JP2675569B2 - 2,3−ジヒドロベンゾフラン誘導体の製造方法 - Google Patents

2,3−ジヒドロベンゾフラン誘導体の製造方法

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JP2675569B2 JP5798788A JP5798788A JP2675569B2 JP 2675569 B2 JP2675569 B2 JP 2675569B2 JP 5798788 A JP5798788 A JP 5798788A JP 5798788 A JP5798788 A JP 5798788A JP 2675569 B2 JP2675569 B2 JP 2675569B2
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【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、2,3−ジヒドロベンゾフラン誘導体の製造
方法に関する。
〔発明の背景〕
下記構造式(I)を有する2,3−ジヒドロベンゾフラ
ン誘導体(α−トコフラン)は、ビタミンEに類似した
化合物であり、近年その作用が注目されている。
しかしながら、このα−トコフランの工業的な製造方
法は知られていない。
〔発明の構成及び効果〕
そこで、本発明者等は、α−トコフランを合成的に得
る工業的な方法について長年鋭意検討を重ねた結果、次
のような方法によりα−トコフランが得られることを見
出し、本発明を完成した。
即ち本発明は、次の方法によりα−トコフランを製造
する方法である。
各工程について、詳述すれば以下のとおりである。
(第一工程) 本工程は、式(II)で表される2,5−ジメチルハイド
ロキノンモノアセテートとスルフィド(III)を〔2.3〕
シグマトロピー転位反応により縮合する工程である。具
体的には、例えば化合物(II)を塩化メチレンに溶解さ
せ、次いで化合物(III)及びs−コリジンを加え、約
−40℃に冷却し、これに塩化スルフィニルを滴下し、反
応を行う。
(第二工程) 第一工程で得られた化合物(IV)を環化せしめて化合
物(V)とする工程である。具体的には、例えば濃塩酸
を加えて反応を行うことにより、化合物(V)が得られ
る。
(第三工程) ベンゾフラン環の5位の水酸基の保護基を脱離する工
程である。通常は、例えば炭酸水素ナトリウムを加えて
脱離せしめる。
(第四工程) ベンゾフラン環の6位の位置にN,N−ジメチルチオカ
ルバミルチオメチル基を導入する工程である。具体的に
は第三工程で得られた化合物(VI)をエタノールなどの
有機溶媒に溶解した後、二硫化炭素、ホルマリン、ジメ
チルアミンを加えて反応を行い、化合物(VII)を得る
ことができる。
(第五工程) 第四工程で得られた化合物(VII)を脱硫し、ベンゾ
フラン環の6位をメチル基とする工程である。具体的に
は、例えば、常法によりラネーニッケルを加えて反応を
行い、目的化合物であるα−トコフランが得られる。
本発明方法に用いられる上述の化合物(III),(I
V),(V),(VI),(VII)はいずれも新規化合物で
ある。
上述した本発明方法は、α−トコフランの工業的な方
法であり、従ってその出発物質の価値は高い。
また、本発明で原料として用いるスルフィド(III)
は、例えば次の方法によって得ることができる。
(第一工程) 式(VIII)で表されるフィトンをメチルトリフェニル
ホスホニウムアイオダイド及びn−ブチルリチウムと反
応せしめ、化合物(IX)とする。
(第二工程) 得られた化合物(IX)に、例えばm−クロロ過安息香
酸を加えて反応せしめ、エポキシ体(X)を得る。
(第三工程) 得られたエポキシ体(X)に、イソプロピルメルカプ
タンを例えば水酸化ナトリウムの存在下に反応せしめ、
化合物(XI)を得る。
(第四工程) 化合物(XI)を例えば無水酢酸と反応せしめ、酢酸エ
ステル(III)とする工程である。
更に、本発明において、一方の出発物質として用いる
化合物(II)は、次のような方法で製造することができ
る。
(第一工程) 2,5−ジメチルベンゾキノンを無水酢酸を加え、これ
に亜鉛末を加え、次いで酢酸ナトリウムを加えて反応せ
しめて、化合物(XIII)とする。
(第二工程) ジアセテートの一つを加水分解して、モノアテートと
する工程であり、例えばアンモニア水を加えて反応せし
めることにより得ることができる。
〔実施例〕
次に、本発明の具体的な実施例について以下に掲げる
が、本発明がそれらのみに限定されることはないことは
言うまでもない。
実施例1 2,5−ジメチルハイドロキノンジアセテートの合成 2,5−ジメチルベンゾキノン(22.6g,116mmol)を無水
酢酸(170ml)に加え、90℃に加熱した。これに亜鉛末
(50g)を100℃前後の温度を保ちながら少量ずつ40分間
で加えた。次に酢酸ナトリウム(13.7g,160mmol)を徐
々に加え、更に30分間95℃の加熱を続けた。室温まで冷
却させた後、反応混合物を濾過し、濾別した固形成分は
温めたアセトンで十分に洗浄し、濾液とアセトンの洗浄
液を氷水に注いだ。発生した結晶を濾別し、エタノール
中で再結晶させることにより、上記標題の化合物(31.9
g,86%)を得た。
融点;140〜142℃ (文献値;融点133〜134℃) IR(KBr)cm-1; 1730,1500,1005 NMR(CDCL3)δ; 2.08(6H,s),2.21(6H,s),6.80(2H,s) 実施例2 2,5−ジメチルハイドロキノンモノアセテート 窒素気流下メタノール(250ml)に実施例1で得られ
た化合物(6.67g,30mmol)を溶解させ、アンモニア水
(14N,2.4ml)を加えて室温で2時間撹拌した。反応混
合物はそのまま溶媒留去し、SiO2ゲルカラム(200g,CH2
Cl2)により分離、更にベンゼン:シクロヘキサン(10m
l:100ml)混合溶媒中で再結晶させることにより、上記
標題の化合物(3.17g,59%)を得た。
融点;121〜124℃ (文献値;融点117℃) IR(KBr)cm-1; 3400,1720,855 NMR(CDCL3)δ; 2.01(3H,s),2.07(3H,s),2.25(3H,s),5.80(1H,
s),6.33(1H,s),6.61(1H,s) 実施例3 2−(2−アセトキシ−1−イソプロピルチオ−2−メ
チルプロピル)−3,6−ジメチルハイドロキノン−4−
アセテート 予め高温で乾燥させた30mlの三ツ口フラスコを窒素を
流しながら室温まで冷却させ、実施例2で得られた化合
物(1.35g,7.5ml)を塩化メチレン(12ml)に溶解さ
せ、2−アセトキシ−2−メチルプロピルイソプロピル
スルフィド(0.83g,5mmol)、s−コリジン(0.80ml,6m
mol)を加えた。混合物をドライアイス−メタノールバ
スで−40℃まで冷却し、塩化スルフリル(0.48ml,6mmo
l)を滴下し、同温度で10分間撹拌し、予め5℃に冷却
したトリエチルアミン(7.0ml,50mmol)に注ぎ、10分間
撹拌した。反応液を水にあけ、有機層を分離、水層をク
ロロホルムで抽出し、有機層と抽出液を合わせて無水硫
酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒留去し、SiO2ゲルカ
ラム(80g,5%酢酸エチル/ヘキサン)により精製し
て、上記標題の化合物(1.12g,61%)を得た。
IR(neat)cm-1; 3180,1730,910 NMR(CDCL3)δ; (6H,each d,J=6.3Hz),1.47(3H,s),1.67(3H,s),
2.05(3H,s),2.17(3H,s),2.20(3H,s),2.29(3H,
s),2.50(1H,Triplet,J=6.3Hz),5.07(1H,s),6.80
(1H,s),8.46(1H,s) 実施例4 5−アセトキシ−3−イソプロピルチオ−2,2,4,7−テ
トラメチル−2,3−ジヒドロベンゾフラン 実施例3で得られた化合物(1.02g,2.8mmol)を塩化
メチレン30mlに溶解させ、濃塩酸(10ml)を加え、11時
間撹拌した。反応液を水にあけ、有機層を分離し、水層
をクロロホルムで抽出した。有機層と抽出液を合わせて
飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び水で洗浄し、無水硫
酸マグネシウムで乾燥後、溶媒留去し、SiO2ゲルカラム
(60g,10%酢酸エチル/ヘキサン)で精製することによ
り、上記標題の化合物(0.60g,70%)を得た。
IR(neat)cm-1; 1730,1200,1060 NMR(CDCL3)δ; 1.08,1.31(6H,each d,J=7Hz),1.38(3H,s),1.68(3
H,s),2.15(3H,s),2.18(3H,s),2.28(3H,s),2.64
(1H,Triplet,J=7Hz),4.03(1H,s),6.69(1H,s) 実施例5 5−ヒドロキシ−3−イソプロピルチオ−2,2,4,7−テ
トラメチル−2,3−ジヒドロベンゾフラン 実施例4で得られた化合物(1.44g,4.7mmol)をメタ
ノール(100ml)に溶解させ、炭酸カリウム(1.9g)を
水(10ml)に溶かして加え、30分間撹拌した。反応液を
水にあけ、クロロホルムで抽出し、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥して、溶媒留去し、SiO2ゲルカラム(120g,10
%酢酸エチル/ヘキサン)で精製し、上記標題の化合物
(1.16g,94%)を得た。
融点;107〜108℃ IR(KBr)cm-1; 3400,1230,1060 NMR(CDCL3)δ; 1.09,1.30(6H,each d,J=6.6Hz),1.34(3H,s),1.67
(3H,s),2.10(3H,s),2.26(3H,s),2.75(1H,Triple
t,J=6.7Hz),3.97(1H,s),4.41(1H,broad),6.46(1
H,s) 実施例6 6−(N,N−ジメチルチオカルバミルチオメチル)−5
−ヒドロキシ−3−イソプロピルチオ−2,2,4,7−テト
ラメチル−2,3−ジヒドロベンゾフラン 実施例5で得られた化合物(0.638g,2.4mmol)を、エ
タノール(10ml)に溶解させ、二硫化炭素(0.42ml,7.2
mmol)、ホルマリン(0.53ml,7.2mmol)、ジメチルアミ
ン50%水溶液(0.65g,7.2mmol)をこの順序で加え、室
温で40時間撹拌し、その後2時間加熱還流した。反応混
合物はそのまま溶媒留去し、SiO2ゲルカラム(95g,CH2C
l2)により精製し、上記標題の化合物(0.913g,97%)
を得た。
融点;128〜131℃ IR(KBr)cm-1; 3200,1140,660 NMR(CDCL3)δ; 1.11,1.31(6H,each d,J=6.8Hz),1.33(3H,s),1.65
(3H,s),2.14(3H,s),2.26(3H,s),2.78(Triplet,J
=6.8Hz),3.34(3H,s),3.56(3H,s),3.96(1H,s),
4.71(2H,s),6.79(1H,s) 実施例7 5−ヒドロキシ−2,2,4,6,7−ペンタメチル−2,3−ジヒ
ドロベンゾフラン ラネーニッケル(W4,4.4g)のエタノール混合液(10m
l)に実施例6で得られた化合物(0.219g,0.55mmol)の
エタノール溶液(10ml)を加え、室温で3時間撹拌し、
ラネーニッケルを濾別して溶媒留去し、SiO2ゲルカラム
(20g,CH2Cl2)で精製することにより、上記標題の化合
物(0.080g,71%)を得た。
融点;128〜129℃ (文献値;融点122〜123℃) IR(KBr)cm-1; 3400,1440,1205,1010 NMR(CDCL3)δ; 1.44(6H,s),2.10(9H,s),2.91(2H,s),4.18(1H,
s) 実施例8 2,6,10,14−テトラメチル−1−ペンタデカン 予め蒸留して無水にしたテトラヒドロフラン(THF)
(70ml)にメチルトリフェニルホスホニウムアイオダイ
ド(30.3g,75mmol)を加え、これにn−ブチルリチウム
(1.6M n−ヘキサン溶液47ml,75mmol)を滴加して室温
で2.5時間撹拌した。これにフィトン(13.4g,50mmol)
のTHF(50ml)溶液を滴加し、室温で15時間撹拌の後、
希塩酸(2N,40ml)を滴加し、混合物を水にあけた。こ
れに沈澱が溶解するまでアセトンを加え、ヘキサンで抽
出し、抽出液を水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥、溶媒留去して、SiO2ゲルカラム(200g,n−ヘキ
サン)で精製することにより、上記標題の化合物(12.1
g,91%)を得た。
IR(neat)cm-1; 1640,1455,880 NMR(CDCL3)δ; 0.89(12H,d,J=6.0Hz),1.05〜1.63(19H,m),1.71(3
H,s),1.82〜2.22(2H,m),4.71(2H,s) 実施例9 2,6,10,14−テトラメチル−1,2−エポキシペンタデカン 実施例8で得られた化合物(20.0g,75mmol)のCH2Cl2
(170ml)溶液にm−クロロ過安息香酸(14.2g,83mmo
l)を徐々に加え、室温で5時間撹拌し、更にm−クロ
ロ過安息香酸(11.7g,68mol)を加えて1.5時間撹拌し
た。反応液に水酸化ナトリウム(6.5g)の水(60ml)溶
液を滴加し、30分間撹拌した。反応液を水に注ぎ、有機
層を分離し、水層をクロロホルムで抽出、有機層と抽出
液を合わせて水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで
乾燥、溶媒留去してSiO2ゲルカラム(2365g,5%酢酸エ
チル/ヘキサン)により精製して、上記標題の化合物
(20.6g,97%)を得た。
IR(neat)cm-1; 900,790 NMR(CDCL3)δ; 0.87(12H,d,J=6.3Hz),0.97〜1.82(24H,m),2.56(2
H,s) 実施例10 2−ヒドロキシ−2,6,10,14−テトラメチルペンタデシ
ルイソプロピルスルフィド メタノール(60ml)に水酸化ナトリウム(3.0g,74mmo
l)を加え、更に、イソプロピルメルカプタン(12.6ml,
135mmol)を加えて、水酸化ナトリウムが完全に溶解す
るまで撹拌し、実施例9で得られた化合物(19.1g,68mm
ol)のメタノール(130ml)溶液を2.5時間かけて滴加し
た後、30分間還流させた。反応混合物を水酸化ナトリウ
ム(3.0g)の水(70ml)溶液にあけクロロホルムで抽
出、抽出液を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾
燥、溶媒留去してSiO2ゲルカラム(300g,5%酢酸エチル
/ヘキサン)で精製することにより、上記標題の化合物
23.0g,95%)を得た。
IR(neat)cm-1; 3400,1150,920 NMR(CDCL3)δ; 0.86(12H,d,J=5.4Hz),1.02〜2.30(30H,m),2.38(1
H,s),2.66(2H,s),2.79(1H,Triplet,J=6.9Hz) 実施例11 2−アセトキシ−2,6,10,14−テトラメチルペンタデシ
ルイソプロピルスルフィド 実施例10で得られた化合物(15.6g,44mmol)を無水酢
酸(30ml)と混合し、塩化メチレン(13ml)を加えた。
混合物にp−トルエンスルホン酸(0.41g)を加え2時
間撹拌の後、水にあけクロロホルムで抽出、抽出液を飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥、溶媒留去し、SiO2ゲルカラム(500g,5%
酢酸エチル/ヘキサン)で精製して、上記標題の化合物
(15.1g,87%)を得た。
IR(neat)cm-1; 1725,1010,935 NMR(CDCL3)δ; 0.86(12H,d,J=6.4Hz),0.95〜1.41(24H,m),1.48(3
H,s),1.60〜1.91(3H,m),1.99(3H,s),2.89(1H,Tri
plet,J=5.4Hz),3.02(1H,s),3.03(1H,s) 実施例12 2−(2−アセトキシ−1−イソプロピルチオ−2,6,1
0,14−テトラメチルペンタデシル)−3,6−ジメチルハ
イドロキノン−4−アセテート 予め高温で乾燥させた30mlの三ツ口フラスコを窒素を
流しながら室温まで冷却させ、実施例2で得られた化合
物(1.11g,6.2mmol)を塩化メチレン(12ml)に溶解さ
せ、実施例11で得られた化合物(1.65g,4.1mmol)、s
−コリジン(0.65ml,4.9mmol)を加えた。混合物をドラ
イアイス−メタノールバスで−40℃まで冷却し、塩化ス
ルフリル(0.40ml,4.9mmol)を滴下し、同温度で10分間
撹拌した。反応液を2N塩酸70mlにあけ、有機層を分離、
水素をクロロホルムで抽出し、有機層と水層を合わせて
飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び水で洗浄し、無水硫
酸マグネシウムで乾燥、溶媒留去してSiO2ゲルカラム
(120g,10%酢酸エチル/ヘキサン)で精製することに
より、上記標題の化合物(1.89g,80%)を得た。尚、こ
の化合物は4種類の異性体として得られた。
IR(neat)cm-1; 3200,1725,1195,870 NMR(CDCL3)δ; 0.86(12H,d,J=6.4Hz),0.93〜1.87(30H,m),2.07
(3H,s),2.15(3H,s),2.19(3H,s),2.29(3H,s),2.
45(1H,Triplet,J=6.6Hz),5.17(1H,s),6.78(1H,
s),8.45(1H,s) 0.86(12H,d,J=6.1Hz),0.97〜1.73(30H,m),1.98
(3H,s),2.19(6H,s),2.29(3H,s),2.60((1H,Trip
let,J=6.3Hz),5.29(1H,s),6.77(1H,s),8.70(1H,
s) 0.87(12H,d,J=6.1Hz),0.95〜1.18(30H,m),2.01
(3H,s),2.23(3H,s),2.29(3H,s),2.34((3H,s),
2.60(1H,Triplet,J=7.5Hz),5.11(1H,s),5.93(1H,
s),6.74(1H,s) 0.86(12H,d,J=6.4Hz),0.93〜1.87(30H,m),2.03
(3H,s),2.21(3H,s),2.29(3H,s),2.36((3H,s),
2.66(1H,Triplet,J=7.3Hz),5.20(1H,s),5.39(1H,
s),6.72(1H,s) 実施例13 5−アセトキシ−3−イソプロピルチオ−2,4,7−トリ
メチル−2−(4,8,12−トリメチルトリデシル)−2,3
−ジヒドロベンゾフラン 実施例12で得られた化合物(4.41g,7.6mmol)の塩化
メチレン(50ml)溶液に濃塩酸(15ml)を加え室温で20
時間撹拌した。反応液を水にあけ、有機層を分離、水層
をクロロホルムで抽出し、有機層と抽出液を無水硫酸マ
グネシウムで乾燥し、溶媒留去し、SiO2ゲルカラム(70
g,5%酢酸エチル/ヘキサン)で精製することにより、
上記標題の化合物(3.19g,81%)を得た。
IR(neat)cm-1; 1755,1200,1060 NMR(CDCL3)δ; 0.86(12H,d,J=6.1Hz),0.97〜1.93(30H,m),2.12(3
H,s),2.16(3H,s),2.28(3H,s),2.59(1H,Triplet,J
=6.4Hz),4.01(1H,s),6.63(1H,s) 実施例14 5−ヒドロキシ−3−イソプロピルチオ−2,4,7−トリ
メチル−2−(4,8,12−トリメチルトリデシル)−2,3
−ジヒドロベンゾフラン 実施例13で得られた化合物(0.334g,0.64mmol)のメ
タノール(20ml)溶液に炭酸水素ナトリウム(0.32g)
の水(2ml)溶液を加え、1.5時間撹拌した。反応液を水
にあけ、クロロホルムで抽出し、無水硫酸マグネシウム
で乾燥、溶媒留去してSiO2ゲルカラム(23g,5%酢酸エ
チル/ヘキサン)で精製して、上記標題の化合物(0.27
1g,88%)を得た。この化合物は二種類の異性体として
得られた。
IR(neat)cm-1; 3350,1230,1055 NMR(CDCL3)δ; 0.86(12H,d,J=6.1Hz),0.93〜1.56(27H,m),1.63
(3H,s),2.09(3H,s),2.25(3H,s),2.74(1H,Triple
t,J=6.7Hz),3.99(1H,s),4.53(1H,broad),6.44(1
H,s) 0.87(12H,d,J=6.1Hz),0.92〜1.95(30H,m),2.10
(3H,s),2.25(3H,s),2.61(1H,Triplet,J=6.8Hz),
3.98(1H,s),4.29(1H,s),6.45(1H,s) 実施例15 6−(N,N−ジメチルチオカルバミルチオメチル)−5
−ヒドロキシ−3−イソプロピルチオ−2,4,7−トリメ
チル−2−(4,8,12−トリメチルトリデシル)−2,3−
ジヒドロベンゾフラン 実施例14で得られた化合物(2.28g,4.8mmol)のエタ
ノール(35ml)溶液に二硫化炭素(1.43ml,24mmol)、
ホルマリン(1.80ml,24mmol)、ジメチルアミン水溶液
(50%,2.16g,24mmol)をこの順に加え、室温で1時間
撹拌した後、13時間加熱還流を続けた。反応液はそのま
ま溶媒留去し、SiO2ゲルカラム(70g,20%酢酸エチル/
ヘキサン)で精製することにより、上記標題の化合物
(2.76g,94%)を得た。
IR(neat)cm-1; 3200,1140,660 NMR(CDCL3)δ; 0.86(12H,d,J=6.1Hz),0.95〜1.56(27H,m),1.62(3
H,s),2.14(3H,s),2.26(3H,s),2.41〜3.04(1H,
m),3.35(3H,s),3.57(3H,s),3.99(1H,s),4.71(2
H,s),6.77(1H,s) 実施例16 5−ヒドロキシ−2,4,6,7−テトラメチル−2−(4,8,1
2−トリメチルトリデシル)−2,3−ジヒドロベンゾフラ
ン(α−トコフラン) ラネーニッケル(W4,20g)のエタノール(10ml)混合
液に実施例15で得られた化合物(1.02g,1.7mmol)のエ
タノール(20ml)溶液を加え、室温で1時間撹拌し、更
に温度を36〜38℃に保って4時間撹拌した。ラネーニッ
ケルを濾別して溶媒留去し、SiO2ゲルカラム(20g,CH2C
l2)で精製することにより、上記標題の化合物(0.527
g,76%)を得た。
IR(neat)cm-1; 3400,1205,1065 NMR(CDCL3)δ; 0.86(12H,d,J=6.1Hz),0.95〜1.77(24H,m),2.10(9
H,s),2.86(1H,s),2.91(1H,s),4.13(1H,s)

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】次の化学構造式 で示されるベンゾフラン誘導体を、脱硫反応せしめるこ
    とを特徴とする次の式(I)で表される2,3−ジヒドロ
    ベンゾフラン誘導体の製造方法。
  2. 【請求項2】脱硫反応をラネーニッケルによって行う特
    許請求の範囲第1項記載の2,3−ジヒドロベンゾフラン
    誘導体の製造方法。
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