JPS604831B2 - 4(3h)−キナゾリノン誘導体の製法 - Google Patents

4(3h)−キナゾリノン誘導体の製法

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JPS604831B2
JPS604831B2 JP12536175A JP12536175A JPS604831B2 JP S604831 B2 JPS604831 B2 JP S604831B2 JP 12536175 A JP12536175 A JP 12536175A JP 12536175 A JP12536175 A JP 12536175A JP S604831 B2 JPS604831 B2 JP S604831B2
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JP
Japan
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producing
solution
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benzene
dissolved
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JP12536175A
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益男 小泉
泰 村上
育敏 松浦
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Chugai Pharmaceutical Co Ltd
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Chugai Pharmaceutical Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、4(虫H)ーキナゾリノン誘導体の製法に関
するものである。
従釆、4(細)‐キナゾIJノン誘導体の製法は数多く
知られているがいずれも満足すべきものではない。
例えばザ・ケミストリー・オブ・へ7ロサ「イクリツク
・コンパウンズ(TheChemisUyofHete
rocyclicCompounds)74〜143頁
、1967年に記載の方法は反応温度が120〜200
午0と非常に高いため操作の面において工業的製法とは
いい難い。
また、他の文献等に記載の方法はいずれも製造工程が長
かったり、あるいは収率が非常に悪い等の大きな欠点が
あった。本発明者らは、これらの欠点に鑑み4(細)−
キナゾリノンを基本骨格とする類縁化合物を求め種々研
究した結果、反応温度も低く、その上容易でかつ収率の
よい工業的に優位な方法を見出し、さらに研究を重ね本
発明を完成した。
すなわち、本発明は一般式 (式中×,X′は同一でも異なってもよい水素原子、ハ
ロゲン原子、ニトロ基または低級アルキル基を示す)で
表わされる化合物にチオニルハラィドを反応させ、次い
で一般式RCON比(m) (式中Rはアルキル基、スチリル基または低級アルコキ
シ基、ニトロ基またはハロゲン原子で層換されたフェニ
ル基を示す)で表わされる化合物を反応せしめることを
特徴とする一般式(式中×,X′およびRは前記と同一
の意味を示す)で表わされる4(細)‐キナゾリノン誘
導体の製法である。
本発明を実施するに際しては、チオニルハラィドを無極
性溶媒、例えばベンゼン「トルェン、キシレン、ジクロ
ロメタン、クロロホルムまたは四塩化炭素等に溶解し「
該溶液に化合物0を添加する。
次いで該溶液を1〜5時間、好ましくは2〜3時間還流
したのち残存するチオニルハラィドおよび溶媒を減圧蟹
去する。得られる残糟を無極性溶媒に溶解し、さらに化
合物mを無極性溶媒に溶解した溶液に0〜2000、好
ましくは5〜100○で10〜6び分間、好ましくは1
0〜40分間要して滴下する。得られた溶液を室温〜7
0q0にて1〜6時間麓拝すると粗生成物が析出し、こ
れを炉取後有機溶媒または水あるいはこれらの混合溶媒
より再結晶すると目的化合物1が得られる。このように
して得られる化合物1は殺菌剤、毅ダニ剤、抗炎症剤等
の医薬品として、また、その合成中間体として有用であ
る。
次に実施例を挙げて説明する。
実施例 1 チオニルクロライド5夕をベンゼン10の上に溶解し、
該溶液に2−アミノ安息香酸2.8夕を氷冷下徐々に添
加し2時間還流したのち、ベンゼンおよび残部のチオニ
ルクロラィドを減圧留去する。
残港をテトラヒドロフラン15机上に溶解し、オルソェ
トキシベンズアミド3.3夕をクロロホルム20の【に
溶解した溶液に縄梓下5〜10q0で2び分間で滴下す
る。得られた溶液を室温にて6時間縄拝し、析出する結
晶を炉取し乾燥すると粗結晶を4.8タ得る。この粗結
晶を70%メタノールより再結晶すると無色針状晶の2
−(2′ェトキシフェニル)−4(汎)‐キナゾ1′ノ
ンを得る。(収率90%)、融点183〜184午O元
素分析値:C,6日,4N202として○ H N 理論値燐 72.17 5.30 10.52実測値(
多) 72.11 5.10 10.50実施例 2チ
オニルクロラィド3夕をベンゼン7地に溶解し、該溶液
に2−アミノー5ークロロ安息香酸1.722を氷冷下
徐々に添加し、3時間還流したのちベンゼンおよび残部
のチオニルクロラィドを減圧留去する。
残澄をベンゼン10の‘に溶解し、メタニトロベンズア
ミド1.7夕をベンゼン15の‘に溶解した溶液に濃拝
下10〜1500で3び分姿して滴下する。得られた溶
液を室温で8時間燈拝し、析出する結晶を炉取し乾燥す
ると粗結晶を2.4タ得る。この粗結晶をジメチルスル
ホキサィド−水混合溶媒より再結晶すると無色針状晶の
6−クロロ−2‐(3−ニトロフェニル)‐4(汎)−
キナゾリノンを得る。(収率80%)、融点320つ0
元素分析値:C,4日8N303C夕として○ H N
理論値鰍) 55.74 2.67 13.93実測値
脇 55.37 2.54 13.74実施例 3チ
オニルクロラィド6夕をベンゼン15の上に溶解し、該
溶液に2−アミノ−5−メチル安息香酸3.Mを氷冷下
徐々に添加し、2時間還流したのちベンゼンおよび残部
のチオニルクロラィドを減圧留去する。
浅漬をテトラヒドロフラン15の‘に溶解し、ケィ皮酸
アミド2.9夕をテトラヒドロフラン30奴に溶解した
溶液に蝿梓下5〜1oo0で20分要して滴下する。得
られた溶液を室温で5時間濁拝し、析出する結晶を炉取
し乾燥すると粗結晶を3.8多得る。この粗結晶をジメ
チルスルホキサィド−水混合溶媒より再結晶すると無色
針状晶の2−スチリルー6一4(9H)ーキナゾリノン
を得る。(収率73%)、融点275〜2770元素分
析値:C.7日,4N20として○ H N 理論値協 77.84 5.38 10.68実測値
係) 77.93 5.13 10.49実施例 4〜
12実施例3と同様に処理して次表に示す化合物を得る

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中X,X′は同一でも異なつてもよい水素原子、ハ
    ロゲン原子、ニトロ基または低級アルキル基を示す)で
    表わされる化合物にチオニルハライドを反応させ、次い
    で一般式RCONH_2 (式中Rはアルキル基、スチリル基または置換フエニル
    基を示す)で表わされる化合物を反応せしめることを特
    徴とする一般式▲数式、化学式、表等があります▼ (式中X,X′およびRは前記と同一の意味を示す)で
    表わされる4(3H)−キナゾリノン誘導体の製法。
JP12536175A 1975-10-20 1975-10-20 4(3h)−キナゾリノン誘導体の製法 Expired JPS604831B2 (ja)

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