JPS61114775A - 均一塗膜の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、塗料を基材に塗布し均一塗膜を得るための製
造方法に関するものである。実例として磁気テープ、フ
ロッピー・ディスク等の塗布型磁気記録媒体等の製造に
利用できる。

従来の技術 従来から、均一塗膜の人造方法として、グラビア方式、
リバース方式などがある。それぞれの方式について、図
面を参照し、その構造について説明をする。

第２図は、グラビア方式の概略図を示したものである。

塗布量に応じて表面を所定の形状に彫刻したグラビア・
ロール１に、塗料供給部２で塗料が供給され、ブレード
３により彫刻分の塗料に規制される。これら一連の動き
はグラビア・ロール１の回転に伴ない行われる。

次に、基材５を走行方向と同じ方向に回転するグラビア
ロール１にゴムロール４により押しつけ、塗料を基材５
に転写させる。彫刻模様に転写された塗料は、スムーザ
−６により、表面が平滑に仕上げられ、均一な塗膜が得
られる。

第３図は、リバース方式の概略図を示したものである。

グラビア方式と同一箇所には同一の番号を付けている。

平滑な表面のアプリケーター・ロール８に、塗料供給部
２で塗料を供給する。同様に平滑な表面のメタリノグ・
ロール９を、塗布量に応じた所定のすき間をあけて、す
き間部におけるロール表面が逆方向になる様にアプリケ
ーター・ロール８とメタリング・ロール９を回転させる
ことにより、アプリケーター・ロール８に付着する塗料
を、所定量に規制するとともに、平滑な表面にする。基
材５をゴムロール４により、基材の走行方向と逆方向に
回転するアプリケーター・ロール８に押しつけ、塗料を
基材５に転写させることによシ、平滑で均一な塗膜が得
られる。メタリング・ロール９に付着した塗料は、ブレ
ード３でかき取られ、メタリング・ロール９の表面は、
常に平滑に保たれている。

発明が解決しようとする問題点 上述したグラビア方式とリバース方式について、それぞ
れの特徴と問題点について説明する。

まず、グラビア方式は、グラビア・ロール１の表面に彫
刻する形状によシ塗布量が決まるので、均一な塗膜を容
易に得ることができ、また設備も比較的安価で、大型化
の対応もできる反面、基材６がゴム・ロール４によシグ
ラビア・ロール１に押しつけられているため、基材６が
彫刻部にくい込み、そのために、彫刻部の塗料か押し出
されて、第２図に示したように、塗料転写部であるニッ
プ部８の手前に塗料溜り７ができる。溜った塗料は、ニ
ップ部８の両端部に移動し、ニップ部８の両端部では、
基材６がグラビア・ロール１から離れる時に、塗料の飛
散が起こるとともに局部的に多量の塗料が塗布された状
態になりているため、そのまま基材を巻取ると、その部
分が盛り上り、基材５の変形が起き、後工程での走行不
良、カレンダー不良等の問題か発生する。そこで、必ず
両端処理を行う必要がある。

また、塗布速度を速くしていくと、これらの現象は、さ
らに顕著になり、塗料溜り７は増長され、波打ち・飛散
が激しくなる。また、ニップ部８両端部でも、塗料分離
速度が速くなるため、塗料の飛散が敞しく、飛沫が基材
６の塗布面および裏面に耐着するなどして塗布が難しく
なる。そこで、磁気記録媒体のグラビア方式による塗布
は、約２００１分以上では均一で平滑な塗膜を得ること
が非常に難しい。

次に、リバース方式は、基材６の走行方向とアプリケー
ター・ロール９の回転方向が逆方向であるので、グラビ
ア方式の問題点であった塗料溜り、塗料の飛散がなく、
両端の盛シ上シもないため、両端処理をすることなく巻
取ることができ、高速塗布においても、同様に均一で平
滑な塗膜を得ることができる反面、塗布量がアプリケー
ター・ロール９とメタリング・ロール１Ｑのすき間で決
まるので、均一な塗布を行うためには、両ロール９゜１
ｏの円筒度、真円度・表面性等の精度、軸受や機械の精
度、振動などについて、非常に高精度な加工・設計・保
全が要求される。このような点から、設備は高価であシ
、大型化が難しい。

問題点を解決するための手段 上記問題点を解決するために本発明は、グラビアロール
の回転方向と逆方向に走行している基材をゴムロールで
前記グラビアロールに押しあて、彫刻部の塗料を基材に
転写させ、その後スムーザ処理を行うものである。

作用 本発明は上記構成によシ、グラビア・ロールを基材の走
行方向と逆方向に回転させるため、ゴムロールで押しつ
けられて彫刻部から押し出された塗料は、基材に転写さ
れて移動する。従ってグラビア方式で問題となった塗料
溜りは非常に少なくなり、高速塗布においても安定した
状態を保ち、塗料の飛散も起らない。また両端処理をす
ることなく塗布された基材を巻取ることができる。更に
塗布量の均一性については、グラビアロールの彫刻形状
で決まるので、リバース方式はどの各種精度か要求され
ない。そのため設備も比較的安価で大型化も可能である
。

実施例 以下、本発明の一実施例を第１図の図面にもとづいて説
明する。

第１図において、１け表面に彫刻をしたグラビアロール
で、グラビアロール１の下方に塗料供給部２かある。３
はブレードであり、グラビアロール１に付澹しまた塗料
の量を規制する。４はゴムロールであり、基材５をグラ
ビアロール１に押シツけることにより塗料を基材５に転
写させている。

ｅｌｄ、スムーザであり、基材６に付着した塗料の表面
を平滑に仕上げる。

次にこの一実施例の構成における作用を説明する。先ず
グラビアロール１は回転しなから塗料供給部２を通過す
ることによシ表面に塗料を付着させる。塗料の付着量は
グラビアロール１の表面の彫刻形状及び塗料の種類によ
って決定される。塗料の付着したグラビアロール１は回
転を続けることによシブレード３の部分を通過する。こ
の時プレード３がグラビアロール１に近接しているため
グラビアロール１の外周よシ盛り上りて付着している塗
料はブレード３によりかき落とされる。従って、ブレー
ド３を通過したグラビアロール１の表面は塗料が均一に
付着している。次にゴムロール４によシ基材５をグラビ
アロール１に押しつけるかグラビアロール１表面にはす
でに均一に塗料が付着している。ゴムロール４によシ基
材５を押しつけられたグラビアロール１から、塗料が基
材５に転写するとともに若干塗料がはみ出すが基材６の
進向方向がグラビアロール１の回転方向と逆であるため
、はみ出した塗料も基材５に転写されて運ばれていく。

次にスムーザ−６によシ基材５に転写した塗料か平滑化
されて均一になる。

以上の説明でわかる様に塗料はグラビアロール１の彫刻
部で決まるので塗布量は均一になる。また基材６とグラ
ビアロール１の進行方向か逆であるため、塗料ｍシが発
生することはなく、従って塗料が飛散したり、塗布部の
両端が盛り上ることもないので、塗布部の両端に処理を
することもなく巻取ることかできる。その上塗布速度を
早くしても塗料の飛散が発生しない。

発明の効果 以上のように本発明は、表面を所定の形状に彫刻したグ
ラビアロールを、基材の進行方向と逆方向に回転させる
ことにより、基材に均一かつ高速に塗料を塗布すること
ができ、その実用的効果は大なるものである。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例における均一塗膜の製造方法
の概略図、第２図は従来の均一塗膜の製造方法であるグ
ラビア方式の概略図、第３図は従来の均一塗膜の製造方
法であるリバース方式の概略図である。 １・・・・・・グラビア・ローノペ２・・・・・・塗料
供給部、４・・・・・ゴム・ロール、６・・・・・・ｆ
、材、　６・・・・・・スムーザ−０ 代理人の氏名　弁理士　中　尾　敏　男　ほか１名第１
図 第２図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 所定の形状に彫刻したグラビア・ロールに塗料を供給し
   、彫刻分の所定量に規制したのちに、グラビア・ロール
   の回転方向と逆方向に走行している基材をゴムロールで
   押しあてて彫刻部の塗料を基材に転写させ、その後スム
   ーザー処理を行い均一で平滑な塗膜を得ることを特徴と
   する均一塗膜の製造方法。