JPS6094735A - 基板縦型搬送装置 - Google Patents
基板縦型搬送装置Info
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- JPS6094735A JPS6094735A JP58200914A JP20091483A JPS6094735A JP S6094735 A JPS6094735 A JP S6094735A JP 58200914 A JP58200914 A JP 58200914A JP 20091483 A JP20091483 A JP 20091483A JP S6094735 A JPS6094735 A JP S6094735A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分舒〕
本発明は、基板縦型搬送装置に関するものである。
ドライプロセスにて基板な処理する半導体製造装置では
、基板載置面を上面として略水平に設置された試料台に
基板を載１保持して処理する装置が一般的であるが、中
には、基板載置面が略垂直の試料台優こ基板な載置保持
して処理する装置がある。
、基板載置面を上面として略水平に設置された試料台に
基板を載１保持して処理する装置が一般的であるが、中
には、基板載置面が略垂直の試料台優こ基板な載置保持
して処理する装置がある。
このような半導体製造装置では、被処理面を上面として
略水平に保持された基板を水平位置と垂直位置との間で
回動させて搬送（以下、縦型搬送と略）する基板搬送装
置、すなわち基板縦型搬送装置が使用されている。
略水平に保持された基板を水平位置と垂直位置との間で
回動させて搬送（以下、縦型搬送と略）する基板搬送装
置、すなわち基板縦型搬送装置が使用されている。
従来の基板縦型搬送装置としては、例えば、特開昭５７
−４１３６９号公報に示されているようなものがある。
−４１３６９号公報に示されているようなものがある。
即ち、試料台（この場合は、第１の立上げアーム）が水
平位置と垂直位置との間で試料台が垂直位置にある場合
、その下端を支点と甑 して回動するように、かつ、！斜台が垂直位置にある場
合、試料台の基板載置面と電極（二の場合は、スパッタ
電極）とが適正間隔で対向するように設けられている。
平位置と垂直位置との間で試料台が垂直位置にある場合
、その下端を支点と甑 して回動するように、かつ、！斜台が垂直位置にある場
合、試料台の基板載置面と電極（二の場合は、スパッタ
電極）とが適正間隔で対向するように設けられている。
まず、試料台は基板載置面を上面として略水平にセット
され、基板は、被処理面を上面として略水平に搬送され
保持される。その後、この基板は、その下面を試料台に
すくわれ、試料台を水平位置から垂直方向に略９０度回
転させることで垂直に起立させられる。この状態で基板
は処理され、その後、試料台を垂直位置から水平位置：
ユ略９０度回転させることで元の状態に戻される。その
後、基板は試料台から取除かれ処理された面を上面とし
て略水平に他の場所へ搬送される０ このような基板縦型搬送装置では次のような欠点かあっ
た。
され、基板は、被処理面を上面として略水平に搬送され
保持される。その後、この基板は、その下面を試料台に
すくわれ、試料台を水平位置から垂直方向に略９０度回
転させることで垂直に起立させられる。この状態で基板
は処理され、その後、試料台を垂直位置から水平位置：
ユ略９０度回転させることで元の状態に戻される。その
後、基板は試料台から取除かれ処理された面を上面とし
て略水平に他の場所へ搬送される０ このような基板縦型搬送装置では次のような欠点かあっ
た。
（１） 真空処理室に複数個の電極が配設され、基板な
載置保持した状態で試料台が真空処理室内を電極に対向
する位置に順次移動するタイプの半導体製造袋！（以下
、連続処理装置と略）では、基板縦型搬送装置を真空処
理室内で移動可能に設ける必要があるため、装置の構造
が複雑化し大型化する。
載置保持した状態で試料台が真空処理室内を電極に対向
する位置に順次移動するタイプの半導体製造袋！（以下
、連続処理装置と略）では、基板縦型搬送装置を真空処
理室内で移動可能に設ける必要があるため、装置の構造
が複雑化し大型化する。
（２） 温度制御が要求される試料台では、試料台と温
度制御装置との取合いが複雑化する。
度制御装置との取合いが複雑化する。
本発明の目的は、基板の縦型搬送と真空処理室内での試
料台の移動とを分離して行うことで、連続処理装置の構
造を簡単化でき小型化できる基板縦型搬送装置を提供す
ることにある。
料台の移動とを分離して行うことで、連続処理装置の構
造を簡単化でき小型化できる基板縦型搬送装置を提供す
ることにある。
本発明は、被処理面を１−面として略水平に保持された
基板を被処理面側から保持する基板ホルダと、該ホルダ
の基板保持側面を水平位置と垂直位置との間で回動させ
るホルダ回動装置と、該装置で垂酊位醒に回動させられ
た基板ホルダの基板保持側面を真空処理室に縦型で移動
可能に内設された試料台の基板載置面に対向させるホル
ダ対向装し 置と、該装置で対向させられた位置〆試料台との間で基
板ホルダを往復動させるホルダ往復動装置して行えるよ
うに１ノたものである、 〔発明の実施例〕 本発明の一実施例を第１図、＄２図により説明・ ３
・ する。
基板を被処理面側から保持する基板ホルダと、該ホルダ
の基板保持側面を水平位置と垂直位置との間で回動させ
るホルダ回動装置と、該装置で垂酊位醒に回動させられ
た基板ホルダの基板保持側面を真空処理室に縦型で移動
可能に内設された試料台の基板載置面に対向させるホル
ダ対向装し 置と、該装置で対向させられた位置〆試料台との間で基
板ホルダを往復動させるホルダ往復動装置して行えるよ
うに１ノたものである、 〔発明の実施例〕 本発明の一実施例を第１図、＄２図により説明・ ３
・ する。
第１図、＠２図で、基板縦型搬送装置は、被処理面を上
面として略水平に保持された基板１０を被処理面側から
保持する基板ホルダ加と、基板ホルダせられた基板ホル
ダ加の基板保持側面を真空処理室４０に縦型で移動可能
に内設された試料台（資）の基板載置面に対向させるホ
ルダ対向装［６０と、ホルダ対向装置ωで対向させられ
た位置と試料合印との間で基板ホルダ２０ヲ往復動させ
るホルダ往復動装置７０とで構成され、この場合、真空
処理室内外の大気側に設置されている。
面として略水平に保持された基板１０を被処理面側から
保持する基板ホルダ加と、基板ホルダせられた基板ホル
ダ加の基板保持側面を真空処理室４０に縦型で移動可能
に内設された試料台（資）の基板載置面に対向させるホ
ルダ対向装［６０と、ホルダ対向装置ωで対向させられ
た位置と試料合印との間で基板ホルダ２０ヲ往復動させ
るホルダ往復動装置７０とで構成され、この場合、真空
処理室内外の大気側に設置されている。
基板ホルダ加は、この場合、ホルダ本体２１と爪ρとバ
ネＺ３ａ、２３ｂとコロ冴とロープ５とプーリ２６ａ、
２６ｂとソレノイド苔とで構成されている０成される。
ネＺ３ａ、２３ｂとコロ冴とロープ５とプーリ２６ａ、
２６ｂとソレノイド苔とで構成されている０成される。
なお、ホルダ対向装［６０、ホルダ往復動装置１ｉ７０
は、この場合シリンダである。
は、この場合シリンダである。
、４
架台８０には、ソレノイドｎとパルスモータ３１とが載
置して配設され、ソレノイドｎと対応する位置には、軸
８１が回動自在に設けられている。軸８１にはプーリ２
６ａと固定具あとが固定して設けられると共に、パルス
モータ３１のプーリ３２ａと対応した位置には、ブー１
３２ ｂが固定して設けられている。固定具Ｍには、ホ
ルダ本体２１が設けられ、ホルダ本体２１の基板保持側
面には、爪ｎが、この場合、４個適正間隔で配設されて
いる。爪ｎには、爪２２を閉じる方向にバネ力を付与す
るようにバネ２３ａが設けられ、ロープ５の一端が連結
されている。ロープ５は、コロ冴に巻回された後にホル
ダ本体２１の基板保持側反対面の中央で合流連結されプ
ーリ２６ａとソレノイドｎのバネ２３ｂが環装された軸
端に回動自在に設けられたブーＩＩ ２６ ｂとの一部
に巻回された後にブーＱ ２６ ａに他端が固定されて
いる。架台曲の下面には、ホルダ対向装置ｉ！６０のロ
ッド６１が設けられると共に支持具８２１に介してホル
ダ往復動装置ｊ７０のロッド７１が設けられている◎ま
た、プーリ３２ａ、３２ｂには、ロープ部が無端に巻掛
けられている。
置して配設され、ソレノイドｎと対応する位置には、軸
８１が回動自在に設けられている。軸８１にはプーリ２
６ａと固定具あとが固定して設けられると共に、パルス
モータ３１のプーリ３２ａと対応した位置には、ブー１
３２ ｂが固定して設けられている。固定具Ｍには、ホ
ルダ本体２１が設けられ、ホルダ本体２１の基板保持側
面には、爪ｎが、この場合、４個適正間隔で配設されて
いる。爪ｎには、爪２２を閉じる方向にバネ力を付与す
るようにバネ２３ａが設けられ、ロープ５の一端が連結
されている。ロープ５は、コロ冴に巻回された後にホル
ダ本体２１の基板保持側反対面の中央で合流連結されプ
ーリ２６ａとソレノイドｎのバネ２３ｂが環装された軸
端に回動自在に設けられたブーＩＩ ２６ ｂとの一部
に巻回された後にブーＱ ２６ ａに他端が固定されて
いる。架台曲の下面には、ホルダ対向装置ｉ！６０のロ
ッド６１が設けられると共に支持具８２１に介してホル
ダ往復動装置ｊ７０のロッド７１が設けられている◎ま
た、プーリ３２ａ、３２ｂには、ロープ部が無端に巻掛
けられている。
基板１０は、例えば、被処理面を上面として略水平に公
知の搬送装置（図示省略）で所定位置まで搬送されてき
た後、この状態で保持される。基板ホルダ加は、ホルダ
回動装置（資）によりホルダ本体２１の基板保持面側を
下向きに水平位置となされ、ホルダ往復動装置７０によ
り基板１０と対応した位置にセットされる。ソレノイド
ｎを引くことで爪部は、ロープ２５を介しバネ２３ａの
バネ力に抗して開かれ、この状態でホルダ対向装置６０
を駆動し架台間を下降することで、被処理面を上面とし
て略水平に保持された基板１０を把持可能な位置まで下
降させられる。その後、ソレノイドｎを戻すことで爪ｎ
は、バネ２３ａのバネ力により閉じられ、その結果基板
１０は爪〃に把持される。この状態で基板ホルダ加はホ
ルダ対向装置６０を駆動し架台８０を上昇することで上
昇させられ、その後、パルスモータ３１をこの場合、反
時計回り方向に回転駆動し固定具３４を反時計回り方向
に略９０度回転させることで水平位置から垂直位置に回
動させられる。その後、ホルダ対向装置６０を駆動し架
台８０を、この場合は、更に上昇することで爪ｎに把持
された基板ｌＯが試料台５００基板載置面に対応する位
置まで基板ホルダ加は上昇させられる。この状態で、基
板１０の彼処Ｍ１１面の反対面と試料台５０の基板載置
面は対向する。その後、ホルダ往復動装置７０を駆動し
架台８０を真空処理室４０側へ移動させることで、爪４
に把持され起立させらｊ５た基板１０は、開放している
真空大気間ゲー１−４１を介して大気側から真空処理室
４０内に搬入されて試料合印の基板載置面に載置保持さ
れる。基板１０を試料台５０に渡した基板ホルダ加は、
その後、ホルダ往復動装置７０を駆動し架台８０４大気
側へ移動させる二とで開放している真空大気間ゲー １
・４１を介して真空処理室４０外へ出されて元の位置に
待機させられる。この間、真空大気間ゲート４１は閉止
され真空処理室内は所定田力まで真空ｔｉ１気される。
知の搬送装置（図示省略）で所定位置まで搬送されてき
た後、この状態で保持される。基板ホルダ加は、ホルダ
回動装置（資）によりホルダ本体２１の基板保持面側を
下向きに水平位置となされ、ホルダ往復動装置７０によ
り基板１０と対応した位置にセットされる。ソレノイド
ｎを引くことで爪部は、ロープ２５を介しバネ２３ａの
バネ力に抗して開かれ、この状態でホルダ対向装置６０
を駆動し架台間を下降することで、被処理面を上面とし
て略水平に保持された基板１０を把持可能な位置まで下
降させられる。その後、ソレノイドｎを戻すことで爪ｎ
は、バネ２３ａのバネ力により閉じられ、その結果基板
１０は爪〃に把持される。この状態で基板ホルダ加はホ
ルダ対向装置６０を駆動し架台８０を上昇することで上
昇させられ、その後、パルスモータ３１をこの場合、反
時計回り方向に回転駆動し固定具３４を反時計回り方向
に略９０度回転させることで水平位置から垂直位置に回
動させられる。その後、ホルダ対向装置６０を駆動し架
台８０を、この場合は、更に上昇することで爪ｎに把持
された基板ｌＯが試料台５００基板載置面に対応する位
置まで基板ホルダ加は上昇させられる。この状態で、基
板１０の彼処Ｍ１１面の反対面と試料台５０の基板載置
面は対向する。その後、ホルダ往復動装置７０を駆動し
架台８０を真空処理室４０側へ移動させることで、爪４
に把持され起立させらｊ５た基板１０は、開放している
真空大気間ゲー１−４１を介して大気側から真空処理室
４０内に搬入されて試料合印の基板載置面に載置保持さ
れる。基板１０を試料台５０に渡した基板ホルダ加は、
その後、ホルダ往復動装置７０を駆動し架台８０４大気
側へ移動させる二とで開放している真空大気間ゲー １
・４１を介して真空処理室４０外へ出されて元の位置に
待機させられる。この間、真空大気間ゲート４１は閉止
され真空処理室内は所定田力まで真空ｔｉ１気される。
その後、基板ｌＯを載置保持した試料台５０は、真空処
理室４０に配設された電極（図示省略）に対向する位置
に移動装置（図示省略）にＪ：ｌｌ順次移動させられ、
この間、・ ７ 試料台５０に載置保持され処理面が電極と対向した基板
１０は処理される。
理室４０に配設された電極（図示省略）に対向する位置
に移動装置（図示省略）にＪ：ｌｌ順次移動させられ、
この間、・ ７ 試料台５０に載置保持され処理面が電極と対向した基板
１０は処理される。
なお、処理が完了した基板１０は上記した操作と逆操作
により試料台５０から取除かれ真空処理室４０から大気
側へ搬出された後に、処理された面を上面として略水平
となされる。その後、この基板ｌＯは基板ホルダ加より
離され公知の搬送装置により他の場所へ搬送される。
により試料台５０から取除かれ真空処理室４０から大気
側へ搬出された後に、処理された面を上面として略水平
となされる。その後、この基板ｌＯは基板ホルダ加より
離され公知の搬送装置により他の場所へ搬送される。
本実施例のような基板縦型搬送装置では、次のような効
果が得られる。
果が得られる。
理
（１１基板の縦型搬送と真空処理室内での試料台の移動
とを分離できるため、連続処理装置の構造を簡単化でき
小型化できる。
とを分離できるため、連続処理装置の構造を簡単化でき
小型化できる。
（２）試料台が温度制御を要求される場合、試料台と温
度制御装置との取合いを簡単化できる。
度制御装置との取合いを簡単化できる。
なお、基板ホルダは、本実施例の他に真空吸着な利用し
た基板ホルダであっても良い。
た基板ホルダであっても良い。
本発明は、以上説明したように、被処理面を上面として
略水平に保持された基板を被処理面側から保持する基板
ホルダと、該ホルダの基板保持側面を水平位置と垂直位
置との間で回動させるホルダ回動装置と、該装置で垂直
位置に回動させられた基板ホルダの基板保持側面を真空
処理室に縦型で移動可能に内設された試料台の基板載置
面に対向させるホルダ対向装置ｕと、該装置で対向させ
られた位１ｕと試４１台との間で基板ホルダを往復動さ
せるホルダ往復装置とで構成したことで、基板の縦型搬
送と真空処理室内での試料台の移動とを分離して行える
ので、連続処理装置の構造を簡単化でき小型化できると
いう効果がある。
略水平に保持された基板を被処理面側から保持する基板
ホルダと、該ホルダの基板保持側面を水平位置と垂直位
置との間で回動させるホルダ回動装置と、該装置で垂直
位置に回動させられた基板ホルダの基板保持側面を真空
処理室に縦型で移動可能に内設された試料台の基板載置
面に対向させるホルダ対向装置ｕと、該装置で対向させ
られた位１ｕと試４１台との間で基板ホルダを往復動さ
せるホルダ往復装置とで構成したことで、基板の縦型搬
送と真空処理室内での試料台の移動とを分離して行える
ので、連続処理装置の構造を簡単化でき小型化できると
いう効果がある。
第１図は、本発明による基板縦型搬送装置の一実施例を
示す正面図、第２図は、第１図の平面図である。
示す正面図、第２図は、第１図の平面図である。
Claims (1)
- １、被処理面を上面として略水平に保持された基板を被
処理面側から保持する基板ホルダと、該ホルダの基板保
持側面を水平位置と垂直位置との間で回動させるホルダ
回動装置と、該装置で垂直位置に回動させられた前記基
板ホルダの基板保持側面を真空処理室に縦型で移動可能
に内設された試料台の基板載置面に対向させるホルダ対
向装置と、該対向させられた位置と前記試料台との間で
前記基板ホルダを往復動させるホルダ往復動装置とで構
成したことを特徴とする基板縦型搬送装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58200914A JPS6094735A (ja) | 1983-10-28 | 1983-10-28 | 基板縦型搬送装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58200914A JPS6094735A (ja) | 1983-10-28 | 1983-10-28 | 基板縦型搬送装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6094735A true JPS6094735A (ja) | 1985-05-27 |
Family
ID=16432370
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58200914A Pending JPS6094735A (ja) | 1983-10-28 | 1983-10-28 | 基板縦型搬送装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6094735A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61228648A (ja) * | 1985-01-22 | 1986-10-11 | アプライド マテリアルズ インコ−ポレ−テツド | 半導体ウェハ製造装置、半導体ウェハ処理装置及びチャック装置 |
-
1983
- 1983-10-28 JP JP58200914A patent/JPS6094735A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61228648A (ja) * | 1985-01-22 | 1986-10-11 | アプライド マテリアルズ インコ−ポレ−テツド | 半導体ウェハ製造装置、半導体ウェハ処理装置及びチャック装置 |
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