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Verweis auf verbundene Anmeldungen
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Diese Anmeldung stützt sich auf die
Koreanische Patentanmeldung Nummer 10-2007-0135557 , die am 21. Dezember 2007 beim Koreanischen Amt für Geistiges Eigentum eingereicht wurde und deren Offenbarung durch Bezugnahme mit eingebunden ist.
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Hintergrund der Erfindung
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1. Technisches Gebiet
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Die vorliegende Erfindung betrifft einen Vakuumverdampfer, mit dem eine Menge einer Quelle gesteuert werden kann.
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2. Beschreibung des Stands der Technik
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Als typische Verfahren zur Ausbildung einer Dünnschicht stehen das physikalische Dampfabscheidungsverfahren (PVD = Physical Vapour Deposition) und das chemische Dampfabscheidungsverfahren (CVD = Chemical Vapour Deposition) zur Verfügung.
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Das PVD-Verfahren wird im Unterschied zu dem CVD-Verfahren in einer Reinraumumgebung durchgeführt. Zudem werden in einem Vakuumzustand Widerstandsbeheizung, Elektronenstrahlen oder Plasma eingesetzt, um einen Feststoff in Gas umzuwandeln, so dass der Stoff auf einem Substrat abgeschieden wird.
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Das PVD-Verfahren kann in ein Vakuumverdampfungsverfahren, Sputterverfahren, Ionenplattierungsverfahren etc. unterteilt werden.
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In jüngster Zeit wird das Vakuumverdampfungsverfahren im Zuge der Entwicklung der Vakuumtechnik und der Anlagen-Fertigungstechnik zur Fertigung von Antireflexionsbeschichtungen, Spiegelfiltern, Sonnenbrillen, dekorativen Beschichtungen, Kathodenstrahlröhren und Elektronikschaltungen häufig eingesetzt. Durch das nachfolgende Verfahren wird auf der Oberfläche eines Abscheidungsziels eine metallische Dünnschicht ausgebildet.
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Das heißt, dass ein fester oder flüssiger Stoff in Gas umgewandelt wird, wobei das Gas an ein Substrat weitergeleitet und dann auf dem Substrat kondensiert wird, wodurch eine dünne Metallschicht ausgebildet wird.
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Mit den in dem Vakuumverdampfungsverfahren eingesetzten Verdampfungsanlagen kann das Fertigungsverfahren vereinfacht werden, die Abscheidungsgeschwindigkeit erhöht werden und eine Dünnschicht innerhalb von einer kurzen Zeit ausgebildet werden. Aus diesem Grund werden die Verdampfungsanlagen als Kernanlagen zur Bildung einer metallischen Dünnschicht in einem Elektronikbauteil-Fertigungsverfahren, umfassend ein Halbleiterverfahren, verwendet.
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Die in dem Vakuumabscheidungsverfahren eingesetzte Verdampfungsanlage ist in einen thermischen Verdampfer und in einen Elektronenstrahlverdampfer unterteilt. Der thermische Verdampfer heizt unter Verwendung der Wärme, die von einem Heizelement erzeugt wird, eine Quelle auf, so dass die Abscheidung durchgeführt wird. Der Elektronenstrahlverdampfer verdampft eine Quelle, die in einem Quellenbehälter, wie beispielsweise einem Tiegel, enthalten ist, während die elektrische Energie, die durch die beschleunigten Elektronenstrahlen geliefert wird, in thermische Energie umgewandelt wird, wodurch die Abscheidung durchgeführt wird.
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In den vorstehend dargelegten beiden Vakuumabscheidungsverfahren wird der Abscheidungsvorgang in einem Zustand durchgeführt, in dem eine vorgegebene Menge der Quelle, die als Material zur Ausbildung einer Dünnschicht dient, in einem Quellenbehälter, wie beispielsweise einem Schiffchen oder Tiegel, die das Heizelement bilden, enthalten ist.
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Zu diesem Zeitpunkt nimmt beim Durchführen des Abscheidungsvorgangs die Menge der Quelle in dem Behälter ab. Demzufolge sollte die Quelle erneut zugeführt werden, so dass eine konstante Menge der Quelle in dem Quellenbehälter beibehalten werden kann.
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Wenn die Quelle nicht zugeführt wird, kommt es während der kontinuierlichen Durchführung des Abscheidungsvorgangs zu einer Änderung des Füllstands der in dem Behälter enthaltenen Quelle. Nunmehr wird ein Schmelzbereich verkleinert, so dass in dem Abscheidungsvorgang eine Änderung auftritt. Zudem werden die Dicke und die Gleichmäßigkeit der Dünnschicht, die auf der Oberfläche eines Abscheidungsziels abgeschieden wird, durch diese Änderung beeinflusst, wodurch es schwierig ist, die Eigenschaften der Dünnschicht zu steuern.
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Währenddessen wird in einer Verdampfungsanlage zur Massenproduktion oder in einer Verdampfungsanlage für eine Großfläche ein Verdampfungsbereich schnell vergrößert, so dass eine Verbrauchsmenge der Quelle steigt. Da die Verdampfungsanlage gegenüber einer durch den Quellenverbrauch verursachten Änderung empfindlich reagiert, ist es demzufolge äußerst wichtig, in dem Quellenbehälter eine konstante Menge der Quelle beizubehalten.
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Die Verdampfungsanlage enthält jedoch keine Komponente, mit der eine Quellenmenge konstant beibehalten werden kann. Außerdem sollte eine in dem Quellenbehälter zurückbleibende Menge der Quelle durch das Bedienpersonal zur Aufstockung der Quelle überprüft werden. Daher ist es schwierig, eine konstante Menge der Quelle zum Sicherstellen einer Dünnschicht mit einer gleichmäßigen Dicke beizubehalten.
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Des Weiteren ist es unmöglich, während des Betriebs der Verdampfungsanlage eine Quelle zuzuführen. Um der Verdampfungsanlage eine Quelle zuzuführen, sollte der Verdampfungsvorgang demzufolge unterbrochen werden.
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Aus dem Stand der Technik ist mit der
US 4,262,160 A eine Vorrichtung zur Materialzufuhr für einen Elektronenstrahlverdampfer bekannt. Dabei wird das Ausgangsmaterial dem Behälter mit dem geschmolzenen Material an einer Stelle zugeführt, die nicht von dem Elektronenstrahl aufgeheizt wird. Das Ausgangsmaterial kann durch Sekundärelektronen eingeschmolzen werden.
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Die
DE 196 05 315 C1 offenbart ein Verfahren und eine Einrichtung zur Regelung eines Vakuumbeschichtungsprozesses wobei eine Kraftmesszelle an der dampfabgewandten Seite eines Tiegels angeordnet ist. Dadurch soll eine durch den Beschichtungsprozess unbeeinflusste Funktion der Kraftmesszelle ermöglicht werden.
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Die
US 5 871 805 A beschreibt einen computergesteuerten Gasphasenabscheidungsprozess, wobei der räumliche Ort der Abscheidung aus der Gasphase durch Blenden und Trennwände eingegrenzt wird.
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Auch die
JP 61-079763 A handelt von einer Gasphasenabscheidungsvorrichtung, bei der mittels einer Blende der Abscheidungsbereich eingegrenzt wird.
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Vorteile der Erfindung
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Ein Vorteil der vorliegenden Erfindung besteht darin, dass sie einen Vakuumverdampfer liefert, der die Masse eines Quellenbehälters, der eine darin eingefüllte Quelle enthält, unter Verwendung einer Massemesseinrichtung in Echtzeit misst und der ein Quellenzufuhrsignal, das durch eine Steuereinheit auf Grundlage der Masseinformationen, die durch die Massemesseinrichtung gemessen werden, erzeugt wird, an eine Quellenzufuhreinrichtung liefert, so dass dem Quellenbehälter ein Quellenmaterial zugeführt wird. Anschließend kann eine in dem Quellenbehälter enthaltene Quellenmenge konstant beibehalten werden, so dass eine gleichmäßige dünne Metallschicht ausgebildet wird.
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Weitere Aspekte und Vorteile des vorliegenden allgemeinen erfinderischen Konzepts werden teilweise durch die folgende Beschreibung erläutert und werden teilweise durch die Beschreibung offensichtlich oder können durch Umsetzung des allgemeinen erfinderischen Konzepts erkannt werden.
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Ein Aspekt der Erfindung besteht darin, dass ein Vakuumverdampfer Folgendes umfasst: eine Kammer; ein Substrat, das in dem oberen Abschnitt der Kammer angeordnet ist; einen Quellenbehälter, der direkt unter dem Substrat angeordnet ist und der eine darin eingefüllte Quelle enthält; eine Massemesseinrichtung, die an der Unterseite des Quellenbehälters angeordnet ist; eine Steuereinheit, die mit der Massemesseinrichtung verbunden ist, um die Masseinformationen des Quellenbehälters zu empfangen; und eine Quellenzufuhreinrichtung, die mit der Steuereinheit verbunden ist und die ein von der Steuereinheit gemäß den Masseinformationen des Quellenbehälters erzeugtes Quellenzufuhrsignal empfängt, um dadurch dem Quellenbehälter die Quelle zuzuführen. Erfindungsgemäß ist die Massemesseinrichtung aus einer Wägezelle oder einer elektronischen Waage gebildet, mit der eine Änderung in der Masse der Quelle, die in den Quellenbehälter eingefüllt ist, in Echtzeit gemessen werden kann. Die Massenmesseinrichtung, der Wärmeisolator und die Außenseite des Quellenbehälters sind von einem Kammer-Innenbad umgeben, wobei eine Öffnung des Quellenbehälters ausgenommen ist.
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Die Kammer ist vorzugsweise kastenförmig ausgestaltet und weist einen Innenraum auf, der im Vakuumzustand gehalten wird.
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Der Quellenbehälter ist vorzugsweise aus einem Heizelement gebildet, das selbst Wärme erzeugt oder das einen darin eingebauten Heißdraht aufweist, so dass die in den Quellenbehälter eingefüllte Quelle durch die Wärme, die durch den Quellenbehälter erzeugt wird, verdampft wird.
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Der Vakuumverdampfer umfasst zudem einen Wärmeisolator, der zwischen dem Quellenbehälter und der Massemesseinrichtung angeordnet ist, um zu verhindern, dass die durch den Quellenbehälter erzeugte Wärme an die Massemesseinrichtung weitergeleitet wird.
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Die Quellenzufuhreinrichtung ist vorzugsweise aus einer Drahtzufuhreinrichtung, um die eine Feststoffquelle in Form eines Drahtes gewickelt ist, oder aus einer Pulverzufuhreinrichtung zum Einspeisen einer pulverförmigen Quelle gebildet.
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Vorzugsweise wird eine Änderung in der Masse der Quelle, die in den Quellenbehälter eingefüllt ist, durch die Massemesseinrichtung in Echtzeit gemessen, um an die Steuereinheit übertragen zu werden, wobei die Steuereinheit gemäß den Informationen über die Änderung in der Masse der Quelle ein Quellenzufuhrsignal erzeugt und das Quellenzufuhrsignal anschließend an die Quellenzufuhreinrichtung überträgt, so dass die Quelle zugeführt wird.
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Die Quellenzufuhreinrichtung ist vorzugsweise innerhalb oder außerhalb der Kammer angeordnet.
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Ein weiterer Aspekt der Erfindung besteht darin, dass ein Vakuumverdampfer Folgendes umfasst: eine Kammer; ein Substrat, das in dem oberen Abschnitt der Kammer angeordnet ist; einen Quellenbehälter, der direkt unter dem Substrat angeordnet ist und der eine darin eingefüllte Quelle enthält; ein Innenbad, das die Außenseite des Quellenbehälters umgibt, wobei eine Öffnung des Quellenbehälters ausgenommen ist; eine Massemesseinrichtung, die an dem unteren Abschnitt des Innenbads angeordnet ist, um die Masse des Quellenbehälters zu messen; einen Wärmeisolator, der durch die Unterseite des Innenbads abgestützt ist und der ein unteres Ende aufweist, das mit der Massemesseinrichtung verbunden ist; eine Steuereinheit, die mit der Massemesseinrichtung verbunden ist, um die Masseinformationen des Quellenbehälters zu empfangen; und eine Quellenzufuhreinrichtung, die mit der Steuereinheit verbunden ist und die ein Quellenzufuhrsignal, das von der Steuereinheit gemäß den Masseinformationen des Quellenbehälters erzeugt wird, empfängt, um dadurch dem Quellenbehälter ein Quellenmaterial zuzuführen. Die Massemesseinrichtung ist vorzugsweise außerhalb der Kammer angeordnet.
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Der Wärmeisolator ist vorzugsweise durch die Wand der Kammer senkrecht mit der Unterseite des Innenbads verbunden.
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Kurze Beschreibung der Zeichnungen
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Diese und/oder weitere Aspekte und Vorteile des vorliegenden allgemeinen erfinderischen Konzepts werden offensichtlich und können anhand der folgenden Beschreibung der Ausführungsformen in Verbindung mit den beiliegenden Zeichnungen besser erkannt werden, wobei:
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1 ein Diagramm ist, das den Aufbau eines erfindungsgemäßen Vakuumverdampfers darstellt;
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2 ein Diagramm ist, das den Aufbau eines Vakuumverdampfers gemäß einer zweiten Ausführungsform der Erfindung darstellt; und
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3 ein Diagramm ist, das den Aufbau des Vakuumverdampfers gemäß einer dritten Ausführungsform der Erfindung darstellt.
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Detaillierte Beschreibung bevorzugter Ausführungsformen
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Im Detail wird nun auf die Ausführungsformen der vorliegenden allgemeinen erfinderischen Idee Bezug genommen, wobei Beispiele durch die beiliegenden Zeichnungen dargestellt sind und identische Bezugszeichen durchgängig auf identische Elemente verweisen. Die Ausführungsformen werden nachfolgend erläutert, um das vorliegende allgemeine erfinderische Konzept unter Bezugnahme auf die Figuren darzulegen.
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Nachfolgend soll ein Vakuumverdampfer gemäß der vorliegenden Erfindung im Detail unter Bezugnahme auf die beiliegenden Zeichnungen dargelegt werden.
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1 ist ein Diagramm, das den Aufbau eines erfindungsgemäßen Vakuumverdampfers zeigt. Wie in der 1 dargestellt, umfasst der erfindungsgemäße Vakuumverdampfer eine Kammer 100, einen Quellenbehälter 110, der direkt unter einem in der Kammer 100 angeordneten Substrat 130 (das der Vakuumabscheidung ausgesetzt wird) angeordnet ist, und eine Massemesseinrichtung 120, die mit dem unteren Abschnitt des Quellenbehälters 110 verbunden ist.
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Der Quellenbehälter 110 enthält eine darin eingefüllte vorgegebene Menge einer flüssigen Quelle 111, wobei die flüssige Quelle 111 durch Wärme oder Elektronenstrahlen in der Kammer 100 verdampft wird. Indem die verdampften Partikel auf der Oberfläche des Substrats 130, das direkt über dem Quellenbehälter 110 angeordnet ist, abgeschieden werden, wird auf dem Substrat 130 eine metallische Dünnschicht ausgebildet.
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Die kastenförmig ausgestaltete Kammer 100 weist einen Innenraum auf, der im Vakuumzustand gehalten wird. Das Substrat 130 ist in dem oberen Abschnitt des Innenraums angeordnet, während der Quellenbehälter 110, der eine darin eingefüllte vorgegebene Menge einer flüssigen Quelle 111 enthält, in dem unteren Abschnitt des Innenraums angeordnet ist.
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Der Quellenbehälter 110 ist aus einem Heizelement gebildet. Der Quellenbehälter 110 kann aus einem Material ausgebildet sein, das selbst Wärme erzeugt, oder kann einen darin eingebauten Heißdraht zum Abstrahlen von Wärme aufweisen.
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Die Massemesseinrichtung 120 ist an dem Quellenbehälter 110 befestigt und kann die Masse des Quellenbehälters 110, einschließlich der Masse der in den Quellenbehälter 110 eingefüllten Quelle, messen.
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Die Massemesseinrichtung 120 kann aus einer Wägezelle oder einer elektronischen Waage gebildet sein. Indem zwischen der Massemesseinrichtung 120 und der Unterseite des Quellenbehälters 110 ein Wärmeisolator 112 angeordnet wird, wird die Wärme, die von dem Quellenbehälter 110, der aus einem Heizelement gebildet ist, abgestrahlt wird, nicht direkt an die Massemesseinrichtung 120 übertragen.
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Da der Quellenbehälter 110, die Massemesseinrichtung 120 und der Wärmeisolator 120, der zwischen dem Quellenbehälter 110 und der Massemesseinrichtung 120 angeordnet sind, von einem Innenbad 160 umgeben sind, ist es zudem möglich, eine Wirkung, die durch Faktoren innerhalb der Kammer hervorgerufen wird, zu minimieren.
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Das Substrat 130 ist aus einem Wafer, einem Panel, einer dünnen Platte oder einer Schicht zur Fertigung von Elektronikbauteilen, einschließlich Halbleiterbauteilen und organischen Feldeffekt-LEDs, ausgebildet. Die in den Quellenbehälter 110 eingefüllte Quelle 111 wird durch die Wärme, die von dem Quellenbehälter 110 abgestrahlt wird, verdampft, um auf der Oberfläche des Substrats 130, das direkt über dem Quellenbehälter 110 angeordnet ist, abgeschieden zu werden.
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Zu diesem Zeitpunkt wird die in den Quellenbehälter 110 eingefüllte Quelle 111 schrittweise verbraucht, während die Quelle 111 verdampft wird. Das heißt, dass eine Änderung in der Menge der Quelle 111 auftritt. Die Änderung in der Menge der Quelle 111 wird durch die Massemesseinrichtung 120, die an der Unterseite des Quellenbehälters 110 befestigt ist, in Echtzeit gemessen.
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Das heißt, dass die Masse des Quellenbehälters 110, der die darin eingefüllte Quelle 111 enthält, unter Berücksichtigung der konstanten Masse des Quellenbehälters 110 durch die Massemesseinrichtung 120 gemessen wird.
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Dabei ist die Massemesseinrichtung 120 mit einer außerhalb der Kammer 100 angeordneten Steuereinheit 140 verbunden. Die Steuereinheit 140 empfängt die Informationen über die Änderung in der Masse des Quellenbehälters 110, das heißt, über die Verbrauchsmenge der Quelle 111, von der Massemesseinrichtung 120 in Echtzeit.
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Die Informationen über die Verbrauchsmenge der Quelle 111 in dem Quellenbehälter 110 werden durch die Steuereinheit 140 in ein Quellenzufuhrsignal umgewandelt, um an eine Quellenzufuhreinrichtung 150, die innerhalb oder außerhalb der Kammer 100 angeordnet ist, geliefert zu werden. Die Quellenzufuhreinrichtung 150 führt dem Quellenbehälter 110 gemäß dem Quellenzufuhrsignal ein Quellenmaterial zu.
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Mit anderen Worten wird die Masse des Quellenbehälters 110 durch die Massemesseinrichtung 120 in Echtzeit gemessen, in einem Zustand, in dem die Masse des Quellenbehälters 110, einschließlich die Masse der Quelle, durch die Steuereinheit 140 geregelt wird, und in dem eine Quellenänderung so geregelt wird, dass die Abscheidungsqualität nicht verschlechtert wird. In diesem Fall wird der Quellenzufuhreinrichtung 150 ein Quellenzufuhrsignal zugeführt, wenn eine vorgegebene Quellenänderung auftritt, um die Quelle 111 aufzustocken, bis sich die Menge der Quelle 111 der ursprünglich festgelegten Quellenmenge annähert. Aus diesem Grund wird die Menge der Quelle 111 konstant beibehalten.
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Bei der Quellenzufuhreinrichtung 150 kann es sich um eine Drahtzufuhreinrichtung, um die eine Feststoffquelle in Form eines Drahtes gewickelt ist, oder um eine Pulverzufuhreinrichtung zum Einspeisen von einer pulverförmigen Quelle handeln.
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2 ist ein Diagramm, das den Aufbau eines Vakuumverdampfers gemäß einer zweiten Ausführungsform der Erfindung darstellt. Wie in der 2 dargestellt, umfasst der Vakuumverdampfer gemäß dieser Ausführungsform ein Substrat 130, das in dem oberen Abschnitt einer kastenförmigen Kammer 100 angeordnet ist, und einen Quellenbehälter 110, der in dem unteren Abschnitt der Kammer 100 angeordnet ist. Zudem ist der Quellenbehälter 110 durch ein Innenbad 160 umgeben, so dass er durch einen Wärmeisolator 112 abgestützt ist, wobei eine Massemesseinrichtung 120 zum Messen der Masse des Quellenbehälters 110 mit dem unteren Ende des Wärmeisolators 112 verbunden ist.
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Der Wärmeisolator 112, der den Quellenbehälter 110 und das den Quellenbehälter 110 umgebende Innenbad 160 abstützt, ist durch die Wand der Kammer 100 senkrecht mit der Unterseite des Innenbads 160 verbunden. Die Massemesseinrichtung 120, die mit dem unteren Abschnitt des Wärmeisolators 112 verbunden ist, ist außerhalb der Kammer 100 angeordnet.
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Ähnlich wie in der ersten Ausführungsform liefert die Massemesseinrichtung 120, die mit der Außenseite der Kammer 100 verbunden ist, Informationen über eine Verbrauchsmenge der Quelle in dem Quellenbehälter 110 an eine Steuereinheit 140, die mit einer Quellenzufuhreinheit 150 verbunden ist.
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In dieser Ausführungsform ist die Massemesseinrichtung 120, die eine Änderung in der Masse des Quellenbehälters 110, der die darin eingefüllte Quelle 111 enthält, in Echtzeit misst, außerhalb der Kammer 100 angeordnet. Da die Massemesseinrichtung 120 durch die Wärme, die durch den Quellenbehälter 110, der aus einem Heizelement gebildet ist, erzeugt wird, nicht beeinflusst wird, ist es folglich möglich, einen durch die Wärme verursachten Fehler in der Massemessung zu minimieren.
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Im Weiteren wird auf detaillierte Beschreibungen der Bestandteile, die identisch mit denen der ersten Ausführungsform sind, verzichtet, wobei identische Bestandteile mit identischen Bezugszeichen versehen sind.
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3 ist ein Diagramm, das den Aufbau eines Vakuumverdampfers gemäß einer dritten Ausführungsform der Erfindung darstellt. Wie in der 3 dargestellt, weist der Vakuumverdampfer gemäß dieser Ausführungsform einen solchen Aufbau auf, dass der Innenraum einer kastenförmigen Kammer 100 durch eine horizontale Trennwand 101, die eine Öffnung aufweist, aufgeteilt ist, wenn ein Substrat 130 und ein Quellenbehälter 110 an den oberen beziehungsweise unteren Abschnitten der Kammer 100 angeordnet sind.
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Der Innenumfang der Öffnung der horizontalen Trennwand 101 ist eng mit dem unteren Ende des Quellenbehälters 110 verbunden. Der Quellenbehälter 110 ist, ähnlich wie in der zweiten Ausführungsform, durch einen Wärmeisolator 112, der mit dem unteren Ende einer außerhalb der Kammer 100 angeordneten Massemesseinrichtung 120 verbunden ist, abgestützt.
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Die mit der Außenseite der Kammer 100 verbundene Massemesseinrichtung 120 liefert Informationen über eine Verbrauchsmenge der Quelle innerhalb des Quellenbehälters 110 an eine Steuereinheit 140, die mit der Quellenzufuhreinheit 150 verbunden ist.
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Im Unterschied zu der ersten und zweiten Ausführungsform setzt sich die Quelle 111 in dieser Ausführungsform auf der Oberfläche der horizontalen Trennwand 101 fest, da der Quellenbehälter 110 in dem Raum angeordnet ist, der durch die horizontale Trennwand 101 innerhalb der Kammer 100 aufgeteilt ist. Demzufolge kann eine Änderung in der Masse des Quellenbehälters 110 reduziert werden.
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Das heißt, dass verhindert wird, dass sich die verdampfte, aber nicht auf der Oberfläche des Substrats 130 abgeschiedene Quelle 111 an der Außenseite des Quellenbehälters 110 oder dem Innenbad 160 festsetzt. Daher ist es möglich, einen Messungsfehler, der durch einen äußeren Faktor verursacht wird, wenn eine Verbrauchsmenge der Quelle in dem Quellenbehälter 110 gemessen wird, zu minimieren.
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In dieser Ausführungsform wird auf detaillierte Beschreibungen der Bestandteile, die mit denen der ersten Ausführungsform identisch sind, verzichtet, wobei identische Bestandteile mit identischen Bezugszeichen versehen sind.
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Gemäß der vorliegenden Erfindung wird eine Menge der Quelle innerhalb des Quellenbehälters durch die Massemesseinrichtung, die in der Kammer angeordnet ist, in Echtzeit gemessen und gemäß den Masseinformationen, die durch die Massemesseinrichtung gemessen werden, konstant beibehalten. Daher ist es möglich, auf dem Substrat eine dünne Metallschicht mit einer gleichmäßigen Dicke auszubilden. Zudem ist es möglich, ein Quellenmaterial ohne Unterbrechung des Vakuumverdampfers zuzuführen.
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Obwohl einige Ausführungsformen des vorliegenden allgemeinen erfinderischen Konzepts dargestellt und erläutert wurden, können vom Fachmann Änderungen in diesen Ausführungsformen gemacht werden, ohne von den Prinzipien und dem Boden des allgemeinen erfinderischen Konzepts abzuweichen, dessen Umfang in den beigefügten Ansprüchen und ihren Entsprechungen dargelegt ist.
