JPS61115235A - ポリエステルフイルム - Google Patents

ポリエステルフイルム

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JPS61115235A
JPS61115235A JP23683284A JP23683284A JPS61115235A JP S61115235 A JPS61115235 A JP S61115235A JP 23683284 A JP23683284 A JP 23683284A JP 23683284 A JP23683284 A JP 23683284A JP S61115235 A JPS61115235 A JP S61115235A
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JP
Japan
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film
refractive index
polyester film
magnetic recording
average refractive
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JP23683284A
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Seiji Sakamoto
坂本 征二
Yoshiki Sato
嘉記 佐藤
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Diafoil Co Ltd
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Diafoil Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産呈上立笠亙立互 本J!明は電子線硬化法により形成される磁性層との接
着性に優れたポリエステルフィルムに関する。更に詳し
くは電子線硬化性の樹脂組成物及び磁性粉末を支持体に
塗布し電子線を照射することにより1重合、硬化せしめ
磁気記録層を形成せしめるに際し、支持体として特定の
平均屈折率と面配向度を有するポリエステルフィルムを
使用することに関する。
1来11 現在、一般に広く使用されている磁気記録媒体。
、例えば磁気テープ、磁気ディスク、磁気カード等の製
造法は、溶剤に溶解させた塩酢ビ系樹脂、セルロ、−ス
樹脂、アセタール樹脂、ウレタン樹脂、アクリル系樹脂
等を結合剤とし、これらの溶液に磁性粉末を分散させた
組成物を支持体上に塗布し、熱風で乾燥させる方法であ
る。
この場合、得られた磁気記録媒体の磁性層の耐摩耗性の
欠如を補うため、上記熱可塑性樹脂に化学反応による架
橋性の結合剤、例えばイソシアネート化合物、エポキシ
化合物等を添加することが知られており、工業的に広く
用いられている。
しかしながら、これら架橋性の結合剤を用いると塗布組
成物の貯蔵安定性が悪い、また塗膜の硬化のために大規
模な熱処理工程を必要とし、熟成に長時間を要する等の
欠点を有することもまた良く知られている。
更にこのような方法を用いると、塗布、乾燥時揮発する
溶剤の回収に多大の労力を要し製品のコストを押し上げ
ることになる。
従ってこれらの欠点を防止するため、電子線による重合
が可能な炭素−炭素不飽和結合を有する化合物1例えば
アクリル酸誘導体の一種以上を結合剤として用い、乾燥
後に電子線照射によって重合、硬化せしめるいわゆる電
子線硬化法による磁気記録層の形成に関する検討が進め
られている。
例えば特公昭47−12423号、特開昭50−774
33号、特開昭57−127926号、特開昭57−1
30230号、特開昭57−130231号、特開昭5
8−35728号、特開昭59−58623号及び特開
昭59−129267号等にこれらに関する技術が開示
しである。
日が  しようとする目 しかしながらこの電子線硬化法による磁気記録層の形成
に際しても依然解消し得ない問題点の一つとして支持体
たるポリエステルフィルムとの接着性がある。即ち電子
線硬化法においても磁性粉末の結合剤として各種の有機
化合物を用いるが支持体との接着力は必ずしも充分では
なく、この点の改良が望まれている。
このための方法の一つとしてフィルム基材を予め紫外線
照射処理する技術が特開昭54−124709号に開示
しである。しかしながら、かかる前処理工程を付加する
と生産ラインが複雑になりコストも上昇するため、フィ
ルム固有の特性を変えることにより接着性の向上を計る
ことが望まれ、ていた。
−を  するための 本発明の目的は上記欠点を解消せしめ、電子線硬化法に
よる磁気記録層との接着性に優れたポリエステルフィル
ムを提供せんとするものである。
本発明者らはかかる支持体としてのポリエステルフィル
ムの特性、例えば弾性率や強度、含有される滑り剤の種
類と量、これらに基く表面粗度、ジエチレングリコール
結合やカルボキシル基含量、結晶化度、3次元の各方向
における屈折率等の各因子と磁気記録層との間の接着力
について鋭意検討を重ねた結果、フィルムの平均屈折率
、面配向度、更にはカルボキシル基含量が該接着力に強
い影響を与えることを知見し、本発明を完成するに至っ
た。
すなわち本発明は片面又は両面に電子線硬化性の樹脂組
成物及び磁性粉末を塗布し電子線を照射することにより
1重合、硬化せしめ磁気記録層を積層せしめる磁気記録
媒体の支持体であって、その平均屈折重石と面配向度Δ
Pが下記式(1)、(2)を満足することを特徴とする
二軸延伸ポリエステルフィルムに関するものである。
n≧1.soo     −−−−−−(1)ΔP≦1
.43・’n−2,128,,,(2)本発明でいう電
子線硬化性の樹脂組成物の好適な例は、分子の末端また
は側鎖に炭素−炭素不飽和結合を1個以上有する比較的
低分子量の化合物であり、具体的には次のような化合物
を挙げることができる。
(1)不飽和ポリエステルオリゴマm:例えば無水マレ
イン酸、無水テトラヒドロフタル酸等とジエチレングリ
コール、1,1.1−トリメチロールプロパン等との反
応により得られる樹脂組成物。
(2)ポリエステルアクリレート:二塩基酸、三塩基酸
とグリコール類との反応により得られる繰り返し単位が
2〜30程度の末端ヒドロキシル基を有するポリエステ
ルオリゴマーとアクリル酸、メタクリル酸との反応生成
物。
例えば、アジピン酸−1,6ヘキサンジオールーアクリ
ル酸、無水フタル酸−プロピレンオキサイド−アクリル
酸、トリメリット酸−ジエチレングリコール−アクリル
酸等の組み合せにより得られる樹脂組成物。
(3)エポキシアクリレート:エポキシ樹脂の末端をア
クリロイル化した化合物。
例えば多価アルコールあるいはビスフェノールAなどの
ヒドロキシル基含有化合物とエピクロルヒドリンとから
誘導されるポリグリシジルエーテル類、多価カルボン酸
とエピクロルヒドリンとから誘導されるポリグリシジル
エステル類を挙げることができる。
(4)ウレタンアクリレート:ポリイソシアネート化合
物とヒドロキシル基を有するアクリレートまたはメタク
リレートとを反応させて得られる化合物。
例えばトリレンジイソシアネートと2−ヒドロジエチル
アクリレートとの反応生成物。
(5)アクリレートモノマ一二ボリマー、オリゴマーの
架橋剤、粘度調節剤として主に用いられるアクリル酸、
メタクリル酸の誘導体。
例えば、2−エチルへキシルアクリレート、2−ヒドロ
キシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアク
リレート、2−ヒドロキシエチルアクリロイルホスフェ
ート、1,3−ブタンジオールジアクリレート、1,4
−ブタンジオールジアクリレート、1,6−ヘキサンジ
オールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリ
レート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ポリ
エチレングリコールジアクリレート、テトラヒドロフル
フリルアクリレート等を挙げることができる。
もちろんこれらアクリル酸誘導体をメタクリル酸誘導体
に置き換えて用いることもできる。
本発明においては結合剤の主たる構成成分としてこれら
電子線硬化性の樹脂組成物を用いるが、塗膜の物理的性
能を調節するため、組成物に更に適宜電子線硬化性の無
い、あるいは乏しい熱可塑性樹脂を混合することもでき
る。
また塗膜の物性と組成物の粘度とのバランスをとるため
、必要に応じ、通常の有機溶媒1例えばアセトン、メチ
ルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキ
サノン、メタノール、エタノール、イソプロパツール、
ブタノール、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメチ
ルホルムアミド、トルエン、キシレン等を併用すること
もできる。
もちろん塗布組成物にはこれらの樹脂組成物、溶剤の他
に磁性粉末が含まれるが、更に帯電防止剤1分散剤、研
磨剤等が含まれていても良い。
本発明においては支持体たるポリエステルフィルムの片
面又は両面にこれら電子線硬化性の樹脂及び磁性粉末を
含む組成物を塗布し電子線を照射することにより、塗膜
を硬化させる。
照射する電子線としては、電子線の他、中性子線、?線
等の電離放射線が使用できるが、工業的には電子線が望
ましい、照射に電子線加速器を用いる場合は加速電圧を
100〜100OKV、好ましくは150〜400KV
とするのが良い、また吸収線量としては0.3〜20メ
ガラツド、好ましくは1〜10メガランドとするのが良
い。
本発明の特徴はかかる電子線硬化法による磁気記録層の
形成に際し、支持体のポリエステルフィルムとして、あ
る特定の平均屈折率と面配向度を有する二軸延伸ポリエ
ステルフィルムを用いることにある。
以下1本発明の構成についてより詳しく説明する。
まず本発明における平均屈折率ミとは、厚み方向の屈折
率をnl  、主配向方向の屈折率を叶 。
主配向方向と直角な方向の屈折率をnl  とすると、
次式で与えられる。
n=1  (nl  +nf+nt) また面配向度ΔPは上記のn(1、np 、 nr を
用いて、 ΔP=n  +n、  −n凍 で与えられる。
本発明におけるポリエステルフィルムとは、エチレンテ
レフタレート単位を80モル%以上有する二軸延伸ポリ
エステルフィルムをその対象とするが、該フィルムの平
均屈折率は1.600以上、好ましくは1.605以上
であることが必要である。この値が1.600に満たな
い場合には、磁性層塗布後の電子線照射時、あるいは多
少の溶剤を併用する場合は乾燥時においても収縮を起こ
し好ましくない、またカレンダリング工程を経る場合に
はここでも熱負けが起り易く品質の劣るものとなってし
まう。平均屈折率の上限は特に制限は無いが、あまり高
いとフィルムの機械的強度が劣るようになり、またフィ
ルム表面が脆くなるので、通常この値は1.620まで
に留めておくのが良い。
一方、面配向度ΔPと平均屈折重石とは次の関係を満足
しなければならない。
ΔP≦1.43・五−2,128・・・(2)通常、二
軸延伸ポリエステルフィルムはポリエステルを常法で溶
融押し出しした後、逐次又は同時二軸延伸を行ない、更
に必要に応じ再度、縦又は横方向に延伸を行なった後1
30〜240’Cの温度で熱固定することによって得ら
れるが、式(2)を満足するポリエステルフィルムは通
常工業的に採られている延伸条件では達成することがで
きず、特殊な条件を採る必要がある。その−例を挙げる
と、例えば縦−横逐次二軸延伸においては、縦延伸温度
を通常の延伸温度よりも5〜30℃高い100−120
℃程度とするか、あるいは熱固定前、熱固定後に大幅な
縦、又は横あるいは双方の弛緩を行なう事によって得る
事ができる。
もちろんこれらの方法を採用した場合に、その全てが本
発明の平均屈折率と面配向度の要件を満す訳ではなく、
しかも製膜機の条件1例えば製膜速度や延伸幅、あるい
はポリエステル原料に基く条件、例えば触媒や添加助剤
の多寡、結晶化速度等によってこれらの値は左右される
ので1本R+!1gにおいてはこれらの条件を適宜選択
することにより本発明の条件を満たさなければならない
本発明の効果を最大限に発揮するためには、これら2つ
の要件に加えて更に支持体たるポリエステルフィルムの
末端カルボキシル基量が35当量/トン以上、就中40
当量/トン以上であることが好ましい。
カルボキシル基の量は例えばA、Con1xの方法(M
akromol、chem、、26,226 (195
8))  により求めることができるが、この値が35
当量/トン以上である時、電子線により硬化させた磁気
記録層との接着性が一段と優れたものとなる。
座m但1呆 本発明の特徴は上述したように、支持体としである特定
の平均屈折率と面配向度、好ましくは更に特定量のカル
ボキシル基を有するポリエステルフィルムを用いる点に
あるが、かかるフィルムは電子線架橋法による磁気記録
層との接着性に優れるという顕著な効果を有する。
叉嵐■ 次に実施例及び比較例に基いて本発明を更に詳細に説明
するが、本発明はこれらに限定されるものでない。
1 び比  1 まず次のようにして磁性粉を含有する塗布組成物を得た
。即ち、カプロラクトンポリオールとイソホロンジイソ
シアネートとの反応生成物に2−ヒドロキシエチルアク
リレートを反応させて得られたウレタンアクリレート4
2部、テトラエチレングリコールジアクリレート13部
、ウレタン樹脂25部、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合
体15部及びレシチン5部から成る樹脂組成物100部
とメチルエチルケトン900部、7−酸化第二鉄340
部とをボールミルを用いて24時間混練し粘稠な分散体
組成物を得た。
一方9通常採られている方法の一つに基き二軸延伸ポリ
エステルフィルムを得た。即ち末端カルボキシル基濃度
が32当量/トンであるポリエチレンテレフタレートを
285℃で溶融押出した後、縦方向に84℃で3.5倍
、次いで横方向に107℃で3.5倍延伸し220℃で
3秒間熱処理を行なった後、冷却して厚み15戸の二軸
延伸フィルムを得た。
該フィルムの屈折率を測定したところ、n4、n?、叶
はそれぞれ1.4885.1.6495.1.6753
であった。従って該フィルムの平均屈折率は1.604
4.面配向度は0.1739となる。
次に該フィルムに前記分散体組成物を乾燥膜厚8Pとな
るように塗布した。塗膜から予備乾燥によりメチルエチ
ルケトンを除去後、加速電圧180KV、ビーム電流9
mAの電子線加速器を用い、10メガラツドの吸収線量
になるように電子線を照射し、塗膜を硬化させた。
この様にして得られた磁気記録媒体を1/2インチにス
リットし、180°テープ剥離法により支持体と磁気記
録層との間の接着力を測定したところ10gであり不満
足な値であった(比較例1)。
比較例1と同じポリエステル原料を用い、縦方向の延伸
温度を107℃とする他は比較例1と同様にしてポリエ
ステルフィルムを得た。
得られたフィルムの物性及び該フィルムに比較例1と同
様にして磁性塗膜を形成させ接着力を測定した(実施例
1)結果を第1表に示す。
2 び比  2 末端カルボキシル基濃度が40当量/トンであるポリエ
チレンテレフタレートを用いて実施例1と同様にして、
即ち縦方向に107℃で3.5倍、次いで横方向に10
7℃で3.5倍延伸し220℃で3秒間熱処理して厚さ
15.−の二軸延伸フィルムを得た。
次に比較例1と同様にして該フィルムに磁性塗膜を形成
させ接着力を測定した(実施例2)。結果を第1宕に示
すが、実施例1と比べれば明らかなように、平均屈折率
及び面配向度が同等であっでも、カルボキシル基濃度が
より高いフィルムを用いた場合は本発明の効果がより顕
著に発揮されることか判る。
次に実施例2で用いたポリエチレンテレフタレートを原
料とし、比較例1と同様にして二軸延伸フィルムを得た
。但し、この場合熱処理条件を190℃、5秒間とした
得られたフィルムに比較例1と同様にして磁性塗膜を形
成させ接着力を測定した(比較例2)。
結果を第1表に示す。
なお1本発明で用いる各物性の測定法は次のとおりであ
る。
l立憲 アツベの屈折計(株式会社アタゴ製)を用いて25・。
ic ’CN a −D線、2対す、測定値、ある。 
     1フイルムの屈折率はフィルム中央部におい
てそれぞれ3方向の屈折率を測定し、 nr:フィルムの主配向方向の屈折重 り :フィルムの主配向方向と直角な方向の屈折率 −二フィルムの厚み方向の屈折率 平均屈折率i及び面配向度ΔPは次式に従って求めたも
のである。
R=1 / 3 (na  + np  + nr)Δ
P=鴨 +nrn拭 カルボキシル基 ポリエチレンテレフタレート0.1gを採り加熱ベンジ
ルアルコールに溶解させた後クロロホルムを加え、マイ
クロビユレットを用い1/10規定の水酸化ナトリウム
/メタノール溶液で滴定を行なった。
第   1   表

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)片面又は両面に電子線硬化性の樹脂組成物及び磁
    性粉末を塗布し電子線を照射することにより、重合、硬
    化せしめ磁気記録層を積層せしめる磁気記録媒体の支持
    体であって、その平均屈折率@n@と面配向度ΔPが下
    記式(1)、(2)を満足することを特徴とするポリエ
    ステルフィルム。 @n@≧1.600・・・・・(1) ΔP≦1.43・@n@−2.128・・・(2)(2
    )末端カルボキシル基濃度が35当量/トン以上である
    ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載のポリエス
    テルフィルム。
JP59236832A 1984-11-12 1984-11-12 ポリエステルフィルム Expired - Lifetime JPH0670851B2 (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005103113A1 (de) * 2004-04-15 2005-11-03 Lanxess Deutschland Gmbh Strahlenvernetzbare polyesterformmassen mit ungesättigten dicarbonsäuren

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5823323A (ja) * 1981-07-31 1983-02-12 Diafoil Co Ltd 磁気テ−プ用ポリエステルフイルム

Patent Citations (1)

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