JPS608969B2 - トリクロルシランの連続製造法 - Google Patents

トリクロルシランの連続製造法

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JPS608969B2
JPS608969B2 JP56054490A JP5449081A JPS608969B2 JP S608969 B2 JPS608969 B2 JP S608969B2 JP 56054490 A JP56054490 A JP 56054490A JP 5449081 A JP5449081 A JP 5449081A JP S608969 B2 JPS608969 B2 JP S608969B2
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trichlorosilane
hydrogen
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ル−ドルフ・グリ−スシヤマ−
ミヒアエル・シユヴアプ
フランツ・ケツプル
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WATSUKAA HIEMITOROONITSUKU G FUYUURU EREKUTOROONIKU GURUNTOSHUTOTSUFUE MBH
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    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/08Compounds containing halogen
    • C01B33/107Halogenated silanes
    • C01B33/1071Tetrachloride, trichlorosilane or silicochloroform, dichlorosilane, monochlorosilane or mixtures thereof

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Silicon Compounds (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明の対象は四塩化ケイ素を水素によって置換し、こ
の際に生成する塩化水素を粗ケイ素と反応させることに
よるトリクロルシランの連続製造法である。
粗ケイ素(ケイ素舎量95%以上)と塩化水素とからト
リクロルシランを製造する典型的な製造法では、多量の
四塩化ケイ素が副生するが、これは水素による還元によ
って高純度ケイ素を製造するのに通さないものである。
また、この反応一遍常、一般に行なわれているような一
にトリクロルシランが適しているとしても、この場合に
はこの還元も決して定量的に進行しないで、おそらく、
トリクロルシランの大部分は大体次のような反応式に従
がつて四塩化ケイ素に転換すると思われる。$iHC〆
3 十日2=Si十SiHC夕3 十SIC夕4 十2
HC夕+日2.それ故、用いたトリクロルシランの約1
/3は四塩化ケイ素に変化することになる(米国特許第
3933985号公報参照)。この2つの反応の廃棄す
べき生成物として得られる四塩化ケイ素をトリクロルシ
ラン転換しようと云う試みが今までに多くなされてきた
。前述の米国特許公報の方法によると、四塩化炭素を分
離し、望ましくは1:1の比で水素と混合し、共に90
0〜110000のコンバータに移し入れ、発生するト
リクロルシランを分離している。
西ドイツ公開第2054265号公報では、特に少なく
とも1モルの水素と約3モルの塩化水素とから成るガス
混合物を1000o 〜130000において、少なく
とも50モル%の四塩化ケイ素がトリクロルシランに転
換するもで、反応させている。西ドイツ公開第2209
267号公報の方法によると、四塩化ケイ素と水素の反
応間に6000〜1200℃の温度において達成する反
応平衡系を突然に300CCにまで冷却し、凝縮後にク
ロルシラン類を含有するガス混合物を蒸留によって分離
している。
最後に、西ドイツ公告第1935895号明細書の方法
によると、四塩化ケイ素と水素を昇温下および塩化水素
結合煤質の存在下で(例えば700〜1400℃におい
てケイ素の存在下で)反応されている。
複雑なケイ素−水素−塩素系であることと熱力学的な理
由から、これらの反応はいずれも、単位時間に得られる
トリクロルシランの収率に関して、満足すべきものでは
ない。それ故、本発明はトリクロルシラン製造過程間お
よびトリクロルシランを高純度ケイ素に還元する過程間
に廃棄すべき生成物として得られる四塩化ケイ素を、費
用のかからない方法でトリクロルシランに転換すること
を可能にし得るような方法を提供すると云う課題に基づ
いている。
この課題は、四塩化ケイ素と水素との混合物を高温反応
器において200〜1秒間の間、900〜1300℃の
温度にさらし、生成する塩化水素を冷却後に再反応器に
おいて、200〜2秒間の滞留時間の間280〜350
00の温度においてケイ素に接触させて、追加のトリク
ロルシランに変え、両方の反応からのトリクロルシラン
を凝縮・分離し、他方では未反応四塩化ケイ素、新たに
生成した四塩化ケイ素および水素を再び高温反応器に戻
し入れることを特徴とする連続方法によって、解決され
る。
高温反応器に導入する四塩化ケイ素を圧縮機内で水素と
混合し、望ましくは1〜6バールの圧力に圧縮する。混
合する水素量は、混合物の四塩化ケィ素含量が全体量に
基づいて10〜60モル%、望ましくは40〜60モル
%であるように定めるのが有利である。これに関連して
、低い飽和度ではすなわち四塩化ケイ素の低い含量では
、四塩化ケィ素含量の高い場合よりも相対的に高いトリ
クロルシラン収量が得られるが、この場合にはトリクロ
ルシランの凝縮が非常に悪い状態であり、単位時間に絶
対量でかなり高い収量を生ずる飽和度の高い場合よりも
、低い温度を必要とすることに注意すべきである。四塩
化ケィ素含量が10モル%より低いまたは60モル%よ
り大きい場合には、トリクロルシランの絶対収量は非常
に迅速に低下し、この方法がもはや経済上、実施され得
ないことになる。すでに予備圧縮によって加熱されてい
る、四塩化ケイ素と水素とのガス混合物を更に熱交換器
内で予備加熱して、最後に、900〜130000の温
度、特に1050〜125000の温度に保持した高温
反応器を通過させせるが、この際に反応器内での滞留時
間としては、200〜1秒間特に10〜2秒間が有利で
あり、一般に反応器の温度が高くなると滞留時間は徐々
に短かくなる。
高温反応器は最も簡単な場合には、例えば電気で加熱さ
れる石英管または黒鉛管から成るものであるが、西ドイ
ツ特許出願第P30243200号明細書に述べられて
いるように、必要に応じて積分熱交換器を有する管状反
応器も非常に適している。
この熱交換器ユニットは1列に連結した1組の熱交換器
から成るのが有利であり、これらの熱交換器の中で熱反
応ガスが高温反応器に供給される飽和ガスに対して、熱
を向流で伝達する。大きな熱交換器の代りに1列に連結
した1組みの小勢交換器を用にることは、大きな系にお
いては単に経済的な理由から勧められる。高温において
は熱交換器の材料は高い必要条件を満たさなければなら
ず、そのため比較的費用のかかる黒鉛装置などを用いな
ければならないが、約600〜7000○の低温になる
と、フェライト鋼または他の種類の精鋼のような安価な
材料に変えることができる。向流で約250〜350o
oに冷却された反応ガスはトZリクロルシラン、未反応
四塩化ケイ素、水素、塩化水素および少量の他のハロゲ
ン化シランから成るものであり、次に再反応器中の粗ケ
イ素上に導びかれるが、ここで塩化水素が280o 〜
3500C望ましくは300〜350ooに熱せられた
ケイ素に接触して通過する際に実際にトリクロルシラン
と四塩化ケイ素とに転換する。この場合にも滞留時間は
実質的に第1段階の滞留時間に相応する、すなわち約2
00〜2秒間、特に10〜2秒間である。ケイ素接触材
料は例えば固定床または流動床中にケイ素を少なくとも
95%含有する捨金品質ケイ素から成っている。このよ
うな再反応器は例えば、バブルプレートとして構成され
たフロープレートと、平均粒度が約100〜600仏m
である流動床を安定化するために流れの方向に円錐状に
拡大した床を有している。粗ケイ素を充填した再反応器
に反応ガスを通した後に、実質的にトリク。
ルシランと、四塩化ケイ素と、水素とから成るガス混合
物が得られる。この混合物を約一1oo 〜一60o0
の温度に冷却する。この場合に更に低い温度も当然可能
であるが、このような温度はかなりの装置的およびエネ
ルギー的な出費を必要とする。この手段によって液化し
たクロルシラン類を取り出し、望ましくは蒸留によって
その成分に分離する。この分離を分留によって行なうこ
とも、または例えば活性炭に吸着させてトリクロルシラ
ンを分離することも当然可能である。このようにして取
り出したトリクロルシランを場合によっては中間で蒸留
精製を行なった後に高純度ケイ素を得るために分離反応
器に導入し、他方では水素を−場合によっては列えば活
性炭で洗浄した後に−必要量で四塩化ケイ素と混合して
、更に転換させるために高温反応器に導入する。第2の
実施態様によると、第1段階の高温反応器から生じた反
応ガスは、新たに反応器に導入される向流で流れるガス
混合物によって熱交換器ユニット内ですでに2500
〜35000に冷却されているが、次に更に約一1oo
〜一60ooまで冷却する。この作業間に例えば凝縮
物から蒸留によって分離したトリクロルシランは、更に
精製することなく、直接分離反応器に導入されて高純度
のケイ素を得ることができる。塩化水素と水素とから成
る残留ガス混合物は熱交換器ュニット内での予備加熱に
よってまたは再反応器から生成する反応ガスから熱をう
ばうことによる予備加熱によって、望ましくは250〜
350q○の温度にしてから、再反応器のケイ素接触体
の上に供給するのが有利である。
塩化水素とケイ素との発熱的に経過する反応が行なわれ
る再反応器の温度を約280〜350ooに保持し得る
ためには、HC夕/日2混合物の温度が第1段階からの
四塩化ケイ素とトリクロルシランとによって強く希釈さ
れているので、最初の実施態様において一般に付加的な
冷却はもはや必要ではない。実際に純粋なHC夕/日2
混合物が再反応器に供給される、シランの中間凝縮を伴
なう第2の実施態様では、冷却剤を受容するために頭頂
部から始まって底部へテーパ状をなす中空の鋼ロッドを
反応器内に設ける、または代替案として流動床内または
ケイ素固定床内に冷却コイルを設けることが勧められる
。好ましい態様によると、前もって凝縮させた四塩化ケ
イ素を冷却剤として用いるが、これは気化熱をうばうこ
とによって反応系を冷却すると同時に蒸発し、次に水素
を混合されて高温反応器に戻されて転換する。2つの実
施態様において再反応器から生ずるガス混合物を、部分
的な凝縮によってまたは必要に5応じて次に蒸留を行な
うことによって、成分に分離し、四塩化ケイ素と水素の
成分は更に転換するために高温反応器に戻す。
次に図面に基づいて、本発明を説明する。高温反応器1
から生ずる反応ガスによって熱交0襖器ユニット2にお
いて予備加熱された四塩化ケイ素と水素の混合物を、高
温反応器1(900〜130000)に充填する。
実施態様Aによると、例え÷ば、フレオンで冷却した冷
却器3内で、すでに前段階でかなり冷却されている反応
ガスから、四塩化ケイ素とトリクロルシランとを分離す
る。トリクロルシランは更に精製することなく、直ちに
分離反応器に導入されてケイ素を製造することができる
が、液状で得られる四塩化ケイ素は冷却剤として〜直接
に再反応器4に導入される。この再反応器4では反応ガ
スから残留する水素と塩化水素とが、熱交換器ユニット
5内で予備加熱ミれた後に、低温度(280〜3500
C)において治金品質ケイ素と反応する。実施態様Bに
よると、高温反応器1を出る反応ガスは、四塩化ケイ素
とトリクロルシランを分離することなく「熱交換器ユニ
ット2内で冷却された後に、直接再反応器4に導入され
る。再反応器4において治金品質ケイ素と反応した後に
得られたガス混合物は場合によっては熱交換器ユニット
5−ここで発生する粗粒な固体粒子は再反応器4の排水
だめ7に蓮通させるのが有利である−を通過した後に、
微細ダストを分離するためにフィルター系6に導び〈。
フィルター6から出た後に、ガス混合物を段階的に冷却
するが、この際に塩水で冷却した冷却系8において四塩
化ケイ素を凝縮し、場合によっては再反応器4の冷却系
を通って出た後に、出発ガス混合物に再び加え、高温反
応器1において転換する。フレオンで冷却した冷却器ユ
ニットにおいてトリクロルソランを分離するが、水素は
再び出発ガス混合物に加え、新鮮な水素を添加すること
によって反応に適した消費量を配慮する。実施例 1 1時間につき四塩化ケイ素28k9(混合物中に約4仇
ho〆e%の四塩化ケイ素に相当する)と混合する水素
5.6で(常温常圧で測定)を、電気的に110000
まで加熱し、ラーシッヒリングを充填した直径10比吻
〜長さ100仇駁の黒鉛管に、1.3くール絶対圧の圧
力下で通した。
この反応器への滞留時間は1秒間であった。この過程間
に黒鉛管に入るガス混合物は、1方の管の内側に他方の
管を挿入した配置の2本の石英管を用いた向流の原理で
、黒鉛管から生ずる反応ガスによって予備加熱されたも
のであった。反応ガスはシランに関してしジクロルシラ
ン0.弦容量%、トリクロルシラン29.5容量%およ
び四塩化ケイ素7皮容量%から成る組成を有した。向流
原理で約320℃まで冷却したガス混合物を次に、9母
重量%のケィ素含量を有し、粒度範囲0.3〜3肌の粒
子が98%存在する固定床上に導入した。再反応器とし
て用いて、上述のようなケイ素固定床を充填した鋼管は
、直径15仇枕、長さ80仇岬のものであった。再反応
器内での滞留時間は3秒であった。この再反応器内の温
度は熱電対によって2900 〜320ooもこ保持し
た。非反応性成分によってガス混合物をかなり希釈する
ことによって、付加的な冷却を省略することも可能であ
った。再反応器を出るガス混合物を、1列に連結した塩
水‐冷却器(約−1oo 0)とフレオンー冷却器(約
一50C○)において部分的に凝縮させ、分留によって
その成分に分離した。水素を考慮しないと、分析結果は
ジクロルンラン0.3容量%、トリクロルシラン38.
弦容量%および四塩化ケイ素61.2容量%であった。
赤外分光計によると、排出ガス中に1容量%以下の塩化
水素が検出された。実施例 2この場合には、混合物中
の四塩化ケイ素の割合を約60モル%の上限範囲にまで
高めた(1時間につき四塩化ケイ素31.6k9を有す
る混合中に水素2.側め)。
高温反応器内での反応は1200℃、4バール絶対圧の
圧力および3秒間の滞留時間において実施した。その他
の点では、実施例1に述べた通りの方法を行なった。高
温反応器を出た後の分析(ガスクロマトグラフィによる
)の結果は、ジクロルシラン0.&容量%、トリクロル
シラン21。4容量%および四塩化ケイ素78.咳容量
%を示し、再反応器中での4.5秒の滞留時間でFeS
i・固定床反応器を出た後の分析は、ジクロルシラン0
.2容量%「 トリクロルシラン27.群容量%ならび
に四塩化ケイ素71.既容量%を示した。
実施例 3 この場合には、混合物中の四塩化ケイ素の割合を約10
モル%の下限範囲にまで抵下した(1時間につき四塩化
ケイ素0.4kgを有する混合物中に水素0.洲で)、
反応は1000ご0、4バール絶対圧および4の砂間の
滞留時間で実施した。
トリクロルシランの収率は全シラン量に基づいて、第1
段階で493容量%であり、再反応器中での4親砂の滞
留時間および32000の温度における第2段階後に6
3.5容量%まで上昇した。水素の割合が高く、そのた
めに生ずる技術的困難性のために、トリクロルシランの
凝縮は行なわなかった、分析はガスクロマトグラフイに
よって行なった。
【図面の簡単な説明】
図面は本発明によるトリクロルシラン製造工程を示すフ
ローシートである。 1・・・・・・高温反応器、2・…・・熱交換器ユニッ
ト、3・・・・・・フレオン12によって冷却する冷却
器、4・・・…再反応器、5…・・・熱交換器ユニット
、6・・・・・・フィルター、7・・…・排水だめ、8
・・・・・・塩水で冷却する冷却系、9・…−・フレオ
ンで冷却する冷却器ュニツト。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 四塩化ケイ素を水素と反応させ、この際に生成する
    塩化水素を粗ケイ素と反応させることから成るトリクロ
    ルシランの連続製造法において、四塩化ケイ素と水素と
    の混合物を高温反応器に入れ900〜1300℃の温度
    に200〜1秒間さらし、生成する塩化水素を冷却後、
    再反応器中で200〜2秒間の滞留時間、280〜35
    0℃の温度においてケイ素に接触させて更にトリクロル
    シランになるまで反応させ、2つの反応からのトリクロ
    ルシランを凝縮・分離させ、未反応四塩化ケイ素および
    新たに生成した四塩化ケイ素と水素とを再び前記高温反
    応器に戻し入れることを特徴とする方法。 2 再反応器として流動床反応器を用いることを特徴と
    する特許請求の範囲第1項記載の方法。 3 流動床中に浸漬し、液状の四塩化ケイ素を供給され
    る冷却管による冷却によって、流動床の温度を280〜
    350℃に調節することを特徴とする特許請求の範囲第
    1項または第2項に記載の方法。 4 流動床の冷却間に冷却管内で気化する四塩化ケイ素
    を水素と混合し、高温反応器に導入して反応させること
    を特徴とする特許請求の範囲第1項から第3項までのい
    ずれか1項に記載の方法。
JP56054490A 1980-06-27 1981-04-13 トリクロルシランの連続製造法 Expired JPS608969B2 (ja)

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DE3024319.7 1980-06-27
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JPS5717415A JPS5717415A (en) 1982-01-29
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