JPS62205268A - 真空処理槽のクリ−ニング装置 - Google Patents
真空処理槽のクリ−ニング装置Info
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- JPS62205268A JPS62205268A JP4515586A JP4515586A JPS62205268A JP S62205268 A JPS62205268 A JP S62205268A JP 4515586 A JP4515586 A JP 4515586A JP 4515586 A JP4515586 A JP 4515586A JP S62205268 A JPS62205268 A JP S62205268A
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- 238000009489 vacuum treatment Methods 0.000 title abstract 3
- 230000035939 shock Effects 0.000 claims abstract description 17
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 16
- 239000000428 dust Substances 0.000 claims abstract description 14
- 238000007599 discharging Methods 0.000 abstract 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 3
- 239000002689 soil Substances 0.000 description 2
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 2
- 241000257465 Echinoidea Species 0.000 description 1
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は真空蒸着、スパッタリングその他の真空処理装
置における真空処1!l! 4ft内を所謂エアブ〔l
−によりクリーニングする装置に関りる。
置における真空処1!l! 4ft内を所謂エアブ〔l
−によりクリーニングする装置に関りる。
(従来の技術)
本願出願人は、先にこの種装置として、真空ポンプその
他の真空排気系に連なる真空処111!槽に、ブロアと
フィルタとを有1°る一側の給気通路と、その他側の1
f気通路とを接続さu、1該ブ・[1アの作動にJ:れ
ば、空気その他の気体が、該給気通路から該処理槽内を
介して該131気通路に導かれて、該処理槽内のダスト
粒子がこれに伴われるようにした式のもの、これを換占
づれば、エアブロ一式のクリーニング手段をU2Xした
。
他の真空排気系に連なる真空処111!槽に、ブロアと
フィルタとを有1°る一側の給気通路と、その他側の1
f気通路とを接続さu、1該ブ・[1アの作動にJ:れ
ば、空気その他の気体が、該給気通路から該処理槽内を
介して該131気通路に導かれて、該処理槽内のダスト
粒子がこれに伴われるようにした式のもの、これを換占
づれば、エアブロ一式のクリーニング手段をU2Xした
。
(発明が解決しよ・うとりる問題点)
然し乍ら、かかる乙のでは、該処理槽内の該気体の流れ
が、所謂定常流とな−〕C壁而f面1近に境界層を生じ
、これがILlには数10ミクClンの11ノさとなり
、かくて、問題とされる1ミクロン以トのダス!・粒子
に対し有効にf1川しないことがζえられる。
が、所謂定常流とな−〕C壁而f面1近に境界層を生じ
、これがILlには数10ミクClンの11ノさとなり
、かくて、問題とされる1ミクロン以トのダス!・粒子
に対し有効にf1川しないことがζえられる。
(問題j:Aを解決するための手段)
本発明はかかる不都合のない装置、Ill lう境界層
の発生にJこる不都合を無くず装置を得ることをその目
的としたもので、真空ポンプその1世の真空排気系に連
ζにるrX空処叩槽に、ブロアとフィルタとを有する一
側の給気通路と、その他側の団気通路とを接続させ、該
層[1アの作動によれば、空気その他の気体が、該給気
通路から該処理槽内を介して該排気通路に導かれて該処
理槽内のダス!・粒子がこれに伴われるようにした式の
ものにおいて、衝撃波又tよ圧力波の発でに源を備え、
これを適宜作動させて該処理槽内を導かれる該気体に該
衝撃波又(よ圧力波を作用させるようにして成る。
の発生にJこる不都合を無くず装置を得ることをその目
的としたもので、真空ポンプその1世の真空排気系に連
ζにるrX空処叩槽に、ブロアとフィルタとを有する一
側の給気通路と、その他側の団気通路とを接続させ、該
層[1アの作動によれば、空気その他の気体が、該給気
通路から該処理槽内を介して該排気通路に導かれて該処
理槽内のダス!・粒子がこれに伴われるようにした式の
ものにおいて、衝撃波又tよ圧力波の発でに源を備え、
これを適宜作動させて該処理槽内を導かれる該気体に該
衝撃波又(よ圧力波を作用させるようにして成る。
(実施例)
本発明の実1例を別紙図面に(=J説明する。
第1図はその1例を示すbので、(1)は真空処し!p
装置を構成寸べさ真空処理槽を示し、該処理槽(1)は
真空ポンプその他の真空排気系(2)どり−クバルブ(
3)どを備えると共に、その内部にウェハその他のワー
クを出入自在に収容すべく構成されるしので、この点は
従来のものと14に異ならない。
装置を構成寸べさ真空処理槽を示し、該処理槽(1)は
真空ポンプその他の真空排気系(2)どり−クバルブ(
3)どを備えると共に、その内部にウェハその他のワー
クを出入自在に収容すべく構成されるしので、この点は
従来のものと14に異ならない。
先の促゛奈にJ、れは、これに土アゾロ一式のクリーニ
ング作用を勺えるべり、l洟処理槽(1)にゾ1」ア(
4)と、高性能のフィルタ(5)とをイjする一側の給
気通路(6)と、その他側の排気通路(7)どを%5え
、かくで該71N ? (4)の作動によれば、外δl
tl/1空気がフィルタ(5)で浄化され′r:該給気
通路(6)から、該処理4f’1(1)内を介しで該朗
気通路(7)に専かれてこれにWk処理槽(1)内のゲ
ス1−粒子が伴われるしので、史に詳細には、該処理槽
(1)内のダスト粒子は、該給気通路(6)から比較的
昌速で導かれる該空気により舞い上りを生じ、次で該空
気に伴われC該排気通路(7)から排出されるようにし
、これを換言り“れば、該5I!1理槽(1)内に所謂
1−アブ1−」一式のクリーニング作用を与えられるJ
:うにしlこ。
ング作用を勺えるべり、l洟処理槽(1)にゾ1」ア(
4)と、高性能のフィルタ(5)とをイjする一側の給
気通路(6)と、その他側の排気通路(7)どを%5え
、かくで該71N ? (4)の作動によれば、外δl
tl/1空気がフィルタ(5)で浄化され′r:該給気
通路(6)から、該処理4f’1(1)内を介しで該朗
気通路(7)に専かれてこれにWk処理槽(1)内のゲ
ス1−粒子が伴われるしので、史に詳細には、該処理槽
(1)内のダスト粒子は、該給気通路(6)から比較的
昌速で導かれる該空気により舞い上りを生じ、次で該空
気に伴われC該排気通路(7)から排出されるようにし
、これを換言り“れば、該5I!1理槽(1)内に所謂
1−アブ1−」一式のクリーニング作用を与えられるJ
:うにしlこ。
両通路(6) (7)にはこれを開開する各バルブ(8
) (9)が介入されると共に、1亥+Jl気通路(6
)には−ぞの上流端にも高性能のフィルタ(IOlfi
備えられるようにした。
) (9)が介入されると共に、1亥+Jl気通路(6
)には−ぞの上流端にも高性能のフィルタ(IOlfi
備えられるようにした。
以上は先に提案した乙のと特に異ならないが、本発明に
よれば衝撃波又は圧力波の発生源(Ivを備え、これを
適宜作動させて該処理#ff(1)内に導かれる+V+
記した気体に該(支)撃波又は圧力波を作用させるよう
にした。
よれば衝撃波又は圧力波の発生源(Ivを備え、これを
適宜作動させて該処理#ff(1)内に導かれる+V+
記した気体に該(支)撃波又は圧力波を作用させるよう
にした。
図示のものでは、該発生源(11)は間歇的に開開制御
される制御弁(11a)と、該層(11a)を介して前
記した給気通路(6)に連なる比較的高圧のN2その曲
の気体の供給源(11b)とから成り、該i1i+制御
フ?(Ila)の聞弁角にその出力側に該気体の衝撃波
又は圧力波が生ずるようにした。この衝撃波又は圧力波
は詠通路(6)を介して該層Ljlj mW <1)内
に導かれるしので、該層(1)内に前記した2気が定常
流と41:っでそれによる境界層が存する場合、該衝撃
波又は圧力波は該層を破って(゛の内部の壁面−Lのゲ
ス1−粒子に作用してこれを舞い上らせるべく機能する
。
される制御弁(11a)と、該層(11a)を介して前
記した給気通路(6)に連なる比較的高圧のN2その曲
の気体の供給源(11b)とから成り、該i1i+制御
フ?(Ila)の聞弁角にその出力側に該気体の衝撃波
又は圧力波が生ずるようにした。この衝撃波又は圧力波
は詠通路(6)を介して該層Ljlj mW <1)内
に導かれるしので、該層(1)内に前記した2気が定常
流と41:っでそれによる境界層が存する場合、該衝撃
波又は圧力波は該層を破って(゛の内部の壁面−Lのゲ
ス1−粒子に作用してこれを舞い上らせるべく機能する
。
第2図は他の1例を承りもので、該給気通路(6)の上
流端に該IJI気通路(7)の上流端を連結して全体と
して循環路とし、これに空気に代えて外部の供給源az
から導かれるN2その池の不活性ガスを循1策さ′せる
を式とするもので、この魚は先に梶案したものど14に
異ならないが、本発明によれば、これに前記し!ご発生
源0[F]を備えるようにした3、該発1−源aυは先
の実施例と略同様に間歇的に開放制御される制御211
弁(11a)ど、該層?(11a)を介して該通路(6
)に連なる供給源(111))とから成るしのぐ、図示
のものでは該供給源(121を前記した供給源(+21
と共用させるようにした、。
流端に該IJI気通路(7)の上流端を連結して全体と
して循環路とし、これに空気に代えて外部の供給源az
から導かれるN2その池の不活性ガスを循1策さ′せる
を式とするもので、この魚は先に梶案したものど14に
異ならないが、本発明によれば、これに前記し!ご発生
源0[F]を備えるようにした3、該発1−源aυは先
の実施例と略同様に間歇的に開放制御される制御211
弁(11a)ど、該層?(11a)を介して該通路(6
)に連なる供給源(111))とから成るしのぐ、図示
のものでは該供給源(121を前記した供給源(+21
と共用させるようにした、。
該供給源0zは前記した循環路に開閉自在のバルブ(1
31を介し1連なるものどじ、更に該惧18源(tib
) i、を該制御211弁(11a)にバルブ(+41
とフィルタa9とを介して連なるようにした。
31を介し1連なるものどじ、更に該惧18源(tib
) i、を該制御211弁(11a)にバルブ(+41
とフィルタa9とを介して連なるようにした。
尚該発生源0v【よ前記した第1図或は第2図示のムの
に限ること41:り、例えば第33図或は第4図示のも
のとりることし可能である。、■1ら第3図1、のしの
では、該発生源0は1浅処理1f’! (1)内に連な
る全問(11C)内の奥部を放物面(11tl )に形
成ざUると共にその焦点位置に自動車の点火プラグにr
t+ する火花発生器(11c)を備える型式どし、か
くて該介牛器(11(りの作!tJI毎に(1fるYt
力波は該放物面(lldlで反射されて該空間(IIC
)内を介して該処理ffi (1)内に導かれるもので
略同様の作動を得られる。
に限ること41:り、例えば第33図或は第4図示のも
のとりることし可能である。、■1ら第3図1、のしの
では、該発生源0は1浅処理1f’! (1)内に連な
る全問(11C)内の奥部を放物面(11tl )に形
成ざUると共にその焦点位置に自動車の点火プラグにr
t+ する火花発生器(11c)を備える型式どし、か
くて該介牛器(11(りの作!tJI毎に(1fるYt
力波は該放物面(lldlで反射されて該空間(IIC
)内を介して該処理ffi (1)内に導かれるもので
略同様の作動を得られる。
更に第4図示のらのでは、該発生源atは該処理+ff
f (1)内の抵抗FA(11f)と、これに連なる電
源(11(1)とから成る型式とし、かくて該抵抗線(
10)は通電にJ、れば加熱されて断線し、該断線によ
れば圧力波が円筒状に生ずるものr略同様の作動を得ら
れる。
f (1)内の抵抗FA(11f)と、これに連なる電
源(11(1)とから成る型式とし、かくて該抵抗線(
10)は通電にJ、れば加熱されて断線し、該断線によ
れば圧力波が円筒状に生ずるものr略同様の作動を得ら
れる。
(作 用)
その作動を例えば第1図示のにものにつき説明するに、
該ブロア(4)の作動によれば、外部の空気がこれに引
かれ゛C該給気通路(G)から該処理槽(1)内を介し
て該団気通路(1)に導かれると共に、部槽(1)内の
ダスト粒子は該空気の流れを作用されて舞い上って該空
気に伴われ(外部に排出されるもので、この点は先に提
案したものと特に異らないが、かかるエアプロ一式の作
vJによれば該空気の流れは部槽(1)内で定常流とな
って壁面付近に境界層を生じその厚さによってはダスト
粒子に対し有効に作用しないことが考えられ、この場合
に佑えて、該発生源0′Dを間取的に或は連続的にf’
l” I!+3さμる。かくて生ずる14Ij撃波又は
Ir力波は該処理槽(1)内の空気に作用して、壁面付
近にその境界層が存Jる場合、これを打破ってその内部
のダスト粒子に作用し、これを舞い上らUることが出来
、これを換言゛ツれば、クリーニング効果を一層QIE
にすることが可能である。
該ブロア(4)の作動によれば、外部の空気がこれに引
かれ゛C該給気通路(G)から該処理槽(1)内を介し
て該団気通路(1)に導かれると共に、部槽(1)内の
ダスト粒子は該空気の流れを作用されて舞い上って該空
気に伴われ(外部に排出されるもので、この点は先に提
案したものと特に異らないが、かかるエアプロ一式の作
vJによれば該空気の流れは部槽(1)内で定常流とな
って壁面付近に境界層を生じその厚さによってはダスト
粒子に対し有効に作用しないことが考えられ、この場合
に佑えて、該発生源0′Dを間取的に或は連続的にf’
l” I!+3さμる。かくて生ずる14Ij撃波又は
Ir力波は該処理槽(1)内の空気に作用して、壁面付
近にその境界層が存Jる場合、これを打破ってその内部
のダスト粒子に作用し、これを舞い上らUることが出来
、これを換言゛ツれば、クリーニング効果を一層QIE
にすることが可能である。
その効果を確認づるため、発明省は次の実験を行った。
即ちゲス1−粒子を付着させたつ1ハを用意し、これを
第1図示の実施例にJj4プるバルブ(8)の個所、(
11115該パルプ(8)を取外してその個所にヒツト
し、この状態からブロア(4)にJ、る空気流と、該発
生8Q(′Ivによる衝撃波とを作用さぜた。そのM果
は、第5図の状態から第6図示の状態となった。図中光
っているのは直径1ミクロンの粒子である。尚空気流の
みでは、該粒子は殆ど除去出来なかった。
第1図示の実施例にJj4プるバルブ(8)の個所、(
11115該パルプ(8)を取外してその個所にヒツト
し、この状態からブロア(4)にJ、る空気流と、該発
生8Q(′Ivによる衝撃波とを作用さぜた。そのM果
は、第5図の状態から第6図示の状態となった。図中光
っているのは直径1ミクロンの粒子である。尚空気流の
みでは、該粒子は殆ど除去出来なかった。
(発明の効果)
このように本発明によるときは、空気その他の気体を給
気通路から真空処理槽内を介して排気通路に導かせて該
槽内に所謂エア10一式のクリーニング作用を与える式
のものにおいて、別個にv−J撃波又は圧力波の発生源
を備え、生ずる法被を該槽内の該気体に作用させるもの
で、該槽内の該気体の流れが定常となって壁面付近に境
界層を生ずる場合、法被はこれを打破ってイの内部のダ
スト粒子を舞い上らせるべく有効に作用し、かくてクリ
ーニング効果を著しく向上させ得られ、その構成は単に
発生源を加えるのみで比較的簡単であり、廉価に得られ
る等の効果を右する。
気通路から真空処理槽内を介して排気通路に導かせて該
槽内に所謂エア10一式のクリーニング作用を与える式
のものにおいて、別個にv−J撃波又は圧力波の発生源
を備え、生ずる法被を該槽内の該気体に作用させるもの
で、該槽内の該気体の流れが定常となって壁面付近に境
界層を生ずる場合、法被はこれを打破ってイの内部のダ
スト粒子を舞い上らせるべく有効に作用し、かくてクリ
ーニング効果を著しく向上させ得られ、その構成は単に
発生源を加えるのみで比較的簡単であり、廉価に得られ
る等の効果を右する。
第1図は本発明装置の1例の説明線図、第2図は伯の1
例の説明線図、第3図及び第4図は衝撃波又は圧ノコ波
の発生源の変形例の説明線図、第5図及び第6図は実験
例を説明するウェハの正面図である。 (1)・・・真空処理槽 (2)・・・真空排気系 (4)・・・ブロア (5)・・・フィルタ (6)・・・給気通路 (7)・・・排気通路
例の説明線図、第3図及び第4図は衝撃波又は圧ノコ波
の発生源の変形例の説明線図、第5図及び第6図は実験
例を説明するウェハの正面図である。 (1)・・・真空処理槽 (2)・・・真空排気系 (4)・・・ブロア (5)・・・フィルタ (6)・・・給気通路 (7)・・・排気通路
Claims (1)
- 真空ポンプその他の真空排気系に連なる真空処理槽に、
ブロアとフィルタとを有する一側の給気通路と、その他
側の排気通路とを接続させ、該ブロアの作動によれば、
空気その他の気体が、該給気通路から該処理槽内を介し
て該排気通路に導かれて該処理槽内のダスト粒子がこれ
に伴われるようにした式のものにおいて、衝撃波又は圧
力波の発生源を備え、これを適宜作動させて該処理槽内
を導かれる該気体に該衝撃波又は圧力波を作用させるよ
うにして成る真空処理槽のクリーニング装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4515586A JPS62205268A (ja) | 1986-03-04 | 1986-03-04 | 真空処理槽のクリ−ニング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4515586A JPS62205268A (ja) | 1986-03-04 | 1986-03-04 | 真空処理槽のクリ−ニング装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62205268A true JPS62205268A (ja) | 1987-09-09 |
JPH0582468B2 JPH0582468B2 (ja) | 1993-11-19 |
Family
ID=12711374
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4515586A Granted JPS62205268A (ja) | 1986-03-04 | 1986-03-04 | 真空処理槽のクリ−ニング装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62205268A (ja) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6055611A (ja) * | 1983-09-06 | 1985-03-30 | Ulvac Corp | 真空室内クリ−ニング装置 |
JPS6067664A (ja) * | 1983-09-24 | 1985-04-18 | Shimadzu Corp | 真空成膜装置 |
-
1986
- 1986-03-04 JP JP4515586A patent/JPS62205268A/ja active Granted
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6055611A (ja) * | 1983-09-06 | 1985-03-30 | Ulvac Corp | 真空室内クリ−ニング装置 |
JPS6067664A (ja) * | 1983-09-24 | 1985-04-18 | Shimadzu Corp | 真空成膜装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0582468B2 (ja) | 1993-11-19 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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