JPS61173445A

JPS61173445A - ウエハの真空処理装置

Info

Publication number: JPS61173445A
Application number: JP60014043A
Authority: JP
Inventors: Kazunari Imahashi; 今橋　一成
Original assignee: Tokyo Electron Ltd
Current assignee: Tokyo Electron Ltd
Priority date: 1985-01-28
Filing date: 1985-01-28
Publication date: 1986-08-05
Also published as: JPH041989B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】［技術分野］本発明は、イオン注入装置の真空処理室においてウェハ
にイオン注入を行なうためのウェハ搬送装置に関する。

［従来技術とその問題点］イオン注入装置には、周知の如く、ウェハを大気中から
予備真空室を介して真空処理室に搬入し、イオン注入後
にウェハを再び予備真空室を介して大気中に搬出するウ
ェハ搬送装置が設けられている。

この種のウェハ搬送装置として、従来から、ウェハの自
重を利用する装置が知られている。この従来装置は、大
気中から予備真空室を介して真空処理室に至るウェハの
傾斜案内手段と、更にこの真空処理室から別の予備真空
室を介して大気中に至る別の傾斜案内手段とを有し、ウ
ェハの自重を利用し、ウェハを前記傾斜案内手段を用い
て順次下方に移動させ、イオン注入処理を行なうもので
ある。

上述の従来例は、ウェハ搬送用の駆動装置が不要という
利点を有するが、次の如き問題がある。

即ち、ホトレジスト層を設けたウェハの場合には、（ａ
）搬送途中でひっかかりを生じて作業の一時中断を招い
たり、（ｂ）ストッパによりウェハを停止させる際、ウ
ェハ端部に付着したレジスト層及びウェハ端部自体が破
壊して所謂パーティクル（塵）発生の原因となっていた
。更に、ウェハにホトレジスト層を設けない場合であっ
ても、上記（ａ）の問題を完全に除去できず、更に上記
（ｂ）と同様にウェハ端部自体の損傷によるパーティク
ル発生が問題となっていた。

更に、従来の装置は、ウェハ・カセットから順次イオン
注入部に搬入されたウェハは、イオン注入後、別のウェ
ハ・カセットに収納されるため、ウェハ管理、即ち、生
産管理上程々の不都合があった。

［発明の目的］本出願に係る発明の目的は、上述の従来例の欠点を除去
したイオン注入装置のウェハ搬送装置を提供することで
ある。

本出願に係る第１発明は、予備真空室から真空処理室に
搬入されたウェハを、同期して動作する２個の駆動手段
を用いて挟持搬送することによリ、上述の目的を達成す
るイオン注入装置のウェハ搬送装置に関する。

更に、本出願に係る第２の発明は、上述の第１発明の特
徴の外に、新規なウェハ搬送システムにより、ウェハ争
カセットから順次取り出したウェハを、イオン注入後、
同一のウェハ・カセットに収納すると共に、塵発生の虞
が極めて少ないイオン注入装置のウェハ搬送装置に関す
る。

［発明の概要］本願発明は、真空処理室においてウェハにイオンを注入
する装置に関し、第１及び第２予備真空室と、前記真空
処理室の第１所定位置と前記第１予備真空室との間でウ
ェハの移動に関与する第１ウェハ移動手段と、前記真空
処理室の第２所定位置と前記第２予備真空室との間でウ
ェハの移動に関与する第２ウェハ移動手段と、前記真空
処理室の内部においてウェハを挟持して搬送するウェハ
挟持搬送手段とを有し、該ウェハ挟持搬送手段は、前記
第１所定位置とイオン注入部の間、及び該イオン注入部
と前記第２所定位置の間とで、ウェハを挟持して搬送す
るイオン注入装置のウェハ搬送装置に関する。

更に、本願発明は、複数のウェハを収納したウニへ〇カ
セットから順次ウェハを取り出し、真空処理室において
ウェハにイオンを注入し、イオン注入済のウェハを順次
前記ウェハ・カセットに収納する装置に関し、（ａ）夫
々ウェハ・カセットを載置する少なくとも２個のウェハ
・カセット載置部と、（ｂ）回転可能で且つ進退自在の
ウェハ保持部を有し、回転及び進退運動によりウェハの
授受を行なう第１及び第２ウェハ転送手段と、（ｃ）回
転部を有し、該第１又は第２ウェハ転送手段から受けた
ウェハの位置を調整するウェハ・アライメント手段と、
（ｄ）前記第１及び第２ウェハ転送手段と夫々ウェハの
授受を行なう第１及び第２の予備真空室と、（ｅ）前記
真空処理室の第１所定位置と前記第１予備真空室との間
のウェハの移動に関与する第１のウェハ移動手段と、（
ｆ）前記真空処理室の第２所定位置と前記＄２の予備真
空室との間のウェハの移動に関与する第２のウェハ移動
手段と、（ｇ）前記真空処理室の内部においてウェハを
挟持して搬送するウェハ挟持搬送手段とを具え、前記第１ウェハ転送手段は、前記少なくとも２個のウェ
ハ・カセット載置部の一方に設けたウェハ・カセットと
、前記第１予備真空室と、前記ウェハ・アライメント手
段とでウェハ授受が可能であり、前記第２ウェハ転送手
段は、前記少なくとも２個のウェハ・カセット載置部の
他方に設けたウェハ争カセットと、前記第２予備真空室
と、前記ウェハ争アライメント手段とでウェハ授受が可
能であり、前記ウェハ挟持搬送手段は、前記第１所定位
置とイオン注入部の間、及び該イオン注入部と前記第２
所定位置の間とで、ウェハを挟持して搬送するイオン注
入装置のウェハ搬送装置に関する。

［実施例］以下、添付の第１図乃至第４図を参照して本願発明の詳
細な説明する。尚、図面中、対応する個所には同一の参
照番号を付しである。

第１図は、真空処理室及び予備真空室の外部でのウェハ
搬送を説明するための概略斜視図である。尚、第１図に
おいて、Ｗはウェハを示す。

第１図に示す装置は、ウェハ・カセット１装置台１０及
び１２、昇降装置を内部に有する昇降装置部１４及び１
６、ウェハ転送手段１８及び２０゜ウェハ・アライメン
ト手段２２、予備真空室２４及び２６、内部に真空処理
室等を有するチャンバ２８等から成る。

ウェハ・カセットａ置台１０には、ウェハーカセット１
１が置かれ、このカセットの内部には。

複数枚のウェハが収納されている。昇降装置部１４に設
けた昇降装置は、ウェハ・カセット載置台１０を昇降（
即ち、ウェハ・カセット１１を昇降）させるためのもの
であり、この昇降装置及びウェハ転送手段１８により、
所定の位置からウェハを取り出し、或いはイオン注入済
のウェハを所定位置に収納する。

尚、ウェハ・カセツ［６７置台１２にも、ウェハ・カセ
ツ、ト（図示せず）が置かれ、このウェハ・カセットの
内部にも複数枚のウェハが収納されている。上述の場合
と同様に、ウェハ・カセット載置台１２は、昇降装置部
１６の内部に設けた昇降装置により昇降する。この昇降
装置及びウェハ転送手段２０により、ウェハ・カセット
の所定の位置からウェハを取り出し、或いはイオン注入
済のウェハをカセットの所定位置に収納する。

ウェハ転送手段１８は、回転可能で且つ進退自在のウェ
ハ保持部４０を有し、ウェハ・カセット１１との間でウ
ェハの授受（即ち、カセットからのウェハの取出し及び
カセットへのウェハの収納）を行なう０例えば、ウェハ
・カセツ）１１からウェハを取り出す場合には、ウェハ
保持部４０を回転させて一方の端部をウェハ・カセット
ｌｌの方向に向けた後、ウェハ保持部４０をウェハ・カ
セット１１の方向に延ばす（或いは、ウェハ保持部４０
を、回転と同時に前進させてもよい）。

尚、ウェハ・カセット１１の内部のウェハを、ウェハ保
持部４０に載せる際、昇降装置或いはウェハ保持部４０
の動作を次のようにすることが必要である。即ち、ウェ
ハ保持部４０の先端部がウェハーカセット１１の内部に
延びる際、ウェハ保持部４０の上面を所望のウェハの下
面より低くし、ウェハ保持部４０が所定位置（ウェハを
載せる位置）にくると、昇降装置によりウェハ・カセッ
ト１１を僅か下げるか、或いは、ウェハ保持部４０を僅
か上げるようにする。後者の場合、即ち、ウェハ保持部
４０を僅か上げる場合には、当然のことながら、ウェハ
転送手段１８に適当な昇降手段を設ける必要がある。上
述の説明はウエハーカセツ）１１からウェハを取り出す
動作であるが。

逆の操作、即ち、ウェハ命カセット１１にウェハを収納
する場合には、逆の動作が必要である。

尚、ウェハ・カセット載置台１２に設けたウェハ・カセ
ットと、ウェハ転送手段２０（ウェハ保持部４２を有す
る）とのウェハの授受は、上述の場合と同様なので、説
明を省略する。

ウェハ保持部４０は、上述のウェハ拳カセット１１との
ウェハの授受の外に、ウェハ・アライメント手段２２及
び予備真空室２４との間でもウェハの授受を行ない、一
方、ウェハ保持部４２も、同様に、ウェハ・カセット載
置台１２に設けたウェハ・カセット（図示せず）とのウ
ェハの授受の外に、ウェハ・アライメント手段２２及び
他の予備真空室２６との間でもウェハの授受を行なう。

ウェハ・アライメント手段２２は、ウェハ転送手段１８
又は２０から受けたウェハのエツジを検出して、ウェハ
を所定位置とする手段であり、回転可能のウェハ載置台
（ウェハの下にある）、及びエツジ検出手段４４（例え
ば、ホトセンサ対）を有する。ウェハ・アライメント手
段２２において位置決めされたウェハは、ウェハ保持部
４０又は４２により、次のステップに移される。

尚、第１図において、予備真空室２４は、外部（アウタ
ー）ゲート３０により大気雰囲気と気密状態が維持され
、一方、他の予備真空室２６は、外部ゲート３２により
大気雰囲気と気密状態が維持される。第１図の参照番号
３３及び３４は、夫々予備真空室２４及び２６内部を予
備真空引きする際に使用するバルブ等を収納する国体で
あり。

参照番号３５及び３６は、夫々、予備真空室２４及び２
６の上部に設けたのぞき窓（例えばガラス製）である、
尚、参照番号４６及び４７は夫々ウェハ保持部材４０及
び４２の前進・後退用の駆動装置であり、４８及び４９
は塵よけ用のカバーである。このカバーの上面はウェハ
保持部材４０及び４２の上面より低くなっている。

以下、第１図を参照して、真空処理室及び予備真空室の
外部（即ち、大気雰囲気中）でのウェハ搬送の一例を説
明する。

先ず、ウェハ會カセット１１内のウェハは、総てイオン
注入前のウェハとする。昇降装置部１４内の昇降装置は
、ウェハーカセット載置台１０を上下方向に移動させ、
所望のウェハがウェハ転送手段１８により搬出される位
置とする０次に、ウェハ保持部材４０が回転して前進（
或いは回転且つ前進）シ、ウェハ・カセット１１内の所
望のウェハを取り出す、尚、ウェハ保持部材４０は、回
転する際、回転に支障のない位置になければならないこ
とは勿論である６次いで、ウェハ保持部材４０は、後退
してウェア・アライメント手段２２の方向に回転し、再
び前進してウェアψアライメント手段２２にウェハを渡
す、その後、ウェハ保持部材４０は、ウェハ・カセット
１１から次のウェハを取り出す動作に移る。

ウェア・アライメント手段２２は、回転可能のウェハ載
置台及びウェハ・エツジ検知手段４４により、ウェハの
エツジを検出し、ウェハを所定位置とする０次に、別の
ウェハ転送手段２０は、位置決めされたウェハをウェア
・アライメント手段２２から受は取り、回転及び前進運
動により、ウェハを、外部ゲート３２を介して、予備真
空室２６に搬入する。

予備真空室２６に搬入されたウェハは、後述するウェハ
搬送によりイオンが注入され、別の予備真空室２４から
、外部ゲート３０を介して、ウェハ転送手段１８により
搬出される。ウェハ転送手段１８により搬出されたウェ
ハは、既に説明した昇降装置の上下位置制御等により、
ウェハ・カセツ）１１内部の所定位置（例えば元の位置
）に収納される。

上述したように、ウェハ転送手段１８は、イオン注入前
のウェハをカセットｌｌからウェハ・アライメント手段
２２に転送すると共に、イオン注入済のウェハを予備真
空室２４からカセット１１に搬入する機能を有する。こ
の２つの動作を効率良く行なうためには、例えば、イオ
ン注入前のウェハをウェハ・アライメント手段２２に渡
した後、ウェハ・カセット１１に向う途中で、予備真空
室２４からウェハを搬出してウェハ争カセット１１に収
納した後、カセット１１から次のウェハを取り出してウ
ェハ・アライメント手段２２に渡し、以後この動作を繰
り返えせばよい、このように、ウェハφカセットｌｌ内
のウェハを順次搬入し、イオン注入後、再びカセツ）１
１に収納する。

カセット１１内部の全部のウェハに対してイオン注入を
完了したら、次に、別のウニへ〇カセット載置台１２に
設けたカセット（図示せず）内のウェハを、上述したと
同様に処理する。この間に、ウェハ・カセット載置台１
０に、新たなウェハ・カセットを設置するようにすれば
、イオン注入作業を円滑にすることができる。尚、ウェ
ハ・カセット載置台１２に設けたカセットのウェハを処
理する場合には、ウェハ転送手段２０が、上述したウェ
ハ転送手段１８と同様の動作をすることは勿論である。

第２図は真空処理室５０（チャンバ２８（第１図）の内
部に存在する）でのウェハ搬送を説明するための概略平
面図であり、第３図は予備真空室２４．２６及び真空処
理室５０でのウェハ搬送を説明するための概略断面図で
ある。一方、第４図は第３図の２個のウェハ移動手段が
共に上方に移動した様子を示す概略断面図である。

第２図及び第３図において、ウェハ挟持搬送手段５２は
、左側方向（図面上）方向からウェハを保持する挟持部
材５２Ａと、右側方向（図面上）方向からウェハを保持
する挟持部材５２Ｂとを有する０図示の如く、挟持部材
５２Ａは２木の腕５２Ａ−１及び５２Ａ−２を有し、一
方、他の挟持部材５２Ｂも２本の腕５２Ｂ−１及び５２
Ｂ−２を有する。挟持部材５２Ａ及び５２Ｂは、夫々、
同期して動作する駆動手段５４及５６（第３図）１例え
ば、ステッピング・モータ或いはブラシレスＤＣ（直流
）モータ等、によりベルト等（図示せず）を介して駆動
される。腕５２Ａ−１，５２Ａ−２，５２Ｂ−１及び５
２Ｂ−２は、夫々、第３図に示すように、略り字型の断
面を呈している。したがって、これらの腕は、ウェハを
挟持すると共にウェハを保持している。尚、これらの腕
の動きを適当に制御すれば、ウェハを挟持せず、単に保
持するようにすることも可能である。

ウェハ挟持搬送手段により、例えば、第２図の右側のウ
ェハＷｌを中央のイオン注入部に移送すると共に、中央
のウェハＷ２を左側に位置に移送する場合には、第２図
に示した挟持部材５２Ａ及び５２Ｂは、夫々、左及び右
方向に僅かだけ移動してウェハＷ１及びＷ２を挟持する
６次に、挟持部材５２Ａ及び５２Ｂは、左方向に移動し
、夫々、右及び左方向に僅かだＬす移動して挟持してい
たウェハＷ１及びＷ２を開放する。このときの５２Ａ−
１及び５２Ｂ−１の位置を破線で示す、逆の場合（左及
び中央位置にあるウェハを夫々中央及び右側位置に移送
する場合）も、上述の説明から容易に理解される。尚、
挟持部材５２Ａ及び５２Ｂは、ウェハは搬送する際、僅
かだけ上方に移動した後、平行移動する。このように、
ウェハ挟持搬送手段５２は１丁度シャトルの如き運動を
する。

ウェハＷｌは、第３図に示すように、ウェハ寸法に応じ
て交換可能のウェハ・プラテン６０上に載置され、この
プラテン６０は、予備真空室２６と真空処理室５０との
間の気密保持を目的とする（第４図参照）内部（インナ
ー）ゲート６２の上に設けられている。内部ゲート６２
は適当な昇降手段（油圧或いは空気圧装置）６４及び制
御手段（図示せず）により昇降が制御される。上述の内
部ゲート６２及び昇降手段６４等は、ウェハ移動手段６
５を構成する。更に、第３図の左側には。

上述の構成と同様に、ウェハの寸法に応じて交換可能の
ウェハ・プラテン７０、予備真空室２４と真空処理室５
０との間の気密保持を目的とする内部ゲート７２、この
内部ゲート７２を上下に移動させる昇降手段（油圧或い
は空気圧装置）７４が設けられている。内部ゲート７２
及び昇降手段７４等は、ウェハ移動手段７５を構成する
。

第２図及び８３図のイオン注入部５８には、ウェハを直
接載置し且つウニへの寸法に応じて交換可能のウェハ・
プラテン８０、このプラテン８０を支持するプラテン８
２、ウェハ押え８４、プラテン８２を回動させてウェハ
をイオン注入位置又は挟持搬送位置とする際のＭＢ２等
がある。軸８６は、磁気シールドベアリング８８等を介
して装置の外部に設けた駆動手段９０により駆動される
。プラテン８２の内部にはイオン注入によって発生する
熱を吸収する冷媒が循環するようになっており、冷媒は
パイプ９２を介してプラテン８２内を循環する。ウェハ
押え８４は、軸９３を介して駆動装置９４により制御さ
れ、軸８６を中心として回動して開閉される１番号９６
は、イオンの飛来方向を示す。

第４図は、第３図のウェハ移動手段６５及び７５を上方
に移動させ、夫々、予備真空室２６及び２４と、真空処
理室５０とを気密状態にした様子を示す図であり、各構
成要素は第３図に関連して既に説明したので、第４図の
説明は省略する。

次に、第２図乃至第４ｒＩ！ｉを参照して、予備真空室
２４及び２６、真空処理室５０でのウェハ搬送の一例を
説明する。尚、以下の説明におけるウニへ搬送は単なる
例示であり、本発明はこれに限定されるものではない。

説明を判りやすくするため、ウェハ・カセット１１（第
１図）から第１枚目のウェハが、ウェハ転送手段１８及
びウェハ・アライメント手段２２を介して、ウェハ転送
手段２０（第１図）により、予備真空室２６に搬入され
たとする。尚、外部ゲート３２及び３０は同期して動作
し、ウェハ移動手段６５及び７５も同期して動作するの
が望ましいが、絶対的なものではない、第１枚目のウェ
ハを、予備真空室２６に搬入する際には、ウェハ移動手
段６５及び７５は、第４図の状態となっている。尚、外
部ゲート３２（及び３０）を開く際には、予備真空室２
６（及び２４）内に例えばチッソガスを封入し、予備真
空室内を略大気圧とすることは、従来例と同様である。

予備真空室２６にウェハが収納されると、外部ゲート３
２を閉じ、予備真空室２６（及び２４）内部を所定値（
例えばｌ　Ｏ丁ｏｒｒ　）まで予備真空引きする。

その後、ウェハ移動手段６５及び７５を第３図に示す所
定位置まで下げる。尚、真空処理室５０は常時真空引き
され所定値（例えば１ＯＴｏｒｒ）に維持されるように
なっている０次に、第１枚目のウェハを、第２図に示す
ウェハ挟持手段５２により中央のイオン注入部５８に移
送し、ウェハ挟持搬送手段５２を第２図の位置に戻す０
次に、ウェハ移動手段６５を第４図に示す位置に戻し、
外部ゲート３２を開いて第２枚目のウェハを受は入れ、
予備真空室２６の内部を予備真空引きする。

尚、ウェハ挟持搬送手段５２によりウェハをイオン注入
部に移送する前に、ウェハ押え８４は開いた状態になっ
ている。ウェハがウェハ・プラテン８０に載置されると
、ウェハ押え８４を閉じてウェハを押え、プラテン駆動
装置９０により、ウェハをイオン注入位置とした後イオ
ン注入処理を行なう、イオン注入後、再びプラテン駆動
装置９０を動作させて、プラテン８２を第３図に示す位
置とし、ウェハ押え８４を開放する。

この間（例えば、イオン注入直後）に、第２枚目のウェ
ハを載置したウェハ移動手段６５を下げて第３図に示す
位置とし、ウェハ挟持搬送手段５２により、第１枚目の
ウェハ（イオン注入済）及び第２枚目のウェハを、夫々
、ウェハ・プラテン７０及び８０上に移動させる。この
直後に、ウェハ挟持搬送手段を第２図に示す位置とした
後、ウェハ移動手段６５及び７５を上昇させる。

第２枚目のウェハにイオン注入を行なっている間に、予
備真空室２６には第３枚目のウェハが搬入され、一方、
他の予備真空室２４からは第１枚目のウェハが搬出され
る。尚、外部ゲート３０及び３２を開く場合、予備真空
室に、例えば、チッソガス等を注入することは上述した
。

その後（例えば第２枚目のウェハへのイオン注入直後）
、ウェハ移動手段６５及び７５を所定位置まで下げ、ウ
ェハ挟持搬送手段５２により、第３枚目のウェハを真空
処理室５０に（ウェハ・プラテン８０の上に）移送する
と共に、第２枚目のウェハを左側のウェハのプラテン７
０上に移す。

以後のウェハの動きは、上述の場合から明らかである。

［変更・変形例］上述の説明では、２個のウェハ・カセットは、第１図に
示すように、装置の夫々の端部に設けられている。しか
し、これに限らず、装置の手前に設けるようにしてもよ
い、更に、第１図に示す２個のカセット昇降装置の外に
、装置の手前に新たなカセット昇降装置を２個設け、合
計４個のウェハ・カセットを配置することも可能である
。

［発明の効果］以上、説明したように１本出願に係る発明によれば、一
方の予備真空室から真空処理室に搬入されたウェハを、
イオン注入後、他方の予備真空室に搬出するために、ｒ
ｆ！１期して動作する２債の駆動手段を用いてウェハを
挟持搬送することにより、塵の発生の極めて少ないイオ
ン注入装置のウェハ搬送装置を実現できる。

更に、本出願に係る発明によれば、ウニへ〇カセットか
ら順次取り出したウェハを、イオン注入後、同一のウェ
ハ・カセットに収納することがでるので、ウェハ管理面
の効果が大である。

更に、イオン注入処理は短時間で終了するので、上述し
たように、４個のウェハ・カセットを設けることはイオ
ン注入作業において非常に効果的である。特に、本発明
に係る装置によれば、カセットから搬出したウェハを、
イオン注入後、同一のカセットに収納できることを考慮
すると、上述の４個のウェハ・カセットを設けることは
、生産効率の観点から極めて有効といえる。

【図面の簡単な説明】

第１図は真空処理室及び予備真空室の外部でのウェハ搬
送を説明するための概略斜視図、第２図は真空処理室の
内部でのウェハ搬送を説明するための概略平面図、第３
図は予備真空室及び真空処理室でのウェハ搬送を説明す
るための概略断面図、第４図は第３図の２個のウェハ移
動手段が共に上方に移動した様子を示す概略断面図であ
る。１０．１２：ウエハ會カセット載置台１１：ウェハ・カセット１８．２０：ウェハ転送装置２２：ウェハ・アライメン手段２４．２６：予備真空室４０．４２：ウェハ保持部材５０：真空処理室５２：ウェハ挟持搬送手段６０．７０．８０：ウェハ・プラテン６５．７５：ウエハ移動手段

Claims

【特許請求の範囲】

（１）真空処理室においてウェハにイオンを注入する装
置に関し、第１及び第２予備真空室と、前記真空処理室
の第１所定位置と前記第１予備真空室との間でウェハの
移動に関与する第１ウェハ移動手段と、前記真空処理室
の第２所定位置と前記第２予備真空室との間でウェハの
移動に関与する第２ウェハ移動手段と、前記真空処理室
の内部においてウェハを挟持して搬送するウェハ挟持搬
送手段とを有し、該ウェハ挟持搬送手段は、前記第１所
定位置とイオン注入部の間、及び該イオン注入部と前記
第２所定位置の間とで、ウェハを挟持して搬送するイオ
ン注入装置のウェハ搬送装置。
（２）前記ウェハ挟持搬送手段は、第１及び第２の腕を
有する第１挟持部材と、第３及び第４の腕を有する第２
挟持部材とを具え、前記第１及び第２挟持部材は夫々同
期して動作する２個の駆動手段により駆動される特許請
求の範囲第１項記載のイオン注入装置のウェハ搬送装置
。
（３）前記第１ウェハ移動手段は、前記第１予備真空室
と前記真空処理室との間の真空ゲートを兼ね、前記第２
ウェハ移動手段は、前記２予備真空室と前記真空処室と
の間の真空ゲートを兼ねる特許請求の範囲第１項記載の
イオン注入装置のウェハ搬送装置。
（４）複数のウェハを収納したウェハ・カセットから順
次ウェハを取り出し、真空処理室においてウェハにイオ
ンを注入し、イオン注入済のウェハを順次前記ウェハ・
カセットに収納する装置に関し、（ａ）夫々ウェハ・カ
セットを載置する少なくとも２個のウェハ・カセット載
置部と、（ｂ）回転可能で且つ進退自在のウェハ保持部
を有し、回転及び進退運動によりウェハの授受を行なう
第１及び第２ウェハ転送手段と、（ｃ）回転部を有し、
該第１又は第２ウェハ転送手段から受けたウェハの位置
を調整するウェハ・アライメント手段と、（ｄ）前記第
１及び第２ウェハ転送手段と夫々ウェハの授受を行なう
第１及び第２の予備真空室と、（ｅ）前記真空処理室の
第１所定位置と前記第１予備真空室との間のウェハの移
動に関与する第１のウェハ移動手段と、（ｆ）前記真空
処理室の第２所定位置と前記第２の予備真空室との間の
ウェハの移動に関与する第２のウェハ移動手段と、（ｇ
）前記真空処理室の内部においてウェハを挟持して搬送
するウェハ挟持搬送手段とを具え、前記第１ウェハ転送手段は、前記少なくとも２個のウェ
ハ・カセット載置部の一方に設けたウェハ・カセットと
、前記第１予備真空室と、前記ウェハ・アライメント手
段とでウェハ授受が可能であり、前記第２ウェハ転送手
段は、前記少なくとも２個のウェハ・カセット載置部の
他方に設けたウェハ・カセットと、前記第２予備真空室
と、前記ウェハ・アライメント手段とでウェハ授受が可
能であり、前記ウェハ挟持搬送手段は、前記第１所定位
置とイオン注入部の間、及び該イオン注入部と前記第２
所定位置の間とで、ウェハを挟持して搬送するイオン注
入装置のウェハ搬送装置。
（５）前記少なくとも２個のウェハ・カセット載置部の
夫々は、昇降可能である特許請求の範囲第４項記載のイ
オン注入装置のウェハ搬送装置。
（６）前記ウェハ挟持搬送手段は、第１及び第２の腕を
有する第１挟持部材と、第３及び第４の腕を有する第２
挟持部材とを具え、前記第１及び第２挟持部材は夫々同
期して動作する２個の駆動手段により駆動される特許請
求の範囲第４項記載のイオン注入装置のウェハ搬送装置
。
（７）前記第１ウェハ移動手段は、前記第１予備真空室
と前記真空処理室との間の真空ゲートを兼ね、前記第２
ウェハ移動手段は、前記２予備真空室と前記真空処室と
の間の真空ゲートを兼ねる特許請求の範囲第４項記載の
イオン注入装置のウェハ搬送装置。