しないように
行なった。
の領域にAuをスパッタリンクすることにより1000
Xの層厚の反射層を形成した。その際、内径84mm、
深さが基板の厚さの凹部を有する旧状の載置台に基板を
はめ込んで、基板の外周側面にAuか付着しないように
行なった。
さらに反射層上および基板の外周側側面に、紫外線硬化
型樹脂(商品名:3070、■スリーボンド社製)をス
ピンコード法により回転数30゜rpmの速度で塗布し
た後、2500rpmでレヘリングさせ、乾燥後層厚か
2μmの保護層を形成した。
型樹脂(商品名:3070、■スリーボンド社製)をス
ピンコード法により回転数30゜rpmの速度で塗布し
た後、2500rpmでレヘリングさせ、乾燥後層厚か
2μmの保護層を形成した。
このようにして、基板、記録層、反射層および保護層か
らなる情報記録媒体を製造した(第3図参照)。
らなる情報記録媒体を製造した(第3図参照)。
上記No、8のスタンパについても、上記NO12のス
タンパを用いてポリカーボネート基板を作成した時と同
しように基板を作成し、さらに同様にして情報記録媒体
を製造した。
タンパを用いてポリカーボネート基板を作成した時と同
しように基板を作成し、さらに同様にして情報記録媒体
を製造した。
[情報記録媒体の評価]
ト記て得られた情報記録媒体を、波長780nmの半導
体レーザー光を使用して、定線速度2.3m7秒、記録
パワー7.0mWにて、変調周波数196kHz(デユ
ーティ−45%)の信号を記録した。そして記録された
信号を0. 5mWの再生パワーにて再生し、再生時の
C/Nを、スペクトルアナライザー(TR4135:ア
ドハンテスト社製)を用いて測定した。
体レーザー光を使用して、定線速度2.3m7秒、記録
パワー7.0mWにて、変調周波数196kHz(デユ
ーティ−45%)の信号を記録した。そして記録された
信号を0. 5mWの再生パワーにて再生し、再生時の
C/Nを、スペクトルアナライザー(TR4135:ア
ドハンテスト社製)を用いて測定した。
No、2およびNo、8のスタンパを用いて得られた二
枚の光ディスクは、上記の条件で記録した情報を再生す
ることができ、再生時のC/Nは共に50dBであった
。
枚の光ディスクは、上記の条件で記録した情報を再生す
ることができ、再生時のC/Nは共に50dBであった
。
第1図は、本発明の情報記録媒体の基本的構成を示す平
面図である。 第2図は、第1図のI−I断面図である。 第3図は、本発明の別の態様の情報記録媒体の基本的構
成を示す断面図である。 第4図は、従来の情報記録媒体の基本的構成を示す断面
図である。 第1図 孔部・10.2 円盤状基板:1 プレグルーブ: 記録層 13、 内周側基板領域 外周側基板領域 反射層=16 保護層=17 1 、21 12、22 : 14、24 = 15、25 第2図
面図である。 第2図は、第1図のI−I断面図である。 第3図は、本発明の別の態様の情報記録媒体の基本的構
成を示す断面図である。 第4図は、従来の情報記録媒体の基本的構成を示す断面
図である。 第1図 孔部・10.2 円盤状基板:1 プレグルーブ: 記録層 13、 内周側基板領域 外周側基板領域 反射層=16 保護層=17 1 、21 12、22 : 14、24 = 15、25 第2図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、中央に孔部を有し且つ表面にトラッキング用のプレ
グルーブを有する円盤状基板の該プレグルーブ上に、レ
ーザーにより情報の書き込みが可能な記録層が設けられ
てなる情報記録媒体において、 該プレグルーブが該基板の外周縁まで設けられているこ
とを特徴とする情報記録媒体。 2、該記録層が、色素からなる層であり、そして該記録
層上および該記録層を越えて基板上に反射層が設けられ
ていることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の情
報記録媒体。 3、中央に孔部を有する円盤状基板を、プレグルーブの
反転模様の外周直径が該基板の外径より大きいスタンパ
を用いて成形用樹脂を射出成形することにより、該プレ
グルーブが基板の外周縁まで設けられた円盤状基板を作
成し、次いで該円盤状基板のプレグルーブ上に、レーザ
ーにより情報の書き込みが可能な記録層を形成すること
からなる情報記録媒体の製造方法。 4、該記録層として、色素からなる層を形成し、そして
該記録層上および該記録層の外周縁を越えて基板上に反
射層を形成することを特徴とする特許請求の範囲第3項
記載の情報記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2114553A JPH0410247A (ja) | 1990-04-26 | 1990-04-26 | 情報記録媒体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2114553A JPH0410247A (ja) | 1990-04-26 | 1990-04-26 | 情報記録媒体およびその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0410247A true JPH0410247A (ja) | 1992-01-14 |
Family
ID=14640680
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2114553A Pending JPH0410247A (ja) | 1990-04-26 | 1990-04-26 | 情報記録媒体およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0410247A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012056616A1 (ja) * | 2010-10-25 | 2012-05-03 | パナソニック株式会社 | 光記録媒体の製造装置及び製造方法 |
-
1990
- 1990-04-26 JP JP2114553A patent/JPH0410247A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012056616A1 (ja) * | 2010-10-25 | 2012-05-03 | パナソニック株式会社 | 光記録媒体の製造装置及び製造方法 |
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