JPH03114128A - イオン注入装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、イオンビームを電気的に走査すると共に、
ターゲットをそれと実質的に直交する方向に機械的に走
査する、いわゆるハイブリッドスキャン方式のイオン注
入装置に関する。

〔従来の技術〕

この種のイオン注入装置の従来例を第６図に示す。

このイオン注入装置においては、イオン源から引き出さ
れ、かつ必要に応じて質量分析、加速等が行われたスポ
ット状のイオンビーム２を、走査手段によって、即ちこ
の例では走査室＃２０６から走査電圧（例えば１０００
Ｈｚ程度の三角波電圧）が供給される一組の走査電極２
０４によって、Ｘ方向（例えば水平方向。以下同じ）に
静電的に走査して、Ｘ方向に広がる面状のビームになる
ようにしている。

一方、ターゲット（例えばウェーハ）４をボルダ８によ
ってイオンビーム２の照射領域内に保持すると共に、そ
れらを駆動装置２１２によって前記Ｘ方向と実質的に直
交するＹ方向（例えば垂直方向。以下同じ）に機械的に
走査し、これとイオンビーム２の前記走査との協働によ
って、ターゲット４の全面に均一にイオン注入を行うよ
うにしている。

より具体的には、イオンビーム２のＸ方向の走査領域の
一端部に、イオンビーム２を受けてそのビーム電流を計
測するビーム電流計測器（例えばファラデーカップ）２
１４を設けており、これによって計測したビーム電流Ｉ
をこの例では変換器２１６によってパルス信号に変換し
て制御装置２１８に与える。そして制御装置２１８は、
この計測データに基づいてターゲット４の機械的走査速
度を演算してそれになるように駆動装置２１２を制御す
る。具体的には、ビーム電流Ｉに比例した速度でターゲ
ット４のＹ方向の走査が行われるように制御する。

なお、駆動装置２１２には、例えば直線駆動モータや、
回転モータとボールねじを組み合わせた機構等を用いる
ことができる。

〔発明が解決しようとする課題〕

上記装置において、ビーム電流計測器２１４で計測され
るビーム電流Ｉは第７図に示すようなものになる。同図
中の点ａ、ｂは第６図中の点ａ１ｂとそれぞれ対応して
いる。

従って、制御装置２１８は、現在どれだけのビーム電流
Ｉが来ているのかを検知し、それから次の一往復走査時
にどれだけの速度でターゲット４を駆動すれば良いかを
演算し、かつ駆動装置２１２に対して駆動信号ＤＳを出
力するという処理を、直前のビーム電流■を計測した直
後から次の一往復走査が始めるまでの時間Ｔ１内で行わ
なければならない。

ところが、現在−船釣に存在するイオン注入装置におい
ては、−往復走査に要する時間は１ｍ５ｅｃ程度であり
、前記時間Ｔ１は数百μｓｅｃ程度となり、制御装置２
１８はこれ位の時間内で上記のような演算処理を行う能
力が要求される。しかも通常は、ビーム電流Ｉの大小等
によって演算処理に要する時間が変化する（例えばビー
ム電流Ｉが大きくなるほど、制御装置２１８における処
理ステップが増大する）。

仮に制御装置２１８における演算処理時間が前記時間Ｔ
、を越えてしまうと、それ以降のターゲット４の走査速
度の制御が狂ってしまい、ひいてはそれ以降の全てのイ
オン注入が正しくなくなってしまう。

従って、制御装置２１８としては、最も長くかかる処理
に要する時間が前記時間Ｔ、以下になるようなものを用
いなければならないが、そのように処理速度の高い制御
装置２１８は非常に高価なものになる。あるいは製作す
るのが困難な場合もある。

そこでこの発明は、前記のような制御装置として処理速
度の遅いものでも使用することができるようなイオン注
入装置を提供することを主たる目的とする。

〔課題を解決するための手段〕

上記目的を達成するため、この発明のイオン注入装置は
、前記制御装置を、ターゲットの走査速度の演算処理が
終了するたびにトリガ信号を−っずつ出力するものとし
、かつ前記走査電源を、制御装置からトリガ信号が一つ
与えられるごとにイオンビームの一往復走査分の走査出
力を出力するものとしたことを特徴とする。

〔作用］ 上記構成によれば、制御装置における演算処理が必ず終
わってから、イオンビームの次の一往復走査が行われる
ことになる。従って、当該制御装置として処理速度の遅
いものでも使用することができるようになる。

〔実施例〕

第１図は、この発明の一実施例に係るイオン注入装置を
部分的に示す図である。第６図の例と同等部分には同一
符号を付し、以下においては従来例との相違点を主に説
明する。

この実施例においては、前述した制御装置２１８に対応
する制御装置２２８が、ターゲット４の機械的走査速度
の演算処理が終了するたびにトリガ信号ＴＳ（第４図参
照）を一つずつ出力する。

より具体例を示すと、制御装置２２８は、例えば第２図
に示すように、ビーム電流計測器２１４で計測したビー
ム電流■（具体的には変換器２１６によって変換された
パルス信号）を取り込み（ステップ２３１）、それに基
づいて次の一往１↓走査時にどれだけの速度でターゲッ
ト４を駆動（走査）すれば良いかを演算しくステップ２
３２）、かつ駆動装置２１２に対して駆動信号ＤＳを出
力しくステップ２３３）、その後トリガ信呪ＴＳを一つ
出力する（ステップ２３４）。そしマ以上のような処理
を、所定の注入が完了するまマ順次続ける。

更にこの実施例においては、前述した走査電源２０６に
対応する走査電源２２６を、前記制御装置２２８からト
リガ信号ＴＳが一つ与えられることにイオンビーム２の
一往復走査分の走査電圧苓走査電極２０４に対して出力
するものとしていイより具体例を示すと、走査型［２２
６は、例λば第３図に示すように、三角波の走査信号■
ＳＳ全発生せる信号発生器２２６ａ、それからの走査信
号■Ｓを昇圧して互いに逆極性の走査電圧ｖＸおよび一
■Ｘをそれぞれ出力する高圧増幅器２２６ｂおよび２２
６ｃを備えている。しかもこの信号発生器２２６ａは、
第４図に示すように、制御装置２２８からトリガ信号Ｔ
Ｓが一つ与えられるごとに、三角波を一つ出力するもの
であり、これには例えば公知の任意波形発生器を使用す
ることができる。なお、第４図中の点ａ、ｂは、第１図
および第５図中の点ａ、ｂにそれぞれ対応している。

上記構成によれば、制御装置２２８における上記のよう
な演算処理が必ず終わってからトリガ信号ＴＳが出力さ
れ、それに応答してイオンビーム２の次の一往復走査が
行われることになる。従って、制御装置２２８として処
理速度の遅いものでも使用することができるようになる
。

より具体的には、第５図に示すように、制御装置２２８
における演算処理時間をＴ２とすると、直前のビーム電
流■を計測した直後から時間Ｔ２後に、イオンビーム２
の次の走査が開始されることになる。従って、この時間
Ｔ２が第７図で説明した時間Ｔ１を越えたとしても、従
来のように注入制御が狂うというような致命的なエラー
は何ら発生しない。単に無駄時間Ｔｆｆ　（＝Ｔｚ　　
Ｔ＋　）が発生するだけである。

ちなみに、この無駄時間Ｔ、の間は、ターゲット４に対
する注入動作が行われないことになるがこの時間Ｔ３は
通常μｓｅｃオーダーであり、従って無駄時間Ｔ、が発
生しても、所定のドーズ量を注入するのに要する時間が
従来よりごく僅かに長くなるだけであり何ら支障はない
。

なお、上記各側では、イオンビーム２の走査手段として
走査電極２０４を用いているが、それの代わりに偏向マ
グネットを用いてイオンビーム２を磁界によって前記の
ように走査するようにしても良い。その場合は、走査電
源から走査出力として、前記のような三角波の走査電流
を供給するものとする。

また、ターゲット４をイオンビーム２の走査方向である
Ｘ方向と実質的に直交するＸ方向に機械的に走査する手
段としては、前述したような直線的な運動に変えて、揺
動運動により実質的に直交するように駆動しても良い。

そのようにしたイオン注入装置の例をそのホルダ駆動装
置周りを主体にして以下に説明する。

第８図は、この発明の他の実施例に係るイオン注入装置
を部分的に示す水平断面図である。この例では、イオン
ビーム２のビームラインの左右に同じ機構がほぼ左右対
称に設けられているので、以下においては主に右側（図
の右側）を例に説明する。

この実施例においては、図示しない真空ポンプによって
真空排気される注入室６内に、Ｘ方向に電気的に走査さ
れ、更に平行ビーム化されたイオンビーム２が導入され
る。

イオンビーム２を平行ビーム化する走査手段の一例を第
９図に示す。即ち、イオン源１１０がら引き出され、か
つ必要に応じて質量分析、加速等が行われたイオンビー
ム２を、同一の走査電源１１６から互いに逆極性の走査
電圧（三角波電圧）が印加される二組の走査電極１１２
および１１４の協働によってＸ方向に走査して、走査電
極１１４から出射した時に平行ビームになるようにして
いる。もっとも、この例と違って、例えば下流側の走査
電極１１４の代わりに磁場を用いる等してイオンビーム
２を平行ビーム化するようにしても良い。

第８図に戻って、上記のような注入室６の左右に、この
実施例では二つの互いに同一構造のホルダ駆動装置１２
０が設けられている。

各ホルダ駆動装置１２０においては、注入室６の側壁部
に真空シール機能を有する真空シール軸受１２２を設け
、それに主軸１２４を前述したＸ方向に貫通させて支持
している。

注入室６の外側に第１の可逆転式のダイレクトドライブ
モータ１２６を取り付けており、その出力軸１２７を、
歯車のようなものを介さずにカップリング板１２８で直
接、主軸１２４の注入室外側端部に結合している。

一方、主軸１２４の注入室内側端部には、カシプリング
１３０を介して、第２の可逆転式のダイレクトドライブ
モータ１３２をその出力軸１３３が当該主軸１２４とほ
ぼ直交するように取り付けている。

このダイレクトドライブモータ１３２は、真空中に持ち
込めるように、その内部と外部とがＯリング（図示省略
）によって真空シールされており、かつその出力軸１３
３とモータケース間も例えば磁性流体を含む真空シール
部１３４によって真空シールされている。

そしてこのダイレクトドライブモータ１３２の出力軸１
３３に、アーム１３６を歯車のようなものを介さずに直
接取り付けている。

このアーム１３６の先端部に、第３の可逆転式のダイレ
クトドライブモータ１３８をその出力軸１３９が当該ア
ーム１３６とほぼ直交するように取り付けている。

このダイレクトドライブモータ１３８も、真空中に持ち
込めるように、その内部と外部とが０リング（図示省略
）によって真空シールされており、かつその出力軸１３
９とモータケース間も例えば磁性流体を含む真空シール
部１４０によって真空シールされている。

そしてこのダイレクトドライブモータ１３Ｂの出力軸１
３９に、それとほぼ直交するように、ターゲットの一例
であるウェーハ４を保持するホルダ８を歯車のようなも
のを介さずに直接取り付けている。従って、このホルダ
８に保持されたウェーハ４の表面を、第８図に示すよう
に、イオンビーム２に向けることができる。尚、ホルダ
８は、この例ではベース８ａと、それとの間にウェーハ
４を挟持するウェーハ押え８ｂと、ウェーハ４を昇降さ
せるウェーハ受け８Ｃとを備えている。

上記構造によれば、第１のダイレクトドライブモータ１
２６によって、主軸１２４を矢印りのように回転させて
、その先にアーム１３６等を介して取り付けられたホル
ダ８を、所定の注入角位置（第８図中右側のホルダ８参
照）と、ウェーハ４のハンドリングのための水平位置（
第８図中左側のホルダ８参照）とに駆動することができ
る。

そして上記注入角位置で、第２のダイレクトドライブモ
ータ１３２を矢印Ｅのように正転および逆転させてアー
ム１３６を揺動回転させると、アーム１３６の先端部に
取り付けられたホルダ８は、そこに保持したウェーハ４
をイオンビーム２に向けた状態で、円弧を描くような形
で、Ｘ方向と実質的に直交するＸ方向に機械的に走査さ
れる（第１Ｏ図も参照）。

しかもその時、第３のダイレクトドライブモータ１３８
を第２のダイレクトドライブモータ１３２と同時に同一
方向（各モータの出力軸側より見て）かつ同一角度回転
させると、第１０図に示すように、ホルダ８が円弧を描
くように走査されても、当該ホルダ８の絶対回転角はＯ
ｏであってその姿勢は不変である。従ってこのホルダ８
に装着されたウェーハ４の姿勢も不変である（例えば第
１０図中のウェーハ４のオリエンテーションフラッ１−
４ａは、ホルダ８の走査位置に拘わらず常に上側を向い
ている）。

その結果、このことと前述したようにイオンビーム２が
Ｘ方向に平行ビーム化されていることとが相俟って、例
えばホルダ８の垂直速度成分がイオンビーム２のビーム
電流に比例するようにアーム１３６の角速度を制御すれ
ば、ウェーハ４の面内においてドーズ量の均一なイオン
注入が可能になる。

尚、両ダイレクトドライブモータ１３２および１３８を
上記のように駆動するには、例えば両者に同一パルス信
号を供給すれば良い。

ホルダ８を第８図中左側に示すようにウェーハ４のハン
ドリング位置に移動させるには、ダイレクトドライブモ
ータ１２６によってホルダ８を水平状態にすると共に、
ダイレクトドライブモータ１３２によってホルダ８を壁
側に移動させれば良い。

尚、ホルダ８上のウェーハ４を冷却するためにホルダ８
に冷媒を流す場合は、次のようにすれば良い。

即ち、各ダイレクトドライブモータ１２６．１３２およ
び１３８の中心部には貫通穴がおいているので、ホルダ
８の中心部に冷媒通路を有するホルダ軸を取り付け、そ
のホルダ軸をダイレクトドライブモータ１３８の中心穴
を貫通させ、アーム１３６に設けた回転継手で回転する
ホルダ軸に冷媒の供給および回収を行うようにすれば良
い。

かつ、この回転継手に可撓性のあるチューブを接続して
それをダイレクトドライブモータ１３２の中心穴を通す
と共に、ダイレクトドライブモータ１２６の中心穴を貫
通する主軸１２４を中空にして同チューブをその中を通
して大気側に引出し、これによって大気側から冷媒の供
給および回収を行うようにすれば良い。

ところで、この実施例においては、注入室６の後方部左
右の底部に、ウェーハ４を注入室６内と大気側との間で
１枚ずつ出し入れ（アンロードおよびロード）するため
の真空予備室８０がそれぞれ隣接されている。

この真空予備室８０の部分の断面図を第１１図および第
１２図に示す。第１１図は真空予備室８０の真空側弁８
８が閉じかつ大気側弁９０が開いた状態を、第１２図は
真空側弁８８が開きかつ大気側弁９０が閉じた状態を示
す。但し、第１２図には、後述するウェーハ搬送装置６
０の一部分をも便宜上示している。

詳述すると、注入室６の底部に、真空ポンプ９２によっ
て真空排気される真空予備室８０が設けられており、そ
の上部には注入室６との間を仕切る真空側弁８８が、下
部には大気側との間を仕切る大気側弁９０が、それぞれ
設けられている。

真空側弁８８は注入室６上に設けたエアシリンダ８６に
よって、大気側弁９０は下側のエアシリンダ１０２によ
ってガイド軸９８を介して、それぞれ昇降され開閉され
る。尚、エアシリンダ８６の上部に設けたレバー８８お
よびエアシリンダ８２は、エアシリンダ８６をロックす
るためのものである。

大気側弁９０の上部には、ウェーハ４を載せる回転台９
４が設けられており、この回転台９４は、モータ９６に
よってウェーハ４のオリエンテーションフラット合わせ
等のために回転させられると共に、デュアルストローク
シリンダ１００によってウェーハ４のハンドリング等の
ために２段階に昇降させられる。

再び第８図に戻って、上記のような各真空予備室８０か
ら水平状態にある各ホルダ８にかけての部分に、次のよ
うな構造のウェーハ搬送装置６０がそれぞれ設けられて
いる。

即ち、第１３図も参照して、真空予備室８０と水平状態
にあるホルダ８との間のウェーハ４の搬送経路に沿って
、二つの溝付きのプーリー７０および７２間にタイミン
グベルト６８がループ状に懸は渡されている。一方のプ
ーリー７０には、正転および逆転可能なモータ７４が連
結されている。

そして、このタイミングベルト６８の上側および下側の
部分には、それぞれ連結金具６６を介して、それぞれウ
ェーハ４を載置可能なロード側の搬送アーム６１ａおよ
びアンロード側の搬送アーム装置６１ｂがそれぞれ取り
付けられている。

また、各搬送アーム６Ｌａ、６１ｂが回転せずにタイミ
ングベルト６８に沿って移動するのをガイドするガイド
手段として、この実施例ではボールスプラインを採用し
ている。即ち、各搬送アーム６１ａ、６１ｂの根元部に
スプライン軸受６４ａおよび６４ｂを取り付けると共に
、それらをそれぞれ貫通する上下２本のスプライン軸６
２ａおよび６２ｂをタイミングベルト６８に平行に配置
している。

このようなボールスプラインの代わりに、通常のガイド
軸を２本ずつ用いても良いが、ボールスプラインを用い
れば、１本のスプライン軸で、搬送アームが回転せずに
水平に安定して走行するのをガイドすることができる。

尚、各スプライン軸６２ａ、６２ｂは、簡略化のために
丸棒で図示しているが、実際は、複数のボールの転動溝
を有する丸棒状あるいは異形状のものである。

次に、上記のようなイオン注入装置の全体的な動作例を
第８図の右側の機構を中心に説明する。

ホルダ駆動装置１２０によってホルダ８を水平位置に移
動させ（この状態は、第８図中の左側のホルダ８参照）
、ウェーハ受け８ｃおよびウェーハ押え８ｂを図示しな
い駆動装置によって駆動して、先に装着していたウェー
ハ４を下段のアンロード用の搬送アーム６１ｂに受は渡
しする位置まで上昇させる。

一方、真空予備室８０側では、第１２図を参照して、デ
ュアルストロークシリンダ１００の上下両方のシリンダ
を動作させて回転台９４を大きく上昇させて２点鎖線で
示すように上段のロード側の搬送アーム６１ａの位置ま
で未注入のウェーハ４を持ち上げ、その状態でウェーハ
搬送装置６０のモータ７４によってタイミングベルト６
８を駆動して、搬送アーム６１ａを真空予備室８０上の
位置に、かつ搬送アーム６１ｂをホルダ８上の位置に同
時に移動させ、そしてホルダ８のウェーハ受け８ｃを降
下させて先に注入法のウェーハ４を搬送アーム６１ｂに
載せ、一方真空予備室８０側でも回転台９４を降下させ
て未注入のウェーハ４を搬送アーム６１ａに載せる。

次に、ウェーハ搬送装置６０のモータ７４を先とは逆転
させ、注入法のウェーハ４を載せた搬送アーム６１ｂを
真空予備室８０上へ、未注入のウェーハ４を載せた搬送
アーム６１ａをホルダ８上へ移動させ、そして真空予備
室８０側ではデュアルストロークシリンダ１００の上側
のシリンダのみを動作させて回転台６４によって搬送ア
ーム６１ｂよりウェーハ４を受は取り（第１２図中の実
線の状態）、ホルダ８側ではウェーハ受け８ｃによって
搬送アーム６１ａよりウェーハ４を受は取る。

次いで、ウェーハ搬送装置６０のモータ７４を再び逆転
させて再搬送アーム６１ａおよび６１ｂを中間の待機位
置まで移動させ（第８図の状態）、ホルダ８側ではウェ
ーハ受け８ｃおよびウェーハ押え８ｂを降下させてウェ
ーハ４を保持し、ホルダ駆動装置１２０によってホルダ
８を第８図中に示すような注入状態まで移動させて注入
準備は完了する。

一方、真空予備室８０側では、回転台９４を降下させ、
かつ真空側弁８８を閉じた後、当該真空予備室８０内を
大気圧状態に戻して大気側弁９０を開き（第１１図の状
態）、図示しない大気側の搬送アーム装置によって注入
法のウェーハ４の搬出および次の未注入のウェーハ４の
搬入を行う。

このとき並行して、注入室６内では、ホルダ駆動装置１
２０によってホルダ８を前述したようにＹ方向に機械的
に走査しながら、当該ホルダ８上のウェーハ４にイオン
ビーム２を照射してイオン注入が行われる。

以降は、必要に応じて上記と同様の動作が繰り返される
。

また、右側の機構と左側との機構との関係を説明すると
、この実施例においては、一方の（例えば第８図中の右
側の）ホルダ８を上記のように走査しながらそこに装着
したウェーハ４にイオン注入を行うことと並行して、他
方のホルダ８を水平状態にしてウェーハ４のハンドリン
グ（即ち注入法のウェーハ４の取出しおよび未注入のウ
ェーハ４の装着）を行うことができる。即ち、二つのホ
ルダ８において交互にイオン注入およびウェーハ４のハ
ンドリングを行うことができ、イオン注入およびハンド
リングのロス時間が殆どなくなるのでスループットが向
上する。

しかも、各アーム１３６およびホルダ８が円弧状に動く
ため、それらが互いに機械的に干渉するのを避けながら
二つのホルダ駆動装置１２０を互いに近づけて配置する
ことができ、従って当該イオン注入装置の小型化を図る
ことができる。

また、両ホルダ８に対するウェーハ４のハンドリングが
互いに同一条件で、即ちこの例では互いに同一高さでし
かもどちらもウェーハ４の表面を上にして可能になるた
め、ウェーハ４のハンドリングが容易になる。

更にこの実施例のイオン注入装置では、各ホルダ駆動装
置１２０にダイレクトドライブモータ１２６．１３２．
１３８を採用していて、それらによって必要な個所を直
接駆動するようにしているので、タイミングベルト、そ
のためのプーリー歯車等を用いる場合に比べて、ホルダ
駆動装置１２０の構造が大幅に単純化されている。

尚、この明細書においてＸ方向およびＸ方向は、直交す
る２方向を現すだけであり、従って例えば、Ｘ方向を水
平方向と見ても、垂直方向と見ても、更にはそれらから
傾いた方向と見ても良い。

〔発明の効果〕

以上のようにこの発明によれば、制御装置における所定
の演算処理が必ず終わってから、イオンビームの次の一
往復走査が行われるようになるので、当該制御装置とし
て処理速度の遅いものでも使用することができるように
なる。

その結果例えば、当該制御装置のコストを下げることが
できると共に、それを製作するのが困難になることもな
（なる。

【図面の簡単な説明】

第１図は、この発明の一実施例に係るイオン注入装置を
部分的に示す図である。第２図は、第１図の制御装置に
おける制御の大まかな流れを示すフローチャートである
。第３図は、第２図の走査電源のより具体例を示すブロ
ック図である。第４図は、トリガ信号および走査信号の
例を示す図である。第５図は、第１図の装置においてビ
ーム走査時に計測されるビーム電流の例を示す図である
。 第６図は、従来のイオン注入装置の一例を部分的に示す
図である。第７図は、第６図の装置においてビーム走査
時に計測されるビーム電流の例を示す図である。第８図
は、この発明の他の実施例に係るイオン注入装置を部分
的に示す水平断面図である。第９図は、イオンビームの
電気的な走査手段の一例を示す概略平面図である。第１
０図は、第８図中のホルダ駆動装置による走査時のホル
ダの姿勢を説明するための図である。第１１図および第
１２図は、共に、第８図の線Ｉ−■に沿う断面図である
が、互いに動作状態を異にしている。 第１３図は、第８図中のウェーハ搬送装置を示す斜視図
である。 ２・・・イオンビーム、４・・・ターゲット、２０４、
・・走査電極（走査手段）、２１２・・・駆動装置、２
１４・・・ビーム電流計測器、２２６・・・走査電源、
２２８・・・制御装置。 第 図 第 図 第 ６ 図 第 ア 図 第８図 １３６：アーム 第 ９ 図 第１０図 第１１ 図 第１２図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）イオンビームをＸ方向に電気的に走査する走査手
   段およびそれに走査出力を供給する走査電源と、ターゲ
   ットをＸ方向と実質的に直交するＹ方向に機械的に走査
   する駆動装置と、イオンビームの走査領域の一端部に設
   けられていてイオンビームのビーム電流を計測するビー
   ム電流計測器と、このビーム電流計測器で計測したビー
   ム電流値に基づいてターゲットの走査速度を演算してそ
   れになるように前記駆動装置を制御する制御装置とを備
   えるイオン注入装置において、前記制御装置を、ターゲ
   ットの走査速度の演算処理が終了するたびにトリガ信号
   を一つずつ出力するものとし、かつ前記走査電源を、制
   御装置からトリガ信号が一つ与えられるごとにイオンビ
   ームの一往復走査分の走査出力を出力するものとしたこ
   とを特徴とするイオン注入装置。