JPS6056978A - 新規ヨヒンバン誘導体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は新規ヨヒンバン誘導体及びその製法に関する。

レセルピン、デセルピジンなどのローウオルフイア・ア
ルカロイドは血圧降下剤、トランキライザーなどとして
知られている。本発明者は先にヨヒンビノン、アロヨヒ
ンビンの簡便な立体選択的合成法を確立し、実質的にヨ
ヒンビン、アロヨヒンビンの簡便な全合成を可能にした
。その後さらにレセルピン、デセルピジンなども含め、
ローウオルフイア・アルカロイドの一般的合成法を見出
すため研究を重ね、本発明に到達した。

本発明は一般式 （式中Ｒは水素原子又は低級アルコキシ基、Ｗは水素２
原子又は酸素原子、Ｘは酸素原子又は低級アルコキシ基
、Ｙは水素原子、水素２原子、酸素原子、水酸基又は低
級アルコキシ基、Ｚは水素原子、低級アルコキシ基又は
低級アルコキシカルボニル基を表わし、１６．１７位及
び１８．１９位ならびにＷ、Ｘ及びＹとの結合の点線は
二重結合の存在し５ることを示す）で表わされる新規ヨ
ヒンバン誘導体である。

置換基Ｗが酸素原子である式Ｉの化合物は、一般式 （式中の各記号は前記の意味を有する）で表わされるイ
ンドロピリジンエナミド誘導体を還元釣元閉環反応させ
ることにより得られる。

原料のインドロピリジンエナミド誘導体は、例えば一般
式 （式中Ｒは前記の意味を有する）で表わされるインドロ
ピリジンを低級アルコキシ置換安息香酸ハライドと脱ハ
ロゲン化水素剤の存在下に反応させることにより得られ
る。

前記の還元釣元閉環反応は、インドロピリジンエナミド
誘導体（Ｉｌｌを極性溶媒中で、水素化硼素ナトリウム
の存在下、高圧水銀灯の光照射することにより実施する
ことができる。極性溶媒としては例えばアセトニトリル
、アルコールなど並びにこれらの混合物が用いられる。

光照射時間は数分ないし数時間、好ましくは３０〜６０
分である。本反応は窒素などの不活性ガス雰囲気中で行
うことが好ましい。反応生成物は例えばカラムクロマト
グラフィなどにより精製することができる。またＹが低
級アルコキシ基である式■の化合物を例えば希塩酸など
で加水分解すると、Ｙが酸素原子又は水酸基である弐■
の化合物が得られる。

置換基Ｗが水素２原子である式Ｉの化合物は、Ｗが酸素
原子である式Ｉの化合物を、例えば常法により大過剰の
水素化リチウムアルミニウムで還元し、次いで例えば希
塩酸などで酸処理することによって得ることができる。

生成物はカラムクロマトグラフィなどで単離、精製する
ことができる。

式■の化合物のうち、一般式 （式中Ｒは前記の意味を有し、Ａは低級アルキル基を示
す）で表わされる化合物は、一般式（式中Ｒ及びＡは前
記の意味を有する）で表わされるヨヒンバン誘導体のア
ルカリ金属好ましくはリチウム化合物又はアルカリ土類
金属化合物好ましくはマグネシウム化合物を、１〜６モ
ル比のクロロ炭酸低級アルキルを用い０℃〜室温でアシ
ル化することによって得られる。クロロ炭酸低級アルキ
ルの低級アルキル基としては、メチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基など、好ましくはメチル基があげら
れる。

前記ヨヒンバン誘導体（Ｉｂ）のメタル化は立体選択的
アシル化のための重要条件であって、式Ｉｂの化合物を
例えばリチウムジ低級アルキルアミド（ＬＤＡ）と約−
８０℃の低温で反応させることによりリチウムエノラー
トとして得られる。

これを好ましくはハロゲン化マグネシウムなどの存在下
にクロロ炭酸低級アルキルと反応させると式Ｉａの化合
物が得られる。所望により反応生成物を酸化白金などの
触媒の存在下に接触還元して二重結合を飽和することも
できる。

ＬＤＡとしては、リチウムジメチルアミド、リチウムジ
エチルアミド、リチウムジプロピルアミド、リチウムジ
ブチルアミド、リチウムメチルエチルアミド、リチウム
プロピルブチルアミドなど、好ましくはリチウムジイソ
プロピルアミドが用いられる。ＬＤＡは例えばジ低級ア
ルキルアミンをｎ−アルキルリチウム、好ましくはｎ−
ブチルリチウムと反応させることによって得られる。こ
の反応の溶媒としてはテトラヒドロフランやクラウンエ
ーテルなどが好ましい。

反応′は１時間前後の短時間で行われ、生成物はカラム
クロマトグラフィなどにより単離、精製することができ
る。

本発明の目的物はレセルピンやデセルピジンなども含む
ローウオルフイア・アルカロイドの一般的合成法の中間
体として有用である。

実施例１ １６−メトキシ（又は１８−メトキシ）　−１６，１７
゜デ １８．１９−テトラ、ヒドロ−２１−オキソ・ヨヒンノ
く　ン ハＡ／マラ７　（３，４−ジヒドロ−１−メｆルー９Ｈ
−ピリド［：３，４−ｂ］インドール）　１．１０ｇを
無水ベンゼン６０ｍ１に溶解し、トリエチルアミン１．
２属を加える。この溶液に、水冷攪拌しながらメタ−ア
ニソイルクロライド１．０５　ｇを無水ベンゼン６０ｍ
１に溶解した溶液を滴下する。室温で１時間攪拌したの
ちｒ過し、沈殿物を熱ベンゼンで洗い、ｒ液と洗液とを
合わせ溶媒を留去すると、次式の１．２，６．４−テト
ラヒドロ−１−メテニル−２−Ｎ−５’−メトキシ−ベ
ンゾイールー９Ｈ−ピリド（３，４−ｂ）インドールが
得られる。

この化合物をアセトニトリル９００’ｍｌに溶解し、５
℃で攪拌しながらメタノール９０ｍ１及び水素化硼素ナ
トリウム１．８．ｌｉ＋を加える。窒素気流中で高圧水
銀灯を用いて３０分間光照射する。

反応終了後、溶媒を留去し、残留物に塩化メチレンを加
え、塩化メチレン層を水で２回洗浄する。無水硫酸す）
　ＩＪウムで乾燥したのち、溶媒を留去し、残留物を中
圧力ラム（Ｌｏｂａｒカラム）で精製すると、１６−メ
ドキシー１６．１７，１８．１９−デ テトラΔヒドロー２１−オキソヨヒンバン６７０■（収
率６５％）及び１８−メトキシ−１６，１７，１８゜１
９−テトラデヒドロ−２１−オキソ・ヨヒンバン２５０
　ｍ９　（収率１６％）が得られる。

１６−メ　トキシー１６，１７，１８．１９−テトラ、
ヒドロ−２１−オキソ・ヨヒンバン ＮＭＲδ　（ＣＤＣ１，）ニ ア、９０　（ＩＨ，ｓ、ＮＨ） ５．８６　（Ｉ　Ｈ，ｄｄｄ、　Ｊ二１０．６．３Ｈｚ
、１８−Ｈ）５．３７（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝１０．３Ｈｚ
、１９−Ｈ）５．２０（ＩＨ，ｍ、　５ｅｑ−Ｈ） ５．０１　（Ｉ　Ｈ，ｄ、　Ｊ＝６Ｈｚ、　１７−Ｈ）
４．７７　（Ｉ　Ｈ，ｄｄ、　Ｊ＝１２．４Ｈｚ、　３
−Ｈ）５．６６（１Ｈ％ｓ、　ＯＣＨ３） ３．０６〜２．７２　（６Ｈ，ｍ、　５−Ｈ２及び６　
ａｘ−Ｈ）２．６３　（Ｉ　Ｈ，ｄｃｉｄ、　Ｊ　＝１
２．９．４　Ｈｚ、　１５−Ｈ）２．２６　（Ｉ　Ｈ，
ａｔｅ、Ｊ＝１２．４Ｈｚ、１４ｅｑ−Ｈ）２．０５（
ＩＨ，ｑ％Ｊ＝１２．１４　ａｘ−）］　）−デ １８−メトキシ−１６，１７，１８，１９−テトフへヒ
ドロ＝２１−オキソφヨヒンノでン ＮＭＲδ（ＣＤＣｌ５）　ニ ア、９２（ＩＨ，ｓ、　ＮＨ） ７．５３　（Ｉ　Ｈ，ａｄ、　、ｒ＝８．２Ｈｚ、１２
−Ｈ）７．３６　（Ｉ　Ｈ，ｄｄ、　Ｊ＝８．２Ｈｚ、
　９−Ｈ）７、２０及びＺ１６（各ＩＨ，ｄａ、Ｊ＝８
．２Ｈｚ。

１０−Ｈ及び１ｌ−Ｈ） ５．８９　（Ｉ　Ｈ，ｄｄ、Ｊ＝１０．４．５　Ｈｚ、
１６−Ｈ）５．８４　（Ｉ　Ｈ，ｄｄ、　Ｊ＝１０．２
　Ｈｚ、１７−Ｈ）５．２１　（ＩＨ，ｍ、５ｅｑｚＨ
） ４．７８　（Ｉ　Ｈ，ｔ、　Ｊ　＝８　Ｈｚ、　３−Ｈ
）４．６０（ＩＨ，を状％Ｊ＝２Ｈｚ、１９−Ｈ）３．
６７　（Ｉ　Ｈ，ｄｄ、Ｊ＝８．２Ｈ２，２Ｏ−Ｈ）３
．４９　（３Ｈ，ｓ、　ＯＣＨ３） ２．９６〜２．７６　（３Ｈ，ｍ、６−Ｈｚ＋５ａｘ−
Ｈ）２．７０　（Ｉ　Ｈ，ｄｔｄ　、　、ｒ＝１５．８
．４．５Ｈｚ、１５−Ｈ）２．０８（２Ｈ％ｍ、１４−
Ｈｚ） 実施例２ １６．１７−シデヒドロー１８．２１−ジオキソ令ヨヒ
ンバン 実施例１で得られた１８−メトキシ−１６，１７゜デ １８．１９−テトラ＾ヒドロー２１−オキシ・ヨヒンバ
ン５０即をメタノ−／Ｉ／６ｍｌに溶解し、１０％塩酸
ｌ　’　ｍｌを加え、室温で３０分間攪拌する。反応終
了後、飽和炭酸水素ナトリウム水で中和し、塩化メチレ
ンで抽出する。溶媒層を水洗し、無水硫酸ナトリウムで
乾燥したのち溶媒を留去し、残留物をカラムクロマトグ
ラフィで精製すると、定量的収率で１６．１７−シブヒ
ドロ−１８，２１−ジオキソ・ヨヒンバンが得られる。

ＮＭＲδ（ＣＤＣｌ３）　： ８．８０（ＩＨ，ｓ、　ＮＨ） ６．８６　（Ｉ　Ｈ，ｄｄ、　Ｊ＝１０．５　Ｈｚ、　
１７−Ｈ）６．０４　（Ｉ　Ｈ，ｄｄ、　Ｊ＝１０、Ｉ
Ｈｚ＝１７−Ｈ）５．１２（ＩＨ，ｍ、　５ｅｑ−Ｈ） ４．９２　（ｉ　Ｈ，ｄｄ、　Ｊ＝１１．６Ｈｚ、３−
Ｈ）３．１８（ＩＨ，ｄｔ状、Ｊ＝１６．６Ｈｚ、　２
０　Ｈ）ｉｏ８〜２．７０　（４Ｈ，ｍ、　１５−Ｈ，
５ａｘ−Ｈ及び６−Ｈ，） ２、Ａ　４　（Ｉ　Ｈ，ａａ、　、Ｔ＝１　ｙ、６Ｈｚ
、１９　ｅｑ−Ｈ）２．６２　（Ｉ　Ｈ，ｄｔ、　Ｊ＝
１７．１６Ｈｚ、１４ｅｑ−Ｈ）２．５４　（Ｉ　Ｈ，
ｄｄ、　Ｊ＝１７．１５　Ｈｚ、　１９ａｘ−Ｈ）１．
９４　（Ｉ　Ｈ，ｄｔ、　Ｊ＝１５．１１　Ｈｚ、１４
ａｘ−Ｈ）実施例６ １７．１８−ジメトキシ−１６，１７，１８，１９−テ
トラデヒドロ−２１−オキソ・ヨヒンバン、又ハ１６，
１７゜−ジメトキシ−１６，１７，１９，２０−テトラ
デヒドロ−２１−オキソ拳ヨヒンバン ハＡ／マラン１．１０１無水ベンゼン６０ｒｎｌニ溶解
し、トリエチルアミン１．２　ｍｌを加える。この溶液
に水冷攪拌しながら、ベラトロイルクロライド１．２４
９を無水ベンゼン６０ｍ／に溶解した溶液を滴下する。

室温で１時間攪拌したのち溶媒を留去すると、ｉ、２．
３．４−テトラヒドロ−１−メテニル−２−Ｎ　−３’
、４’−ジメトキシ−ベンゾイル−９Ｈ−ピリド（３，
４−ｂ）インドールが得られる。

この化合物をアセトニトリル９００ｍ１に溶解し、５℃
で攪拌しながらメタノール９０ｍ１及び水素化硼素ナト
リウム１．８１を加える。窒素気流中で高圧水銀灯を用
いて３０分間光照射する。

反応終了後、溶媒を留去し、残留物に塩化メチレンを加
え、塩化メチレン層を水で２回洗浄する。無水硫酸す）
　ＩＪウムで乾燥したのち溶媒を留去し、残留物を中圧
力ラム（Ｌｏｂａｒカラム）で精製すると、１７．１８
−ジメトキシ−１６，１７゜１８．１９−テトラデヒド
ロ−２１−オキソ・ヨヒンバン４２０ｒｖ（収率２０％
）及び１６．１７−ジメデ トキシー１６，１７，１９．２０−テトラ八ヒドロ−２
１−オキソ・ヨヒジバン７６５■（収率６５％）が得ら
れる。

１７．１８−ジメトキシ−１♂、１７．１８．１９−テ
トラゾヒトロー２１−オキソ・ヨヒンバ／ ＮＭＲδ（ＣＤＣｌ３）　ニ ア、７６（１Ｈ，ｓ、ＮＨ） ５．１８（ＬＨ，ｍ、５ｅｑ−Ｈ） ４．７９　（Ｉ　Ｈ，ｄ、、ｒ＝７Ｈｚ、１６−Ｈ）４
．７６（ＩＨ，３−Ｈ）１６−Ｈ及び１９−Ｈと重積４
．７２　（Ｉ　Ｈ，ｂｒ、　ｄｄ　、　Ｊ＝２．１Ｈｚ
、’１９−Ｈ）３．６５　（Ｉ　Ｈ，ｂｒ、ｄｄ　、　
Ｊ＝８．２Ｈｚ、２Ｏ−Ｈ）６．６２　（３Ｈ，ｓ、　
ＯＣＨ３） ３．５７　（３Ｈ，ｓ、　ＯＣＨ３） ２．９８〜２．６６　（４Ｈ，ｍ、　１５−Ｈ，５ａｘ
　−Ｈ，６−Ｅ（２）２．０８　（２Ｈ，ｍ、１４−Ｈ
ｚ） １６．１７−シメトキシー１６，１７，１９．２０−テ
トラデヒドロ−２１−オキソ・ヨヒンバン ２Ｇ４Ｒδ（ＣＤＣｌ５）　： ８．１０（ＩＨ，ｓ、　ＮＨ） ６．８４　（Ｉ　Ｈ，ｔｄ、　Ｊ　＝５．５．２Ｈｚ、
　１９−Ｈ）５．２０　（Ｉ　Ｈ，ｍ、　５　ａｑ−Ｈ
）４．９２　（Ｉ　Ｈ，ｂｒ、ｄｄ、Ｊ＝１１．４．５
Ｈｚ、３−Ｈ）６．７６及び５．６５（各３Ｈ，ｓ、　
０ＣＨ３Ｘ　２）６．４０　（Ｉ　Ｈ，ｄｄｔ、Ｊ＝１
２．８．２Ｈｚ、　１５−Ｈ）３．１２〜２．７２　（
５Ｈ，ｍ、　６−Ｈｚ　、　５ａｑ−Ｈ及び１８−Ｈｚ
） ２．９６　（Ｉ　Ｈ，ｄｔ、　Ｊ＝１１．４．５Ｈｚ、
　１４ｅｑ−Ｈ）１．６２　（Ｉ　Ｈ，ｑ、　Ｊ＝１１
　Ｈｚ、　１４　ａｘ−Ｈ）実施例４ １８−メトキク−１８，１９−ジデヒドロ−１７，２１
−ジオキソ・ヨヒンパン又は１７−メトキシー１６゜１
７−シデヒドロー１８．２１−ジオキソ働ヨヒンバン 実施例６で得られた１７．１８−ジメトキシ−１６゜１
７．１８．１９−テトラデヒドロ−２１−オキソ・ヨヒ
ンバン５０■をメタノール３　ｍｌに溶解し、１０％塩
酸１　ｍｌを加え、室温で６０分間攪拌する。

反応終了後、飽和炭酸水素す）　ＩＪウム水で中和し、
塩化メチン／で抽出する。塩化メチレン層を水洗し、無
水硫酸ナトリウムで乾燥したのち溶媒を留去する。残留
物をカラムクロマトグラフィで精製すると１８′−メト
キ／−１８ｊ９−ジグヒトロー２１−オキソ・ヨヒンバ
ン１８ｍｇ（収率６８％）及び１７−メドキシー１６．
１７〜ジデヒドロ−１８，２１−ジオキシ曹ヨヒンバン
１８ｍ９（収率６８％）が得られる。

１８−メトキシ−１８，１９−ジデヒドロ−２１−オキ
ソ・ヨヒンバ／ ＮＭＲδ（ＣＩ（ＣＬＳ　）　” ８．６０（ＩＨ，ｓ、　ＮＨ） ５．７５　（Ｉ　Ｈ，ｂｒｓ、　１９−Ｈ）３．６１　
（３Ｈ，ｓ、　ＯＣＨ３） ・３．３０（ＩＨ，ｂｒｄ、Ｊ＝１１Ｈｚ、３−Ｈ）２
．４２（ＩＨ，ｍ、２Ｏ−Ｈ） １．８５　（Ｉ　Ｈ，ｄｔ、　Ｊ＝−１１Ｈｚ、４Ｈｚ
、　１４ｅｑ−Ｈ）１１．７Ｂ　（Ｉ　Ｈ，ｑ、　Ｊ−
１１Ｈｚ、１４ａｘ−Ｈ）１７−メトキシー１６．１７
−シデヒドロー１８．２１−ジオキシ・ヨヒンノ（ン ＮＭＲδ（ｃ’Ｄｃｔ、−ｃｐ、ｏＨ）　：８．４０（
１／ＡＨ，ｓ、　ＮＨ） ５．６６　（Ｉ　Ｈ，ａ、　ｙ＝６．１６−Ｈ）５．１
２（ＩＨ，ｍ、５ｅｑ−Ｈ） ４．９４　（Ｉ　Ｈ，ｂｒ、ｄｄ　、　Ｊ７１（］、６
Ｈｚ、３−Ｈ）Ａ、４６　（？ｌＨ，ｓ、　ＯＣＨ３）
３．１８　（Ｉ　Ｈ，ａｔ、　Ｊ＝１２．５．５　Ｈｚ
、　２０−Ｈ）３．０８（ＩＨ，ｍ、１５−Ｈ） ２．９０　（Ｉ　Ｈ，ｄｄ、　Ｊ＝１７３’Ｈｚ、　５
．５Ｈｚ、　１９ｅｑ−Ｈ）ｉｏ　０〜２．７５　（５
Ｈ，ｎｏ、　５　ａＸ−Ｈ＋６Ｊ４Ｚ　）２．７１　（
Ｉ　Ｈ，ａａ、　Ｊ＝１７．１２Ｈｚ、１９ａｘ−Ｈ）
２．５４　（Ｉ　Ｈ，ａｔ、　Ｊ＝１５．５Ｈｚ、　１
４ｅｑ−Ｈ）２．０４　（’Ｉ　Ｈ，ｄｔ％、Ｔ＝１３
．１１　Ｈｚ、　１４ａｘ−Ｈ）実施例５ １８−メトキシ−１９，１９−ジデヒＦ°ロー１７−オ
キソ・ヨヒンノ（ン又しま１７−メトキシー１６．１７
−シデヒドロー１８−オキシＯヨヒンパン 実施例３で得られた１７．１８−ジメトキシ−１６，１
７，１８，１９−テトラゾヒト９０−２１−オキソ・ヨ
ヒ／）くン３５０１ｎｇを常法により大過剰の水素化リ
チウムアルミニウムで還元する。

生成物をそのまま直ちにメタノール１５−に溶解し、攪
拌しなから１０Ａ塩酸’ｌ　ｍｌを加え、室温で６０分
間放置する。反応終了後、飽和炭酸水素ナトリウム水で
中和し、塩化メチレンで抽出する。抽出液を水洗したの
ち無水硫酸す）　ＩＪウムで乾燥し溶媒を留去する。残
留物をエーテル−メタノール混液から再結晶すると、１
，８−メトキシ−１８，１９−ジデヒドロ−１７−オキ
ソ・ヨヒンバン１３０〜（収率４０％）カー得られるま
た母液溶存物をカラムクロマトグラフィで精製すると、
１７−メドキシー１６．１７−ジブヒト０ロー１８−オ
キソ・ヨヒンバン１６■（収率５％）が得られる。

１８−メトキシ−１８，１９−ジデヒドロ−１８−オキ
ソ昏ヨヒ゛′パン ＮＭＲδ（ＣＤＣＩ、）　： ８．１２（ＩＨ，ｓ、ＮＨ） ５．８０　（Ｉ　Ｈ，ｄ、　Ｊ　＝２．５Ｈｚ、１９−
Ｈ）５．１６　（Ｉ　Ｈ，ｍ、　５　ｅｑ−Ｈ）４．９
０　（Ｉ　Ｈ，ａａ、　、ｒ−１１，５，５Ｈｚ、６−
Ｈ）３、ＢＯ（ＩＨ，ｂｒ、ｄｄ％Ｊ＝５．２，５Ｈｚ
、２Ｏ−Ｈ）３．５７　（３Ｈ１ｓ、　ＯＣＨ３） ３．０８〜２．７０　（５Ｈ，、ｍ、　５　ａｘ−Ｈ，
６−Ｈ２，１５−Ｈ，１６ｅｑ　−Ｈ） ２．５８　（Ｉ　Ｈ，ｄ状、Ｊ　−１４Ｈｚ、　１６ａ
ｘ−Ｈ）２．２４（Ｉ　Ｈ，ｂｒ、ｄ、Ｊ＝１１．５Ｈ
ｚ、１４ｅｑ　Ｈ）２．００　（Ｉ　Ｈ，ｑＳＪ＝ｉ　
１．５Ｈｚ、　１４ａｘ−Ｈ）１７−メドキシー１６．
１７−シデヒドロー１８−０　オキソ・ヨヒンバン ＩＲνＣＨＣｌ５　−ｔ　＝　ｓ　ｓ　ｏ　ｏ、１６９
０．１６６００η ａＸ ＮＭＲδ　（ＣＤＣｌ、　）　ニ ア、９６（ＩＨ，ｓ、ＮＨ） ５．８２（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝６．１６−Ｉ（）５．５７
　（３Ｈ，ｓ、　ＯＣＨ３） ３．２０　（Ｉ　Ｈｌｂｒ、　（１１，Ｔ　＝１１．５
Ｈｚ、　３−Ｈ）２．１４　（Ｉ　Ｈ，ｄｔ、　Ｊ＝１
１．５．３　Ｈｚ、、　１４　ｅｃｌ−Ｈ）ｔ５８　（
Ｉ　Ｈ，、ｑ、　、ｒ＝１１．５、Ｈｚ、　１４　ａｘ
−Ｈ）実施例６ １６、−メトキシカルボニル−１８−メトキク−１８，
１９−ジデヒドロ−１７−オキツーヨヒンノ（ン（１８
−メトキシ−１８，１９−ジデヒト０口拳ヨヒンビノン
） 一７８℃で無水テトラヒドロフラン１０ｍｇにジイソプ
ロピルアミン０．０３１１１１及びｎ−フ゛チルリチウ
ム０．０９ｗＬｌを加えリチウムジイソプロピルアミド
（ＬＤＡ　）を調製する。１０分間放置したのち実施例
５で得られた１８−メトキシ−１８，１９−シｆヒドロ
ー１７−オキソ・ヨヒンノ（ン６５■を無水テトラヒド
ロフラン６ｍ７！に溶解した溶液を滴下する。−７８℃
で１時間放置したのち、無水臭化マグネシウム２［１ｍ
５ｉを無水テトラヒドロフラン５　ｍｌに溶解した溶液
を加え、４０分間放置する。

次いで、クロロ炭酸メチル０．０１　ｍｌを加え、室温
で１時間放置する。反応液に水を加え、塩化メチレンで
抽出する。抽出液を水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥
したのち溶媒を留去する。

得られる残留物をカラムクロマトグラフィで精製すると
、１６−メドキシカルポニルー１８−メトキシ−１８，
１９−ジデヒドロ−１７−オキソ・ヨヒンバン５■（収
率１２％）が得られる。

また未反応原料がこの精製過程で分離回収される。

ＩＲシＣＨ０１３−１＝６５００．１７４０、σ ａＸ １６９５．１６６０．１６０Ｏ ＮＭＲδ（ＣＤＣｌ５　）　： １２、！１５　（１／　６Ｈ，ｓ、エノール性０Ｈ）７
、８０　（２／　６．Ｈ，ｓ、２／３ＮＨ）７．７４（
１／３Ｈ，ｓ、１／３ＮＨ）５．７３　（２／３Ｈ，ｂ
ｒａｌ、２１５１９−Ｈ）５．１７　（１／３Ｈ，ｂｒ
ｓ　、、　１／３１９　Ｈ）６．９０及び５．６８（各
Ｉ　Ｈ，ｓ　、１　／３０ＣＨ２Ｘ　２　）３．７７及
び５．６５Ｃ各２Ｈ，Ｓ、２　／３０ＣＨｓ　Ｘ　２　
）出願人　株式会社上野製薬応用研究所 代理人　弁理士　小　林　正　雄

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、一般式 （式中、Ｒは水素原子又は低級アルコキシ基、Ｗは水素
   ２原子又は酸素原子、Ｘは酸素原子又は低級アルコキシ
   基、Ｙは水素原子、水素２原子、酸素原子、水酸基又は
   低級アルコキシ基、２は水素原子、低級アルコキシ基又
   は低級アルコキシカルボニル基を表わし、１６．１７位
   及び１８．１９位ならびにＷ、Ｘ及びＹとの結合の点線
   は二重結合の存在しうろことを示す）で表わされるヨヒ
   ンバン誘導体。 ２、一般式 （式中、Ｒは水素原子又は低級アルコキシ基、Ａは低級
   アルキル基を示す）で表わされるヨヒンバン誘導体のア
   ルカリ又はアルカリ土類金属化合物をクロロ炭酸低ｉア
   ルキルと反応させることを特徴とする、一般式 Ｏ （式中Ｒ及びＡは前記の意味を有する）で表わされるヨ
   ヒンバン誘導体の製法。