JPH02199758A - イオン注入装置 - Google Patents

イオン注入装置

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JPH02199758A
JPH02199758A JP1019239A JP1923989A JPH02199758A JP H02199758 A JPH02199758 A JP H02199758A JP 1019239 A JP1019239 A JP 1019239A JP 1923989 A JP1923989 A JP 1923989A JP H02199758 A JPH02199758 A JP H02199758A
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野上 司
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、イオンビームを電気的に走査して平行ビー
ム化すると共に、それと直交する方向にウェーハを機械
的に走査するいわゆるハイブリッドスキャン方式のイオ
ン注入装置に関する。
〔従来の技術〕
この種のイオン注入装置の従来例を第8図に示す。
即ち、図示しない走査手段によってイオンビーム2をX
方向(例えば水平方向。以下同じ)に電゛気的に走査し
て平行ビーム化して注入室(図示省略)内に導くと共に
、ウェーハ4を保持するホルダ130を注入室内に設け
、これをホルダ駆動装置136によって注入室内でX方
向に直交するY方向(例えば垂直方向。以下同じ)に機
械的に走査するようにしている。
ホルダ駆動装置136は、簡単に言えば、ホルダ130
をウェーハ4に対するイオン注入のための垂直状態とウ
ェーハ4のハンドリングのための水平状態との間で回転
させるホルダ起立装置132およびホルダ130をこの
ホルダ起立装置132と共にY方向に昇降させて機械的
に走査するホルダ昇降装置134を備えている。
このようなイオン注入装置には、イオンビームを電気的
に走査手段によって単にXY両方向に走査する場合と違
って、ウェーハ4に対するイオンビーム2の入射角がウ
ェーハ4内の各場所で同一になるという特徴がある。
〔発明が解決しようとする課題〕
上記のようなイオン注入装置で、スループット(単位時
間当たりの処理能力)を向上させるには、ホルダ130
およびその駆動装置を二組設けて二つのホルダ130上
のウェーハ4を交互に処理する、いわゆるデュアルタイ
プにすることが考えられる。
そのようにする場合、イオンビーム2のビームライン(
換言すればイオンビーム2の電気的な走査系等)を一つ
にしておく方が構造が簡単で小型かつ経済的となる。
ところが、上記のような従来のイオン注入装置では、も
う−組のホルダ130およびホルダ駆動装置136をイ
オンビーム2に対して図示のものとは対称に配W(即ち
図示のものの上側に下向きに配置)しようとしても、ホ
ルダ昇降装置134によってホルダ130をY方向に直
線的に昇降させるだけであるから、上下のホルダ130
が互いにぶつかることになり、これを避けようとすると
上下のホルダ130およびホルダ駆動装置136を互い
に大きく離さなければならず、装置が巨大化する。
しかも、ホルダ130に対するウェーハ4のハンドリン
グ(着脱)位置が上下のホルダ130で大きく異なるた
め、ウェーハ4の搬送ラインが上下2段になり、また上
側のホルダ130に対してウェーハ4を下向きにハンド
リングしなければならない等、ウェーハ4のハンドリン
グが詐常に困難になる。
従って、そのようなイオン注入装置は、仮に製作できる
としても実際的ではない。
そこでこの発明は、上記のようなハイブリッドスキャン
方式力つビームラインが一つのデュアルタイプのもので
あって、小型化が可能であり、しかもウェーハのハンド
リングが容易なイオン注入装置を提供することを主たる
目的とする。
〔課題を解決するための手段〕
この発明のイオン注入装置は、イオンビームをX方向に
電気的に走査して平行ビーム化して注入室内に導くと共
に、ウェーハを注入室内でX方向に直交するY方向に機
械的に走査する構造のものであって、注入室内にあって
ウェーハをそれぞれ保持する二つのホルダと、各ホルダ
を注入室内でY方向にそれぞれ走査する二つのホルダ駆
動装置とを備え、かつ各ホルダ駆動装置が、注入室内に
イオンビームの進行方向にほぼ平行な姿勢を取ることが
できるように軸支された中空のアーム軸と、このアーム
軸を正逆両方向に回転駆動する駆動手段と、アーム軸内
に回転自在に通されていてアーム軸が回転してもそれと
一緒に回転しないようにされた中間軸と、アーム軸にほ
ぼ直角に取り付けられたアームと、このアームの先端部
にイオンビームの進行方向にほぼ平行な姿勢を取ること
ができるように軸支されていてその先端部に前記ホルダ
がほぼ直角に取り付けられたホルダ軸と、このホルダ軸
と中間軸との間を同一の回転比で連結する連結手段とを
備えることを特徴とする。
〔作用〕
ホルダ駆動装置の駆動手段によってアーム軸を回転させ
ると、アームの先端部に取り付けられたホルダは、そこ
に保持したウェーハをイオンビームに向けた状態で、円
弧を描くような形でY方向に機械的に走査される。
その場合、中間軸はアーム軸が回転しても回転せず、ま
たこの中間軸とホルダ軸とが連結手段によって同一の回
転比で連結されているため、ホルダが円弧を描くような
形で走査されても、当該ホルダの姿勢は不変である。
しかもアームおよびホルダが円弧状に動くため、それら
が互いに機械的に干渉するのを避けながら二つのホルダ
駆動装置を互いに近づけて配置することができ、従って
装置の小型化を図ることができる。
また、両ホルダに対するウェーハのハンドリングが互い
に同一条件で可能になるため、ウェーハのハンドリング
が容易になる。
〔実施例〕
第1図は、この発明の一実施例に係るイオン注入装置の
要部を示す水平断面図である。この例では、イオンビー
ム2のビームラインの左右に同じ機構がほぼ左右対称に
設けられているので、以下においては主に右側(図の右
側)を例に説明する。
図示しない真空ポンプによって真空排気される注入室6
内に、その導入口6aから、X方向に電気的に走査して
平行ビーム化されたイオンビーム2が導入される。
イオンビーム2のそのような走査手段の一例を第2図に
示す。即ち、イオン源110から引き出され、かつ必要
に応じて質量分析、加速等が行われたイオンビーム2を
、同一の走査電源116から互いに逆極性の走査電圧(
三角波電圧)が印加される二組の走査電極112および
114のFIA働によってX方向に走査して、走査電極
114から出射した時に平行ビームになるようにしてい
る。
もっとも、この例と違って、イオンビーム2を磁場を利
用して上記と同様に走査するようにしても良い。
第1図に戻って、上記のような処理室6の左右に、二つ
の互いに同一構造のホルダ駆動装置IOが設けられてい
る。
各ホルダ駆動装置は、注入室6の側壁に真空シール軸受
12を取り付け、それに支持軸14を貫通させ、その大
気側(注入室6外側)に歯車16を取り付け、注入角可
変用のモータ20および歯車18によって、支持軸14
を矢印Aのように回転させて、その先にアーム46を介
して取り付けられたホルダ8を設定された注入角位置と
、ウェーハ4のハンドリングのための水平位置とに駆動
するようにしている。
支持軸14の真空側(注入室6内側)には、真空シール
軸受38によって中空のアーム軸40およびアーム46
を回転自在に支えている。このアーム軸40は、支持軸
14を図示のような状態に回転させることによって、イ
オンビーム2の進行方向にほぼ平行な姿勢を取ることが
できる。
アーム軸40の一端には、その駆動手段を構成するもの
として、プーリー36を取り付けると共に、タイミング
ベルト32によって、支持軸14の大気側に取り付けた
スキャン用のモータ24およびプーリー28と連結して
おり、このモータ24によってアーム軸40を正逆両方
向に回転駆動してアーム46を矢印Bのように回転させ
てホルダ8をX方向(この例では紙面表裏方向)に機械
的に走査するようにしている。
アーム46の先端部には真空シール軸受52を取り付け
、ホルダ軸54およびホルダ8を回転自在に支えている
。このホルダ軸54は、支持軸14を図示のように回転
させることによって、イオンビーム2の進行方向にほぼ
平行な姿勢を取ることができる。そしてその先端部に、
ウェーハ4を保持するホルダ8がほぼ直角に取り付けら
れている。ホルダ8は、この例ではベース8aと、それ
との間にウェーハ4を挟持するウェーハ押え8bと、ウ
ェーハ4を昇降させるウェーハ受け8Cとを備えている
ホルダ軸54にはプーリー50が取り付けられている。
また、アーム軸40の中心部には中間軸42が回転自在
に通されており、その両端にはプーリー34および44
が取り付けられている。このプーリー44と50とは互
いに同一直径であり、それらと共に連結手段を構成する
タイミングベルト48で互いに連結されている。従って
、ホルダ軸54と中間軸42とは同一の回転比で連結さ
れている。
また、支持軸14の大気側に取り付けたステップ回転用
のモータ22およびプーリー26とプーリー34とをタ
イミングベルト30で連結しておリ、このモータ22に
よってホルダ8を例えば矢印Cのように段階的に回転さ
せることができるようにしている。但し注入時の回転は
行わないようにしており、その場合はアーム軸40が矢
印Bのように回転しても中間軸42はアーム軸40と一
緒には回転しない。
尚、上記タイミングベルト30.32および48の代わ
りにチェーンを用いても良く、その時はそれに関連する
プーリーをチェーン歯車にすれば良い。
走査時のホルダ8の姿勢を第3図をも参照して説明する
と、上述したようにその時はモータ22は停止しており
、従って中間軸42およびプーリー44は停止状態にあ
る。この状態でモータ24によって、プーリー28、タ
イミングベルト32およびプーリー36を介してアーム
46を例えば第3図に示すように時計方向にθ°面回転
せた場合、アーム46側から見るとプーリー44は反時
計方向にθ°面回転たことになり、タイミングベルト4
日で接続しであるプーリー44と同一直径のプーリー5
0は、アーム46側から見ると反時計方向にθ°面回転
る。従って、ホルダ8は、アーム46の長さを半径にY
方向に円弧を描くように走査されるが、絶対回転角は0
°であってその姿勢は不変である。従って例えば、ホル
ダ8にウェーハ4をそのオリエンテーションフラット4
aを下側にして装着した場合、ホルダ8の走査位置に拘
わらず常にオリエンテーションフラット4aは下側にな
る。しかも前述したようにイオンビーム2がX方向に平
行ビーム化されているため、例えばイオンビーム2のビ
ーム電流に比例してアーム46の角速度を制御すれば、
ウェーハ4の面内においてドーズ量の均一なイオン注入
が可能になる。
ホルダ8を第1図中に2点鎖線で示すウェーハ4のハン
ドリング位置に移動させるには、モータ20によってホ
ルダ8を水平状態にすると共に、モータ24によってホ
ルダ8を壁側に移動させれば良く、そのようにすればホ
ルダ8は結果的に矢印りのように移動したことになる。
注入室6の後方部左右の底部には、ウェーハ4を注入室
6内と大気側との間で1枚ずつ出し入れ(アンロードお
よびロード)するための真空予備室80がそれぞれ隣接
されている。
この真空予備室80の部分の断面図を第4図および第5
図に示す。第4図は真空予備室80の真空側弁88が閉
じかつ大気側弁90が開いた状態を、第5図は真空側弁
88が開きかつ大気側弁90が閉じた状態を示す。但し
、第5図には、後述するウェーハ搬送装置60の一部分
をも便宜上示している。
詳述すると、注入室6の底部に、真空ポンプ92によっ
て真空排気される真空予備室80が設けられており、そ
の上部には注入室6との間を仕切る真空側弁88が、下
部には大気側との間を仕切る大気側弁90が、それぞれ
設けられている。
真空側弁88は注入室6上に設けたエアシリンダ86に
よって、大気側弁90は下側のエアシリンダ102によ
ってガイド軸98を介して、それぞれ昇降され開閉され
る。尚、エアシリンダ86の上部に設けたレバー88お
よびエアシリンダ82は、エアシリンダ86をロックす
るためのものである。
大気側弁90の上部には、ウェーハ4を載せる回転台9
4が設けられており、この回転台94は、モータ96に
よってウェーハ4のオリエンテーションフラット合わせ
等のために回転させられると共に、デュアルストローク
シリンダ100によってウニ=ハ4のハンドリング等の
ために2段階に昇降させられる。
再び第1図に戻って、上記のような各真空予備室80か
ら水平状態にある各ホルダ8にかけての部分に、次のよ
うな構造のウェーハ搬送装置60がそれぞれ設けられて
いる。
即ち、第6図も参照して、真空予備室80と水平状態に
あるホルダ8との間のウェーハ4の搬送経路に沿って、
二つの溝付きのプーリー70および72間にタイミング
ベルト68がループ状に懸は渡されている。一方のプー
リー70には、正転および逆転回能なモータ74が連結
されている。
そして、このタイミングベルト68の上側および下側の
部分には、それぞれ連結金具66を介して、それぞれウ
ェーハ4を載置可能なロード側の搬送アーム61aおよ
びアンロード側の搬送アーム装置61bがそれぞれ取り
付けられている。
また、各搬送アーム61a、61bが回転せずにタイミ
ングベルト68に沿って移動するのをガイドするガイド
手段として、この実施例ではボールスプラインを採用し
ている。即ち、各搬送アーム61a、61bの根元部に
スプライン軸受64aおよび64bを取り付けると共に
、それらをそれぞれ貫通する上下2本のスプライン軸6
2aおよび62bをタイミングベルト68に平行に配置
している。
このようなボールスプラインの代わりに、通常のガイド
軸を2本ずつ用いても良いが、ボールスプラインを用い
れば、1本のスプライン軸で、搬送アームが回転せずに
水平に安定して走行するのをガイドすることができる。
尚、各スプライン軸62a、62bは、簡略化のために
丸棒で図示しているが、実際は、複数のボールの転勤溝
を有する丸棒状あるいは異形状のものである。
次に、上記のようなイオン注入装置の全体的な動作例を
図の右側の機構を中心に説明する。
ホルダ駆動装置10によってホルダ8を第1図中に2点
鎖線で示す水平位置に移動させ、ウェーハ受け8cおよ
びウェーハ押え8bを図示しない駆動装置によって駆動
して、先に装着していたウェーハ4を下段のアンロード
用の搬送アーム61bに受は渡しする位置まで上昇させ
る。
一方、真空予備室80側では、第5図を参照して、デュ
アルストロークシリンダ100の上下両方のシリンダを
動作させて回転台94を大きく上昇させて2点鎖線で示
すように上段のロード側の搬送アーム61aの位置まで
未注入のウェーハ4を持ち上げ、その状態でウェーハ搬
送装置60のモータ74によってタイミングベルト68
を駆動して、搬送アーム61aを真空予備室80上の位
置に、かつ搬送アーム61bをホルダ8上の位置に同時
に移動させ、そしてホルダ8のウェーハ受け8Cを降下
させて先に注入法のウェーハ4を搬送アーム61bに載
せ、一方真空予備室80何でも回転台94を降下させて
未注入のウェーハ4を搬送アーム61aに載せる。
次に、ウェーハ搬送装置60のモータ74を先とは逆転
させ、注入法のウェーハ4を載せた搬送アーム61bを
真空予備室80上へ、未注入のウェーハ4を載せた搬送
アーム61aをホルダ8上へ移動させ、そして真空予備
室80側ではデュアルストロークシリンダ100の上側
のシリンダのみを動作させて回転台64によって搬送ア
ーム61bよりウェーハ4を受は取り(第5図中の実線
の状態)、ホルダ8側ではウェーハ受け8Cによって搬
送アーム61aよりウェーハ4を受は取る。
次いで、ウェーハ搬送装置60のモータ74を再び逆転
させて再搬送アーム61aおよび61bを中間の待機位
置まで移動させ(第1図の状態)、ホルダ8側ではウェ
ーハ受け8Cおよびウェーハ押え8bを降下させてウェ
ーハ4を保持し、ホルダ駆動装置10によってホルダ8
を第1図中に実線で示すような注入状態まで移動させて
注入準備は完了する。
一方、真空予備室80側では、回転台94を降下させ、
かつ真空側弁88を閉じた後、当該真空予備室80内を
大気圧状態に戻して大気側弁90を開き(第4図の状態
)、図示しない大気側の搬送アーム装置によって注入法
のウェーハ4の搬出および次の未注入のウェーハ4の搬
入を行う。このとき並行して、注入室6内では、ホルダ
駆動装置10によってホルダ8を前述したようにY方向
に機械的に走査しながら、当該ホルダ8上のウェーハ4
にイオンビーム2を照射してイオン注入が行われる。
以降は、必要に応じて上記と同様の動作が繰り返される
また、右側の機構と左側との機構との関係を説明すると
、一方の(例えば第1図中の右側の)ホルダ8を上記の
ように走査しながらそこに装着したウェーハ4にイオン
注入を行うことと並行して、他方のホルダ8を水平状態
にしてウェーハ4のハンドリング(即ち注入済のウェー
ハ4の取出しおよび未注入のウェーハ4の装着)を行う
ことができる。即ち、二つのホルダ8において交互にイ
オン注入およびウェーハ4のハンドリングを行うことが
でき、イオン注入およびハンドリングのロス時間が殆ど
なくなるのでスループットが向上する。
しかも、上記のようなホルダ駆動装置工0によれば、従
来のイオン注入装置におけるホルダ駆動装置136の場
合と違って、各アーム46およびホルダ8が円弧状に動
くため、それらが互いに機械的に干渉するのを避けなが
ら二つのホルダ駆動装置10を互いに近づけて配置する
ことができ、従って当該イオン注入装置の小型化を図る
ことができる。
また、両ホルダ8に対するウェーハ4のハンドリングが
互いに同一条件で、即ちこの例では互いに同一高さでし
かもどちらもウェーハ4の表面を上にして可能になるた
め、ウェーハ4のハンドリングが容易になる。
第7図は、この発明の他の実施例に係るイオン注入装置
の要部を示す垂直断面図である。
この実施例においても、第1図の実施例の場合と同様に
、電気的にX方向に走査して平行ビーム化されたイオン
ビーム2が導入される注入室6の左右に、二つの前述し
たようなホルダ駆動装置10を設け、それによってウェ
ーハ4を装着した各ホルダ8をそれぞれY方向に機械的
に走査するようにしている。
但しこの実施例では、各ホルダ8に対するウェーハ4の
ハンドリングの仕方が異なる。即ち、注入室6内におけ
る各ホルダ駆動装置10の下部に、カセット120を1
ピツチずつ紙面の表裏方向に移動させるカセット駆動機
構122がそれぞれ設けられており、各カセット駆動機
構122上には、複数枚のウェーハ4を収納したカセッ
ト120が、図示しない真空予備室を介して、それぞれ
装着される。
また、各カセット駆動機構122の下部は、ウェーハ垂
直搬送装置124がそれぞれ設けられている。各ウェー
ハ垂直搬送装置124は、先端部にウェーハ4の端部が
入る溝128を有していて矢印のように昇降させられる
押上げ板126をそれぞれ有しており、これによってウ
ェーハ4を1枚ずつ力セラt−120とホルダ8との間
で搬送することができる。従ってこの実施例においても
、左右のホルダ8に対するウェーハ4のハンドリングは
互いに同一条件で可能である。
この実施例の動作例を説明すると、図の右側のホルダ8
をホルダ駆動装置10によって実線で示す矢印Eのよう
にY方向に走査してそこのウェーハ4にイオン注入して
いる間に、左側のホルダ駆動装置10ではアーム46を
下方に回転させて、ウェーハ垂直搬送装置124によっ
てホルダ8に先に装着されていた注入済のウェーハ4を
カセット120内に搬送すると共に、カセット駆動機構
122によってカセット120を1ピツチ駆動してカセ
ット120内の未注入のウェーハ4をホルダ8に装着し
て待機する。
そして右側のホルダ8上のウェーハ4に対するイオン注
入が完了すると、右側のアーム46を下方に回転させて
上記と同様にしてそのホルダ8に対するウェーハ4の交
換を行う。その間に、左側のホルダ駆動装置IOではホ
ルダ8を待機位置(ウェーハ交換位置)から注入位置に
移動させてスキャン動作を行わせてそこのウェーハ4に
対するイオン注入゛が行われる。
尚、第7図の実施例では、第1図の実施例と違って、ホ
ルダ8をウェーハ4のハンドリングのために水平状態に
する必要が無いので、注入角を可変にしないのであれば
、そのホルダ駆動装置10には、第1図で説明した支持
軸14を矢印Aのように回転させる機構を必ずしも設け
る必要は無い。
また、第1図、第7図いずれの実施例においても、ホル
ダ8をステップ回転させる必要が無い場合は、ホルダ駆
動装置10にはそのための機構を必ずしも設ける必要は
無い。
〔発明の効果〕
以上のようにこの発明によれば、各アームおよびホルダ
が円弧状に動くため、それらが互いに機械的に干渉する
のを避けながら二つのホルダ駆動装置を互いに近づけて
配置することができ、従って当該イオン注入装置の小型
化を図ることができる。
また、二つのホルダに対するウェーハのハンドリングが
互いに同一条件で可能なため、ウェーハのハンドリング
が容易になる。
その結果、ハイブリッドスキャン方式でしかもビームラ
インが一つのデュアルタイプのイオン注入装置であって
実際的なものを製作することが可能になる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、この発明の一実施例に係るイオン注入装置の
要部を示す水平断面図である。第2図は、イオンビーム
の電気的な走査手段の一例を示す概略平面図である。第
3図は、第1図のホルダ駆動装置による走査時のホルダ
の姿勢を説明するための図である。第4図および第5図
は、共に、第1図の線!−Iに沿う断面図であるが、互
いに動作状態を異にしている。第6図は、第1図中のウ
ェーハ搬送装置を示す斜視図である。第7図は、この発
明の他の実施例に係るイオン注入装置の要部を示す垂直
断面図である。第8図は、従来のイオン注入装置の要部
を示す斜視図である。 2・・・イオンビーム、4・・・ウェーハ、6・・・注
入室、8・・・ホルダ、10・・・ホルダ駆動装置、2
4・・・モータ、40・・・アーム軸、42・・・中間
軸、45・・・アーム、48・・・タイミングベルト、
52・・・ホルダ軸。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)イオンビームをX方向に電気的に走査して平行ビ
    ーム化して注入室内に導くと共に、ウェーハを注入室内
    でX方向に直交するY方向に機械的に走査する構造のも
    のであって、注入室内にあってウェーハをそれぞれ保持
    する二つのホルダと、各ホルダを注入室内でY方向にそ
    れぞれ走査する二つのホルダ駆動装置とを備え、かつ各
    ホルダ駆動装置が、注入室内にイオンビームの進行方向
    にほぼ平行な姿勢を取ることができるように軸支された
    中空のアーム軸と、このアーム軸を正逆両方向に回転駆
    動する駆動手段と、アーム軸内に回転自在に通されてい
    てアーム軸が回転してもそれと一緒に回転しないように
    された中間軸と、アーム軸にほぼ直角に取り付けられた
    アームと、このアームの先端部にイオンビームの進行方
    向にほぼ平行な姿勢を取ることができるように軸支され
    ていてその先端部に前記ホルダがほぼ直角に取り付けら
    れたホルダ軸と、このホルダ軸と中間軸との間を同一の
    回転比で連結する連結手段とを備えることを特徴とする
    イオン注入装置。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5229615A (en) * 1992-03-05 1993-07-20 Eaton Corporation End station for a parallel beam ion implanter
EP1047101A2 (en) * 1999-04-19 2000-10-25 Applied Materials, Inc. Ion implanter
GB2389958A (en) * 2002-06-21 2003-12-24 Applied Materials Inc Multi directional mechanical scanning in an ion implanter
JP2007527627A (ja) * 2004-03-05 2007-09-27 アクセリス テクノロジーズ インコーポレーテッド イオンビーム注入装置用のワークピース移送システム
US7365406B2 (en) 2005-05-04 2008-04-29 Hynix Semiconductor Inc. Non-uniform ion implantation apparatus and method thereof

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5229615A (en) * 1992-03-05 1993-07-20 Eaton Corporation End station for a parallel beam ion implanter
EP1047101A2 (en) * 1999-04-19 2000-10-25 Applied Materials, Inc. Ion implanter
EP1047101A3 (en) * 1999-04-19 2004-03-31 Applied Materials, Inc. Ion implanter
GB2389958A (en) * 2002-06-21 2003-12-24 Applied Materials Inc Multi directional mechanical scanning in an ion implanter
GB2389958B (en) * 2002-06-21 2005-09-07 Applied Materials Inc Multi directional mechanical scanning in an ion implanter
US7105838B2 (en) 2002-06-21 2006-09-12 Applied Materials, Inc. Multi directional mechanical scanning in an ion implanter
JP2007527627A (ja) * 2004-03-05 2007-09-27 アクセリス テクノロジーズ インコーポレーテッド イオンビーム注入装置用のワークピース移送システム
US7365406B2 (en) 2005-05-04 2008-04-29 Hynix Semiconductor Inc. Non-uniform ion implantation apparatus and method thereof
US8343859B2 (en) 2005-05-04 2013-01-01 Hynix Semiconductor Inc. Non-uniform ion implantation apparatus and method thereof

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