JP2003002887A - １４−メチルシクロペンタデカノリドの製法及び新規中間体 - Google Patents
１４−メチルシクロペンタデカノリドの製法及び新規中間体Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 香料として有用な１４−メチルシクロペンタ
デカノリドを高収率且つ高純度で製造することができる
新規な製法を提供すること。 【解決手段】 ２−メチル−５−ヘキセニル １０−ウ
ンデセニレートをメタセシス反応により閉環し、次いで
水素添加することを特徴とする１４−メチルシクロペン
タデカノリドの製法。
デカノリドを高収率且つ高純度で製造することができる
新規な製法を提供すること。 【解決手段】 ２−メチル−５−ヘキセニル １０−ウ
ンデセニレートをメタセシス反応により閉環し、次いで
水素添加することを特徴とする１４−メチルシクロペン
タデカノリドの製法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、香料として有用な
１４−メチルシクロペンタデカノリドを容易に、高収率
で且つ高純度に製造することができる新規な製法および
該製法において中間で生成する新規な化合物に関する。
１４−メチルシクロペンタデカノリドを容易に、高収率
で且つ高純度に製造することができる新規な製法および
該製法において中間で生成する新規な化合物に関する。
【０００２】
【従来の技術】ムスク系香料は代表的な香料成分であ
り、特徴的な香気を有すばかりでなく、調合香料に加え
ることにより香り全体に深みやまろやかさを与え、長期
間芳香を保たせる保留剤として重要な香料成分である。
り、特徴的な香気を有すばかりでなく、調合香料に加え
ることにより香り全体に深みやまろやかさを与え、長期
間芳香を保たせる保留剤として重要な香料成分である。
【０００３】現在、天然ムスク系香料は入手が困難であ
るため、合成ムスク系香料が使用されている。合成ムス
ク系香料は２つのタイプに大別され、一つは天然ムスク
成分から発見された構造を有する大環状ムスクであり、
もう一つは天然には存在しないがムスク様香気を有する
ニトロムスク、多環状ムスク類であり、これらのニトロ
ムスクや多環状ムスク類は大環状ムスクに比べて安価で
あるため、広く化粧品香料として使用されている。しか
しながら、最近の天然物志向および環境重視の観点から
大環状ムスクの使用が見直されている。
るため、合成ムスク系香料が使用されている。合成ムス
ク系香料は２つのタイプに大別され、一つは天然ムスク
成分から発見された構造を有する大環状ムスクであり、
もう一つは天然には存在しないがムスク様香気を有する
ニトロムスク、多環状ムスク類であり、これらのニトロ
ムスクや多環状ムスク類は大環状ムスクに比べて安価で
あるため、広く化粧品香料として使用されている。しか
しながら、最近の天然物志向および環境重視の観点から
大環状ムスクの使用が見直されている。
【０００４】大環状ムスクの中ではムスコン（３−メチ
ルシクロペンタデカノン）について種々の合成検討がな
され、実用化されている。一方、大環状ラクトンとして
は、例えば、アンゲリカ根油中から見いだされているシ
クロペンタデカノリド（ω−ペンタデカラクトン）、ア
ンブレット種子油中に存在するアンブレットリド（ω−
６−ヘキサデセンラクトン）等が香料素材として利用さ
れ、種々の合成法が提案されている。
ルシクロペンタデカノン）について種々の合成検討がな
され、実用化されている。一方、大環状ラクトンとして
は、例えば、アンゲリカ根油中から見いだされているシ
クロペンタデカノリド（ω−ペンタデカラクトン）、ア
ンブレット種子油中に存在するアンブレットリド（ω−
６−ヘキサデセンラクトン）等が香料素材として利用さ
れ、種々の合成法が提案されている。
【０００５】また、１４−メチルシクロペンタデカノリ
ドの製法としてはムスコンをバイヤービリガー酸化によ
り合成した例（L.Ruzicka DRP511 884,prior.19.6.1928
(1980)[Chem.Abstr.1929,23,P4483]）が知られている。
ドの製法としてはムスコンをバイヤービリガー酸化によ
り合成した例（L.Ruzicka DRP511 884,prior.19.6.1928
(1980)[Chem.Abstr.1929,23,P4483]）が知られている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、良好
なムスク様の香気を有する１４−メチルシクロペンタデ
カノリドを安価な原料を使用して、高収率で、簡便な方
法により且つ工業的に有利に製造する方法および新規中
間体を提供することである。
なムスク様の香気を有する１４−メチルシクロペンタデ
カノリドを安価な原料を使用して、高収率で、簡便な方
法により且つ工業的に有利に製造する方法および新規中
間体を提供することである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】そこで、本発明者らは、
上記の課題を解決するため鋭意検討を行った結果、２−
メチル−５−ヘキセン−１−オールを出発原料として用
い、それを１０−ウンデセン酸でエステル化し、メタセ
シス反応により閉環するという簡便な方法により、高収
率で１４−メチルシクロペンタデカノリドが得られるこ
とを見出し本発明を完成するに至った。
上記の課題を解決するため鋭意検討を行った結果、２−
メチル−５−ヘキセン−１−オールを出発原料として用
い、それを１０−ウンデセン酸でエステル化し、メタセ
シス反応により閉環するという簡便な方法により、高収
率で１４−メチルシクロペンタデカノリドが得られるこ
とを見出し本発明を完成するに至った。
【０００８】かくして、本発明は、下記式（３）
【０００９】
【化６】
【００１０】［式中、★は不斉炭素で、Ｒ体、Ｓ体もし
くはそれらの任意の混合物であることを表す］で示され
る２−メチル−５−ヘキセニル １０−ウンデセニレー
トをメタセシス反応により閉環して下記式（２）
くはそれらの任意の混合物であることを表す］で示され
る２−メチル−５−ヘキセニル １０−ウンデセニレー
トをメタセシス反応により閉環して下記式（２）
【００１１】
【化７】
【００１２】［式中、★は上記と同様の意味を有する］
で示される１４−メチル−１０−シクロペンタデセノリ
ドを得、次いで水素添加することを特徴とする下記式
（１）
で示される１４−メチル−１０−シクロペンタデセノリ
ドを得、次いで水素添加することを特徴とする下記式
（１）
【００１３】
【化８】
【００１４】［式中、★は上記と同様の意味を有する］
で示される１４−メチルシクロペンタデカノリドの製法
を提供するものである。
で示される１４−メチルシクロペンタデカノリドの製法
を提供するものである。
【００１５】上記製法において出発物質として使用され
る上記式（３）の化合物は、例えば、下記式（４）
る上記式（３）の化合物は、例えば、下記式（４）
【００１６】
【化９】
【００１７】［式中、★は前記と同様の意味を有する］
で示される２−メチル−５−ヘキセン−１−オールを１
０−ウンデセン酸でエステル化することにより製造する
ことができる。
で示される２−メチル−５−ヘキセン−１−オールを１
０−ウンデセン酸でエステル化することにより製造する
ことができる。
【００１８】また、本発明は、上記製法において中間で
生成する新規化合物である下記式（２）
生成する新規化合物である下記式（２）
【００１９】
【化１０】
【００２０】［式中、★は前記と同様の意味を有する］
で示される１４−メチル−１０−シクロペンタデセノリ
ドを提供するものである。
で示される１４−メチル−１０−シクロペンタデセノリ
ドを提供するものである。
【００２１】以下、本発明についてさらに詳細に説明す
る。
る。
【００２２】
【発明の実施の形態】本発明の製法に従って式（４）の
化合物から式（２）の化合物を合成する工程を反応式で
示すと、以下のとおりである。
化合物から式（２）の化合物を合成する工程を反応式で
示すと、以下のとおりである。
【００２３】
【化１１】
【００２４】［式中、★は不斉炭素で、Ｒ体、Ｓ体また
はそれらの任意の混合物であることを表わす］ 以下、各工程についてさらに詳細に説明する。第１工程 本工程は、式（４）の２−メチル−５−ヘキセン−１−
オールを有機溶媒中で１０−ウンデセン酸とエステル反
応させることにより式（３）のエステル化合物を製造す
る工程である。
はそれらの任意の混合物であることを表わす］ 以下、各工程についてさらに詳細に説明する。第１工程 本工程は、式（４）の２−メチル−５−ヘキセン−１−
オールを有機溶媒中で１０−ウンデセン酸とエステル反
応させることにより式（３）のエステル化合物を製造す
る工程である。
【００２５】このエステル化反応は、通常、約２０℃〜
約１４０℃、好ましくは約８０℃〜約１２０℃の範囲内
の温度で、約１時間〜約２時間程度で終わらせることが
できる。本発明における１０−ウンデセン酸の使用量
は、特に制限されないが、一般には、式（４）の化合物
１モルあたり約１モル以上、好ましくは約１．２モル〜
約２モルの範囲内とすることができる。この反応は好ま
しくは触媒の存在下で実施される。その際に使用される
触媒としては、例えば、硫酸、塩酸、ｐ−トルエンスル
ホン酸などを挙げることができる。
約１４０℃、好ましくは約８０℃〜約１２０℃の範囲内
の温度で、約１時間〜約２時間程度で終わらせることが
できる。本発明における１０−ウンデセン酸の使用量
は、特に制限されないが、一般には、式（４）の化合物
１モルあたり約１モル以上、好ましくは約１．２モル〜
約２モルの範囲内とすることができる。この反応は好ま
しくは触媒の存在下で実施される。その際に使用される
触媒としては、例えば、硫酸、塩酸、ｐ−トルエンスル
ホン酸などを挙げることができる。
【００２６】また、この反応に用いうる有機溶媒として
は、例えば、テトラヒドロフラン、エーテル、ジメトキ
シエタン、トルエンなどを挙げることができる。これら
の有機溶媒の使用量は、特に制限されないが、通常、式
（４）の化合物１重量部あたり約１〜約１０重量部の範
囲内が好適である。反応終了後、洗浄、抽出、乾燥、蒸
留、カラムクロマトグラフィーなどの通常の分離手段で
適宜に処理することにより、高収率且つ高純度で式
（３）のエステル化合物が得られる。第２工程 本工程は、上記第１工程で得られる式（３）のエステル
化合物をオレフィンメタセシス反応に付すことにより式
（２）の化合物を製造する工程である。
は、例えば、テトラヒドロフラン、エーテル、ジメトキ
シエタン、トルエンなどを挙げることができる。これら
の有機溶媒の使用量は、特に制限されないが、通常、式
（４）の化合物１重量部あたり約１〜約１０重量部の範
囲内が好適である。反応終了後、洗浄、抽出、乾燥、蒸
留、カラムクロマトグラフィーなどの通常の分離手段で
適宜に処理することにより、高収率且つ高純度で式
（３）のエステル化合物が得られる。第２工程 本工程は、上記第１工程で得られる式（３）のエステル
化合物をオレフィンメタセシス反応に付すことにより式
（２）の化合物を製造する工程である。
【００２７】この反応は、通常、約−１０℃〜約１００
℃、好ましくは約４０℃〜約５０℃の範囲内の温度で、
約１時間〜約３時間程度で終わらせることができる。こ
の反応は好ましくは触媒の存在下で実施される。その際
に使用される触媒としては、例えば、下記式（ａ）及び
（ｂ）
℃、好ましくは約４０℃〜約５０℃の範囲内の温度で、
約１時間〜約３時間程度で終わらせることができる。こ
の反応は好ましくは触媒の存在下で実施される。その際
に使用される触媒としては、例えば、下記式（ａ）及び
（ｂ）
【００２８】
【化１２】
【００２９】［式中、Ｃｙはシクロヘキシルを表す］で
示される化合物を挙げることができ、これらの触媒の使
用量は厳密に制約されるものではないが、一般には、式
（３）の化合物１モルあたり約０．０１モル〜約０．１
０モルの範囲内が好適である。また、この反応は通常有
機溶媒中で実施され、使用しうる有機溶媒としては、例
えば、テトラヒドロフラン、エーテル、ジメトキシエタ
ン、トルエン、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭
素などが上げられる。これらの有機溶媒の使用量は、特
に制限されないが、通常、式（３）の化合物１重量部あ
たり約１０〜約１０００重量部の範囲内が好適である。
反応終了後、洗浄、抽出、乾燥、蒸留、カラムクロマト
グラフィーなどの通常の分離手段で適宜処理することに
より、高収率且つ高純度で式（２）の化合物が得られ
る。かくして得られる式（２）の１４−メチル−１０−
シクロペンタデセノリドは、従来の文献に未載の新規化
合物であり、ムスク様の香気特性を有し、香気付与剤と
しても有用である。第３工程 本工程は、上記第２工程で得られる式（２）の化合物の
環中の二重結合を水素化することにより、目的とする式
（１）の化合物を製造する工程である。
示される化合物を挙げることができ、これらの触媒の使
用量は厳密に制約されるものではないが、一般には、式
（３）の化合物１モルあたり約０．０１モル〜約０．１
０モルの範囲内が好適である。また、この反応は通常有
機溶媒中で実施され、使用しうる有機溶媒としては、例
えば、テトラヒドロフラン、エーテル、ジメトキシエタ
ン、トルエン、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭
素などが上げられる。これらの有機溶媒の使用量は、特
に制限されないが、通常、式（３）の化合物１重量部あ
たり約１０〜約１０００重量部の範囲内が好適である。
反応終了後、洗浄、抽出、乾燥、蒸留、カラムクロマト
グラフィーなどの通常の分離手段で適宜処理することに
より、高収率且つ高純度で式（２）の化合物が得られ
る。かくして得られる式（２）の１４−メチル−１０−
シクロペンタデセノリドは、従来の文献に未載の新規化
合物であり、ムスク様の香気特性を有し、香気付与剤と
しても有用である。第３工程 本工程は、上記第２工程で得られる式（２）の化合物の
環中の二重結合を水素化することにより、目的とする式
（１）の化合物を製造する工程である。
【００３０】この水素化反応は、一般に、約１０℃〜約
１００℃、好ましくは約３０℃〜約５０℃の範囲内の温
度で、約１時間〜約３時間程度で終わらせることができ
る。この反応は通常触媒の存在下で実施される。その際
に使用される触媒としては、例えば、Ｐｄ−Ｃ、Ｒｕ−
Ｃ、Ｐｔ−Ｃ、Ｐｄ−アルミナ、Ｒｕ−アルミナなどを
挙げることができ、その使用量は式（２）の化合物の重
量を基準として、約２重量％〜約１０重量％の範囲内と
することができる。また、上記反応は好ましくは有機溶
媒中で行われるが、この反応に用いうる有機溶媒として
は、例えば、テトラヒドロフラン、エーテル、ジメトキ
シエタン、トルエン、エタノール、ヘキサンなどが挙げ
られる。これらの有機溶媒の使用量は、特に制限されな
いが、通常、式（２）の化合物１重量部あたり約１〜約
１０重量部の範囲内が好適である。反応終了後、洗浄、
抽出、乾燥、蒸留、カラムクロマトグラフィーなどの通
常の分離手段で適宜処理することにより、目的とする式
（１）の化合物を高収率且つ高純度で得ることができ
る。
１００℃、好ましくは約３０℃〜約５０℃の範囲内の温
度で、約１時間〜約３時間程度で終わらせることができ
る。この反応は通常触媒の存在下で実施される。その際
に使用される触媒としては、例えば、Ｐｄ−Ｃ、Ｒｕ−
Ｃ、Ｐｔ−Ｃ、Ｐｄ−アルミナ、Ｒｕ−アルミナなどを
挙げることができ、その使用量は式（２）の化合物の重
量を基準として、約２重量％〜約１０重量％の範囲内と
することができる。また、上記反応は好ましくは有機溶
媒中で行われるが、この反応に用いうる有機溶媒として
は、例えば、テトラヒドロフラン、エーテル、ジメトキ
シエタン、トルエン、エタノール、ヘキサンなどが挙げ
られる。これらの有機溶媒の使用量は、特に制限されな
いが、通常、式（２）の化合物１重量部あたり約１〜約
１０重量部の範囲内が好適である。反応終了後、洗浄、
抽出、乾燥、蒸留、カラムクロマトグラフィーなどの通
常の分離手段で適宜処理することにより、目的とする式
（１）の化合物を高収率且つ高純度で得ることができ
る。
【００３１】なお、式（１）〜（４）の化合物は、分子
内に不斉炭素原子を１個有しており、（Ｒ）−体、
（Ｓ）−体又はこれらの任意の混合物の形態で存在する
が、本発明においてはこれらのいずれもが包含される。
内に不斉炭素原子を１個有しており、（Ｒ）−体、
（Ｓ）−体又はこれらの任意の混合物の形態で存在する
が、本発明においてはこれらのいずれもが包含される。
【００３２】前記反応式Ａで示される式（１）の化合物
の製法において、出発物質として使用される式（４）の
化合物の光学活性体の１つである（Ｒ）−体（下記反応
式Ｂにおける式（４）−１の化合物）は、例えば、下記
反応式Ｂに示す合成ルートによって容易に製造すること
ができる。各反応工程の詳細については、後述の参考例
１〜３を参照されたい。
の製法において、出発物質として使用される式（４）の
化合物の光学活性体の１つである（Ｒ）−体（下記反応
式Ｂにおける式（４）−１の化合物）は、例えば、下記
反応式Ｂに示す合成ルートによって容易に製造すること
ができる。各反応工程の詳細については、後述の参考例
１〜３を参照されたい。
【００３３】
【化１３】
【００３４】［式中、Ｔｓはトシル基を表し、ＴＨＰは
テトラヒドロピラニル基を表す］ また、式（４）の化合物の光学活性体のもう１つである
（Ｓ）−体（下記反応式Ｃにおける式（４）−２の化合
物）は、例えば、下記反応式Ｃに示す合成ルートによっ
て容易に製造することができる。各工程の詳細について
は、後述の参考例４〜７を参照されたい。
テトラヒドロピラニル基を表す］ また、式（４）の化合物の光学活性体のもう１つである
（Ｓ）−体（下記反応式Ｃにおける式（４）−２の化合
物）は、例えば、下記反応式Ｃに示す合成ルートによっ
て容易に製造することができる。各工程の詳細について
は、後述の参考例４〜７を参照されたい。
【００３５】
【化１４】
【００３６】［式中、Ｂｎはベンジルを表し、Ｔｓおよ
びＴＨＰは上記と同様の意味を有する］ 以下、本発明を実施例および参考例により具体的に説明
する。
びＴＨＰは上記と同様の意味を有する］ 以下、本発明を実施例および参考例により具体的に説明
する。
【００３７】
【実施例】参考例１：（Ｓ）−３−テトラヒドロピラニ
ロキシ−２−メチルプロピル ｐ−トルエンスルフォネ
ート［式（６）−１の化合物］の合成 ２００ｍｌフラスコ中に（Ｒ）−３−テトラヒドロピラ
ニロキシ−２−メチルプロパノール［式（７）−１の化
合物］８．７ｇ（５０ｍｍｏｌ）と乾燥ピリジン６０ｍ
ｌを仕込み氷水冷する。ｐ−ＴｓＣｌ１２．４ｇ（６５
ｍｍｏｌ）を少しづつ加えて、さらに０℃で３時間攪拌
する。反応液を冷蔵庫中で一夜放置し、氷水中に注ぎエ
ーテル抽出する。有機層を水洗、硫酸銅水洗、重曹水
洗、ブライン洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥す
る。エーテル層をエバポレーターで濃縮し、得られた粗
生成物１５．６ｇをシリカゲルカラムクロマトにて精製
し（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝９：１）、式（６）−
１の化合物１５．１ｇ（収率：９２．０％）を得た。
ロキシ−２−メチルプロピル ｐ−トルエンスルフォネ
ート［式（６）−１の化合物］の合成 ２００ｍｌフラスコ中に（Ｒ）−３−テトラヒドロピラ
ニロキシ−２−メチルプロパノール［式（７）−１の化
合物］８．７ｇ（５０ｍｍｏｌ）と乾燥ピリジン６０ｍ
ｌを仕込み氷水冷する。ｐ−ＴｓＣｌ１２．４ｇ（６５
ｍｍｏｌ）を少しづつ加えて、さらに０℃で３時間攪拌
する。反応液を冷蔵庫中で一夜放置し、氷水中に注ぎエ
ーテル抽出する。有機層を水洗、硫酸銅水洗、重曹水
洗、ブライン洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥す
る。エーテル層をエバポレーターで濃縮し、得られた粗
生成物１５．６ｇをシリカゲルカラムクロマトにて精製
し（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝９：１）、式（６）−
１の化合物１５．１ｇ（収率：９２．０％）を得た。
【００３８】参考例２：（Ｒ）−１−テトラヒドロピラ
ニロキシ−２−メチル−５−ヘキセン［式（５）−１］
の合成 ２００ｍｌフラスコ中に（Ｓ）−３−テトラヒドロピラ
ニロキシ−２−メチルプロピル ｐ−トルエンスルフオ
ネート［式（６）−１の化合物］１４．０ｇ（４３ｍｍ
ｏｌ）と乾燥テトラヒドロフラン４０ｍｌを仕込み、−
７８℃に冷却する。同温で１．５Ｎアリルマグネシウム
クロリド／テトラヒドロフラン８７ｍｌ（０．１３ｍｏ
ｌ）及び０．１ＮＬｉ2ＣｕＣｌ4／テトラヒドロフラン
４ｍｌ（０．４ｍｍｏｌ）を加え、徐々に０℃まで昇温
する。０℃で３時間攪拌後、さらに室温で１６時間攪拌
する。反応液を塩化アンモニウム水に注ぎ、エーテル抽
出する。有機層をブライン洗浄し、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥する。エーテル層をエバポレーターで濃縮し、
得られた粗生成物１０．５ｇをシリカゲルカラムクロマ
トにて精製し（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝１９：
１）、式（５）−１の化合物７．７ｇ（収率：８２．６
％）を得た。
ニロキシ−２−メチル−５−ヘキセン［式（５）−１］
の合成 ２００ｍｌフラスコ中に（Ｓ）−３−テトラヒドロピラ
ニロキシ−２−メチルプロピル ｐ−トルエンスルフオ
ネート［式（６）−１の化合物］１４．０ｇ（４３ｍｍ
ｏｌ）と乾燥テトラヒドロフラン４０ｍｌを仕込み、−
７８℃に冷却する。同温で１．５Ｎアリルマグネシウム
クロリド／テトラヒドロフラン８７ｍｌ（０．１３ｍｏ
ｌ）及び０．１ＮＬｉ2ＣｕＣｌ4／テトラヒドロフラン
４ｍｌ（０．４ｍｍｏｌ）を加え、徐々に０℃まで昇温
する。０℃で３時間攪拌後、さらに室温で１６時間攪拌
する。反応液を塩化アンモニウム水に注ぎ、エーテル抽
出する。有機層をブライン洗浄し、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥する。エーテル層をエバポレーターで濃縮し、
得られた粗生成物１０．５ｇをシリカゲルカラムクロマ
トにて精製し（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝１９：
１）、式（５）−１の化合物７．７ｇ（収率：８２．６
％）を得た。
【００３９】参考例３：（Ｒ）−２−メチル−５−ヘキ
セン−１−オール［式（４）−１の化合物］の合成 ２００ｍｌフラスコ中に（Ｒ）−１−テトラヒドロピラ
ニロキシ−２−メチル−５−ヘキセン［式（５）−１の
化合物］７．６ｇ（３８ｍｍｏｌ）、メタノール８０ｍ
ｌ及びｐ−ＴｓＯＨ０．０４ｇ（０．２ｍｍｏｌ）を仕
込み、室温下に５時間攪拌する。反応液にソーダ灰１０
０ｍｇを加えてクエンチングし、そのまま減圧下に蒸留
することにより、式（４）−１の化合物３．４ｇ（収
率：７８．８％）を得た。
セン−１−オール［式（４）−１の化合物］の合成 ２００ｍｌフラスコ中に（Ｒ）−１−テトラヒドロピラ
ニロキシ−２−メチル−５−ヘキセン［式（５）−１の
化合物］７．６ｇ（３８ｍｍｏｌ）、メタノール８０ｍ
ｌ及びｐ−ＴｓＯＨ０．０４ｇ（０．２ｍｍｏｌ）を仕
込み、室温下に５時間攪拌する。反応液にソーダ灰１０
０ｍｇを加えてクエンチングし、そのまま減圧下に蒸留
することにより、式（４）−１の化合物３．４ｇ（収
率：７８．８％）を得た。
【００４０】参考例４：（Ｓ）−３−ベンジロキシ−２
−メチルプロパノール［式（７）−２の化合物］の合成 ５００ｍｌフラスコ中に６０％ＮａＨ３．９ｇ（９８ｍ
ｍｏｌ）、テトラヒドロフラン２００ｍｌとＤＭＦ９０
ｍｌを仕込み加熱する。６０〜７０℃で（Ｒ）−３−テ
トラヒドロピラニロキシ−２−メチルプロパノール［式
（７）−１の化合物］１３．０ｇ（７５ｍｍｏｌ）のテ
トラヒドロフラン溶液３０ｍｌを滴下し、滴下後同温度
下に１時間攪拌する。次にベンジルブロミド１４．１ｇ
（８２ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液３０ｍｌを
滴下し、さらに１時間攪拌する。反応液を冷却後、メタ
ノール９．５ｍｌを加えてクエンチングし、反応液を減
圧下に濃縮する。残渣をエーテルで希釈し、水、ブライ
ンで洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。エーテ
ルをエバポレーターで濃縮し、粗生成物２２．０ｇを得
る。粗生成物にメタノール２００ｍｌを加えて希釈し、
さらにｐ−ＴｓＯＨ１．０ｇを加えて室温下に１６時間
攪拌する。反応液に重曹粉末２ｇを加え、溶媒回収後、
水を加えエーテル抽出した。ブライン洗浄後、減圧蒸留
し、式（７）−２の化合物１２．５ｇを得た。
−メチルプロパノール［式（７）−２の化合物］の合成 ５００ｍｌフラスコ中に６０％ＮａＨ３．９ｇ（９８ｍ
ｍｏｌ）、テトラヒドロフラン２００ｍｌとＤＭＦ９０
ｍｌを仕込み加熱する。６０〜７０℃で（Ｒ）−３−テ
トラヒドロピラニロキシ−２−メチルプロパノール［式
（７）−１の化合物］１３．０ｇ（７５ｍｍｏｌ）のテ
トラヒドロフラン溶液３０ｍｌを滴下し、滴下後同温度
下に１時間攪拌する。次にベンジルブロミド１４．１ｇ
（８２ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液３０ｍｌを
滴下し、さらに１時間攪拌する。反応液を冷却後、メタ
ノール９．５ｍｌを加えてクエンチングし、反応液を減
圧下に濃縮する。残渣をエーテルで希釈し、水、ブライ
ンで洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。エーテ
ルをエバポレーターで濃縮し、粗生成物２２．０ｇを得
る。粗生成物にメタノール２００ｍｌを加えて希釈し、
さらにｐ−ＴｓＯＨ１．０ｇを加えて室温下に１６時間
攪拌する。反応液に重曹粉末２ｇを加え、溶媒回収後、
水を加えエーテル抽出した。ブライン洗浄後、減圧蒸留
し、式（７）−２の化合物１２．５ｇを得た。
【００４１】参考例５：（Ｒ）−３−ベンジロキシ−２
−メチルプロピル ｐ−トルエンスルフォネート［式
（６）−２］の合成 ２００ｍｌフラスコ中に（Ｓ）−３−ベンジロキシ−２
−メチルプロパノール［式（７）−２の化合物］９．０
ｇ（５０ｍｍｏｌ）と乾燥ピリジン６０ｍｌを仕込み、
氷水冷する。ｐ−ＴｓＣｌ１２．４ｇ（６５ｍｍｏｌ）
を少しずつ加えて、さらに０℃で３時間攪拌する。反応
液を冷蔵庫中で一夜放置し、氷水中に注ぎエーテル抽出
する。有機層を水洗、硫酸銅水洗、重曹水洗、ブライン
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。エーテルを
エバポレーターで濃縮し得られた粗生成物１５．０ｇを
シリカゲルカラムクロマトにて精製し、式（６）−２の
化合物１４．３ｇ（収率：８５．５％）を得た。
−メチルプロピル ｐ−トルエンスルフォネート［式
（６）−２］の合成 ２００ｍｌフラスコ中に（Ｓ）−３−ベンジロキシ−２
−メチルプロパノール［式（７）−２の化合物］９．０
ｇ（５０ｍｍｏｌ）と乾燥ピリジン６０ｍｌを仕込み、
氷水冷する。ｐ−ＴｓＣｌ１２．４ｇ（６５ｍｍｏｌ）
を少しずつ加えて、さらに０℃で３時間攪拌する。反応
液を冷蔵庫中で一夜放置し、氷水中に注ぎエーテル抽出
する。有機層を水洗、硫酸銅水洗、重曹水洗、ブライン
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。エーテルを
エバポレーターで濃縮し得られた粗生成物１５．０ｇを
シリカゲルカラムクロマトにて精製し、式（６）−２の
化合物１４．３ｇ（収率：８５．５％）を得た。
【００４２】参考例６：（Ｓ）−６−ベンジロキシ−５
−メチル−１−ヘキセン［式（５）−２の化合物］の合
成 ２００ｍｌフラスコ中に（Ｒ）−３−ベンジロキシ−２
−メチルプロピル ｐ−トルエンスルフォネート［式
（６）−２の化合物］１３．４ｇ（４０ｍｍｏｌ）およ
び乾燥テトラヒドロフラン４０ｍｌを仕込み、−７８℃
に冷却する。同温で１．５Ｎアリルマグネシウムクロリ
ド／テトラヒドロフラン８０ｍｌ（０．１２ｍｏｌ）及
び０．１ＮＬｉ2ＣｕＣｌ4／テトラヒドロフラン４ｍｌ
（０．４ｍｍｏｌ）を加え、徐々に０℃まで昇温する。
０℃で３時間攪拌後、さらに室温で１６時間攪拌する。
反応液を塩化アンモニウム水に注ぎ、エーテル抽出す
る。有機層をブライン洗浄し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥する。エーテル層をエバポレーターで濃縮し、得ら
れた粗生成物１１．０ｇをシリカゲルカラムクロマトに
て精製し（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝１９：１）、式
（５）−２の化合物７．５ｇ（収率：９１．８％）を得
た。
−メチル−１−ヘキセン［式（５）−２の化合物］の合
成 ２００ｍｌフラスコ中に（Ｒ）−３−ベンジロキシ−２
−メチルプロピル ｐ−トルエンスルフォネート［式
（６）−２の化合物］１３．４ｇ（４０ｍｍｏｌ）およ
び乾燥テトラヒドロフラン４０ｍｌを仕込み、−７８℃
に冷却する。同温で１．５Ｎアリルマグネシウムクロリ
ド／テトラヒドロフラン８０ｍｌ（０．１２ｍｏｌ）及
び０．１ＮＬｉ2ＣｕＣｌ4／テトラヒドロフラン４ｍｌ
（０．４ｍｍｏｌ）を加え、徐々に０℃まで昇温する。
０℃で３時間攪拌後、さらに室温で１６時間攪拌する。
反応液を塩化アンモニウム水に注ぎ、エーテル抽出す
る。有機層をブライン洗浄し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥する。エーテル層をエバポレーターで濃縮し、得ら
れた粗生成物１１．０ｇをシリカゲルカラムクロマトに
て精製し（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝１９：１）、式
（５）−２の化合物７．５ｇ（収率：９１．８％）を得
た。
【００４３】参考例７：（Ｓ）−２−メチル−５−ヘキ
セン−１−オール［式（４）−２の化合物］の合成 １ｌフラスコ中に液体アンモニア３２０ｍｌを仕込み、
（Ｓ）−６−ベンジロキシ−５−メチル−１−ヘキセン
［式（５）−２の化合物］６．９ｇ（３４ｍｍｏｌ）の
乾燥テトラヒドロフラン６４ｍｌ溶液を加える。−５０
〜−４０℃で金属ナトリウム２．９ｇ（０．１２ｍｏ
ｌ）を少しずつ加え、さらに−５０℃で１時間攪拌す
る。反応液に粉末塩化アンモニウム９．２ｇを加えてク
エンチングし、昇温してアンモニアを飛ばす。残渣に塩
化アンモニウム水溶液を加え、エーテル抽出する。有機
層をブライン洗浄した後エバポレーターで濃縮し、得ら
れた粗生成物４．２ｇを減圧下に蒸留することにより、
式（４）−２の化合物２．８ｇ（収率：７５．０％）を
得た。
セン−１−オール［式（４）−２の化合物］の合成 １ｌフラスコ中に液体アンモニア３２０ｍｌを仕込み、
（Ｓ）−６−ベンジロキシ−５−メチル−１−ヘキセン
［式（５）−２の化合物］６．９ｇ（３４ｍｍｏｌ）の
乾燥テトラヒドロフラン６４ｍｌ溶液を加える。−５０
〜−４０℃で金属ナトリウム２．９ｇ（０．１２ｍｏ
ｌ）を少しずつ加え、さらに−５０℃で１時間攪拌す
る。反応液に粉末塩化アンモニウム９．２ｇを加えてク
エンチングし、昇温してアンモニアを飛ばす。残渣に塩
化アンモニウム水溶液を加え、エーテル抽出する。有機
層をブライン洗浄した後エバポレーターで濃縮し、得ら
れた粗生成物４．２ｇを減圧下に蒸留することにより、
式（４）−２の化合物２．８ｇ（収率：７５．０％）を
得た。
【００４４】実施例１：（Ｒ）−２−メチル−５−ヘキ
セニル １０−ウンデセニレートおよび（Ｓ）−２−メ
チル−５−ヘキセニル １０−ウンデセニレート［式
（３）の化合物］の合成（第１工程） ５０ｍｌフラスコ中に（Ｒ）−２−メチル−５−ヘキセ
ン−１−オール［式（４）−１の化合物］１．０ｇ
（８．８ｍｍｏｌ）、１０−ウンデセン酸１．８ｇ
（９．６ｍｍｏｌ）、ｐ−ＴｓＯＨを少量及びシクロヘ
キサン２０ｍｌを加え、共沸脱水しながら反応を行っ
た。水の留出がなくなったところで反応をやめ、ソーダ
灰水洗浄、ブライン洗浄後に溶媒回収し、減圧下に蒸留
して（Ｒ）−２−メチル−４−ペンテニル １０−ウン
デセニレート［（Ｒ）−体の式（３）の化合物］１．８
ｇ（収率：７２．９％）を得た。
セニル １０−ウンデセニレートおよび（Ｓ）−２−メ
チル−５−ヘキセニル １０−ウンデセニレート［式
（３）の化合物］の合成（第１工程） ５０ｍｌフラスコ中に（Ｒ）−２−メチル−５−ヘキセ
ン−１−オール［式（４）−１の化合物］１．０ｇ
（８．８ｍｍｏｌ）、１０−ウンデセン酸１．８ｇ
（９．６ｍｍｏｌ）、ｐ−ＴｓＯＨを少量及びシクロヘ
キサン２０ｍｌを加え、共沸脱水しながら反応を行っ
た。水の留出がなくなったところで反応をやめ、ソーダ
灰水洗浄、ブライン洗浄後に溶媒回収し、減圧下に蒸留
して（Ｒ）−２−メチル−４−ペンテニル １０−ウン
デセニレート［（Ｒ）−体の式（３）の化合物］１．８
ｇ（収率：７２．９％）を得た。
【００４５】上記の実施例において、（Ｒ）−２−メチ
ル−５−ヘキセン−１−オール［式（４）−１の化合
物］に変えて（Ｓ）−２−メチル−５−ヘキセン−１−
オール［式（４）−２の化合物］を使用した以外は同様
に処理して（Ｓ）−２−メチル−５−ヘキセニル １０
−ウンデセニレート［（Ｓ）−体の式（３）の化合物］
を得た。
ル−５−ヘキセン−１−オール［式（４）−１の化合
物］に変えて（Ｓ）−２−メチル−５−ヘキセン−１−
オール［式（４）−２の化合物］を使用した以外は同様
に処理して（Ｓ）−２−メチル−５−ヘキセニル １０
−ウンデセニレート［（Ｓ）−体の式（３）の化合物］
を得た。
【００４６】実施例２：（Ｒ）−１４−メチル−１０−
シクロペンタデセノリドおよび（Ｓ）−１４−メチル−
１０−シクロペンタデセノリド［式（２）の化合物］の
合成 （第２工程）１０００ｍｌフラスコ中に、Ｒｕ−ｃａ
ｔ．０．１７ｇ（０．２１ｍｍｏｌ）を仕込み、系内を
アルゴン置換する。（Ｒ）−２−メチル−５−ヘキセニ
ル １０−ウンデセニレート［（Ｒ）−体の式（３）の
化合物］１．０ｇ（３．６ｍｍｏｌ）及び塩化メチレン
１０００ｍｌ溶液を加え、４１℃で４時間反応した。減
圧下に溶媒を回収後、クロマトにより精製し、（Ｒ）−
１４−メチル−１０−シクロペンタデセノリド［（Ｒ）
−体の式（２）の化合物］０．７０ｇ（収率：７８．２
％）を得た。 ［α］20 D ＝−６．０６（ｃ＝０．７５８，ＭｅＯＨ）1 Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＴＭＳ，ＣＤＣｌ3）δ
（ｐｐｍ）５．３３〜５．３０（２Ｈ，ｍ），４．０７
〜４．０２（１Ｈ，ｍ），３．８５〜３．８１（１Ｈ，
ｍ），２．３７〜２．３１（２Ｈ，ｍ），２．０５〜
１．１８（１９Ｈ，ｍ），０．９３（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝
６．６Ｈｚ） 上記の実施例において、（Ｒ）−２−メチル−５−ヘキ
セニル １０−ウンデセニレート［（Ｒ）−体の式
（３）の化合物］に変えて（Ｓ）−２−メチル−５−ヘ
キセニル １０−ウンデセニレート［（Ｓ）−体の式
（３）の化合物］を用いた以外は上記と同様にして
（Ｓ）−１４−メチル−１０−シクロペンタデセノリド
［（Ｓ）−体の式（２）の化合物］０．７４ｇ（収率：
８２．５％）を得た。 ［α］20 D ＝１０．６４（ｃ＝１．６１６，ＭｅＯＨ）1 Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＴＭＳ，ＣＤＣｌ3）δ
（ｐｐｍ）５．３３〜５．３０（２Ｈ，ｍ），４．０７
〜４．０２（１Ｈ，ｍ），３．８５〜３．８１（１Ｈ，
ｍ），２．３７〜２．３１（２Ｈ，ｍ），２．０５〜
１．１８（１９Ｈ，ｍ），０．９３（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝
６．６Ｈｚ） 実施例３：（Ｒ）−１４−メチルシクロペンタデカノリ
ドおよび（Ｓ）−１４−メチルシクロペンタデカノリド
［式（１）の化合物］の合成（第３工程） ５０ｍｌオートクレーブに（Ｒ）−１４−メチル−１０
−シクロペンタデセノリド［（Ｒ）−体の式（２）の化
合物］０．１５８ｇ（０．６ｍｍｏｌ）、Ｐｄ−Ｃ０．
０１ｇ（Ｗｅｔ ｔｙｐｅ）及びｎ−ヘキサン２ｍｌを
仕込み、４０℃、水素圧０．４９Ｍｐａで反応した。反
応終了後、触媒を濾過しクロマトにより精製し、（Ｒ）
−１４−メチルシクロペンタデカノリド［（Ｒ）−体の
式（１）の化合物］０．１５５ｇ（収率：９７．３％）
を得た。 ［α］20 D ＝１０．６７（ｃ＝０．７１２，ＭｅＯＨ）1 Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＴＭＳ，ＣＤＣｌ3）δ
（ｐｐｍ）４．０９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．０Ｈｚ，
３．９Ｈｚ），３．７８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．０Ｈ
ｚ，８．３Ｈｚ），２．３３（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．６Ｈ
ｚ），１．８３〜１．０８（２３Ｈ，ｍ），０．９１
（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ） 上記実施例において、（Ｒ）−１４−メチル−１０−シ
クロペンタデセノリド［（Ｒ）−体の式（２）の化合
物］に変えて（Ｓ）−１４−メチル−１０−シクロペン
タデセノリド［（Ｓ）−体の式（２）の化合物］を用い
た以外は同様にして、（Ｓ）−１４−メチルシクロペン
タデカノリド［（Ｓ）−体の式（１）の化合物］０．１
６５ｇ（収率：９６．９％）を得た。 ［α］20 D ＝−１５．９２（ｃ＝０．７６６，ＭｅＯ
Ｈ）1 Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＴＭＳ，ＣＤＣｌ3）δ
（ｐｐｍ）４．０９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．０Ｈｚ，
３．９Ｈｚ），３．７８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．０Ｈ
ｚ，８．３Ｈｚ），２．３３（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．６Ｈ
ｚ），１．８３〜１．０８（２３Ｈ，ｍ），０．９１
（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ）
シクロペンタデセノリドおよび（Ｓ）−１４−メチル−
１０−シクロペンタデセノリド［式（２）の化合物］の
合成 （第２工程）１０００ｍｌフラスコ中に、Ｒｕ−ｃａ
ｔ．０．１７ｇ（０．２１ｍｍｏｌ）を仕込み、系内を
アルゴン置換する。（Ｒ）−２−メチル−５−ヘキセニ
ル １０−ウンデセニレート［（Ｒ）−体の式（３）の
化合物］１．０ｇ（３．６ｍｍｏｌ）及び塩化メチレン
１０００ｍｌ溶液を加え、４１℃で４時間反応した。減
圧下に溶媒を回収後、クロマトにより精製し、（Ｒ）−
１４−メチル−１０−シクロペンタデセノリド［（Ｒ）
−体の式（２）の化合物］０．７０ｇ（収率：７８．２
％）を得た。 ［α］20 D ＝−６．０６（ｃ＝０．７５８，ＭｅＯＨ）1 Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＴＭＳ，ＣＤＣｌ3）δ
（ｐｐｍ）５．３３〜５．３０（２Ｈ，ｍ），４．０７
〜４．０２（１Ｈ，ｍ），３．８５〜３．８１（１Ｈ，
ｍ），２．３７〜２．３１（２Ｈ，ｍ），２．０５〜
１．１８（１９Ｈ，ｍ），０．９３（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝
６．６Ｈｚ） 上記の実施例において、（Ｒ）−２−メチル−５−ヘキ
セニル １０−ウンデセニレート［（Ｒ）−体の式
（３）の化合物］に変えて（Ｓ）−２−メチル−５−ヘ
キセニル １０−ウンデセニレート［（Ｓ）−体の式
（３）の化合物］を用いた以外は上記と同様にして
（Ｓ）−１４−メチル−１０−シクロペンタデセノリド
［（Ｓ）−体の式（２）の化合物］０．７４ｇ（収率：
８２．５％）を得た。 ［α］20 D ＝１０．６４（ｃ＝１．６１６，ＭｅＯＨ）1 Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＴＭＳ，ＣＤＣｌ3）δ
（ｐｐｍ）５．３３〜５．３０（２Ｈ，ｍ），４．０７
〜４．０２（１Ｈ，ｍ），３．８５〜３．８１（１Ｈ，
ｍ），２．３７〜２．３１（２Ｈ，ｍ），２．０５〜
１．１８（１９Ｈ，ｍ），０．９３（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝
６．６Ｈｚ） 実施例３：（Ｒ）−１４−メチルシクロペンタデカノリ
ドおよび（Ｓ）−１４−メチルシクロペンタデカノリド
［式（１）の化合物］の合成（第３工程） ５０ｍｌオートクレーブに（Ｒ）−１４−メチル−１０
−シクロペンタデセノリド［（Ｒ）−体の式（２）の化
合物］０．１５８ｇ（０．６ｍｍｏｌ）、Ｐｄ−Ｃ０．
０１ｇ（Ｗｅｔ ｔｙｐｅ）及びｎ−ヘキサン２ｍｌを
仕込み、４０℃、水素圧０．４９Ｍｐａで反応した。反
応終了後、触媒を濾過しクロマトにより精製し、（Ｒ）
−１４−メチルシクロペンタデカノリド［（Ｒ）−体の
式（１）の化合物］０．１５５ｇ（収率：９７．３％）
を得た。 ［α］20 D ＝１０．６７（ｃ＝０．７１２，ＭｅＯＨ）1 Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＴＭＳ，ＣＤＣｌ3）δ
（ｐｐｍ）４．０９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．０Ｈｚ，
３．９Ｈｚ），３．７８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．０Ｈ
ｚ，８．３Ｈｚ），２．３３（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．６Ｈ
ｚ），１．８３〜１．０８（２３Ｈ，ｍ），０．９１
（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ） 上記実施例において、（Ｒ）−１４−メチル−１０−シ
クロペンタデセノリド［（Ｒ）−体の式（２）の化合
物］に変えて（Ｓ）−１４−メチル−１０−シクロペン
タデセノリド［（Ｓ）−体の式（２）の化合物］を用い
た以外は同様にして、（Ｓ）−１４−メチルシクロペン
タデカノリド［（Ｓ）−体の式（１）の化合物］０．１
６５ｇ（収率：９６．９％）を得た。 ［α］20 D ＝−１５．９２（ｃ＝０．７６６，ＭｅＯ
Ｈ）1 Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＴＭＳ，ＣＤＣｌ3）δ
（ｐｐｍ）４．０９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．０Ｈｚ，
３．９Ｈｚ），３．７８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．０Ｈ
ｚ，８．３Ｈｚ），２．３３（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．６Ｈ
ｚ），１．８３〜１．０８（２３Ｈ，ｍ），０．９１
（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ）
【００４７】
【発明の効果】本発明によれば、香料として有用な１４
−メチルシクロペンタデカノリドの新規な製法が提供さ
れ、該ラクトン類を高収率、高純度で且つ簡便に製造す
ることができるため極めて有用である。
−メチルシクロペンタデカノリドの新規な製法が提供さ
れ、該ラクトン類を高収率、高純度で且つ簡便に製造す
ることができるため極めて有用である。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 北原 武
東京都目黒区三田２−６−17−213
Ｆターム(参考） 4C062 JJ70
4H006 AA02 AC48 AC81
4H039 CA12 CA66 CB10 CD10 CD30
Claims (3)
- 【請求項１】 下記式（３） 【化１】 ［式中、★は不斉炭素で、Ｒ体、Ｓ体またはそれらの任
意の混合物であることを表す］で示される２−メチル−
５−ヘキセニル １０−ウンデセニレートをメタセシス
反応により閉環して下記式（２） 【化２】 ［式中、★は上記と同様の意味を有する］で示される１
４−メチル−１０−シクロペンタデセノリドを得、次い
で水素添加することを特徴とする下記式（１） 【化３】 ［式中、★は上記と同様の意味を有する］で示される１
４−メチルシクロペンタデカノリドの製法。 - 【請求項２】 式（３）の２−メチル−５−ヘキセニル
１０−ウンデセニレートを、下記式（４） 【化４】 ［式中、★は不斉炭素で、Ｒ体、Ｓ体またはそれらの任
意の混合物であることを表す］で示される２−メチル−
５−ヘキセン−１−オールを１０−ウンデセン酸でエス
テル化することにより製造する請求項１に記載の方法。 - 【請求項３】 下記式（２） 【化５】 ［式中、★は不斉炭素で、Ｒ体、Ｓ体またはそれらの任
意の混合物であることを表す］で示される１４−メチル
−１０−シクロペンタデセノリド。
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|---|---|---|---|---|
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-
2001
- 2001-06-21 JP JP2001188295A patent/JP2003002887A/ja active Pending
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|---|---|---|---|---|
| JP2000053675A (ja) * | 1998-08-11 | 2000-02-22 | Takasago Internatl Corp | 大環状ラクトン化合物、その製造法及び該化合物を含有する香料組成物 |
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