JPH0329258A - イオン注入装置およびイオン注入方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、イオンビームを電気的に走査すると共に、
それと実質的に直交する方向にウェーハを機械的に走査
するいわゆるハイブリッドスキャン方式のイオン注入装
置およびイオン注入方法に関する。

〔従来の技術〕

この種のイオン注入装置の従来例を第８図に示す。

即ち、図示しない走査手段によってイオンビーム２をＸ
方向（例えば水平方向。以下同し）に電気的に走査して
注入室（図示省略）内に導くと共に、ウェーハ４を保持
するホルダ１３０を注入室内に設け、これをホルダ駆動
装置１３６，によって注入室内でＸ方向に直交するＹ方
向（例えば垂直方向．以下同じ）に機械的に走査するよ
うにしている。

ホルダ駆動装置１３６は、簡単に言えば、ホルダ１３０
をウェーハ４に対するイオン注入のための垂直状態とウ
ェーハ４のハンドリングのための水平状態との間で回転
させるホルダ起立装置１３２およびホルダ１３０をこの
ホルダ起立装置ｌ３２と共にＹ方向に昇降させて機械的
に走査するホルダ昇降装置１３４を備えている。

〔発明が解決しようとする課題〕

ところが、上述の構成によれば、ホルダ昇降装置１３４
としては、モータによる回転運動を例えばウォーム歯車
等を用いて直線運動に変換する機構を用いているので、
そのストロークが長くなり、これら機構全体を注入室内
に収納すると真空容器が大きくなり、この種のイオン注
入装置の大型化を招来する。

また、ホルダ昇降装置１３４を大気中に配置すると、ホ
ルダ１３０を昇降させる直線運動を行うスライド軸１３
３が、真空中である注入室と大気中との間を移動するた
め、その際空気等の巻き込み等が無いよう配慮する必要
がある。例えば、真空容器を貫通する前記スライド軸１
３３が、複数に区画された室内を非接触状態でスライド
するように構或すると共に、各室内をそれぞれ別個の真
空ポンプで差動排気するようにしたいわゆるダイナミッ
クバキュームシール方式が試みられているが、その構戒
が極めて複雑である他、注入室の到達真空度が悪く、そ
のため注入室用の真空ポンプの能力アップを図る必要が
ある、等といった不具合がある。

そこでこの発明は、上述の事柄に鑑み、殊更前述したよ
うなダイナξツクバキュームシール方式を用いないで、
ウェーハを保持するホルダを支えるアームをモータの回
転運動により揺動回転せしめ、それによってウェーハを
イオンビームが走査されるＸ方向と実質的に直交するＹ
方向に機械的に走査するようにしたイオン注入装置およ
びイオン注入方法を提供することを主たる目的とする。

〔課題を解決するための手段〕

上記目的を達威するため、この発明のイオン注入装置は
、Ｘ方向に電気的に走査されたイオンビームが導かれる
注入室と、この注入室内にあってウェーハを保持するホ
ルダと、このホルダを支えるアームを揺動回転させて当
該ホルダを注入室内でＸ方向と実質的に直交するＹ方向
に機械的に走査するホルダ駆動装置とを備えることを特
徴とする。

また、この発明のイオン注入方法は、イオンビームをＸ
方向に電気的に走査すると共に、ウェーハを保持したホ
ルダを支えるアームを前記Ｘ方向と実質的に直交するＹ
方向に機械的に走査し、かつ前記ホルダを前記アームの
回転方法と逆方向に同じ角度回転させるようにしてウェ
ーハにイオンを注入するようにしたことを特徴とする．
〔作用〕 上記構成によれば、ホルダに保持されたウェーハは、ホ
ルダと共に、ホルダ駆動装置によって、イオンビームの
走査方向であるＸ方向と実質的に直交するＹ方向に機械
的に走査される。

その際、ホルダをアームの揺動回転に応じて上記のよう
に回転させると、機械的走査時のウェーハの姿勢を一定
にすることができる。

〔実施例〕

第ｌ図は、この発明の一実施例に係るイオン注入装置の
要部を示す水平断面図である。この例では、イオンビー
ム２のビームラインの左右に同し機構がほぼ左右対称に
設けられているので、以下においては主に右側（図の右
側）を例に説明する。

この実施例においては、図示しない真空ポンプによって
真空排気される注入室６内に、その導入口６ａから、Ｘ
方向に電気的に走査され、更に平行ビーム化されたイオ
ンビーム２が導入される。

イオンビーム２を平行ビーム化する走査手段の一例を第
２図に示す。即ち、イオン源１１０から引き出され、か
つ必要に応じて質量分析、加速等が行われたイオンビー
ム２を、同一の走査電＃ｌｌ６から互いに逆極性の走査
電圧（三角波電圧）が印加される二組の走査電極１１２
および１１４の協働によってＸ方向に走査して、走査電
極１１４から出射した時に平行ビームになるようにして
いる。もっとも、この例と違って、イオンビーム２を磁
場を利用して上記と同様に走査するようにしても良い。

第１図に戻って、上記のような処理室６の左右に、この
実施例では二つの互いに同一構造のホルダ駆動装置ＩＯ
が設けられている。

この発明に用いられるホルダ駆動装置ｌＯは、少なくと
もホルダ８を支えるアーム４６を揺動回転させることに
より、ホルダ８に保持されたウェーハ４を注入室６内で
Ｘ方向に実質的に直交するＹ方向に機械的に走査する機
能を有することを特徴とする． 図示例の各ホルダ駆動装置ｌＯは、この実施例では、注
入室６の側壁に真空シール軸受ｌ２を取り付け、それに
支持軸１４を貫通させ、その大気側（注入室６外側）に
歯車ｌ６を取り付け、注入角可変用のモータ２０および
歯車１８によって、支持軸ｌ４を矢印Ａのように回転さ
せて、その先にアーム４６を介して取り付けられたホル
ダ８を設定された注入角位置と、ウェーハ４のハンドリ
ングのための水平位置とに駆動するようにしている。

支持軸ｌ４の真空側（注入室６内側）には、真空シール
軸受３８によって中空のアーム軸４０およびアーム４６
を回転自在に支えている．このアーム軸４０は、支持軸
ｌ４を図示のような状態に回転させることによって、イ
オンビーム２の進行方向（ほぼ平行な姿勢を取ることが
できる。

アーム軸４０の一端には、伝達手段を構成するものとし
て、プーリー３６を取り付けると共に、タイミングベル
ト３２によって、支持軸ｌ４の大気側に取り付けた可逆
転式のモータ２４およびプーリー２８と連結しており、
このモータ２４によってアーム軸４０を正逆両方向に回
転駆動してアーム４６を矢印Ｂのように揺動回転させて
ホルダ８をＸ方向と実質的に直交するＹ方向（この例で
は紙面表裏方向）に機械的に走査するようにしている． アーム４６の先端部には真空シール軸受５２を取り付け
、ホルダ軸５４およびホルダ８を回転自在に支えている
。このホルダ軸５４は、支持軸１４を図示のような位置
に回転させることによって、イオンじ−ム２の進行方向
にほぼ平行な姿勢を取ることができる．そしてその先端
部に、ウェーハ４を保持するホルダ８がほぼ直角に取り
付けられている．ホルダ８は、この例ではベース８ａと
、それとの間にウェーハ４を扶持するウェーハ押え８ｂ
と、ウェーハ４を昇降させるウェーハ受け８Ｃとを備え
ている。

ホルダ軸５４にはプーリー５０が取り付けられている．
また、アーム軸４０の中心部には中間軸４２が回転自在
に通されており、その両端にはプーリー３４および４４
が取り付けられている。このプーリー４４と５０とは互
いに同一直径であり、それらと共に連結手段を構威する
タイ箋ングベルト４８で互いに連結されている．従って
、ホルダ軸５４と中間軸４２とは同一の回転比で連結さ
れている。

また、支持軸１４の大気側に取り付けたステップ回転用
のモータ２２およびプーリー２６とプーリー３４とをタ
イミングベルト３０で連結しており、このモータ２２に
よってホルダ８を例えば矢印Ｃのように段階的に回転さ
せることができるようにしている．但し注入時の回転は
行わないようにしており、その場合はアーム軸４０が矢
印Ｂのように回転しても中間軸４２はアーム軸４０と一
緒には回転しない。

尚、上記タイミングベルト３０、３２および４８の代わ
りにチェーンを用いても良く、その時はそれに関連する
プーリーをチェーン歯車にすれば良い。

この実施例における走査時のホルダ８の姿勢を第３図を
も参照して説明すると、上述したようにその時はモータ
２２は停止しており、従って中間軸４２およびプーリー
４４は停止状態にある。この状態でモータ２４によって
、プーリー２８、タイξングベルト３２およびプーリー
３６を介してアーム４６を例えば第３図に示すように時
計方向にθ゜回転させた場合、アーム４６側から見ると
プーリー４４は反時計方向にθ゜回転したことになり、
タイξングベルト４８で接続してあるプーリー４４と同
一直径のプーリー５０は、アーム４６側から見ると反時
計方向にθ゜回転する。従って、ホルダ８およびそれに
保持されたウェーハ４は、アーム４６の長さを半径にＹ
方向に円弧を描くように走査されるが、絶対回転角は０
゜であってその姿勢は不変である。従って例えば、ホル
ダ８にウェーハ４をそのオリエンテーションフラット４
ａを下側にして装着した場合、ホルダ８の走査位置に拘
わらず常にオリエンテーションフラン｝４ａは下側にな
る。

上記例のように機械的走査時のウェーハ４の姿勢を一定
に制御することは必須ではないが、姿勢を一定に制御す
ると、ウェーハ４の姿勢が変化することによる不具合、
例えばウェーハ４がアーム４６の揺動回転に伴ってわず
かに回ってその中心部と周辺部とでドーズ量に差が生じ
（より具体的には前者の方が多くなる）、またイオンビ
ーム２が平行ビームでない場合にウェーハ４の結晶に対
する注入角が変化してイオンの注入深さが変化すること
等を防止することができ、それによってウェーハ面内に
おけるドーズ量や注入深さ等の注入の均一性が一層向上
する。

但し、ホルダ８をアーム４６の揺動回転に応じて上記の
ように、即ちアーム４６の回転方向と逆方向に同じ角度
回転させる手段は、必ずしも上記実施例のものに限定さ
れるものではない。

また、上記例のようにイオンビーム２を平行ビーム化す
ることも必須ではないが、平行ビーム化すると、イオン
ビームが角度を持って走査されることによる不具合、例
えばウェーハ４上の各点においてイオンビームの入射角
が異なり、ウェーハ４上に立体的な構造が形威されてい
る場合、場所によって陰のでき方が異なること等を防止
することができ、それによってウェーハ面内における注
入の均一性が一層向上する． なお、アーム４６の制御については、例えばイオンビー
ム２のビーム電流に比例してアーム４６の角速度を制御
すれば、ウェーハ４の面内においてドーズ量の均一なイ
オン注入が可能になる。

ホルダ８を第１図中に２点鎖線で示すウェーハ４のハン
ドリング位置に移動させるには、モータ２０によってホ
ルダ８を水平状態にすると共に、モータ２４によってホ
ルダ８を壁側に移動させれば良く、そのようにすればホ
ルダ８は結果的に矢印Ｄのように移動したことになる． 注入室６の後方部左右の底部には、ウェーハ４を注入室
６内と大気側との間で１枚ずつ出し入れ（アンロードお
よびロード）するための真空予備室８０がそれぞれ隣接
されている． この真空予備室８０の部分の断面図を第４図および第５
図に示す。第４図は真空予備室８０の真空側弁８８が閉
じかつ大気側弁９０が開いた状態を、第５図は真空側弁
８８が開きかつ大気側弁９０が閉じた状態を示す。但し
、第５図には、後述するウェーハ搬送装置６０の一部分
をも便宜上示している。

詳述すると、注入室６の底部に、真空ボンブ９２によっ
て真空排気される真空予備室８０が設けられており、そ
の上部には注入室６との間を仕切る真空側弁８８が、下
部には大気側との間を仕切る大気側弁９０が、それぞれ
設けられている．真空側弁８８は注入室６上に設けたエ
アシリンダ８６によって、大気側弁９０は下側のエアシ
リンダ１０２によってガイド軸９８を介して、それぞれ
昇降され開閉される．尚、エアシリンダ８６の上部に設
けたレバー８８およびエアシリンダ８２は、エアシリン
ダ８６をロックするためのものである。

大気側弁９０の上部には、ウェーハ４を載せる回転台９
４が設けられており、この回転台９４は、モータ９６に
よってウェーハ４のオリエンテーションフラット合わせ
等のために回転させられると共に、デュアルストローク
シリンダ１００によってウェーハ４のハンドリング等の
ために２段階に昇降させられる． 再び第ｌ図に戻って、上記のような各真空予備室８０か
ら水平状態にある各ホルダ８にかけての部分に、次のよ
うな構造のウェーハ搬送装置６０がそれぞれ設けられて
いる． 即ち、第６図も参照して、真空予備室８０と水平状態に
あるホルダ８との間のウェーハ４の搬送経路に沿って、
二つの溝付きのプーリー７０および７２間にタイミング
ベルト６８がループ状に懸け渡されている。一方のプー
リー７０には、正転および逆転回能なモータ７４が連結
されている。

そして、このタイミングベルト６Ｂの上側および下側の
部分には、それぞれ連結金具６６を介して、それぞれウ
ェーハ４を載置可能なロード側の搬送アーム６１ａおよ
びアンロード側の搬送アーム装置６ｌｂがそれぞれ取り
付けられている。

また、各搬送アーム６１ａ，６ｌｂが回転せずにタイミ
ングベルト６８に沿って移動するのをガイドするガイド
手段として、この実施例ではボールスプラインを採用し
ている．即ち、各搬送アーム６１ａ，６ｌｂの根元部に
スプライン軸受６４ａおよび６４ｂを取り付けると共に
、それらをそれぞれ貫通する上下２本のスプライン軸６
２ａおよび６２ｂをタイξングベルト６８に平行に配置
している． このようなボールスプラインの代わりに、通常のガイド
軸を２本ずつ用いても良いが、ボールスプラインを用い
れば、１本のスプライン軸で、搬送アームが回転せずに
水平に安定して走行するのをガイドすることができる． 尚、各スプライン軸６２ａ、６２ｂは、簡略化のために
丸棒で図示しているが、実際は、複数のボールの転勤溝
を有する丸棒状あるいは異形状のものである。

次に、上記のようなイオン注入装置の全体的な動作例を
第１図の右側の機構を中心に説明する。

ホルダ駆動装置１０によってホルダ８を第１図中に２点
鎖線で示す水平位置に移動させ、ウェーハ受け８ｃおよ
びウェーハ押え８ｂを図示しない駆動装置によって駆動
して、先に装着していたウェーハ４を下段のアンロード
用の搬送アーム６ｌｂに受け渡しする位置まで上昇させ
る．一方、真空予備室８０側では、第５図を参照して、
デュアルストロークシリンダ１００の上下両方のシリン
ダを動作させて回転台９４を大きく上昇させて２点鎖線
で示すように上段のロード側の搬送アーム６１ａの位置
まで未注入のウェーハ４を持ち上げ、その状態でウェー
ハ搬送装置６０のモータ７４によってタイミングベルト
６８を駆動して、搬送アーム６１ａを真空予備室８０上
の位置に、かつ搬送アーム６ｌｂをホルダ８上の位置に
同時に移動させ、そしてホルダ８のウェーハ受け８Ｃを
降下させて先に注入済のウェーハ４を搬送アーム６ｌｂ
に載せ、一方真空予備室８０側でも回転台９４を降下さ
せて未注入のウェーハ４を搬送アーム６１ａに載せる． 次に、ウェーハ搬送装置６０のモータ７４を先とは逆転
させ、注入済のウェーハ４を載せた搬送アーム６ｌｂを
真空予備室８０上へ、未注入のウェーハ４を載せた搬送
アーム６１ａをホルダ８上へ移動させ、そして真空予備
室８０側ではデュアルストロークシリンダ１００の上側
のシリンダのみを動作させて回転台６４によって搬送ア
ーム６ｌｂよりウェーハ４を受け取り（第５図中の実線
の状態）、ホルダ８側ではウェーハ受け８ｃによって搬
送アーム６１ａよりウェーハ４を受け取る。

次いで、ウェーハ搬送装置６０のモータ７４を再び逆転
させて両搬送アーム６１ａおよび６ｌｂを中間の待機位
置まで移動させ（第１図の状態）、ホルダ８側ではウェ
ーハ受け８ｃおよびウェーハ押え８ｂを降下させてウェ
ーハ４を保持し、ホルダ駆動装置１０によってホルダ８
を第１図中に実線で示すような注入状態まで移動させて
注入４ｔ備は完了する。

一方、真空予備室８０側では、回転台９４を降下させ、
かつ真空側弁８８を閉した後、当該真空予備室８０内を
大気圧状態に戻して大気側弁９０を開き（第４図の状態
）、図示しない大気側の搬送アーム装置によって注入済
のウェーハ４の搬出および次の未注入のウェーハ４の搬
入を行う。このとき並行して、注入室６内では、ホルダ
駆動装置ｌＯによってホルダ８を前述したようにＹ方向
に機械的に走査しながら、当該ホルダ８上のウ工−ハ４
にイオンビーム２を照射してイオン注入が行われる。

以降は、必要に応じて上記と同様の動作が繰り返される
． また、右側の機構と左側との機構との関係を説明すると
、一方の（例えば第１図中の右側の）ホルダ８を上記の
ように走査しながらそこに装着したウェーハ４にイオン
注入を行うことと並行して、他方のホルダ８を水平状態
にしてウェーハ４のハンドリング（即ち注入済のウェー
ハ４の取出しおよび未注入のウェーハ４の装着）を行う
ことができる。即ち、二つのホルダ８において交互にイ
オン注入およびウェーハ４のハンドリングを行うことが
でき、イオン注入およびハンドリングのロス時間が殆ど
なくなるのでスループットが向上する。

しかも、上記のようなホルダ駆動装置１０によれば、従
来のイオン注入装置におけるホルダ駆動装置１３６の場
合と違って、各アーム４６およびホルダ８が円弧状に動
くため、それらが互いに機械的に干渉するのを避けなが
ら二つのホルダ駆動装置１０を互いに近づけて配置する
ことができ、従って当該イオン注入装置の小型化を図る
ことができる。

また、両ホルダ８に対するウェーハ４のハンドリングが
互いに同一条件で、即ちこの例では互いに同一高さでし
かもどちらもウェーハ４の表面を上にして可能になるた
め、ウェーハ４のハンドリングが容易になる． 第７図は、この発明の他の実施例に係るイオン注入装置
の要部を示す垂直断面図である。

この実施例においても、第１図の実施例の場合と同様に
、電気的にＸ方向に走査して平行ビーム化されたイオン
ビーム２が導入される注入室６の左右に、二つの前述し
たようなホルダ駆動装置１０を設け、それによってウェ
ーハ４を装着した各ホルダ８をそれぞれＸ方向と実質的
に直交するＹ方向に機械的に走査するようにしている。

但しこの実施例では、各ホルダ８に対するウェーハ４の
ハンドリングの仕方が異なる。即ち、注入室６内におけ
る各ホルダ駆動装置１０の下部に、カセット１２０を！
ピッチずつ紙面の表裏方向に移動させるカセット駆動機
構１２２がそれぞれ設けられており、各カセット駆動機
構１２２上には、複数枚のウェーハ４を収納したカセッ
ト１２０が、図示しない真空予備室を介して、それぞれ
装着される。

また、各カセット駆動機構１２２の下部は、ウェーハ垂
直搬送装置１２４がそれぞれ設けられている。各ウェー
ハ垂直搬送装置１２４は、先端部にウェーハ４の端部が
入る溝１２８を有していて矢印のように昇降させられる
押上げ板１２６をそれぞれ有しており、これによってウ
ェーハ４をｌ枚ずつカセット１２０とホルダ８との間で
搬送することができる。従ってこの実施例においても、
左右のホルダ８に対するウェーハ４のハンドリングは互
いに同一条件で可能である． この実施例の動作例を説明すると、図の右側のホルダ８
をホルダ駆動装置１０によって実線で示す矢印Ｅのよう
にＹ方向に走査してそこのウ善一ハ４にイオン注入して
いる間に、左側のホルダ駆動装置１０ではアーム４６を
下方に回転させて、ウェーハ垂直搬送装置１２４によっ
てホルダ８に先に装着されていた注入済のウェーハ４を
カセットｌ２０内に搬送すると共に、カセット駆動機構
１２２番こよってカセット１２０を１ピッチ駆動してカ
セット１２０内の未注入のウェーハ４をホルダ８に装着
して待機する． そして右側のホルダ８上のウヱーハ４に対するイオン注
入が完了すると、右側のアーム４６を下方に回転させて
上記と同様にしてそのホルダ８に対するウェーハ４の交
換を行う。その間に、左側のホルダ駆動装置１０ではホ
ルダ８を待機位置（ウェーハ交換位置）から注入位置に
移動させてスキャン動作を行わせてそこのウェーハ４に
対するイオン注入が行われる． 尚、第７図の実施例では、第１図の実施例と違って、ホ
ルダ８をウェーハ４のハンドリングのために水平状態に
する必要が無いので、注入角を可変にしないのであれば
、そのホルダ駆動装置１０には、第１図で説明した支持
軸ｌ４を矢印Ａのように回転させる機構を必ずしも設け
る必要は無い。

また、第ｌ図、第７図いずれの実施例においても、ホル
ダ８をステップ回転させる必要が無い場合は、ホルダ駆
動装置１０にはそのための機構を必ずしも設ける必要は
無い。

また、上記両実施例のように、ホルダ８およびホルダ駆
動装置１０を二つずつ設けていわゆるデュアルタイブに
することは必須ではないが（即ちこれらは一つずつでも
良いが）、デュアルタイプにすれば、二つのホルダ８上
のウェーハ４を交互に処理することができるのでスルー
プットが向上する。

しかもデュアルタイプにする場合、イオンビーム２のビ
ームライン（換言すればイオンビーム２の電気的な走査
系等）を一つにしておく方が構造が簡単で小型かつ経済
的となるが、第８図に示したような従来のイオン注入装
置では、もう一組のホルダ１３０およびホルダ駆動装置
１３６をイオンビーム２に対して図示のものとは対称に
配置（即ち図示のものの上側に下向きに配［）Ｌようと
しても、ホルダ昇降装置１３４によってホルダ１３０を
Ｙ方向に直線的に昇降させるだけであるから、上下のホ
ルダ１３０が互いにぶつかることになり、これを避けよ
うとすると上下のホルダ１３０およびホルダ駆動装置１
３６を互いに大きく離さなければならず、装置が巨大化
する．しかも、ホルダ１３０に対するウェーハ４のハン
ドリング（着脱）位置が上下のホルダ１３０で大きく異
なるため、ウェーハ４の搬送ラインが上下二段になり、
また上側のホルダ１３０に対してウェーハ４を下向きに
ハンドリングしなければならない等、ウェーハ４のハン
ドリングが非常に困難になる。

これに対して上記両実施例によれば、各アーム４６およ
びホルダ８が円弧状に動くため、それらが互いに機械的
に干渉するのを避けながら二つのホルダ駆動装置１０を
互いに近づけて配置することができ、従って当該イオン
注入装置の小型化を図ることができる．また、二つのホ
ルダ８に対するウェーハ４のハンドリングが互いに同一
条件で可能なため、ウェーハ４のハンドリングが容易に
なる．その結果、ハイブリッドスキャン方式でしかもビ
ームラインが一つのデュアルタイプのイオン注入装置で
あって実際的なものを製作することが可能になる。

なおこの発明は上述した実施例に限られることはなく、
モータの回転をアームに適当に伝えて、即ち直接あるい
は間接的に伝える等して、アームを揺動回転させるよう
にしても良いのは勿論である． 〔発明の効果〕 以上のようにこの発明によれば、ウェーハを保持するホ
ルダを支えるアームを揺動回転せしめ、それによってウ
ェーハをイオンビームが走査されるＸ方向と実質的に直
交するＹ方向に機械的に走査するホルダ駆動装置を備え
ているので、従来試みられている高価なダイナミックバ
キュームシール方式を用いなくて済み、その結果、殊更
に注入室用の真空ボンブの能力アップを図る必要が無く
、しかも経済的にこの種のイオン注入装置を構或するこ
とができる． また、この発明のイオン注入方法によれば、機械的走査
時のウェーハの姿勢を一定にすることができるので、ウ
ェーハ面内におけるドーズ量や注入深さ等の注入の均一
性を一層向上させることができる．

【図面の簡単な説明】

第１図は、この発明の一実施例に係るイオン注入装置の
要部を示す水平断面図である。第２図は、イオンビーム
の電気的な走査手段の一例を示す概略平面図である。第
３図は、第１図のホルダ駆動装置による走査時のホルダ
の姿勢を説明するための図である。第４図および第５図
は、共に、第１図の線１−１に沿う断面図であるが、互
いに動作状態を異にしている。第６図は、第１図中のウ
ェーハ搬送装置を示す斜視図である。第７図は、この発
明の他の実施例に係るイオン注入装置の要部を示す垂直
断面図である．第８図は、従来のイオン注入装置の要部
を示す斜視図である。 ２・・・イオンビーム、４・・・ウェーハ、６・・・注
入室、８・・・ホルダ、１０・・・ホルダ駆動装置、２
４・・・モータ、３２・・・タイミングベルト、４０・
・・アーム軸、４６・・．アーム。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）Ｘ方向に電気的に走査されたイオンビームが導か
   れる注入室と、この注入室内にあってウェーハを保持す
   るホルダと、このホルダを支えるアームを揺動回転させ
   て当該ホルダを注入室内でＸ方向と実質的に直交するＹ
   方向に機械的に走査するホルダ駆動装置とを備えること
   を特徴とするイオン注入装置。
2. （２）イオンビームをＸ方向に電気的に走査すると共に
   、ウェーハを保持したホルダを支えるアームを前記Ｘ方
   向と実質的に直交するＹ方向に機械的に走査し、かつ前
   記ホルダを前記アームの回転方法と逆方向に同じ角度回
   転させるようにしてウェーハにイオンを注入するように
   したことを特徴とするイオン注入方法。