JPS6067664A - 真空成膜装置 - Google Patents
真空成膜装置Info
- Publication number
- JPS6067664A JPS6067664A JP17666683A JP17666683A JPS6067664A JP S6067664 A JPS6067664 A JP S6067664A JP 17666683 A JP17666683 A JP 17666683A JP 17666683 A JP17666683 A JP 17666683A JP S6067664 A JPS6067664 A JP S6067664A
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- JP
- Japan
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- dust
- vacuum chamber
- chamber
- gas
- vapor deposition
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/564—Means for minimising impurities in the coating chamber such as dust, moisture, residual gases
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（イ）産業上の利用分野
この発明は、蒸着装置の塵埃除去方法に関する。
０：Ｊ）従来技術
一般に、真空室内の真空排気を開始すると、室内の空気
が急に１ノ１出されるため、気？Ａとが発４（、シ、室
内の塵埃が舞い十がる。このような塵埃の一゛部は室内
の空気等と一緒に排出されるが、ＩＪＩＩ気が進行する
につれ気流が減少するので、多くの’ｌ−’１Ｍ塵埃は
排出されるに必要な運動°けをｉｑられなくなり室内に
残留する。したがっζ、従来の方法に、１、れば、真空
室内の塵埃を充分排出できツＪＨいため −；、；４着
装置における膜生成等に悪影響を与えるという欠点があ
る。
が急に１ノ１出されるため、気？Ａとが発４（、シ、室
内の塵埃が舞い十がる。このような塵埃の一゛部は室内
の空気等と一緒に排出されるが、ＩＪＩＩ気が進行する
につれ気流が減少するので、多くの’ｌ−’１Ｍ塵埃は
排出されるに必要な運動°けをｉｑられなくなり室内に
残留する。したがっζ、従来の方法に、１、れば、真空
室内の塵埃を充分排出できツＪＨいため −；、；４着
装置における膜生成等に悪影響を与えるという欠点があ
る。
（ハ）目的
この発明は、真空室内の塵埃を充分１ノ１出しｉ！ｊろ
蒸着装置の塵埃除去方法を提供する、二点を目的として
いる。
蒸着装置の塵埃除去方法を提供する、二点を目的として
いる。
（ニ）構成
この発明に係る蒸着装置の塵埃除去力ｌノ、は、真空室
内にワークを配置し、真空室を密閉したｉ々、真空室内
に清浄気体を噴出さゼ、かつ、前記清ｌｌＩ気体の一部
をワーク表面に吹き一つＬＪるご古により、真空室内の
塵埃を浮遊せしめ、該塵埃を「）；１記気体とともに真
空室外へ強制的に排出”Ｊる、ことを１４１．徴として
いる。
内にワークを配置し、真空室を密閉したｉ々、真空室内
に清浄気体を噴出さゼ、かつ、前記清ｌｌＩ気体の一部
をワーク表面に吹き一つＬＪるご古により、真空室内の
塵埃を浮遊せしめ、該塵埃を「）；１記気体とともに真
空室外へ強制的に排出”Ｊる、ことを１４１．徴として
いる。
（ポ）実施例
第１図は、この発明にかかる蒸着装置のｐ）！埃除去方
法を用いた蒸着装置の一実施例の（１゛１°１成を略示
した説明図である。
法を用いた蒸着装置の一実施例の（１゛１°１成を略示
した説明図である。
同図に才几）で、口、ＩＡ′↓空′・；チであり、この
真空室１には例えば、被疎名物であるワーク２及び蒸着
源３が配設されている。４はベースプレー１・、５はベ
ースプレート４にｇｌ ６．Ｊられる−１：排気上であ
っＣ１この主排気管５にはバルブ６が取リーバＪられて
いる。
真空室１には例えば、被疎名物であるワーク２及び蒸着
源３が配設されている。４はベースプレー１・、５はベ
ースプレート４にｇｌ ６．Ｊられる−１：排気上であ
っＣ１この主排気管５にはバルブ６が取リーバＪられて
いる。
７は真空室１に噴出さ・υる清ｌ’ｆ＋気体を蓄えて＃
、：；く清ｎｔ気体溜、８ ｉ、、Ｉｌ／ｌ ｉ’７＋
気体溜７がら流出した気体中の異物等を取り除くための
フィルタ、９はバルブ、１０は／１１を浄気体を２■空
室］内に導入するための配管であって、配管１０は直空
′姦１内の１９１１えば、二ｇ １ｌｌｉｌ所で開Ｌｌ
ｌ、ているつ開１」ｌ Ｉ ＆Ｊ： ’ノーク面にｌ
ｉ’を順気体を吹きっむ」るために、開１１１２１Ｊ真
空室１仝体に清１７Ｉ気体をｊｌきゎたら−Ｕるために
それぞれ設けられる。
、：；く清ｎｔ気体溜、８ ｉ、、Ｉｌ／ｌ ｉ’７＋
気体溜７がら流出した気体中の異物等を取り除くための
フィルタ、９はバルブ、１０は／１１を浄気体を２■空
室］内に導入するための配管であって、配管１０は直空
′姦１内の１９１１えば、二ｇ １ｌｌｉｌ所で開Ｌｌ
ｌ、ているつ開１」ｌ Ｉ ＆Ｊ： ’ノーク面にｌ
ｉ’を順気体を吹きっむ」るために、開１１１２１Ｊ真
空室１仝体に清１７Ｉ気体をｊｌきゎたら−Ｕるために
それぞれ設けられる。
１３は主排気系へのｐ）４埃の干渉を無＜−Ｊるために
設＋）られる塵埃１ノ１気管であっ゛（、これに番、ｌ
バルブ１４が取りつりりれＣいる。
設＋）られる塵埃１ノ１気管であっ゛（、これに番、ｌ
バルブ１４が取りつりりれＣいる。
次に上述した構成を備えた実施例の軸杵につい“Ｃ説明
する。
する。
ワーク２等がセットさｆ＋、た後１．１．″、！空室１
の人気圧からの減圧が進行する間また（：１、−１」、
（（ｊ１ｔｏｒｒ程度までＩＪＵ気した後、バルブ！Ｊ
を開イ’ｊ、 ｉ’ｉ’Ｉ浄気体溜７からｌＲ浄気体を
皿空室１的に導入する。
の人気圧からの減圧が進行する間また（：１、−１」、
（（ｊ１ｔｏｒｒ程度までＩＪＵ気した後、バルブ！Ｊ
を開イ’ｊ、 ｉ’ｉ’Ｉ浄気体溜７からｌＲ浄気体を
皿空室１的に導入する。
清浄気体の圧力は、塵埃を輸送するδ、二足ろｒｑｊ動
；、＞の気流を発生ずる４：１度でコ、く、例えば、Ｉ
０１．ａｒｒｒｉ：ｊ後の圧力でもかなりのセ）送力
が沙ノるご七がｌ１ｌｌｔ ｒｌ、ゑ（されている。ま
た、ｌＩ７浄気体は真？、ｕ室自）Ｊのぞ；Ｊ、、Ｖの
２倍あるいはそれ以１−の流ｔｆｔ （ｌ灸１１４れば
、１．Ｊ。
；、＞の気流を発生ずる４：１度でコ、く、例えば、Ｉ
０１．ａｒｒｒｉ：ｊ後の圧力でもかなりのセ）送力
が沙ノるご七がｌ１ｌｌｔ ｒｌ、ゑ（されている。ま
た、ｌＩ７浄気体は真？、ｕ室自）Ｊのぞ；Ｊ、、Ｖの
２倍あるいはそれ以１−の流ｔｆｔ （ｌ灸１１４れば
、１．Ｊ。
空室内の気体を２回あるいはそれシー１に大ｔ）、 Ｐ
え得る流量）であることが望ましい。
え得る流量）であることが望ましい。
しかして、開口１１及び１２がら１ｉ１１１γ１気体が
１１０出される結果、ソーク２、ｉへ前高）：（、白′
、Ｌ５；・［の内壁、ヘースプレート４等るこ（＝Ｊ清
（−沃塵埃がｌ’Ｚ ｉにする。−力、塵埃排気管１３
は１ン１小し］ざい（）１気ポンプに接続するから、前
記浮遊塵埃ε、１渭メ７Ｉ気体の流れにのって塵埃排気
管１３がら真空′・：；１り１八、強制的に１ノ］出さ
れる。その後、主排気管５を介し７″（、真空室１内は
所定圧にまで真空１）１気されろ。
１１０出される結果、ソーク２、ｉへ前高）：（、白′
、Ｌ５；・［の内壁、ヘースプレート４等るこ（＝Ｊ清
（−沃塵埃がｌ’Ｚ ｉにする。−力、塵埃排気管１３
は１ン１小し］ざい（）１気ポンプに接続するから、前
記浮遊塵埃ε、１渭メ７Ｉ気体の流れにのって塵埃排気
管１３がら真空′・：；１り１八、強制的に１ノ］出さ
れる。その後、主排気管５を介し７″（、真空室１内は
所定圧にまで真空１）１気されろ。
第２１８！！Ｉばこの発明の他の実施例であっ−（、い
ゎり）るインライン型装置への適用１ｆ１７を示した説
明図である。
ゎり）るインライン型装置への適用１ｆ１７を示した説
明図である。
同図にＪδいて、第１図と同一部分は同一符合で示して
いる。この装置は、バルブ２４及び２５を介して連設さ
れる５−′ｉ空室としての試料ｔｉｌｔ人室２１とプ１
」セス室２２、および試料取出室２：３を備えている。
いる。この装置は、バルブ２４及び２５を介して連設さ
れる５−′ｉ空室としての試料ｔｉｌｔ人室２１とプ１
」セス室２２、および試料取出室２：３を備えている。
２６は試料を挿入するための１・′ア、２７は試料を取
り出すためのドア、２８及び２１〕は矢印方向に移行°
するワーク、３６はプスセス遂行十の上聞部分をそれぞ
れ示し−（いる。
り出すためのドア、２８及び２１〕は矢印方向に移行°
するワーク、３６はプスセス遂行十の上聞部分をそれぞ
れ示し−（いる。
試料挿入室２１及びプロセス室２２には、第１図に示し
た蕉着装置と同様の主排気管３（）、３１及び塵埃排気
管３２．３；３がバルブを介し゛（それぞれ接続されて
いる。
た蕉着装置と同様の主排気管３（）、３１及び塵埃排気
管３２．３；３がバルブを介し゛（それぞれ接続されて
いる。
また、各室２１．２２には、清浄気体を導入するｆめの
配管３４及び３５が設りられ゛こいる。特に、配管３５
はワーク２９の表面に向がって開１１している。
配管３４及び３５が設りられ゛こいる。特に、配管３５
はワーク２９の表面に向がって開１１している。
しかして、第１１′；！、Ｉで説明したと同様に、配）
ゞ「：３４及び３５により各室２１及び２２に噴出され
た清浄気体により、室内の塵埃は各塵埃ＩＪＩ気Ｑ！ｒ
３２．３３より強制排出される。
ゞ「：３４及び３５により各室２１及び２２に噴出され
た清浄気体により、室内の塵埃は各塵埃ＩＪＩ気Ｑ！ｒ
３２．３３より強制排出される。
第３図は」二連した実施例によった場合の１７７４埃：
１：の経時変化の状態をしめした説明図でＪ）る。
１：の経時変化の状態をしめした説明図でＪ）る。
同図（ａｌの実線は、真空室内に清浄気体を噴出した場
合、破線は清浄気体を噴出させない場合の白。
合、破線は清浄気体を噴出させない場合の白。
空室内の塵埃■の経時変化をそれぞれ、＋１ず。；１モ
た、同図（ａｌの一点鎖線は清浄気体を噴出さ・Ｕた場
合、二点鎖線は７ｒｉ浄空気を噴出さ−Ｕない場合の真
空室内の圧力変化をそれぞれ示しζいる。図中、Ａ、１
よび８点は、清浄気体の噴出照点を小していイ１゜同図
ｔａ＋より明らかなように、ｉ’ｉ’ｉ ｌ’ｉ’気体
０） ｕ／ｉ出６．Ｉ Ｊ、す、真空室内の塵埃ｈ」は
、気体をｌｊｌ’ｌ出さ−ＩＬ １．＋’いときに比較
して著しく少なくなる。
た、同図（ａｌの一点鎖線は清浄気体を噴出さ・Ｕた場
合、二点鎖線は７ｒｉ浄空気を噴出さ−Ｕない場合の真
空室内の圧力変化をそれぞれ示しζいる。図中、Ａ、１
よび８点は、清浄気体の噴出照点を小していイ１゜同図
ｔａ＋より明らかなように、ｉ’ｉ’ｉ ｌ’ｉ’気体
０） ｕ／ｉ出６．Ｉ Ｊ、す、真空室内の塵埃ｈ」は
、気体をｌｊｌ’ｌ出さ−ＩＬ １．＋’いときに比較
して著しく少なくなる。
一方、同図（ｂｌは、真空室内にｌｌｌ’ｌ出ずく〕清
ｌγ１気体の流層に対応した塵埃Ｒ１の減少変化を小し
ていン゛Ｊ。
ｌγ１気体の流層に対応した塵埃Ｒ１の減少変化を小し
ていン゛Ｊ。
ＩＧＪ図より、ｌｉ’を浄気体導入後、一定１．７間を
経７７・−冒ると残留塵埃量は一定になり、ごの残留用
３埃：Ｉτは？に入気体流量が多い程、減少することか
１１する。
経７７・−冒ると残留塵埃量は一定になり、ごの残留用
３埃：Ｉτは？に入気体流量が多い程、減少することか
１１する。
なお、この発明の実施にあたり、ｌ＋’ｉ〆ｆＩ気体ｌ
’ｌ’ｌ出ｌ」での急冷却防止載構、気体導入時のパル
ス的な流ら士調節、あるいは、気体ｕＡ出１」の寸法、
形状、数量及び配置位ｖ７等＆Ｊ実施される２そ看装；
１°１：等に応して適宜に（＝Ｊ設、あるいは設定され
うるものである。
’ｌ’ｌ出ｌ」での急冷却防止載構、気体導入時のパル
ス的な流ら士調節、あるいは、気体ｕＡ出１」の寸法、
形状、数量及び配置位ｖ７等＆Ｊ実施される２そ看装；
１°１：等に応して適宜に（＝Ｊ設、あるいは設定され
うるものである。
また、実施例では、−個の開Ｌｌ ＜；１〜からソーク
に向りてｌｌ’ｆ浄気体を噴出するとして説明した。し
かし、これは、たとえは、配管をワークｌａｄ囲に配設
し、該配管に複数の開口を中心部（ワーク表面）に向か
うように設ｂＪ、この複数の開Ｌ１からｌ゛１’を値気
体を噴出さ−Ｕるものであっ−Ｃもよい。
に向りてｌｌ’ｆ浄気体を噴出するとして説明した。し
かし、これは、たとえは、配管をワークｌａｄ囲に配設
し、該配管に複数の開口を中心部（ワーク表面）に向か
うように設ｂＪ、この複数の開Ｌ１からｌ゛１’を値気
体を噴出さ−Ｕるものであっ−Ｃもよい。
（へ）す】果
この発明に係る。′ｉ、’、！着装置ｉ’：ｅの塵埃除
去方ｌＪりは、真空室内の真空排気にざいして、清浄気
体でもつ（真空室内の塵埃を強制的に排出し、しかるの
らに、真空内を真空１）１気するものであるから１．Ｈ
２空室内の塵埃を充分排出Ｊるごとかできる。したがっ
てこの発明によれば各種の膜形成において塵埃の悪影響
を少なくできる。
去方ｌＪりは、真空室内の真空排気にざいして、清浄気
体でもつ（真空室内の塵埃を強制的に排出し、しかるの
らに、真空内を真空１）１気するものであるから１．Ｈ
２空室内の塵埃を充分排出Ｊるごとかできる。したがっ
てこの発明によれば各種の膜形成において塵埃の悪影響
を少なくできる。
また、この発明に係る蒸着装置の塵埃除去力法は、清浄
気体の一部をツー、りの表面（１，二間ｉＪて１＋６出
するから、マノークを真空室内に七ノドしたｉテ、自空
室内の塵埃を除去しても、ソーク表面にＩＩＩ’ Ｉダ
か（−１着するごとがない。したがっ−乙１１）！埃１
；ｉ、人と一１゛Ｊ空拮気を連続して行うことができる
。ワークノ暑１１１に清浄気体を噴出しない手段によれ
は、ツークイＵ面への塵埃イ′４着を防止するために、
１．１−りを−１１／トしない状態で真空室内の塵埃を
除去し、その後、真空室を開放してワークをセン１−シ
、ｔ″−ヱ空ＩＪＩ気する必要がある。このような場合
に比中受して１、二の発明は作業能率を向上させるとい
う別シ′この効果を奏する。
気体の一部をツー、りの表面（１，二間ｉＪて１＋６出
するから、マノークを真空室内に七ノドしたｉテ、自空
室内の塵埃を除去しても、ソーク表面にＩＩＩ’ Ｉダ
か（−１着するごとがない。したがっ−乙１１）！埃１
；ｉ、人と一１゛Ｊ空拮気を連続して行うことができる
。ワークノ暑１１１に清浄気体を噴出しない手段によれ
は、ツークイＵ面への塵埃イ′４着を防止するために、
１．１−りを−１１／トしない状態で真空室内の塵埃を
除去し、その後、真空室を開放してワークをセン１−シ
、ｔ″−ヱ空ＩＪＩ気する必要がある。このような場合
に比中受して１、二の発明は作業能率を向上させるとい
う別シ′この効果を奏する。
さらに、前記の場合、塵埃を除去した後、ｆｊ空室を開
放するから、外気に含まれるＩ’ｌｊ埃かり空−・内に
入り込むという危惧がある。しかし１、二の発明に係る
方法によれば、塵埃除去後、１、゛Ｉノ１′ま′・；・
４：ｌ： １ｉｉ４放しないから、かかる危惧は全くん
い。
放するから、外気に含まれるＩ’ｌｊ埃かり空−・内に
入り込むという危惧がある。しかし１、二の発明に係る
方法によれば、塵埃除去後、１、゛Ｉノ１′ま′・；・
４：ｌ： １ｉｉ４放しないから、かかる危惧は全くん
い。
第１図は、この発明にかかる蒸着装置のｐ、１８埃除去
方法を用いた蒸着装置の一実施例の１１へ７成を”’ｊ
＋ ／Ｉ、した説明図、第２図はこの発明の他の実施例
ζあって、いわゆるインライン型装置への迫用例を示し
た説明図、第３図は」二連した実ｈ１す例６、二、１、
っｌ：場合のｐ）？放置の縁間変化の状態を示した説明
図（ある。 １・・・真空室、２・・・ワーク、；（・・・、闇−着
源、５・・・主（］１気管、７・・・ｌ、１ｉ−ｌ乍気
体Ａｒ１．８・・・フィルタ、１０・・・配管、１１１
２・・・開口、１３・・・）１）！埃排気５１′１・。 特許出願人 株コ−（会社 島？、１１．８１ｉｉＪ作
所代理人 弁理士 大 西 孝 冶 第１図 第２図 第３図 （ａ） ｖＩ （ｂ）
方法を用いた蒸着装置の一実施例の１１へ７成を”’ｊ
＋ ／Ｉ、した説明図、第２図はこの発明の他の実施例
ζあって、いわゆるインライン型装置への迫用例を示し
た説明図、第３図は」二連した実ｈ１す例６、二、１、
っｌ：場合のｐ）？放置の縁間変化の状態を示した説明
図（ある。 １・・・真空室、２・・・ワーク、；（・・・、闇−着
源、５・・・主（］１気管、７・・・ｌ、１ｉ−ｌ乍気
体Ａｒ１．８・・・フィルタ、１０・・・配管、１１１
２・・・開口、１３・・・）１）！埃排気５１′１・。 特許出願人 株コ−（会社 島？、１１．８１ｉｉＪ作
所代理人 弁理士 大 西 孝 冶 第１図 第２図 第３図 （ａ） ｖＩ （ｂ）
Claims (1)
- （１）真空室内にワー・りを配置し、真空室を密閉した
後、真空室内に清浄気体を噴出さ−ｌ、かつ、前記清浄
気体の−ｉ’ｌｌをワーク表面に吹きつＬＪることによ
り、以空室内の塵埃を／ｆ−遊−Ｕしめ、該ｙ）！埃を
＋’＋ｉｊ記気体とともに、Ｉ′↓空室外へ強；１−１
的に排出するごとを特徴とする蒸着装置の塵埃除去方法
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17666683A JPS6067664A (ja) | 1983-09-24 | 1983-09-24 | 真空成膜装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17666683A JPS6067664A (ja) | 1983-09-24 | 1983-09-24 | 真空成膜装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6067664A true JPS6067664A (ja) | 1985-04-18 |
| JPH0573826B2 JPH0573826B2 (ja) | 1993-10-15 |
Family
ID=16017580
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17666683A Granted JPS6067664A (ja) | 1983-09-24 | 1983-09-24 | 真空成膜装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6067664A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62205268A (ja) * | 1986-03-04 | 1987-09-09 | Ulvac Corp | 真空処理槽のクリ−ニング装置 |
| JPH03219069A (ja) * | 1990-01-24 | 1991-09-26 | Mitsubishi Kasei Corp | 真空槽のクリーニング方法 |
| US6979517B2 (en) | 2000-04-28 | 2005-12-27 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Electrode plate for cell and method for manufacturing the same |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS591677A (ja) * | 1982-06-29 | 1984-01-07 | Citizen Watch Co Ltd | イオンプレ−テイング装置 |
-
1983
- 1983-09-24 JP JP17666683A patent/JPS6067664A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS591677A (ja) * | 1982-06-29 | 1984-01-07 | Citizen Watch Co Ltd | イオンプレ−テイング装置 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62205268A (ja) * | 1986-03-04 | 1987-09-09 | Ulvac Corp | 真空処理槽のクリ−ニング装置 |
| JPH0582468B2 (ja) * | 1986-03-04 | 1993-11-19 | Ulvac Corp | |
| JPH03219069A (ja) * | 1990-01-24 | 1991-09-26 | Mitsubishi Kasei Corp | 真空槽のクリーニング方法 |
| US6979517B2 (en) | 2000-04-28 | 2005-12-27 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Electrode plate for cell and method for manufacturing the same |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0573826B2 (ja) | 1993-10-15 |
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