JPS6061908A - 垂直記録用単磁極型磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents

垂直記録用単磁極型磁気ヘツドの製造方法

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Publication number
JPS6061908A
JPS6061908A JP17047483A JP17047483A JPS6061908A JP S6061908 A JPS6061908 A JP S6061908A JP 17047483 A JP17047483 A JP 17047483A JP 17047483 A JP17047483 A JP 17047483A JP S6061908 A JPS6061908 A JP S6061908A
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JP
Japan
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magnetic
block
pole
magnetic pole
forming
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Pending
Application number
JP17047483A
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English (en)
Inventor
Atsunori Hayakawa
早川 穆典
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Publication date
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Publication of JPS6061908A publication Critical patent/JPS6061908A/ja
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    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/127Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
    • G11B5/1278Structure or manufacture of heads, e.g. inductive specially adapted for magnetisations perpendicular to the surface of the record carrier

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Magnetic Heads (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、厚み方向即ち垂直方向に磁気異方性を持った
磁気記録媒体に記録再生するための垂直記録用単磁極型
磁気ヘッドの製造方法に関するものである。
背景技術とその問題点 商密度磁気記録(短波長記録)を行う場合、磁気テープ
に磁気ヘッドとの相対的移行方向に沿う方向の磁化によ
って記録するいわゆる長手記録方法によるよりも、磁気
テープの厚み方向の磁化、いわゆる垂直記録方法による
方が有利であることが知られている。これは長手記録方
法では記録信号が短波長になるほど自己減磁界が大きく
なるに比し、垂直記録方法では磁性層内の自己減磁界が
小さくなる性質をもつことに因る。
この垂直記録方法に用いられる垂直記録型磁気ヘッドと
しては、種々のものが提案されているが、第1図〜第4
図を参照して垂直記録用単磁極型磁気ヘッドの製造方法
の従来の一例について説明する。
第1図中Hは垂直記録用単磁極型磁気ヘッドの完成した
状態を全体として示す。本例による磁気ヘッドHは軟質
磁性材料a!膜層よりなる主磁極(1)を、−側面側に
保護膜を接合して両側からガード材ブロック(21(2
’)を挟持するように接合し一体化するもので、このガ
ード材ブロック+21(2’)は磁気媒体の対接面Sか
ら所要の位置まで延在する非磁性材部(2a) (2a
’)とこの後方に接合される磁性材部(2b) (2b
’)から形成され、磁性材部(2b) (2b’)には
主磁極(1)に接合され巻線(3)が巻装される補助磁
極部(2c) (2c’)と溝部(2d)(2d’)が
形成されており、この溝部(2d) (2d’)を通し
主磁極(1)に補助磁極部(2c) (2c’)を介し
て巻線(3)が巻装されて構成されている。
次に、この垂直記録用単磁極型磁気ヘッドHを得る垂直
記録用単磁極型磁気ヘッドの製造方法の例を第2図〜第
4図を参照し”ζ説明する。
先ず、非磁性ブロック(4)と磁性ブロック(5)とを
用怠する。この非磁性ブロック(4)は非磁性フェライ
ト (Znフェライト)、フォルステライト、フォトセ
ラム、結縁化ガラス、チタン酸バリウム、チタン酸カリ
ウム、Al2O3TiC系のセラミックスより構成し得
、また磁性ブロック(5)はMn −Zn系フェライト
、Ni−Zn系フェライト等より構成し得るが、非磁性
ブロック(4)及び磁性ブロック(5)はその熱膨張率
が近似することが望まれ、これがため非磁性ブロック(
4)及び磁性ブロック(5)は夫々非磁性及び磁性フェ
ライトより構成することが望ましい。
この非磁性ブロック(4)及び磁性ブロック(5)の夫
々の一面を鏡面研磨する。次に、非磁性ブロック(4)
の鏡面研磨面(4a)に例えばダイヤモンド砥石を用い
溝(4b)を所要間隔で形成する。この溝(4b)は、
後述する補助磁極形成用突部(5a)を含み、更に巻線
スペースを構成するに充分な大きさの溝幅を有すると共
に、溝底部(4b)に領斜部(4c)を有するようにす
る。
また、磁性ブロック(5)に断面台形状で平面状頂部を
有する補助磁極形成用突部(5a)を磁性ブロック(5
)上に所定間隔で形成する。そして、磁性ブロック(5
)の補助磁極形成用突部(5a)を形成した側に非磁性
ブロック(4)の鏡山研FM向(4a)及び溝(4b)
を対向させて接合する。この際突部(5a)の頂面と溝
(4h)の底内とを巻線スペースを残す様につき合わせ
るようにする。この接合はガラス融着或いはエポキシ接
着剤、若しくは無機系接着剤或いは水ガラス等の接着剤
によって行い得るが、ガラス融着が望ましく後の工程で
再びガラス融着することがあるので2度目の融着で溶融
しない程度に高温のガラスを用いる。次に、鎖線ml 
、 m2 。
・・・に示す面に沿って非磁性ブロック(4)と磁性ブ
ロック(5]の接合体を所要の厚さに非磁性ブロック(
4)及び磁性ブロック(5)を横切るように切断して垂
直記録用単磁極型磁気ヘッドの一方のガード材ブロック
(2)または(2′)となる複数の複合板状体(6)を
切出す。そして、複合板状体(6)の非磁性ブロック(
6a)及び磁性ブロック(6b)に差渡る一生面(6c
)を鏡面仕上げする。
このように形成した複合板状体(6)の鏡面仕上げした
一生面(6c)に前述した主磁極(11を構成する例え
ば厚さ0.5〜3μmのパーマロイ、センダスト、磁性
アモルファス等よりなる磁性薄11!i!+71をスバ
・ツタ、蒸着、イオンブレーティング等で被着し、必要
なトランク幅及び間隔で1磁極(1)が形成されるよう
にフォトエソナングする。次にこれの上に保護膜を形成
する5i(h + 5iJ4+八1203等の絶縁保護
膜(8)をスパッタリング、蒸着、イオンブレーティン
グ等で被着する。しかるのち前述した複合板状体(6)
と同様の方法で製作した他方のガード材ブロック(2a
’)となる複合板状体(6)を絶縁保護膜(8)側から
接着する。この接着剤としてはガラス接着剤を用いるこ
とが信頼性向上という意味からは望ましいが、水ガラス
等の無機系の接着剤、エポキシ樹脂等の有機接着剤を用
いるごともできる。
また、この場合他方の複合板状体の接合面に予め主磁極
+11となる磁性薄膜(7)に対応する溝を例えばエツ
チングによって形成し、この溝内に接着剤を充填するこ
とによって両複合級状体を接着することもできる。
そして、各帯状の磁性薄膜(7)に関して切断し、ヘッ
ド取付用ベース(図示せず)に接着し先端而すなわち非
磁性板状ブロックの表面側を研磨し、ここに磁気媒体と
の摺接面Sを形成する。このような工程によれば磁気媒
体との摺接面Sに臨んで磁性薄膜(7)からなる主磁極
illが設けられ、この主磁極(11はその先端部の両
側には非磁性材部(2a)(2a’)が配置され、その
後方には磁性材部(2b)(2b’)が配置されること
になり、この磁性材部(2b) (2b’)の補助磁極
部(2d) (2d’)及び主磁極+11に、巻線(3
)が巻線されることにより、第1図の如き垂直記録用単
磁極型磁気ヘッドHが得られる。この例によるときは1
皮接着して切断するだけで多数の複合板状体を製作する
ことができるので大量生産に適する。
また、この例によるときは溝を研削により形成するのに
所定形状のダイヤモンド砥石を用いるだけでよいので簡
単に加工できる。
しかし、非磁性ブロック(4)に入れる溝の底部の加工
精度が上げにくかった。この部分の加工精度が悪いと、
磁性ブロック(5)との接合の精度が悪くなり主磁極膜
を付ける面(6C)の鏡面研磨の精度にも恕影響を及ば
ず問題があった。
発明の目的 本発明は斯る点に鑑み上述の欠点を解消し、高精度に垂
直記録用単磁極型磁気ヘッドの製造ができる垂直記録用
単磁極型磁気ヘッドの製造方法を提案することを目的と
する。
発明の概要 本発明垂直記録用単磁極型磁気ヘッドの製造方法は、平
面状頂部を有する補助磁極形成用突部を磁性ブロックに
形成する工程と、この平面状頂部に対向する平面状頂部
を有する突部を第1の非磁性ブロックに形成する工程と
、之等2つの突部の平面状頂部どおしを付き合わせたと
きに之等2つのブロック間に配され、補助磁極形成用突
部のまわりにすき間を作るように配される第2の非磁性
ブロックを形成する工程と、磁性ブロック、第1及び第
2の非磁性ブ電コックを接合一体化し′ζζ会合ブロッ
ク得る工程と、この複合ブロックを補助磁極形成用突部
の部分の切断面で切断する工程と、この切断面に軟磁性
薄膜を磁性ブロック、非Mi 4!−1ブロツクにわた
って形成し主磁極を形成する工程とを有するもので、高
精度に垂直記録用単磁極型磁気ヘッドの製造ができるよ
うにしたものである。
実施例 以下、第5図〜第20図を参照して本発明垂直記録用単
磁極型磁気ヘッドの製造方法の一実施例について説明す
る。これら第5図〜第20図において、第1図〜第4図
に対応する部分には同一符号を付しそれらの詳細な説明
は省略する。
第5図に示す如くフェライトブロック(5)の上面に補
助磁極用の突部(5a)を所定位置に例えば先端部くび
れた四角錐台状に形成する。この平面状頂部(5b)は
先端部くびれた形に形成し、第6図に示すようにガラス
(9)を充填した後所定の厚さだけ突部(5a)の周囲
にガラス部(9a)が残り補強できるように溝入れを行
う(第7図)。
また一方、非磁性ブロック部分は凸型の山をもった非磁
性ブロック(10a )と矩形断面の溝(10c)を形
成した非磁性ブロック(10b)とを合体して形成する
。ここで、非磁性ブロック(10b)の矩形断面の溝(
10c)は第8図にホずように磁性ブロック(5)に形
成した補助磁極形成用突部(5a)の平向状頂部(5b
)に対向するように平面状頂部(5b)を残すように形
成し、平面状頂部(5b)となる面を鏡面研磨する。ま
た、凸型の山をもった非磁性ブロック(10a)を第9
図の如く非磁性ブロック(10b)とガラスにより接合
する。この際、非磁性ブロック(10b)に溝(10c
)を形成することにより形成される鏡面1LIF磨され
た平向状頂部(5b)に対向する平面状頂部(10d)
も鏡面vfV?され”ζ加工精度が良い。そのためこの
両者の接着に用いる接着層の厚さdx (第10図参照
)を薄くすることができる。ごごで、ガラスCの晴をg
IM整してこの工程で補助磁極形成用突部(5a)に補
強用ガラス部(9a)を形成することも1+l能である
(第9図)。次に第9図鎖線mに不ずように補助磁極形
成用突部(5a)の中央部分及びそれらの中間部分の切
断面で切断しく第10図)、鏡面研磨を行うと、複合基
板(11)が出来十がる。
次に、主磁極膜(13)形成工程に移る。まず第0 11図に示すように複合基板(11)上に非磁性膜(1
2)を厚さ0.01〜0.5μm付ける。これは、この
上に付ける主磁極膜(13)に複合基板(11)からの
不純物の浸透を防ぐためである。そして、高透磁率、高
飽和磁束密度の主磁極1*(13)を厚さ0.05〜0
.5μ鞘程度付ける(第12図)。この主磁極II(1
3)は、軟磁性vi膜例えばパーマロイ、センダスト、
磁性アモルファス等従来例同様の材料とする。次に、主
磁極膜(13)の摺動面側端部より少し後退した位置よ
り後の部分を厚くし、再生感度の向上を図り、記録時の
磁束の飽和を防ぐようにする。すなわち、第13図に示
すように主磁極11!1(13)の非磁性ブロック(1
0b)端の一端より10〜40μmくらいホトレジスト
(14)で被い、その上に所定の厚さ例えば0.5〜3
μ輸の厚ざだけ高透磁率、高飽和磁束密度の軟磁性薄膜
を付ける(第14図)。その後ホトレジス1(14)を
除きホトレジスト膜(14)上の磁性膜も同時に剥して
、段付の主磁極IN (13a )を形成する。それか
ら、かかる段付部を平坦にするため、同様にリフトオフ
法で非磁性膜(15)を付ける。即ち、第15図に示す
ように主磁極膜が厚くなっている部分をホトレジスト1
1(15)で被い、非磁性PI (16a ) (16
b )を付り(第16図)、その厚さは段差分と一致す
るようにする。そし゛C1ボトレジストII’J(15
)を除き第17図に示すように主磁極膜(13a)を付
着した側面を平坦にする。次に、所定のトランク幅にな
るように1=磁極II(13a)をホトエツチングしス
トライブ状にし、同様のリフトオフ法でエツチングでで
きた段差の部分に非磁性膜を付けて軍用化し、更に全体
に非磁性保護膜を0.1〜2メ1111厚で付は主磁極
膜(13a)を保護する。次に、この複合基1i(11
)を位置を合わせて接合する(第18図)。摺動向Sを
円筒研磨して形成し、各々の垂直記録用車磁極型磁気ヘ
ッドに切断し、巻線すると完成する(第19図)。
ここで、摺動向Sを円筒研磨する際、非磁性ブロン/(
]Ob)を非磁性ブロック(10a)より硬い材料とし
ているため、」;磁極先端部近傍が第20図の如<11
1m以1程度突出することになる。な1 お、他の工程は従来の垂直記録用単磁極型磁気ヘッドの
製造方法同様とする。
以上述べたように、本実施例に依れば、補助磁極形成用
突部(5a)をガラス(9a)で補強した構造にして補
助磁極形成用突部(5a)のトラック幅方向の幅、主磁
極厚さ方向の厚さの両方を強度上の問題なく小さくでき
るので、単位巻線当りの巻線インピーダンスを下げるこ
とができる。そして、再生時の周波数特性がこの巻線イ
ンピーダンスで制約されるので、単位巻線当りの巻線イ
ンピーダンスを下げて定インピーダンスあたりの再生電
圧を上げることができることにより効率よく良好な再生
ができる利益がある。また、補助磁極形成用突部(5a
)の平面状頂部(5b)の平面及びこの平面に対向する
非磁性ブロック(10b)の平面状頂部を鏡面研磨でき
る製造工程としたので、加工精度が高くでき、接合層(
10e)の厚さdt (第10図参照)を非常に薄くで
き段切れなどが生ぜずに良好に主磁極膜を被着できる利
益がある。
また、非磁性ブロック(10b)を非磁性プロン3 2 り(10a)より硬い材料を用いて製造するようにした
ので、磁気記録媒体摺動面S研磨時に非磁性ブロック(
10b)側がわずかに1μ領以下突出した形に製造でき
、記録再生時のスペーシングを小さくできると共に磁気
記録媒体の当りを改善することができる利益もある。
発明の効果 本発明に依れば、磁性ブロック十に別体に形成した第1
及び第2の非磁性ブロックを形成して接合一体化して複
合ブロックを得る製造工程としたので接合面となる平面
状頂部の鏡面vfynが可能となり、加工精度が高まり
高精度の垂直記録用単磁極型磁気ヘッドが製造できる利
益がある。また、この鏡面研磨が可能となることにより
接着層の厚さを薄くでき良好に主磁極膜を付着すること
ができる利益がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の垂直記録用単磁極型磁気ヘッドの例を示
す斜視図、第2図、第3図及び第4図は第1図例の製造
工程の例を示す線図、第5図、第4 6図、第7図は本発明垂直記録用単磁極型磁気ヘッドの
製造方法の一実施例を示す斜視図、第8図、第9図、第
10図、第11図、第12図、第13図、第14図、第
15図、第16図、第17図、第18図、第19図、第
20図はそれぞれ本発明垂直記録用単磁極型磁気ヘッド
の製造方法の一実施例を示す断面図である。 +11は主磁極、(3)は巻線、(6)は磁性ブロック
、(5a)は補助磁極形成用突部、(5b)は平面状m
部、(10a ) (10b )は非磁性ブC17り、
(10d)は平面状頂部、mは切断面である。 5 1

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 平面状頂部を有する補助磁極形成用突部を磁性ブロック
    に形成する工程と、上記平面状頂部に対向する平面状頂
    部を有する突部を第1の非磁性ブロックに形成する工程
    と、之等2つの突部の平面状頂部どおしを突き合わせた
    ときに之等2つのブロック間に配され、2等補助磁極形
    成用突部のまわりにすき間を作るように配される第2の
    非磁性ブロックを形成する工程と、上記磁性ブロック、
    上記第1及び第2の非磁性ブロックを接合一体化して複
    合ブロックを得る工程と、上記複合ブロックを上記補助
    磁極形成用突部の部分の切断面で切断する工程と、該切
    断面に軟磁性薄膜を2等磁性ブロック、非磁性ブロック
    にわたって形成し主磁極を形成する工程とを有すること
    を特徴とする垂直記録用単磁極型磁気ヘッドの製造方法
JP17047483A 1983-09-14 1983-09-14 垂直記録用単磁極型磁気ヘツドの製造方法 Pending JPS6061908A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6362910U (ja) * 1986-10-07 1988-04-26

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