JPS62205268A - 真空処理槽のクリ−ニング装置 - Google Patents

真空処理槽のクリ−ニング装置

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JPS62205268A
JPS62205268A JP4515586A JP4515586A JPS62205268A JP S62205268 A JPS62205268 A JP S62205268A JP 4515586 A JP4515586 A JP 4515586A JP 4515586 A JP4515586 A JP 4515586A JP S62205268 A JPS62205268 A JP S62205268A
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JP
Japan
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air
treatment tank
shock wave
wave
pressure wave
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JP4515586A
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JPH0582468B2 (ja
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Yoshiyasu Maehane
前羽 良保
Tsutomu Saito
務 斎藤
Hiroyuki Yamakawa
洋幸 山川
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Ulvac Inc
Original Assignee
Ulvac Inc
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は真空蒸着、スパッタリングその他の真空処理装
置における真空処1!l! 4ft内を所謂エアブ〔l
−によりクリーニングする装置に関りる。
(従来の技術) 本願出願人は、先にこの種装置として、真空ポンプその
他の真空排気系に連なる真空処111!槽に、ブロアと
フィルタとを有1°る一側の給気通路と、その他側の1
f気通路とを接続さu、1該ブ・[1アの作動にJ:れ
ば、空気その他の気体が、該給気通路から該処理槽内を
介して該131気通路に導かれて、該処理槽内のダスト
粒子がこれに伴われるようにした式のもの、これを換占
づれば、エアブロ一式のクリーニング手段をU2Xした
(発明が解決しよ・うとりる問題点) 然し乍ら、かかる乙のでは、該処理槽内の該気体の流れ
が、所謂定常流とな−〕C壁而f面1近に境界層を生じ
、これがILlには数10ミクClンの11ノさとなり
、かくて、問題とされる1ミクロン以トのダス!・粒子
に対し有効にf1川しないことがζえられる。
(問題j:Aを解決するための手段) 本発明はかかる不都合のない装置、Ill lう境界層
の発生にJこる不都合を無くず装置を得ることをその目
的としたもので、真空ポンプその1世の真空排気系に連
ζにるrX空処叩槽に、ブロアとフィルタとを有する一
側の給気通路と、その他側の団気通路とを接続させ、該
層[1アの作動によれば、空気その他の気体が、該給気
通路から該処理槽内を介して該排気通路に導かれて該処
理槽内のダス!・粒子がこれに伴われるようにした式の
ものにおいて、衝撃波又tよ圧力波の発でに源を備え、
これを適宜作動させて該処理槽内を導かれる該気体に該
衝撃波又(よ圧力波を作用させるようにして成る。
(実施例) 本発明の実1例を別紙図面に(=J説明する。
第1図はその1例を示すbので、(1)は真空処し!p
装置を構成寸べさ真空処理槽を示し、該処理槽(1)は
真空ポンプその他の真空排気系(2)どり−クバルブ(
3)どを備えると共に、その内部にウェハその他のワー
クを出入自在に収容すべく構成されるしので、この点は
従来のものと14に異ならない。
先の促゛奈にJ、れは、これに土アゾロ一式のクリーニ
ング作用を勺えるべり、l洟処理槽(1)にゾ1」ア(
4)と、高性能のフィルタ(5)とをイjする一側の給
気通路(6)と、その他側の排気通路(7)どを%5え
、かくで該71N ? (4)の作動によれば、外δl
tl/1空気がフィルタ(5)で浄化され′r:該給気
通路(6)から、該処理4f’1(1)内を介しで該朗
気通路(7)に専かれてこれにWk処理槽(1)内のゲ
ス1−粒子が伴われるしので、史に詳細には、該処理槽
(1)内のダスト粒子は、該給気通路(6)から比較的
昌速で導かれる該空気により舞い上りを生じ、次で該空
気に伴われC該排気通路(7)から排出されるようにし
、これを換言り“れば、該5I!1理槽(1)内に所謂
1−アブ1−」一式のクリーニング作用を与えられるJ
:うにしlこ。
両通路(6) (7)にはこれを開開する各バルブ(8
) (9)が介入されると共に、1亥+Jl気通路(6
)には−ぞの上流端にも高性能のフィルタ(IOlfi
備えられるようにした。
以上は先に提案した乙のと特に異ならないが、本発明に
よれば衝撃波又は圧力波の発生源(Ivを備え、これを
適宜作動させて該処理#ff(1)内に導かれる+V+
記した気体に該(支)撃波又は圧力波を作用させるよう
にした。
図示のものでは、該発生源(11)は間歇的に開開制御
される制御弁(11a)と、該層(11a)を介して前
記した給気通路(6)に連なる比較的高圧のN2その曲
の気体の供給源(11b)とから成り、該i1i+制御
フ?(Ila)の聞弁角にその出力側に該気体の衝撃波
又は圧力波が生ずるようにした。この衝撃波又は圧力波
は詠通路(6)を介して該層Ljlj mW <1)内
に導かれるしので、該層(1)内に前記した2気が定常
流と41:っでそれによる境界層が存する場合、該衝撃
波又は圧力波は該層を破って(゛の内部の壁面−Lのゲ
ス1−粒子に作用してこれを舞い上らせるべく機能する
第2図は他の1例を承りもので、該給気通路(6)の上
流端に該IJI気通路(7)の上流端を連結して全体と
して循環路とし、これに空気に代えて外部の供給源az
から導かれるN2その池の不活性ガスを循1策さ′せる
を式とするもので、この魚は先に梶案したものど14に
異ならないが、本発明によれば、これに前記し!ご発生
源0[F]を備えるようにした3、該発1−源aυは先
の実施例と略同様に間歇的に開放制御される制御211
弁(11a)ど、該層?(11a)を介して該通路(6
)に連なる供給源(111))とから成るしのぐ、図示
のものでは該供給源(121を前記した供給源(+21
と共用させるようにした、。
該供給源0zは前記した循環路に開閉自在のバルブ(1
31を介し1連なるものどじ、更に該惧18源(tib
) i、を該制御211弁(11a)にバルブ(+41
とフィルタa9とを介して連なるようにした。
尚該発生源0v【よ前記した第1図或は第2図示のムの
に限ること41:り、例えば第33図或は第4図示のも
のとりることし可能である。、■1ら第3図1、のしの
では、該発生源0は1浅処理1f’! (1)内に連な
る全問(11C)内の奥部を放物面(11tl )に形
成ざUると共にその焦点位置に自動車の点火プラグにr
t+ する火花発生器(11c)を備える型式どし、か
くて該介牛器(11(りの作!tJI毎に(1fるYt
力波は該放物面(lldlで反射されて該空間(IIC
)内を介して該処理ffi (1)内に導かれるもので
略同様の作動を得られる。
更に第4図示のらのでは、該発生源atは該処理+ff
f (1)内の抵抗FA(11f)と、これに連なる電
源(11(1)とから成る型式とし、かくて該抵抗線(
10)は通電にJ、れば加熱されて断線し、該断線によ
れば圧力波が円筒状に生ずるものr略同様の作動を得ら
れる。
(作 用) その作動を例えば第1図示のにものにつき説明するに、
該ブロア(4)の作動によれば、外部の空気がこれに引
かれ゛C該給気通路(G)から該処理槽(1)内を介し
て該団気通路(1)に導かれると共に、部槽(1)内の
ダスト粒子は該空気の流れを作用されて舞い上って該空
気に伴われ(外部に排出されるもので、この点は先に提
案したものと特に異らないが、かかるエアプロ一式の作
vJによれば該空気の流れは部槽(1)内で定常流とな
って壁面付近に境界層を生じその厚さによってはダスト
粒子に対し有効に作用しないことが考えられ、この場合
に佑えて、該発生源0′Dを間取的に或は連続的にf’
l” I!+3さμる。かくて生ずる14Ij撃波又は
Ir力波は該処理槽(1)内の空気に作用して、壁面付
近にその境界層が存Jる場合、これを打破ってその内部
のダスト粒子に作用し、これを舞い上らUることが出来
、これを換言゛ツれば、クリーニング効果を一層QIE
にすることが可能である。
その効果を確認づるため、発明省は次の実験を行った。
即ちゲス1−粒子を付着させたつ1ハを用意し、これを
第1図示の実施例にJj4プるバルブ(8)の個所、(
11115該パルプ(8)を取外してその個所にヒツト
し、この状態からブロア(4)にJ、る空気流と、該発
生8Q(′Ivによる衝撃波とを作用さぜた。そのM果
は、第5図の状態から第6図示の状態となった。図中光
っているのは直径1ミクロンの粒子である。尚空気流の
みでは、該粒子は殆ど除去出来なかった。
(発明の効果) このように本発明によるときは、空気その他の気体を給
気通路から真空処理槽内を介して排気通路に導かせて該
槽内に所謂エア10一式のクリーニング作用を与える式
のものにおいて、別個にv−J撃波又は圧力波の発生源
を備え、生ずる法被を該槽内の該気体に作用させるもの
で、該槽内の該気体の流れが定常となって壁面付近に境
界層を生ずる場合、法被はこれを打破ってイの内部のダ
スト粒子を舞い上らせるべく有効に作用し、かくてクリ
ーニング効果を著しく向上させ得られ、その構成は単に
発生源を加えるのみで比較的簡単であり、廉価に得られ
る等の効果を右する。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明装置の1例の説明線図、第2図は伯の1
例の説明線図、第3図及び第4図は衝撃波又は圧ノコ波
の発生源の変形例の説明線図、第5図及び第6図は実験
例を説明するウェハの正面図である。 (1)・・・真空処理槽 (2)・・・真空排気系 (4)・・・ブロア (5)・・・フィルタ (6)・・・給気通路 (7)・・・排気通路

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 真空ポンプその他の真空排気系に連なる真空処理槽に、
    ブロアとフィルタとを有する一側の給気通路と、その他
    側の排気通路とを接続させ、該ブロアの作動によれば、
    空気その他の気体が、該給気通路から該処理槽内を介し
    て該排気通路に導かれて該処理槽内のダスト粒子がこれ
    に伴われるようにした式のものにおいて、衝撃波又は圧
    力波の発生源を備え、これを適宜作動させて該処理槽内
    を導かれる該気体に該衝撃波又は圧力波を作用させるよ
    うにして成る真空処理槽のクリーニング装置。
JP4515586A 1986-03-04 1986-03-04 真空処理槽のクリ−ニング装置 Granted JPS62205268A (ja)

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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6055611A (ja) * 1983-09-06 1985-03-30 Ulvac Corp 真空室内クリ−ニング装置
JPS6067664A (ja) * 1983-09-24 1985-04-18 Shimadzu Corp 真空成膜装置

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6055611A (ja) * 1983-09-06 1985-03-30 Ulvac Corp 真空室内クリ−ニング装置
JPS6067664A (ja) * 1983-09-24 1985-04-18 Shimadzu Corp 真空成膜装置

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