JPS609041B2 - セルロ−ス誘導体の粘度減少法の改良法 - Google Patents
セルロ−ス誘導体の粘度減少法の改良法Info
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- JPS609041B2 JPS609041B2 JP52068775A JP6877577A JPS609041B2 JP S609041 B2 JPS609041 B2 JP S609041B2 JP 52068775 A JP52068775 A JP 52068775A JP 6877577 A JP6877577 A JP 6877577A JP S609041 B2 JPS609041 B2 JP S609041B2
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08B—POLYSACCHARIDES; DERIVATIVES THEREOF
- C08B3/00—Preparation of cellulose esters of organic acids
- C08B3/22—Post-esterification treatments, including purification
- C08B3/24—Hydrolysis or ripening
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C08B11/00—Preparation of cellulose ethers
- C08B11/20—Post-etherification treatments of chemical or physical type, e.g. mixed etherification in two steps, including purification
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- Polysaccharides And Polysaccharide Derivatives (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
比較的高分子量のセルロース譲導体は適度の温度で強錫
酸で処理すると解重合すなわち分解して対応する低分子
量のポリマーが縛られることはすでに知られている。
酸で処理すると解重合すなわち分解して対応する低分子
量のポリマーが縛られることはすでに知られている。
たとえばメチルセルロース、エチルセルロース、ヒドロ
キシプロピルセルロースおよびメチルヒドロキシブチル
セルロースのような低級アルキルおよびヒドロキシ低級
アルキルエーテル;たとえばアセテートおよびブチレー
トのようなセルロースエステル、メチルヒドロキシプロ
ピルセルロースフタレート;たとえばカルボキシメチル
セルロースのようなカルボキシアルキルセルロース;お
よびその他セルロース分子上に2個以上の置換基を有す
る誘導体が代表的な例である。比較的低分子量の誘導体
は水に対する溶解度が高く清浄剤組成物の条件剤として
および医薬用タブレットの被膜用水散性フィルムとして
有効であるという魅力がある。酸による促進分解あるい
は解重合は本質的に乾燥粉末セルロースにHCIガスあ
るいはその他のハロゲン化水素を流動床法で反応させて
おこなう。
キシプロピルセルロースおよびメチルヒドロキシブチル
セルロースのような低級アルキルおよびヒドロキシ低級
アルキルエーテル;たとえばアセテートおよびブチレー
トのようなセルロースエステル、メチルヒドロキシプロ
ピルセルロースフタレート;たとえばカルボキシメチル
セルロースのようなカルボキシアルキルセルロース;お
よびその他セルロース分子上に2個以上の置換基を有す
る誘導体が代表的な例である。比較的低分子量の誘導体
は水に対する溶解度が高く清浄剤組成物の条件剤として
および医薬用タブレットの被膜用水散性フィルムとして
有効であるという魅力がある。酸による促進分解あるい
は解重合は本質的に乾燥粉末セルロースにHCIガスあ
るいはその他のハロゲン化水素を流動床法で反応させて
おこなう。
あるいは回転式ミキサーあるいはリボンブレンダーのよ
うな混合装置内で粉末セルロースあるいはその不活性有
機溶媒のスラリーとハロゲン化水素ガスとを反応させて
おこなう。スラリー式の解重合の場合、100qo以下
の沸点を有する不活性でかつ本質的に無水の有機溶媒が
好ましい。セルロースポリマーは普通の有機溶媒には本
質的には不溶性なので、たとえばメチレンクロラィド、
メタ/ール、1・1・1ートリクロロェタン、四塩化炭
素、アセトン、ヘキサンおよびベンゼンのような溶媒が
用いられる。この方式の解重合には適度の温度すなわち
約190から80qoが適当である。ポIJマー生成物
中に残存する酸の除去は乾燥粉末あるいはそのポリマー
に空気あるいは窒素を流すかあるいは上述の有機溶媒で
洗浄することによっておこなう。最後の痕跡量の酸の除
去は弱い塩基で中和しておこなう。こうしてそれ以上工
程を必要としない多くの応用に通した本質的に純粋な乾
燥粉末生成物が得られる。残念なことに、このようにし
て作った低分子量ポリマーは黄色あるいは褐色に変色す
るので多くの応用には望ましくない。
うな混合装置内で粉末セルロースあるいはその不活性有
機溶媒のスラリーとハロゲン化水素ガスとを反応させて
おこなう。スラリー式の解重合の場合、100qo以下
の沸点を有する不活性でかつ本質的に無水の有機溶媒が
好ましい。セルロースポリマーは普通の有機溶媒には本
質的には不溶性なので、たとえばメチレンクロラィド、
メタ/ール、1・1・1ートリクロロェタン、四塩化炭
素、アセトン、ヘキサンおよびベンゼンのような溶媒が
用いられる。この方式の解重合には適度の温度すなわち
約190から80qoが適当である。ポIJマー生成物
中に残存する酸の除去は乾燥粉末あるいはそのポリマー
に空気あるいは窒素を流すかあるいは上述の有機溶媒で
洗浄することによっておこなう。最後の痕跡量の酸の除
去は弱い塩基で中和しておこなう。こうしてそれ以上工
程を必要としない多くの応用に通した本質的に純粋な乾
燥粉末生成物が得られる。残念なことに、このようにし
て作った低分子量ポリマーは黄色あるいは褐色に変色す
るので多くの応用には望ましくない。
高分子量セルロースエーテルおよびェステルの漂白ある
いは透明化は亜硫酸イオンを含む低級アルカノール水溶
液にセルロースポリマーをスラリ−状としそれを蝿梓す
ることによっておこなうことは既知のことである。
いは透明化は亜硫酸イオンを含む低級アルカノール水溶
液にセルロースポリマーをスラリ−状としそれを蝿梓す
ることによっておこなうことは既知のことである。
この方法についてはウイットメイャー(Whitmey
er)による1970年12月22日付U・S特許35
49617に記載されている。該特許に開示されている
漂白処理はそこに述べられているアルカノ−ルに不溶一
性の高分子量エーテルおよびェステルに有効であるが、
HCIによる解重合によって生成した対応する低分子量
ポリマーはかなりの水分子が存在するために悪影響をう
け、制御できないゲルを生成するかあるいはアルカノー
ル水にスラリ−としたとき溶解する。前述の先行技術の
諸欠点は本発明によって実質的に克服できた。
er)による1970年12月22日付U・S特許35
49617に記載されている。該特許に開示されている
漂白処理はそこに述べられているアルカノ−ルに不溶一
性の高分子量エーテルおよびェステルに有効であるが、
HCIによる解重合によって生成した対応する低分子量
ポリマーはかなりの水分子が存在するために悪影響をう
け、制御できないゲルを生成するかあるいはアルカノー
ル水にスラリ−としたとき溶解する。前述の先行技術の
諸欠点は本発明によって実質的に克服できた。
本発明はセルロースエーテルあるいはェステルを乾燥粉
末状とし150〜1がoでハロゲン化水素と反応させて
対応する低分子量のエーテルあるいはェステルに変換す
る方法に関するもので、その特徴とするところは該低分
子量生成物を乾燥粉末状とし室温で二酸化ィオウで処理
することからなる改良法にある。本改良はハロゲン化水
素による解重合のあと第二工程として解重合反応器にS
02ガスを通すことによっておこなう。
末状とし150〜1がoでハロゲン化水素と反応させて
対応する低分子量のエーテルあるいはェステルに変換す
る方法に関するもので、その特徴とするところは該低分
子量生成物を乾燥粉末状とし室温で二酸化ィオウで処理
することからなる改良法にある。本改良はハロゲン化水
素による解重合のあと第二工程として解重合反応器にS
02ガスを通すことによっておこなう。
解重合工程に好ましいハロゲン化水素は勿論塩化水素で
ある。本改良に用いられるS02の量には制限はなくか
なりの量でも黄変効果をもたらさない。
ある。本改良に用いられるS02の量には制限はなくか
なりの量でも黄変効果をもたらさない。
大抵の場合、ポリマーの重量に対し約0.05〜2%の
S02で3充分で、通常は0.08〜0.2%で充分で
ある。室温あるいは戸外温度すなわち15−40℃がS
02処理に通しており、一般にこれよりいくぶん低い温
度が用いられる。HCIで解重合した本質的に乾燥した
ポリマーの4SQ処理はさきに述べた鱗重合工程と同様
にしておこなう。
S02で3充分で、通常は0.08〜0.2%で充分で
ある。室温あるいは戸外温度すなわち15−40℃がS
02処理に通しており、一般にこれよりいくぶん低い温
度が用いられる。HCIで解重合した本質的に乾燥した
ポリマーの4SQ処理はさきに述べた鱗重合工程と同様
にしておこなう。
すなわち流動床装置内で乾燥した非流動性粉末とS02
とを接触させるかあるいは回転式ミキサー、リボンプレ
ーンダ−などの混合装置内で乾燥粉末あるいは無水有機
溶媒のスラリーにS02を反応させておこなう。スラリ
ー処理法に通した有機溶媒は解重合法の記述の際に述べ
たものである。流動床中で乾燥微粉末を処理する方法が
好ましい。本法が適用できるセルロースポリマーはすで
にこの分野で知られているものであり、前述したもので
ある。
とを接触させるかあるいは回転式ミキサー、リボンプレ
ーンダ−などの混合装置内で乾燥粉末あるいは無水有機
溶媒のスラリーにS02を反応させておこなう。スラリ
ー処理法に通した有機溶媒は解重合法の記述の際に述べ
たものである。流動床中で乾燥微粉末を処理する方法が
好ましい。本法が適用できるセルロースポリマーはすで
にこの分野で知られているものであり、前述したもので
ある。
すなわちアルキルェーテル類、ヒドロキシアルキルェ−
テル類、カルボキシアルキルェーテル類および低分子量
のェステルであり、これらのポリマーは2%水溶液の粘
度が20ooで約10比ps以下とくに1比ps以下を
有するものである。これらのポリマーは外観は本質的に
は乾燥しているようであるが、痕跡量から約5%の水分
を含んでいる。約0.01−5重量%の水を含むポリマ
ーは本方法で取扱えるが、水分含量は最大3%までであ
ることが好ましい。残存HCIあるいはS02は前述し
たような普通の方法で除去できる。
テル類、カルボキシアルキルェーテル類および低分子量
のェステルであり、これらのポリマーは2%水溶液の粘
度が20ooで約10比ps以下とくに1比ps以下を
有するものである。これらのポリマーは外観は本質的に
は乾燥しているようであるが、痕跡量から約5%の水分
を含んでいる。約0.01−5重量%の水を含むポリマ
ーは本方法で取扱えるが、水分含量は最大3%までであ
ることが好ましい。残存HCIあるいはS02は前述し
たような普通の方法で除去できる。
すなわち空気あるいは窒素をふき込むかあるいは前述し
た普通の有機溶媒およびメタノ−ル、メチレンクロライ
ド、アセトンなど無水の低沸点有機溶媒で洗浄しておこ
なう。最後の痕跡量の酸を除くには、生成ポリマーを弱
い塩基で処理する必要がある。そのためには乾燥N舷を
反応容器にふき込むかあるいはポリマーあるいはそのポ
リマ−に無水の炭酸水素ナトリウムを混合する。本改良
法により、たとえばメチルセルロースおよびヒドロキシ
低級アルキルメチルセルロ−スのような比較的高分子量
でかつ20q0で数10万センチポアズに及ぶ2%溶液
粘度を有するセルロースポリマーを20ooで10比p
s以下の2%溶液粘度を有し着色度の低いポリマーに変
換することができる。
た普通の有機溶媒およびメタノ−ル、メチレンクロライ
ド、アセトンなど無水の低沸点有機溶媒で洗浄しておこ
なう。最後の痕跡量の酸を除くには、生成ポリマーを弱
い塩基で処理する必要がある。そのためには乾燥N舷を
反応容器にふき込むかあるいはポリマーあるいはそのポ
リマ−に無水の炭酸水素ナトリウムを混合する。本改良
法により、たとえばメチルセルロースおよびヒドロキシ
低級アルキルメチルセルロ−スのような比較的高分子量
でかつ20q0で数10万センチポアズに及ぶ2%溶液
粘度を有するセルロースポリマーを20ooで10比p
s以下の2%溶液粘度を有し着色度の低いポリマーに変
換することができる。
ポリマーが分解して低分子量のものになるとき生成物の
着色という問題が非常に厳しくなるので、本改良法は極
低分子量の生成物を作るときに非常に価値がでてくる。
S02処理をしたポリマーの水に溶解する速度は実質的
にかなり早いので多くの応用面において未処理のものに
〈らべて利点がある。例1 すり合せジョイントおよびストップコック付1そガラス
フラスコにヒドロキシブチルメチルセルロース102夕
(2ぴ0の2%水溶液粘度はウツベロ−ド粘度計で14
70比psであった。
着色という問題が非常に厳しくなるので、本改良法は極
低分子量の生成物を作るときに非常に価値がでてくる。
S02処理をしたポリマーの水に溶解する速度は実質的
にかなり早いので多くの応用面において未処理のものに
〈らべて利点がある。例1 すり合せジョイントおよびストップコック付1そガラス
フラスコにヒドロキシブチルメチルセルロース102夕
(2ぴ0の2%水溶液粘度はウツベロ−ド粘度計で14
70比psであった。
塩:0.41%、水分=2.3%)を充填した。このフ
ラスコを通常の真空ラインに接続し、4側Hgの圧力に
減圧した。これに2〆054仇吻Hgで1〆貯蔵フラス
コ中にあるHCIガスを移し入れた。貯蔵タンク内のH
CIガス圧が71側Hgに達したときHCIガスの移入
を止めた。導入されたHCI量はセルロースエーテルに
対し0.控重量%であった。セルロースエーテルおよび
HCIを含むフラスコを真空ラインから離して、室温で
モータを使ってZ回転させた。
ラスコを通常の真空ラインに接続し、4側Hgの圧力に
減圧した。これに2〆054仇吻Hgで1〆貯蔵フラス
コ中にあるHCIガスを移し入れた。貯蔵タンク内のH
CIガス圧が71側Hgに達したときHCIガスの移入
を止めた。導入されたHCI量はセルロースエーテルに
対し0.控重量%であった。セルロースエーテルおよび
HCIを含むフラスコを真空ラインから離して、室温で
モータを使ってZ回転させた。
真空中2が○で7餌時間分解したあとフラスコを開いた
。セルロースエーテルを滴定してみると0.8%のHC
Iおよび1.84%の塩を含んでいた。このセルロース
エーテルを100メッシュ駒〔タイラースタンダード(
TylerStandard)節〕に入れ、これに室温
で1時間窒素をふきこんだ。サンプルを滴定してみると
0.09%のHC1、0.7%の塩および0.4%の水
分を含んでいることがわかった。このセルロースエーテ
ル約15夕を8オンス(227cc)のビンに入れ、過
剰のアンモニアガスで中和した。こうして得たセルロー
スエーテルの全部(78のを別の1そガラスフラスコに
入れ、真空系に接続し4肋圧に減圧した。
。セルロースエーテルを滴定してみると0.8%のHC
Iおよび1.84%の塩を含んでいた。このセルロース
エーテルを100メッシュ駒〔タイラースタンダード(
TylerStandard)節〕に入れ、これに室温
で1時間窒素をふきこんだ。サンプルを滴定してみると
0.09%のHC1、0.7%の塩および0.4%の水
分を含んでいることがわかった。このセルロースエーテ
ル約15夕を8オンス(227cc)のビンに入れ、過
剰のアンモニアガスで中和した。こうして得たセルロー
スエーテルの全部(78のを別の1そガラスフラスコに
入れ、真空系に接続し4肋圧に減圧した。
HCIガスの場合と同機にしてS02ガスをセルロース
エーテルに導入した。すなわち107側HgのS02ガ
スを220の1そ貯蔵フラスコからセルロースエーテル
に移入した。S02量は0.4母重量%であった。フラ
スコを4時間回転し、開放してアンモニアガスを通して
残余酸分を中和した。サンプルの分析結果は0.7%の
塩(食塩)、0.4%の水分、2%粘度=22.松ps
およびAPHA着色速度10であった。S02処理をし
ない分解セルロースエーテルのAPHA着色速度は50
であつた。例2 例1の方法を用いて、100夕のメチルセルローズ(2
%粘度=326比ps、塩=0.38%、水分=3.5
%)と2.16%のHCIガス(圧力と容積データから
計算した)とを反応させた。
エーテルに導入した。すなわち107側HgのS02ガ
スを220の1そ貯蔵フラスコからセルロースエーテル
に移入した。S02量は0.4母重量%であった。フラ
スコを4時間回転し、開放してアンモニアガスを通して
残余酸分を中和した。サンプルの分析結果は0.7%の
塩(食塩)、0.4%の水分、2%粘度=22.松ps
およびAPHA着色速度10であった。S02処理をし
ない分解セルロースエーテルのAPHA着色速度は50
であつた。例2 例1の方法を用いて、100夕のメチルセルローズ(2
%粘度=326比ps、塩=0.38%、水分=3.5
%)と2.16%のHCIガス(圧力と容積データから
計算した)とを反応させた。
つぎにフラスコを窒素で平衡にして大気圧とし、炉を5
0℃に保ち7刻壱間分解した。フラスコを6肋の圧力で
1時間減圧にし、そのあと空気中にとりだしサンプリン
グをおこなった。滴定によりこうして得たセルロースエ
ーテルは0.92%の残存HCIを含んでいることがわ
かった。このセルロースエーテルの全体(58夕)を別
の1クフラスコに入れ、減圧にして、0.6携重量%の
S02ガスを入れた。フラスコを室温で4時間回転させ
、ついで残存S02を過剰のアンモニアガスで中和した
。生成物の分析結果は塩(食塩として)=1.6%、水
分=2.6%、2%粘度=1.44CpSであった。0
.25%水溶液はAPHA着色度125であった。
0℃に保ち7刻壱間分解した。フラスコを6肋の圧力で
1時間減圧にし、そのあと空気中にとりだしサンプリン
グをおこなった。滴定によりこうして得たセルロースエ
ーテルは0.92%の残存HCIを含んでいることがわ
かった。このセルロースエーテルの全体(58夕)を別
の1クフラスコに入れ、減圧にして、0.6携重量%の
S02ガスを入れた。フラスコを室温で4時間回転させ
、ついで残存S02を過剰のアンモニアガスで中和した
。生成物の分析結果は塩(食塩として)=1.6%、水
分=2.6%、2%粘度=1.44CpSであった。0
.25%水溶液はAPHA着色度125であった。
S02処理をしなかったセルロースエーテルの0.25
%溶液は200以上のAPHA着色度を有していた。例
3 水分2%を含む微粉末状(#40川・S標準節を99%
が通過した)のヒドロキシプロピルメチルセルロースを
底部に貴孔をもつ板を有する垂直プラスチック制カラム
(直径30伽×高さ152弧)につ唾燕鰐鹿競で54一
63.5qoで28分間ヒドロキシプロピルメチルセル
ロース(HPMC)の流動床へ通した。
%溶液は200以上のAPHA着色度を有していた。例
3 水分2%を含む微粉末状(#40川・S標準節を99%
が通過した)のヒドロキシプロピルメチルセルロースを
底部に貴孔をもつ板を有する垂直プラスチック制カラム
(直径30伽×高さ152弧)につ唾燕鰐鹿競で54一
63.5qoで28分間ヒドロキシプロピルメチルセル
ロース(HPMC)の流動床へ通した。
分解を促進するためさらにi職分間59−63.5qo
の温度に維持しておいた。操作中、流出液から固体が分
離してきた。固体とガスとの両者は反応器に再循環させ
た。流動床に60.5一68.5q0で1.球時間窒素
ガスを通すことによってHPMCから大部分のHCIを
除去した。
の温度に維持しておいた。操作中、流出液から固体が分
離してきた。固体とガスとの両者は反応器に再循環させ
た。流動床に60.5一68.5q0で1.球時間窒素
ガスを通すことによってHPMCから大部分のHCIを
除去した。
それにより、HCI舎量はもとの0.93%から0.2
7%に減った。つぎに窒素流動床を3〆0に冷やして、
SQI59を約5夕/分の速度で通した。処理後のHP
MC中に含まれる残存酸を中和するため、14夕のN公
を粉末の床に通した。窒素ガスを通して過剰のN瓜を除
去し、生成物をカラムから取出した。ウッベロード粘度
計で測定したとこ夕ろ、生成物の粘度(20℃の2%水
溶液)は400比psから4.31cpsに減少してい
た。S02処理した生成物の2%溶液の着色度は2弘P
HA以下であった。これに対しS02処理しなかった生
成物の着色度は>7弘mHAであった。0例4 2そのガラスフラスコに無水アセトン約1150夕を入
れた。
7%に減った。つぎに窒素流動床を3〆0に冷やして、
SQI59を約5夕/分の速度で通した。処理後のHP
MC中に含まれる残存酸を中和するため、14夕のN公
を粉末の床に通した。窒素ガスを通して過剰のN瓜を除
去し、生成物をカラムから取出した。ウッベロード粘度
計で測定したとこ夕ろ、生成物の粘度(20℃の2%水
溶液)は400比psから4.31cpsに減少してい
た。S02処理した生成物の2%溶液の着色度は2弘P
HA以下であった。これに対しS02処理しなかった生
成物の着色度は>7弘mHAであった。0例4 2そのガラスフラスコに無水アセトン約1150夕を入
れた。
その一部をとって瓶定してみてHCI濃度が3.亀重量
%になるまでアセトンにHCIガスを通した。得られた
HCI/アセトン溶液の重量は1135夕であった。つ
ぎに、該フラスコに縄枠器、還流冷却器およびサーモカ
ップルを備え付けた。HCI/アセトン溶液にヒドロキ
シプロピルメチルセルロース(2%粘度=1250比p
s、塩:1.08%、水分=3.0%)100夕を入れ
た。セルロースエーテルに対するHCI濃度は41重量
%であった。この反応容器をマントルヒーターで30分
間5がoに加熱した。その温度で1時間40分間内容物
を蝿拝した。このスラリーを炉適し、過剰のアセトンで
洗った。こうして得たフィルターケーキ36夕をとり、
アセトン約100ccに入れて燈拝し、ついで炭酸水素
ナトリウムで中和した。フィルターケーキの残部をS0
20.13%を含むァセトン945桝こ入れて縄拝した
。このスラリーを室温で1時間燈拝した。粉末状炭酸水
素ナトリウム0.029夕をスラリーに加え、室温でさ
らに1時間燈拝した。そのスラリーを炉過し、過剰のア
セトンで洗い、風乾した。生成物の分析結果は次のとお
りであった。2%粘度=2.47CPS 揮発成分=2.8% 塩(NaCIとして)=2.05% 2%溶液のAPHA着色度=10 S02処理なしの生成物のAPHA着色度は25−60
であった。
%になるまでアセトンにHCIガスを通した。得られた
HCI/アセトン溶液の重量は1135夕であった。つ
ぎに、該フラスコに縄枠器、還流冷却器およびサーモカ
ップルを備え付けた。HCI/アセトン溶液にヒドロキ
シプロピルメチルセルロース(2%粘度=1250比p
s、塩:1.08%、水分=3.0%)100夕を入れ
た。セルロースエーテルに対するHCI濃度は41重量
%であった。この反応容器をマントルヒーターで30分
間5がoに加熱した。その温度で1時間40分間内容物
を蝿拝した。このスラリーを炉適し、過剰のアセトンで
洗った。こうして得たフィルターケーキ36夕をとり、
アセトン約100ccに入れて燈拝し、ついで炭酸水素
ナトリウムで中和した。フィルターケーキの残部をS0
20.13%を含むァセトン945桝こ入れて縄拝した
。このスラリーを室温で1時間燈拝した。粉末状炭酸水
素ナトリウム0.029夕をスラリーに加え、室温でさ
らに1時間燈拝した。そのスラリーを炉過し、過剰のア
セトンで洗い、風乾した。生成物の分析結果は次のとお
りであった。2%粘度=2.47CPS 揮発成分=2.8% 塩(NaCIとして)=2.05% 2%溶液のAPHA着色度=10 S02処理なしの生成物のAPHA着色度は25−60
であった。
例5
4立方フィート(113夕)のニッケルメッキした反応
器にウオータージャケット、垂直回転式パドル蝿梓器お
よびその他の必要品を備え付けた。
器にウオータージャケット、垂直回転式パドル蝿梓器お
よびその他の必要品を備え付けた。
反応容器に2270碇都の粉末状ヒドロキシプロピルメ
チルセルロース(2%粘度=410比ps、塩=0.6
%、水分=3%)を充填した。澱梓器を約2mpmで回
転させ、熱水を循環させて内容物を60qoに加熱した
。反応容器を圧力63肌に減圧にし、HCI170部を
急速に加えた(セルロースエーテルに対し0.75重量
%)。HCIガス吸収による発熱のため温度は7〆0に
上昇した。反応容器をジャケット温度6o℃で5歩鰯拝
し・そのあと圧力肋で1時間減圧にしてHCIを除去し
た。窒素雰囲気下で反応器から少量のサンプルをとりだ
し、過剰のNH3ガスで中和した。つぎに反応器を7仇
奴圧に減圧し、S023庇部を加えた(セルロースエー
テルに対し0.1丸重量%)。反応器を30分で室温に
まで冷やし、N&ガス45部を加えた(セルロースエー
テルに対し0.2重量%)。内容物を10分間鷹拝した
のち、減圧によって過剰のN比ガスを除き、完成品を包
装した。分解すなわち解重合したセルロースエーテルの
分析結果は次のとおりであった。2%粘度(20qo、
ウツベロード) 3.&ps水 分
1.9%塩(NaCIとして)
1.16%2%溶液のAPHA着色
度 75S02で処理しなかった生
成物の2%溶液のAPHA着色度は125であった。
チルセルロース(2%粘度=410比ps、塩=0.6
%、水分=3%)を充填した。澱梓器を約2mpmで回
転させ、熱水を循環させて内容物を60qoに加熱した
。反応容器を圧力63肌に減圧にし、HCI170部を
急速に加えた(セルロースエーテルに対し0.75重量
%)。HCIガス吸収による発熱のため温度は7〆0に
上昇した。反応容器をジャケット温度6o℃で5歩鰯拝
し・そのあと圧力肋で1時間減圧にしてHCIを除去し
た。窒素雰囲気下で反応器から少量のサンプルをとりだ
し、過剰のNH3ガスで中和した。つぎに反応器を7仇
奴圧に減圧し、S023庇部を加えた(セルロースエー
テルに対し0.1丸重量%)。反応器を30分で室温に
まで冷やし、N&ガス45部を加えた(セルロースエー
テルに対し0.2重量%)。内容物を10分間鷹拝した
のち、減圧によって過剰のN比ガスを除き、完成品を包
装した。分解すなわち解重合したセルロースエーテルの
分析結果は次のとおりであった。2%粘度(20qo、
ウツベロード) 3.&ps水 分
1.9%塩(NaCIとして)
1.16%2%溶液のAPHA着色
度 75S02で処理しなかった生
成物の2%溶液のAPHA着色度は125であった。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 乾燥粉末セルロースエーテルあるいはセルロースエ
ーテルをハロゲン化水素で15°〜80℃で処理して対
応する低分子量のエーテルあるいはエステルに変換する
方法において、該低分子量生成物を乾燥粉末状として室
温で二酸化イオウガスで処理することを特徴とする方法
。 2 該二酸化イオウで処理した粉末を残存する全量の酸
を中和するに要する量のアンモニアガスと接触させるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の方法。 3 該二酸化イオウで処理した粉末に残存する全量の酸
を中和するに要する量の炭酸水素ナトリウムを混合する
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US05/695,876 US4061859A (en) | 1976-06-14 | 1976-06-14 | Viscosity reduction of cellulose derivatives |
US695876 | 1976-06-14 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS52152985A JPS52152985A (en) | 1977-12-19 |
JPS609041B2 true JPS609041B2 (ja) | 1985-03-07 |
Family
ID=24794800
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP52068775A Expired JPS609041B2 (ja) | 1976-06-14 | 1977-06-10 | セルロ−ス誘導体の粘度減少法の改良法 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4061859A (ja) |
JP (1) | JPS609041B2 (ja) |
BE (1) | BE855674A (ja) |
BR (1) | BR7703824A (ja) |
CA (1) | CA1065312A (ja) |
DE (1) | DE2726780C2 (ja) |
GB (1) | GB1578575A (ja) |
NL (1) | NL7706458A (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20140075053A (ko) * | 2012-12-07 | 2014-06-19 | 삼성정밀화학 주식회사 | 셀룰로오스 에테르의 점도 경시변화 방지방법 |
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US4200737A (en) * | 1978-05-17 | 1980-04-29 | International Playtex, Inc. | Preparation of water-insoluble carboxymethyl cellulose absorbents |
DE2917104A1 (de) * | 1979-04-27 | 1980-11-06 | Hoechst Ag | Verfahren zur viskositaetserniedrigung von celluloseethern durch ozon und seine verwendung |
JPS6225101A (ja) * | 1985-07-24 | 1987-02-03 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 低重合度セルロ−スエ−テルの製造方法 |
DE3530857A1 (de) * | 1985-08-29 | 1987-03-05 | Hoechst Ag | Verfahren zur herstellung von niedrigviskosen celluloseethern |
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DE19941893A1 (de) * | 1999-09-03 | 2001-03-08 | Clariant Gmbh | Niederviskose, heisswasser-flockbare Celluloseether, Verfahren zu deren Herstellung durch Depolymerisation sowie deren Verwendung |
JP4380069B2 (ja) * | 2001-02-08 | 2009-12-09 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | 感熱転写記録材料、感熱転写記録方法、インク、トナー及びカラーフィルター |
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KR100461565B1 (ko) * | 2001-09-22 | 2004-12-14 | 삼성정밀화학 주식회사 | 저점도 히드록시프로필메틸 셀룰로오스의 제조방법 |
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