JPS6059064A - 基材上に真空蒸着法で薄層を製造する際に蒸発装置の局部的蒸発パワーを制御するための方法及び装置 - Google Patents

基材上に真空蒸着法で薄層を製造する際に蒸発装置の局部的蒸発パワーを制御するための方法及び装置

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JPS6059064A
JPS6059064A JP59171683A JP17168384A JPS6059064A JP S6059064 A JPS6059064 A JP S6059064A JP 59171683 A JP59171683 A JP 59171683A JP 17168384 A JP17168384 A JP 17168384A JP S6059064 A JPS6059064 A JP S6059064A
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layer thickness
evaporation
substrate
vapor
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JP59171683A
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アルベルト・フオイアーシユタイン
ゲルノート・トルン
ホルスト・ランケ
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/54Controlling or regulating the coating process
    • C23C14/542Controlling the film thickness or evaporation rate
    • C23C14/545Controlling the film thickness or evaporation rate using measurement on deposited material
    • C23C14/547Controlling the film thickness or evaporation rate using measurement on deposited material using optical methods
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
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    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は個々に制御可能な被覆材料用蒸気源の長く延び
た装置に相対的にかつ横方向に移動する基材に真空蒸着
法で薄層を製造し、その際蒸着する層の厚さを基材の移
動方向において少なくとも蒸気源の1部のあとで測定し
て個々の層厚を表示する際に、蒸発装置の局部的蒸発パ
ワーを制御するだめの方法に関する。
゛局部的蒸発パワー“という語は面積あたり、かつ時間
あたりのエネルギーとして定義された、局部的な供給パ
ワーである。すなわち供給した、一般には電気的エネル
ギーのいわゆるパワー密度である。いわゆる蒸発速度、
すなわち時間あたり遊離する蒸気量は一般に供給パワー
に比例し、その際熱線及び熱伝導(特に水冷蒸発ルツボ
の冷却水での)による損失を考慮しなければならない。
′°蒸気源″という語は一般に局部に限定した区域を意
味し、一般に空間的に限定された蒸気流が上昇する蒸発
装置の表面部分である。
従来技術 本発明に使用可能な個々に制御可能な蒸気源の長(延び
た装置には次のような例がある:西ドイツ国特許第24
02111号明細書により直接ヒータ電流が通っており
、個々に電力により制XI可能である1列全部が相互に
平行に配置された蒸発シャトルからなる列形蒸発装置が
公知である。それぞれの蒸発シャトルはそれぞれの蒸気
源を形成し、局部的な蒸発パワーは個々の蒸気シャトル
の熱量に比例する。もちろん、同様にして多くの水冷蒸
発ルツボを1列に配置し、これをそれぞれのルツボに配
置した電子ビーム銃で加熱することが可能である。
西°ドイツ国特許公開第2812285号公報によれは
、唯一の蒸発ルツボの内容物の表面上に多くの蒸気源を
、ルツボ内容物の上面に一定の表面パターンで電子ビー
ムを照射す゛ることにより形成することが公知である。
この表面パターンは個々の、並列した区域からなり、こ
こでこれらの区域の大きさ及び電子ビームの滞留時間に
より個々の区域への局部的に異なるパワー供給が行なわ
れ、これにより局部的に異なる蒸発パワーに作用するこ
とが可能である。これらのそれぞれの区域もしくは蒸気
源から空間的に限定された蒸気流が放出され、この蒸気
流は前記の熱蒸発装置と同様に、上方に配置されている
かもしくは通過する基材上に凝縮する。
発明が解決しようとする問題点 しかしながらこの際、基材上に相応して不均一に凝縮し
た表面パターンを生せしめる一般に不均一な蒸気流、も
しくは一連の不均一な複数の蒸気流が問題になっている
のです。この際長く延ばした蒸発装置の軸に対して基材
を横に移動すると、強く不均一な蒸気によりいわゆる“
線状模様”が生じ、これは多くの使用目的忙とつて完全
に使用不可能である。ここでは、例えば蒸気源の列形配
置に対し横方向に巻かれる連続式ベルト又はシート又は
表面積の大きなガラス板、例えば建築材としてのガラス
板の被覆を考慮すべきである。
この際、蒸気流の不均一性は局部的な蒸発パワーもしく
は供給パワーの無意識に異なる調節に起因するだけでな
く、位置的に制限された局部的に異なるエネルギー収支
にも起因する。ここでは、熱蒸発装置の列形配置の末端
では熱損失は6方向に行なわれ、中間では2方向にのみ
可能である。蒸気流、いわゆる蒸気ビームの重なりによ
り、列形配置の中間では例えば被着シートの両端より高
い蒸着速度となる。これは蒸気密度がそこでだんだんと
減少するからである。
この効果の補正は、列形配置をシートの幅より主に長く
することにより可能であるが、これは相応する材料損失
及び真空装置の壁への蒸着により真空装置の汚染に導ひ
く。
前記因果関係並びに連続ベルト被覆の際の作用の補正の
だめの処置に関しては米国特許明細書第3432335
号に非常にわかりゃすく記載されている。
異なる蒸着速度もしくはベルト蒸着における線形酸によ
り、導電性被覆においては局部的に異なる面抵抗が結果
として生じ、視覚的に作用を有する薄層においては異な
る透過性及び反射性を示す。
もちろん、ベルトの流れ方向に対し横方向の層厚分布を
そのままには決してしなかった。西ドイツ国実用新案第
1978459号には被着シートの見る方向のうしろ側
に螢光管を配置することにより連続的に層厚分布を視覚
的に測定する可能性が記載されている。層厚の偏差にお
いては、透過が太きすぎたり、小さすぎたりする位置で
列形蒸発装置の蒸発パワーを局部的に相応して、均一な
層厚分布が達せられるまで補正することが可能である。
しかしながら、視覚的に知覚できる程度までである。
しかしながら、前記の方法は透過測定に関してのみ使用
可能であるが、例えは相当な厚さの金属被傑のような光
を通さない層には不可能であり、更に達成可能な測定及
び制御の精確性に関しても層厚均一性に対する今日の要
求には不十分である。
問題点を解決するだめの手段 従って本発明の課題は冒頭に記載した種類の方法であり
、ここでは層厚の分布の測定もしくは制御(手動又は自
動)がほぼ任意に狭く制@1可能な許容範囲内で可能で
あり、かつ最終生成物の透過性を考慮に入れる必要がな
い方法である。
この課題は本発明により、 a)蒸気源の少なくとも1部へのパワー供給をスクリー
ン上に第1の棒グラフの形であられし、 b)該蒸気源に関係する層厚を同じスクリーン上に空間
的相関性において第2の棒グラフの形であられし、がっ C)層厚分布のための第2の棒グラフが所望の層厚パタ
ーンに相当するまでパワー供給のための第1の棒グラフ
を変化させることにより解決された。
先ず第1にこのような調整法及び制両法は視覚的な方法
(透過性及び/又は反射測定)での個々の層厚の測定シ
グナルの獲得にしばられているのではなく、むしろ他の
層厚測定法、例えば容量法又は誘導法による表面抵抗の
測定も使用可能である。誘導測定法は有利に厚いか、も
しくは光を通さない層に使用され、容量測定法は有利に
薄く、高抵抗で、視覚的にほとんど測定不可能な層厚の
ために使用される。それぞれの層システムもしくはそれ
ぞれの層厚は特別な測定法で行なうが、透明性測定はほ
ぼ中間の層厚範囲に使用される。
蒸気源へのパワー供給、例えはf面々の熱蒸発装置への
電流供給又は唯一の蒸発装置中の蒸着材料の個々の表面
部分への電子ビームの滞留時間、を行なうことにより、
非常に良好に局部的蒸気密度の分布を第1近似にmVす
ることができる。この際、例えば前記の列形配置の両末
端での熱損失の影響は経験的に見い出された(直により
あらかじめ概略の前調整で補正する°。
第2の棒グラフは層厚分布を直接測定装置の精確さで与
えた、そしてこの際個々の蒸気源のできるかぎり密な並
列並びに、できるかぎり密な個々の測定装置の並列が望
まれる。それぞれ個個の蒸気源がベルトの流れ方向に1
つの測定装置を後接続しているのが最適である。
不所望な層厚分布もしくは不所望な層厚パターンが生じ
た場合、パワー供給のための第1の俸グラフを、層厚分
布のための第2の棒グラフが所望の層厚パターンを形成
するように変化させる。第1の棒グラフは個々の蒸気源
へのパワー供給を制御するための調整可能な標準値を一
般に表わしているので、該当する標準値を小さくしたり
大きくしたりして、それぞれの局部的層厚のための所望
のレベルより上や下にある棒グラフの棒を所望のレベル
にするだけで十分である。このレベルは例えば1本の線
により第2の棒グラフの横軸に平行にあらかじめ与えら
れるか、許容限界域を包合する2本の線によりあらかじ
めあたえられる。この層厚パターンはこのようにしてそ
れぞれの棒に関連する標準値の所定の変換により、すべ
ての棒が横軸から同じ長さを有し、これ枕より完全に均
一な層厚分布を示すように所定の影響をうける。蒸発側
の均一な条件よりもむしろ蒸気流の凝縮側での均一な条
件が問題となるので、この第1のパワー供給のための棒
グラフが段階状になっていても問題ない。しかし、一般
にパワー供給のための第1の棒グラフにおいて平均より
強い偏差は、蒸気源に、例えは蒸発装置の自動供給にお
ける不十分な材料供給又は溶融液状蒸看物質上の浮府域
の形成に起因する妨害が生じているシグナルである。そ
のような場合には局部的に供給する電力の強い上昇も凝
縮速度の相応する上昇にみちびかず、むしろ蒸気源の破
壊又は損傷が見込まれる。このような場合にも個々の蒸
気源の作動状態及び作動挙動に関しての良好な概観が両
方の棒グラフの間を比軟することにより得られる。
更に本発明は冒頭に記載した方法を実施するだめの、個
々に制御可能な蒸気源の長く延びた装置、各蒸気源用の
制御可(igな標準値伝送装置、蒸気源装置に横方向に
基材を移動するための移動装置、移動方向において蒸気
源のうしろに配置された多数の層厚測定装置、及び層厚
測定値用の多数の安定装置を備える装置に関する。
この種の装置は本発明により a)受像装置、 b)蒸気源用の少なくとも1つの制御装置のためのl:
i]′変性標進値のメモリー及びアウトプットのだめの
、および受@装置上の第1の棒グラフの表示用ビデオシ
グナルへの標準値の変換のための、かつ同じ受像装置上
に第2の棒グラフの表示のためのビデオングナルへの層
厚測定値の変換のための標準値メモリーを備える計算装
置、及び C)標準値のインプット及び変換のための入力装置によ
り特徴付けられている。
これらの装置の詳細、その作用法及び利点は次に更にく
わしぐ記載する。
その他の本発明による有利な実施形式は特許請求の範囲
第3項及び4項に記載されている。
実施例 次に添付図面につき本発明の課題の実施例を詳細に説明
する。
第1図には多数の個々に制御可能な蒸気源1a〜1fを
備える長く延びた装置1を表わす。
これは四角形の、水冷蒸発ルツボ2であって、このルツ
ボ中には蒸着材料3からなる溶融液状内容物が存在する
。蒸発ルツボは軸線A−Aを有する。
蒸着材料3の加熱は電子銃4により行なわれ、この電子
銃は蒸発ルツボ2の側の隣で、軸A−への中央の範囲に
配置されている。電子銃4は偏光装置4aを有しており
、この偏光装置により電子ビーム5を、所定の焦点をあ
わせた状態で、相互にかつ高速度で個々の蒸気源1a〜
1fに偏光することができる。電子ビーム5が蒸気源1
eを照射している場合が図示されている。
照射範囲には斜線を引いである。
蒸気源1a〜1fの位置はビームパラメーターにより決
定され、蒸発ルツボ2の構成特性と結ひついているので
はない。・ここでは、1固々の蒸気源は蒸発ルツボ2の
全長の内側に°当間隔で配置されていると仮定する。個
々の蒸気源が同じ面積であると仮定し、更に個々の蒸気
源での滞留時間が同じであると仮定すれは、エネルギー
供給(パワー密度も含めて)はそれぞれの蒸気源の範囲
で同じである。それぞれの蒸気源の範囲で相対的な滞留
時間を変化させることにより、ある蒸気源又は他の蒸気
源を時間によって、多量又は少量のエネルギーで照射す
ることが任意に行なわれるようになったので、時間あた
りの蒸気遊離(蒸発速度)に相応して影響を与えること
ができる。特にルツボ末端に存在する両方の蒸気源1a
及び1fの範囲において、蒸発ルツボ2でのそこでの強
い熱放出を補償するために強いエネルギー供給がへ必要
である。蒸冶材料3は当然に一定の熱保持能を有してお
り、迅速な振動の電子゛ビームにもかかわらず蒸気遊離
はほぼ連続的に行なわれる。更に、振動は非常に迅速に
おこり、この間にはっきりした冷却はおこらない。
偏光装置4aと同様に電子銃4はそのパワー及びビーム
偏−光の制御命令を第6図及び第4図に示した制御装置
6から受ける。この制征]装置6はX−及びY一方向へ
のビーム偏光のための座標をも含めて全ビームパラメー
ターを電気シグナルの形で供給し、従って多心ケーブル
7を介して電子銃4と連結している。偏光装置4aは第
1図に示したように電子ビーム5の照射面の位置を決め
る非連続シグナルレベルの形でそのシグナルを受る。
この種の蒸発装置は電子銃4及びその作動法を含めて公
知技術であるので、詳細な説明はここでは割愛する。
装置1の上方には蒸着するための基材8が存在し、これ
は連続的に、すなわち一様な速度で、矢印9の方向に移
動する。すなわち基材の流れ方向はすべての蒸気源のl
I!1IIA−Aに横方向である。基材の移動方向にお
いて蒸気源を越えた位置に同数のセンサー10a〜10
fが配置されており、これにより凝縮した層材料の厚さ
が把握される。種々の物理的測定法用のセンサーは市販
されており、従ってここでは例として光学的な透明性測
定法のみを記載する。これについては第6図及び第4図
に詳細が図示されている。
ここにはフォトダイオードとして記載されているセンサ
ー10aに基材8の他の側で光源11が配置されており
、この光源11は電圧安定電源12だより供給される。
これらのセンサーはそれぞれの接続を有しており、これ
らはまとまって多心・ケーブル13になっている。
基材8は連続した、すなわちストックロールから巻取り
ロールに巻かれる連続シートであるか、又は建築物用の
例えは赤外線反射層で被着されたガラス板であってもよ
い。特にこの種の被覆又は被覆システムにおいては、完
成した建築物に曇りや線が生じないようにできるかぎり
均一な層厚分布を得ることが重要である。
多層システムの蒸着においては多数の第1図による装置
を流れ方向に(矢印9)@後して配置することもできる
。この際、有利に個々の蒸発装置を監視するためにセン
サーの列形配置を備えでいる。
第1図中のすべての機素は相応した寸法の真空室中に存
在するが、図面を簡単にするために図示しなかった。
蒸気源の数は同じ長さの蒸発ルツボにおいて焦点化基準
及び偏光基準を相応して変化させることにより更に著し
く高めることもできる。例えば蒸発ルツボの中に12又
は18個の蒸気源(又はその他の数の蒸気源)を製造し
てもよく、この際蒸気源の数とともに層厚の分布の?1
ill 鶴+は容易となるが、いずれにせよ相応して費
用も」1昇するのである。
第2図中には陰極線管15を有する受像装置14(テレ
ビのスクリーン)の正面図が示されている。スクリーン
上には第1の棒線グラフ16が記載されており、この棒
の長さく垂直方向)はそれぞれの蒸気源へのパワー供給
に相当する。その上に第2の棒グラフ17が図示されて
おり、その俸は棒グラフ16の数と同じ、1〜12の数
を示す。俸グラフ17の棒の長さは測定した層厚に相当
し、それぞれの属する蒸気源により生じる。この図は(
第1図の拡大において)全蒸気源12個及びセンサー1
2個の列形配置に相当する。棒グラフ17の範囲には許
容範囲20をその間に取り囲む2つの許容限界18及び
19が水平線の形で示されている。この許容範囲はそれ
ぞれ最少及び最高の許容層厚を示す。この場合第3図及
び第4図による透過性測定を使用している、すなわち測
定シグナルが小さい程蒸着した層は厚いのである。棒グ
ラフの左から6及び7番目の棒はNすぎる層厚な、9番
目の棒がうすずき゛る層厚をシグナルにしているという
ことは明らかである。それぞれが属する蒸気源のこの仕
事状態を制御することが重要である。棒グラフ16によ
れは6及び7番目の棒は大きすぎ、9番目の棒は小さす
ぎるパワー供給をシグナルとして表わしている。棒グラ
フ16においてはパワー供給はそれぞれの蒸発パワーの
標準値により表わされている。俸グラン17による非常
に不均一な層厚の分布を調節・するために、棒グラフ1
6による標準(直を該当する位置で変えることが必要で
ある。ここでは6及び7番目の棒に相応する標準値を取
り消し、時間あたりの遊離蒸気量を減少し、この蒸気源
範囲での層厚を減少させる。この結果は俸グラフ17中
の6及び7番目の棒の相応する延びである。同様にして
、俸グラフ16中の9番目の棒による標準値を相応して
亮め、蒸発パワーを後制御し、層厚を厚くし、透過性を
減少させる。
このようにして棒グラフ1709番目の棒を短かくシ、
特に許容範囲20中に再び入れる。制御の更に細密な調
節に関しては、許容範囲20を縮少下に許容限界18及
び19を非常に密に隣り合わせにすることができ、これ
により非常に均一な層厚パターンを達成することカーで
きるということは明らかである。
第6図中には今まで記載した部材が同じ関・連数で記載
されている。電子銃4は単純化のために抜かし、制御装
置6は多心ケーブル7を介して直接蒸発装置1と連結し
ている。これは熱式蒸発装置の列形配置であってもよい
。基材8の方向に上昇する蒸気流を点線により示した。
第6図中には付加的に次のものが記載されている二計算
装置21は標準値メモリー22及び実際値メモリー23
並びにデーター及び計算プログラムのインプットのため
の、並びにスクリーンの映像への影響も含めた計算作業
の解除のためのキーボード24を備える。標準値メモリ
ー22は標準値のインプット及び変換のための入力装置
25を前接続している。すなわち簡単に言えば調節可能
な標準値入力装置である。該当標準値を標準値メモリー
22中にメモリーシ、同期的に質疑応答し、制御装置6
に導ひく。この制御装置6は前記により個々の蒸気源に
関してエネルギー分布に影響を与える。第1図による電
子ビーム蒸発装置においては、例えは滞留時間のみを変
えれは良く、第1の俸グラフ16中の棒の長さはそれぞ
れの滞留時間に関する直接の尺度である。制御装置6は
もちろん全ビームパラメーター、例えばビーム流、ビー
ム圧、ビーム焦点及びビーム偏光の制御を担当する。
相応する所定値はキーボード24を介してインプットさ
れる。
センサ210a〜10fは測定値(透過性測定)を多心
ケーブル13を介して実際値メモリー23に伝える。標
準値メモリー及び実際値メモリーの内容は、スクリーン
上での配置のためのアドレスコーデングをも含めて相応
するビデオシグナルに変換した後スクリーンに送られ、
第2図による映像が生じる。前記棒グラフ17に許容で
きない偏差が観察されたら、入力装置25を用いて標準
値調整を行なうと、第1の棒グラフ16に相応する変化
が著しく短時間に認められる。
第3図中に記載した種類の計算装置は市販されており、
その周辺装置との接続もしくは配線は前記説明から専門
家には明らかである。
更に第6図には特に簡単な入力装置25の制御のための
付加的な可能性を示している。この目的のためには入力
装置をフレキシブル導線26を介していわゆる°゛ライ
トペン27と連結する。このライトペンも同様に市販さ
れている。
このようなライトペンはその先端に光センサ−2γaを
有し、これで明暗の移行を把握することができる。この
接続は次の機能が生じる様に行なうニライトペン27を
第1の棒グラフの1つの棒の上縁をこえて導ひき(パワ
ー配分のための標準値)、ライトペンで該当する俸の上
級の明暗境界、かつこうして遅滞なく標準値をあげる。
棒をその長さにおいて引きのばすか又はこれを押し縮め
ると、そのつど第2の棒グラフのそれぞれが属する棒が
相応して短かくなったり、長くなったりするように感じ
る。ライトペン質疑応答及び該当する棒グラフのビデオ
シグナルはこの際同期化されており、その明暗境界をラ
イトペンが直接視覚接触した俸のみを移動させることが
できる。
第3図による実施例においては制御回路はオ(レータ−
1特にライトペン21の使用により閉じられている。
第4図には第6図と同じ機素が同じ関連番号で記載され
ており、開度の説明は割愛する。この場合には計算装置
21は・許容値メモリー28を付加的に備え、この許容
値メモリーは第2の棒グラフ1γのそれぞれの俸にとっ
ての上方及び下方の許容値をメモリーすることが可能で
ある。この許容値を導線29を介して受像装置14に導
びき、そこで許容限界として18及び19もしくは許容
域20を示す(第2図参照)。
この許容値は更に計算@30に導入され、ここでこの値
は実際値メモリー23の(6々の実際値と比較される。
入力装置25は計算機30からシグナルを得て、許容限
界の超過又は過少は制御装置6のための該当標準値を減
少させるか高め、局部的蒸発速度は相応して補正され、
該当実際値は許容限界内にもどるのである。
第4図の場合には制御回路は計算機30により閉じられ
ており、層厚の補正は著しく迅速に可能である;この補
正は蒸発、装置の時間挙動、基材の流れ速反並びに蒸発
装置からのセンサーの間隔によりほぼ決まる。このこと
からセンサーはできるだけ蒸発装置に密に配置されてい
るのがよいが、一方では熱負荷そして他方では蒸着の危
険に関して安全間隔を保持しなければならないというこ
とが明らかになった。場合により蒸発装置1及びセンサ
ー100間には遮蔽31を配置する(第4図参照)。
多層用及び多数の列形蒸発装置を有する装置においては
多くの受像装置が存在するか、又はスクリーンを切り換
え可能である。自動の場合には、制御がスクリーンと無
関係に進行するので後者の方が有利である。
【図面の簡単な説明】
添付図面は本発明による装置の1実施例を示す図であり
、第1図は真空蒸着装置の蒸着域に関する平面図である
。 第2図は棒グラフを表示するスクリーンの正面図である
。 第6図はオペレーターにより制御回路が閉じられている
、本発明方法を実施するための装置の概略図であり、第
4図は本発明方法を実施するための、閉鎖制御1回路を
有する装置の概略図である。 1・・・装置、1a〜1f・・・蒸気源、2・・・蒸発
ルツボ、3・・蒸着材料、4・・電子銃、4a・・偏光
装置、5・・電子ビーム、6・・制御装置、γ、13・
・多心ケーブル、8・・・基材、9・・矢印、1゜a〜
10f・センサー、11 光源、12・・電圧安定電源
、14・受像装置、15・・陰極線管、16・・・第1
の棒グラフ、17・第2の棒グラフ、18.19・・・
許容限界、20・・・許容範囲、21・・・計算装置、
22・・標準値メモ!J−123・実際値メモリー、2
4・・キーボード、25・・・入力装置、26・・・フ
レキシブル導線、27・・ライトベン、21a・・・光
センサ−,28・・・許容値メモIJ−129導線、3
0・・計算機、31・・遮蔽。 第1頁の続き 0発 明 者 ゲルノート・トルソ ドイツ連邦共和国
ハナトラーセ 8 0発 明 者 ホルスト・ラング ドイツ連邦共和国フ
イクシュトラーセ 32 つ・アム・マイン・ポゼナー・シュ ルダーシュタット−4・ホルンベル

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、 個々に制御可能な被覆材料用蒸気源の長く延ひた
    装置に相対的にかつ横方向に移動する基材に真空蒸着法
    で薄層を製造し、その際蒸着する層の厚さを基材の移動
    方向において蒸気源の少なくとも1部のあとで測定して
    個々の層厚を表示する際に、蒸発装置の局部的蒸発パワ
    ーを制御するための方法において、a)蒸気源の少なく
    とも1部へのパワー供給をスクリーン上に第1の棒グラ
    フの形であられし、 b)該蒸気源に関係づけた層厚を同じスクリーン上に空
    間的相関性において第2の棒グラフの形であられし、か
    つ C)層厚分布の第2の棒グラフが所望の層厚パターンに
    相当するまで、パワー供給のための第1の棒グラフを変
    化させること を特徴とする基材上に真空蒸着法で薄層を製造する際に
    蒸発装置の局部的蒸発パワーを制御するための方法。 2、 個々に制御可能な蒸気源の長く延びた装置、個々
    の蒸気源のための制御可能な標準喧伝送装置、蒸気源装
    置に横方向に基材を移動するだめの移動装置、移動方向
    において蒸気源のうしろに配置された多数の層厚測定装
    置及び層厚測定値用の多数の表示装置をそなえる、基材
    上に真空蒸着法で薄層を製造する際に蒸発装置の局部的
    蒸発パワーを制御するだめの装置において、 a)受像装置(14) b)蒸気源(1a〜1f)用の少なくとも1つの制御装
    #(6)のための可変性標準値のメモリー及びアウトプ
    ットのための、および受像装置上の第1の棒グラフ(1
    6)の表示用ビデオシグナルへの標準値の変換のための
    、かつ同じ受像装置上に第2の棒グラフ(17)の表示
    のためのビデオシグナルへの層厚測定値の変換のための
    標準値メモリー(22)を備える計算装置(21)、及
    び C)標準値のインプット及び変換のための入力装置(2
    5)を特徴とする、基材上に真空蒸着法で薄層を製造す
    る際に蒸発装置の局部的蒸発パワーを制御する装置。 6、 ライトペン(27)が、第1の棒グラフのそれぞ
    れの棒の縦の方向にライトペンを移動させる際に、該棒
    の上縁を移動させることができるように計算装置(21
    )と接続している特許請求の範囲第2項記載の装置。 4、第2の棒グラフのそれぞれの棒のために上方許容値
    及び下方許容値をメモリーすることができる許容筐メモ
    IJ −(2B )を備える計算装置(21)を有して
    おり、かつ該計算装置はそれぞれの棒が許容範囲より上
    であったり、又これに満たない場合に、これに属するパ
    ワー供給用の第1の標準値の変化により、それぞれの棒
    を許容範囲にもどすことが可能であるプログラムを有す
    る特許請求の範囲第2項記載の装置。
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