JPS6047278B2 - セフアレキシンの精製方法 - Google Patents
セフアレキシンの精製方法Info
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- JPS6047278B2 JPS6047278B2 JP1877875A JP1877875A JPS6047278B2 JP S6047278 B2 JPS6047278 B2 JP S6047278B2 JP 1877875 A JP1877875 A JP 1877875A JP 1877875 A JP1877875 A JP 1877875A JP S6047278 B2 JPS6047278 B2 JP S6047278B2
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- cephalexin
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- dimethylformamide
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明はセフアレキシンの新規な精製方法に関する。
さらに詳細に述べれば、不純物と共にセフアレキシンを
含有する水溶液、特に結晶化廃母液のごとき不純物を多
量に含有するセフアレキシン水溶液を非イオン性ハイポ
ーラスポリマー樹脂、例えばタイヤイオンＨＰ系樹脂（
三菱化成工業株式会社製）あるいはアンパーライト油系
樹脂（口ーム・アンド・ハース社製）、に通してセフア
レキシンを樹脂に吸着させ、この吸着後に樹脂を水で洗
浄し又は洗浄することなく樹脂をセフアレキシンの溶出
を惹起しない程度の低濃度の親水性有機溶剤を含む親水
性有機溶剤の水溶液て洗浄し、これにより樹脂に吸着し
た不純物を除去し、その後に、この洗浄した樹脂から吸
着したセフアレキシンを親水性有機溶剤の水溶液により
溶出し、該溶出液にＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミドを添
加し、溶出液から該有機溶剤及び水を蒸留により除去し
て濃縮しながら溶出液中のＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド濃度を増大することにより、あるいはフＮ、Ｎ−ジメ
チルホルムアミドの水溶液よりなる溶出剤により溶出し
た場合はそのまま（但しＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド
を添加しても差支えない）溶出液から水を溜去し濃縮し
て溶出液中のＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド濃度を増大
するこクとによりセフアレキシンを晶出させ、次いでセ
フアレキシン結晶を回収することによつて、セフアレキ
シンの精製を簡便、高能率で行い得ることを本発明者は
知見した。
含有する水溶液、特に結晶化廃母液のごとき不純物を多
量に含有するセフアレキシン水溶液を非イオン性ハイポ
ーラスポリマー樹脂、例えばタイヤイオンＨＰ系樹脂（
三菱化成工業株式会社製）あるいはアンパーライト油系
樹脂（口ーム・アンド・ハース社製）、に通してセフア
レキシンを樹脂に吸着させ、この吸着後に樹脂を水で洗
浄し又は洗浄することなく樹脂をセフアレキシンの溶出
を惹起しない程度の低濃度の親水性有機溶剤を含む親水
性有機溶剤の水溶液て洗浄し、これにより樹脂に吸着し
た不純物を除去し、その後に、この洗浄した樹脂から吸
着したセフアレキシンを親水性有機溶剤の水溶液により
溶出し、該溶出液にＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミドを添
加し、溶出液から該有機溶剤及び水を蒸留により除去し
て濃縮しながら溶出液中のＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド濃度を増大することにより、あるいはフＮ、Ｎ−ジメ
チルホルムアミドの水溶液よりなる溶出剤により溶出し
た場合はそのまま（但しＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド
を添加しても差支えない）溶出液から水を溜去し濃縮し
て溶出液中のＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド濃度を増大
するこクとによりセフアレキシンを晶出させ、次いでセ
フアレキシン結晶を回収することによつて、セフアレキ
シンの精製を簡便、高能率で行い得ることを本発明者は
知見した。
従って、本発明の要旨とするところは、不純物’５を含
有するセフアレキシンの水溶液を非イオン性ハイポーラ
スポリマー樹脂に通過させ、この樹脂をセフアレキシン
の溶出を惹起しない程度の低濃度の親水性有機溶剤を含
む親水性有機溶剤の水溶液で洗浄して、樹脂に吸着され
た不純物を除去し、この洗浄した樹脂に吸着したセフア
レキシンを親水性有機溶剤の水溶液よりなる溶出剤によ
り溶出し、得られた溶出液にＮ，Ｎ−ジメチルホルムア
ミドを加え、該溶出液から該有機溶剤及び水を蒸留によ
り除去して濃縮しながらＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド
濃度を増大させることにより、あるいは溶出剤としてＮ
，Ｎ−ジメチルホルムアミドの水溶液を用いた場合はＮ
，Ｎ−ジメチルホルムアミドを添加することなく又は添
加して溶出液から水を留去し濃縮しながらＮ，Ｎ−ジメ
チルホルムアミド濃度を増大させることにより、セフア
レキシンを晶出させ、次にセフアレキシン結晶を回収す
ることを特徴とするセフアレキシンの精製方法にある。
有するセフアレキシンの水溶液を非イオン性ハイポーラ
スポリマー樹脂に通過させ、この樹脂をセフアレキシン
の溶出を惹起しない程度の低濃度の親水性有機溶剤を含
む親水性有機溶剤の水溶液で洗浄して、樹脂に吸着され
た不純物を除去し、この洗浄した樹脂に吸着したセフア
レキシンを親水性有機溶剤の水溶液よりなる溶出剤によ
り溶出し、得られた溶出液にＮ，Ｎ−ジメチルホルムア
ミドを加え、該溶出液から該有機溶剤及び水を蒸留によ
り除去して濃縮しながらＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド
濃度を増大させることにより、あるいは溶出剤としてＮ
，Ｎ−ジメチルホルムアミドの水溶液を用いた場合はＮ
，Ｎ−ジメチルホルムアミドを添加することなく又は添
加して溶出液から水を留去し濃縮しながらＮ，Ｎ−ジメ
チルホルムアミド濃度を増大させることにより、セフア
レキシンを晶出させ、次にセフアレキシン結晶を回収す
ることを特徴とするセフアレキシンの精製方法にある。
通常、７−アミノデスアセトキシセフアロスポラン酸（
７−ＡＤＣＡ）とＤ−フェニルグリシンを出発原料とし
て合成されたセフアレキシンは、その水溶液から等電点
結晶化あるいはアセトニトリル（特公昭４６−１４４５
７号、特開昭４６−２５２２号公報、参照）、メタノー
ル（特公昭４９−４０２３７号公報参照）と接触させる
ことにより結晶化する方法により回収されるが、その収
率は低く多量のセフアレキシンが結晶化廃母液中に残留
する。又、不純，物を含有するセフアレキシン溶液を活
性炭と接触せしめ、セフアレキシンを吸着させ、溶出す
ることにより精製し、等電点結晶化収率を向上せしめる
方法（特開昭４９−１３１９５号公報参照）も、結晶化
廃母液中にかなりの量のセフアレキシンが残留ｊする。
本発明によれば、簡便な手段で、しかも非常に高収率で
セフアレキシンを高純度結晶として回収することが出来
るのて簡便に高能率で精製を達成てき、しかも特開昭４
７−１８８９涛公報て述べられ３ている様なセフアレキ
シンの錯化合物を不利に形成することもない。本発明の
方法の実施に当つては、まずセフアレキシンの水溶液例
えば、７ＡＤＣＡとＤ−フェニルグリシンを出発原料と
し、化学的あるいは酵素化４（学的方法により合成させ
たセフアレキシンの水溶液、あるいは該水溶液より等電
点結晶化法により結晶化した結晶化廃母液のごとく不純
物を多量に含有するセフアレキシンの水溶液を弱酸性、
好ましくはＰＨ４〜５に調整し、この水溶液を、これら
のセフアレキシン含量の１ｙに対して７５〜２００ｍ１
１好ましくは１００ｍ１の非イオン性ハイポーラスポリ
マー樹脂を充填した塔に通過させてセフアレ７キシンを
吸着させる。
７−ＡＤＣＡ）とＤ−フェニルグリシンを出発原料とし
て合成されたセフアレキシンは、その水溶液から等電点
結晶化あるいはアセトニトリル（特公昭４６−１４４５
７号、特開昭４６−２５２２号公報、参照）、メタノー
ル（特公昭４９−４０２３７号公報参照）と接触させる
ことにより結晶化する方法により回収されるが、その収
率は低く多量のセフアレキシンが結晶化廃母液中に残留
する。又、不純，物を含有するセフアレキシン溶液を活
性炭と接触せしめ、セフアレキシンを吸着させ、溶出す
ることにより精製し、等電点結晶化収率を向上せしめる
方法（特開昭４９−１３１９５号公報参照）も、結晶化
廃母液中にかなりの量のセフアレキシンが残留ｊする。
本発明によれば、簡便な手段で、しかも非常に高収率で
セフアレキシンを高純度結晶として回収することが出来
るのて簡便に高能率で精製を達成てき、しかも特開昭４
７−１８８９涛公報て述べられ３ている様なセフアレキ
シンの錯化合物を不利に形成することもない。本発明の
方法の実施に当つては、まずセフアレキシンの水溶液例
えば、７ＡＤＣＡとＤ−フェニルグリシンを出発原料と
し、化学的あるいは酵素化４（学的方法により合成させ
たセフアレキシンの水溶液、あるいは該水溶液より等電
点結晶化法により結晶化した結晶化廃母液のごとく不純
物を多量に含有するセフアレキシンの水溶液を弱酸性、
好ましくはＰＨ４〜５に調整し、この水溶液を、これら
のセフアレキシン含量の１ｙに対して７５〜２００ｍ１
１好ましくは１００ｍ１の非イオン性ハイポーラスポリ
マー樹脂を充填した塔に通過させてセフアレ７キシンを
吸着させる。
本発明に於て使用する、不純物を含有するセフアレキシ
ン水溶液中のセフアレキシンの濃度はどのような濃度で
もあり得るが、セフアレキシン水溶液中の全量のセフア
レキシンを吸着する足る樹脂を使用すれば特に限定がＯ
ない。本発明で使用される非イオン性ハイポーラスポリ
マー樹脂としてはセフアレキシンに対して吸着能をもつ
ものが用いられ、特に多孔性、非イオン性のスチレン系
樹脂例えばスチレンージビニルベ７ンゼン共重合からな
り且つ比表面積１４０〜８００イ／９の範囲の多孔性を
有する合成吸着剤が適する。
ン水溶液中のセフアレキシンの濃度はどのような濃度で
もあり得るが、セフアレキシン水溶液中の全量のセフア
レキシンを吸着する足る樹脂を使用すれば特に限定がＯ
ない。本発明で使用される非イオン性ハイポーラスポリ
マー樹脂としてはセフアレキシンに対して吸着能をもつ
ものが用いられ、特に多孔性、非イオン性のスチレン系
樹脂例えばスチレンージビニルベ７ンゼン共重合からな
り且つ比表面積１４０〜８００イ／９の範囲の多孔性を
有する合成吸着剤が適する。
この種の吸着剤の例としては、商品名タイヤイオンＩＩ
ＰｌＯ、ＨＰ２Ｏ、ＨＰ３Ｏ、ＨＰ４Ｏ及びＨＰ５Ｏ（
夫々の比表面積は５０１。３ｄ／Ｙｌ７ｌ８ｄ／Ｆｌ５
７Ｏｒｆｌ／ｙ、７０５ｄ／ｑ及び５９０イ／ｑ；最多
頻度細孔径は２００Ａ〜１０００Ａ）（三菱化成工業株
式会社製）並びに商品名アンパーライトＸＡＤ−２及び
ＸＡＤ−４（夫々の比表面積は３００イ／ダ及び７８４
ｄ／ｑ：平均孔径は９０Ａ及び５０Ａ）（ローム・アン
ド・ハース社製）が拳げられる。
ＰｌＯ、ＨＰ２Ｏ、ＨＰ３Ｏ、ＨＰ４Ｏ及びＨＰ５Ｏ（
夫々の比表面積は５０１。３ｄ／Ｙｌ７ｌ８ｄ／Ｆｌ５
７Ｏｒｆｌ／ｙ、７０５ｄ／ｑ及び５９０イ／ｑ；最多
頻度細孔径は２００Ａ〜１０００Ａ）（三菱化成工業株
式会社製）並びに商品名アンパーライトＸＡＤ−２及び
ＸＡＤ−４（夫々の比表面積は３００イ／ダ及び７８４
ｄ／ｑ：平均孔径は９０Ａ及び５０Ａ）（ローム・アン
ド・ハース社製）が拳げられる。
さらに多孔性、非イオン性のアクリル酸エステル樹脂と
して商品名アンパーライトＸＡＤ−７、（ローム●アン
ド●ハース社製）（比表面積４５０イ／ｙ平均孔径９０
Ａ）及ひアンパーライトＸＡＤ−８（比表面積１４０７
ＴＩ／ｙ１平均孔径２３５Ａ）として知られる合成吸着
剤も適する。本発明て使用される吸着剤樹脂の細孔の最
多頻度細孔径は４０Ａ〜１０００Ａてあるのが好ましい
。本発明で使用できる好ましい非イオン性ハイポーラス
ポリマー樹脂には、三菱化成社製のダイヤイオンＨＰ−
１０、ＨＰ−２０．．ＨＰ−３０、ＨＰ−４０．．ＨＰ
−５０あるいは米国ローム・アンド・ハース社製アンパ
ーライトＸＡＤ−１，ＸＡＤ−２、ＸＡＤ−４などがあ
る。かくしてセフアレキシンを樹脂に吸着させたのちは
、吸着セフアレキシンの溶出を惹起しない程度の薄い濃
度の親水性有機溶剤の水溶液で樹脂を洗浄し、セフアレ
キシンを溶出することなく不純吻を除去する。
して商品名アンパーライトＸＡＤ−７、（ローム●アン
ド●ハース社製）（比表面積４５０イ／ｙ平均孔径９０
Ａ）及ひアンパーライトＸＡＤ−８（比表面積１４０７
ＴＩ／ｙ１平均孔径２３５Ａ）として知られる合成吸着
剤も適する。本発明て使用される吸着剤樹脂の細孔の最
多頻度細孔径は４０Ａ〜１０００Ａてあるのが好ましい
。本発明で使用できる好ましい非イオン性ハイポーラス
ポリマー樹脂には、三菱化成社製のダイヤイオンＨＰ−
１０、ＨＰ−２０．．ＨＰ−３０、ＨＰ−４０．．ＨＰ
−５０あるいは米国ローム・アンド・ハース社製アンパ
ーライトＸＡＤ−１，ＸＡＤ−２、ＸＡＤ−４などがあ
る。かくしてセフアレキシンを樹脂に吸着させたのちは
、吸着セフアレキシンの溶出を惹起しない程度の薄い濃
度の親水性有機溶剤の水溶液で樹脂を洗浄し、セフアレ
キシンを溶出することなく不純吻を除去する。
この洗浄に先立ち、樹脂を水洗・しＣ予じめ不純物の一
部を除去するのが好ましい。この洗浄目的に使用される
親水性有機洗剤は、メタノール、エタノールの如き低級
アルカノール並びにアセトン等から適宣選ばれる。又、
その水溶液中の有機溶剤濃度は各溶剤により異るが５〜
１０容量％程度であるのがよい。 ５
次に樹脂に吸着させたセフアレキシンを親水性有機溶剤
の水溶液で溶出する。この溶出の目的に使用される親水
性有機溶剤はメタノール、エタノールの如き低級アルカ
ノール、アセトン、テトラヒドロプラン、アセトニトリ
ル、およびＮ，Ｎ−１ジメチルホルムアミドから適宣選
ばれる。有機溶剤は単独に又は二種又はそれ以上の混合
物として使用できる。この際の溶出用の親水性有機溶剤
の水溶液中濃度は各溶剤により異るが、２０〜４喀量％
程度である。これ以上の濃度では、セフアレキシン以外
に、樹脂中に依然残留する不純物が溶出されることがあ
るので望ましくない。但し、上記の範囲内で、親水性有
機溶剤の濃度が高ければ高いほどセフアレキシンの溶出
はまとまつて来る。かくして樹脂から溶出したセフアレ
キシンを含む−溶出液は、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド以外の親水性有機溶剤の水溶液を溶出剤として用いて
溶出した場合は、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを添加
され、さらに減圧下に該有機溶剤および水蒸発、除去さ
せて溶出液中のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド濃度を増
大させると、セフアレキシンの結晶が晶出して来る。Ｎ
，Ｎ−ジメチルホルムアミドの水溶液を溶出剤として用
いて溶出した場合は、そのまま溶出液から水を減圧下に
溜去して濃縮するとセフアレキシンの結晶が析出して来
る。この濃縮は水が殆んど全く留去され終るまで行うの
が好ましい。この際、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを
添加された溶出液の濃縮工程は溶出液を加温する加熱媒
質の温度（以下、外温という）が３５゜Ｃ以下であつて
も、水及び使用者有機溶剤（Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムア
ミドではない）が十分に蒸留、除去できる程度の減圧下
に行われることが望ましい。濃縮工程後は、濃縮液を冷
却して晶出を完了させるのがよい。
部を除去するのが好ましい。この洗浄目的に使用される
親水性有機洗剤は、メタノール、エタノールの如き低級
アルカノール並びにアセトン等から適宣選ばれる。又、
その水溶液中の有機溶剤濃度は各溶剤により異るが５〜
１０容量％程度であるのがよい。 ５
次に樹脂に吸着させたセフアレキシンを親水性有機溶剤
の水溶液で溶出する。この溶出の目的に使用される親水
性有機溶剤はメタノール、エタノールの如き低級アルカ
ノール、アセトン、テトラヒドロプラン、アセトニトリ
ル、およびＮ，Ｎ−１ジメチルホルムアミドから適宣選
ばれる。有機溶剤は単独に又は二種又はそれ以上の混合
物として使用できる。この際の溶出用の親水性有機溶剤
の水溶液中濃度は各溶剤により異るが、２０〜４喀量％
程度である。これ以上の濃度では、セフアレキシン以外
に、樹脂中に依然残留する不純物が溶出されることがあ
るので望ましくない。但し、上記の範囲内で、親水性有
機溶剤の濃度が高ければ高いほどセフアレキシンの溶出
はまとまつて来る。かくして樹脂から溶出したセフアレ
キシンを含む−溶出液は、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド以外の親水性有機溶剤の水溶液を溶出剤として用いて
溶出した場合は、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを添加
され、さらに減圧下に該有機溶剤および水蒸発、除去さ
せて溶出液中のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド濃度を増
大させると、セフアレキシンの結晶が晶出して来る。Ｎ
，Ｎ−ジメチルホルムアミドの水溶液を溶出剤として用
いて溶出した場合は、そのまま溶出液から水を減圧下に
溜去して濃縮するとセフアレキシンの結晶が析出して来
る。この濃縮は水が殆んど全く留去され終るまで行うの
が好ましい。この際、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを
添加された溶出液の濃縮工程は溶出液を加温する加熱媒
質の温度（以下、外温という）が３５゜Ｃ以下であつて
も、水及び使用者有機溶剤（Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムア
ミドではない）が十分に蒸留、除去できる程度の減圧下
に行われることが望ましい。濃縮工程後は、濃縮液を冷
却して晶出を完了させるのがよい。
析出したセフアレキシンの結晶を淵過又は遠心分離によ
り採取し、アセトンで充分洗浄する。洗浄した結晶を乾
燥して、精製され１−セフアレキシンを原末を得る。か
くしてセフアレキシン溶出液中のセフアレ４ンンは高収
率で結晶として回収される。
り採取し、アセトンで充分洗浄する。洗浄した結晶を乾
燥して、精製され１−セフアレキシンを原末を得る。か
くしてセフアレキシン溶出液中のセフアレ４ンンは高収
率で結晶として回収される。
この結晶，まＮＭＲスペクトルに於て、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミドあるいはアセトンを含有していない。又
、本法では、不純なセフアレキシン水溶液の樹脂による
吸着処理は上記の連続法（塔法）のみならず、バッチ式
でも行うことが出来る。次に実施例を拳げて、本発明の
方法をさらに具体的に説明するが、これにより本発明の
方法を限定するものではない。実施例１ セフアレキシンの結晶化廃母液（抗菌活性：２６２００
μｙ／ｍｌ）１００ｍ１（セフアレキシン含量：２．６
２ｙ）をＰＨ５．Ｏにアンモニア水にて調整し、ダイヤ
イオン即−２０，２６０ｍ１の塔に通してセフアレキシ
ンを吸着させた。
ルホルムアミドあるいはアセトンを含有していない。又
、本法では、不純なセフアレキシン水溶液の樹脂による
吸着処理は上記の連続法（塔法）のみならず、バッチ式
でも行うことが出来る。次に実施例を拳げて、本発明の
方法をさらに具体的に説明するが、これにより本発明の
方法を限定するものではない。実施例１ セフアレキシンの結晶化廃母液（抗菌活性：２６２００
μｙ／ｍｌ）１００ｍ１（セフアレキシン含量：２．６
２ｙ）をＰＨ５．Ｏにアンモニア水にて調整し、ダイヤ
イオン即−２０，２６０ｍ１の塔に通してセフアレキシ
ンを吸着させた。
塔を１．３ｅの水および１．３ｆの１０％メタノール水
で洗浄し、次いで１．３ｅの２０％Ｎ，Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド水で容出した。抗菌活性を示す溶出液７５０
ｍｔを湯浴上で外温３５℃で減圧下に水を溜去して濃縮
すると、蒸留残液が液量約１４０Ｔ！１１位に濃縮した
ところで、セフアレキシンの針状結晶が晶出して来た。
ただちに濃縮を停止し、濃縮液を１時間、５℃に冷存し
て結晶を充分に晶出させた。該結晶を減圧ｔ過により採
取し、冷アセトン５０ｍ１にてスラリーとして２度洗浄
し、真空乾燥して精製セフアレキシンの結晶２．３５ｙ
を得た。λＭａｘ２６２ｒｌｍ（Ｅ（％２２６、水）、
〔α〕？＋１４８（Ｃ１、水）抗菌活性９７０ｐｙ／Ｍ
ｇ、収率８７％、ＮＭＲでＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ドおよびアセトン由来のプロトンのシグナルを認めず。
なお、水洗液および１０％メタノール水洗液よりそれぞ
れ１２．５６ｑおよび０．１６７Ｖの抗菌活性を示さな
い固型物が得られた。又、セフアレキシンを溶出したあ
との塔に更にＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを流して溶
出すると、０．４８４ｑの抗菌活性を５示さない固型物
が得られた。実施例２ セフアレキシンの結晶化廃母液（抗菌活性：３２２８０
μｇ／ＭＬ）１００ｍＬ（セフアレキシン含量：３．２
２８ｇ）をアンモニア水でＰＨ５．Ｏに調整し、ダイ！
Ｏヤイオン即−２０，３２０ｍ１の塔に通して、セフア
レキシンを吸着させた。
で洗浄し、次いで１．３ｅの２０％Ｎ，Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド水で容出した。抗菌活性を示す溶出液７５０
ｍｔを湯浴上で外温３５℃で減圧下に水を溜去して濃縮
すると、蒸留残液が液量約１４０Ｔ！１１位に濃縮した
ところで、セフアレキシンの針状結晶が晶出して来た。
ただちに濃縮を停止し、濃縮液を１時間、５℃に冷存し
て結晶を充分に晶出させた。該結晶を減圧ｔ過により採
取し、冷アセトン５０ｍ１にてスラリーとして２度洗浄
し、真空乾燥して精製セフアレキシンの結晶２．３５ｙ
を得た。λＭａｘ２６２ｒｌｍ（Ｅ（％２２６、水）、
〔α〕？＋１４８（Ｃ１、水）抗菌活性９７０ｐｙ／Ｍ
ｇ、収率８７％、ＮＭＲでＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ドおよびアセトン由来のプロトンのシグナルを認めず。
なお、水洗液および１０％メタノール水洗液よりそれぞ
れ１２．５６ｑおよび０．１６７Ｖの抗菌活性を示さな
い固型物が得られた。又、セフアレキシンを溶出したあ
との塔に更にＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを流して溶
出すると、０．４８４ｑの抗菌活性を５示さない固型物
が得られた。実施例２ セフアレキシンの結晶化廃母液（抗菌活性：３２２８０
μｇ／ＭＬ）１００ｍＬ（セフアレキシン含量：３．２
２８ｇ）をアンモニア水でＰＨ５．Ｏに調整し、ダイ！
Ｏヤイオン即−２０，３２０ｍ１の塔に通して、セフア
レキシンを吸着させた。
塔を１．６ｅの水及び１．６ｅの１０％メタノール水で
洗浄したのち、３０％メタノール水（３０％メタノール
７０％水の混合物）吸着しているセフアレキシンを溶出
した。抗菌活性を示す溶出液９２０ｍｔにＮ，Ｎ−ジメ
チルホルムアミド１６〔ｍｌを加え、湯浴上で外温３５
℃で減圧下に水及びメタノールを留去して濃縮すると、
蒸留残液が液量約１６０ｍ１位に濃縮したところで、セ
フアレキシンの針状結晶が晶出して来た。ただちに濃縮
を停止し、濃縮液を１時間５℃に放置して結晶を充分に
晶出させたのち、減圧枦過により結晶を採取し、冷アセ
トン７５ｍＬにてスラリーとして２度洗浄した。洗浄し
た結晶を真空乾燥して２．９１ｙに精製セフアレキシン
を得た。λＭａｘ２６２ｒｌｍ（Ｅ（％２２７、水）、
〔α〕？＋１５０（Ｃｌ．水）抗菌活性９８５μ′／Ｍ
９、収率８９％、ＮＭＲでＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ドおよびアセトン由来のプロトンのシグナルを認めず。
なお、水洗液および１０％メタノール水洗液よりそれぞ
れ１３．０６ｙおよび０．２１１ｙ１又セフアレキシン
溶出後、更にメタノールで溶出した溶出液より０．１１
７ｙのいずれも抗菌活性を示さない固型物が得られた。
洗浄したのち、３０％メタノール水（３０％メタノール
７０％水の混合物）吸着しているセフアレキシンを溶出
した。抗菌活性を示す溶出液９２０ｍｔにＮ，Ｎ−ジメ
チルホルムアミド１６〔ｍｌを加え、湯浴上で外温３５
℃で減圧下に水及びメタノールを留去して濃縮すると、
蒸留残液が液量約１６０ｍ１位に濃縮したところで、セ
フアレキシンの針状結晶が晶出して来た。ただちに濃縮
を停止し、濃縮液を１時間５℃に放置して結晶を充分に
晶出させたのち、減圧枦過により結晶を採取し、冷アセ
トン７５ｍＬにてスラリーとして２度洗浄した。洗浄し
た結晶を真空乾燥して２．９１ｙに精製セフアレキシン
を得た。λＭａｘ２６２ｒｌｍ（Ｅ（％２２７、水）、
〔α〕？＋１５０（Ｃｌ．水）抗菌活性９８５μ′／Ｍ
９、収率８９％、ＮＭＲでＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ドおよびアセトン由来のプロトンのシグナルを認めず。
なお、水洗液および１０％メタノール水洗液よりそれぞ
れ１３．０６ｙおよび０．２１１ｙ１又セフアレキシン
溶出後、更にメタノールで溶出した溶出液より０．１１
７ｙのいずれも抗菌活性を示さない固型物が得られた。
実施例３セフアレキシンの結晶化廃母液（抗菌活性：２
０８００μＶ／ＴｒＬｔ）１ｅ（セフアレキシン含量：
２０．８ｙ）のＰＨを５．０にアンモニア水にて調整し
、ダイヤイオン即−２０，２′の塔に通してセフアレキ
シンを吸着させた。
０８００μＶ／ＴｒＬｔ）１ｅ（セフアレキシン含量：
２０．８ｙ）のＰＨを５．０にアンモニア水にて調整し
、ダイヤイオン即−２０，２′の塔に通してセフアレキ
シンを吸着させた。
塔を１０ｅの水および１０ｅ，の１０％メタノール水で
洗浄したのち、１０％アセトン水で吸着しいるセフアレ
キシンを溶出した。抗菌活性を示す溶出液６．０５′に
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１ｆを添加し、外温３５
℃で減圧下に水及びアセトンを留去して濃縮し、結晶の
晶出した３来た濃縮液約１ｅを５℃に冷存した。減圧ろ
過により結晶を採取し、冷アセトン５００ｍ１にてスラ
リーとし、２度洗浄し、真空乾燥して１９．１ｙのセフ
アレキシンの結晶を得た。λＭａｘ２６２ｎｍ（ＥＩ％
２２＼水）、〔α〕？＋１４７（Ｃ１、水）、抗菌活性
９６０３μｙ／Ｍ９、収率８８％、ＮＭＲ′Ｃ′Ｎ，Ｎ
−ジメチルホルムアミドおよびアセトン由来のプロトン
のシグナルを認めず。実施例４ 抗菌活性７５０μｇ／Ｍｇの粗セフアレキシンの粉末１
３５ｆ（セフアレキシン含量：１０１ｙ）を水５ｅに懸
濁し、濃塩酸４０ｍ１を加えて溶解し、アンモニア水で
ＰＨ５．Ｏに調整した溶液をダイヤイオン即一２へ１０
ｅの塔に通してセフアレキシンを吸着させた。
洗浄したのち、１０％アセトン水で吸着しいるセフアレ
キシンを溶出した。抗菌活性を示す溶出液６．０５′に
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１ｆを添加し、外温３５
℃で減圧下に水及びアセトンを留去して濃縮し、結晶の
晶出した３来た濃縮液約１ｅを５℃に冷存した。減圧ろ
過により結晶を採取し、冷アセトン５００ｍ１にてスラ
リーとし、２度洗浄し、真空乾燥して１９．１ｙのセフ
アレキシンの結晶を得た。λＭａｘ２６２ｎｍ（ＥＩ％
２２＼水）、〔α〕？＋１４７（Ｃ１、水）、抗菌活性
９６０３μｙ／Ｍ９、収率８８％、ＮＭＲ′Ｃ′Ｎ，Ｎ
−ジメチルホルムアミドおよびアセトン由来のプロトン
のシグナルを認めず。実施例４ 抗菌活性７５０μｇ／Ｍｇの粗セフアレキシンの粉末１
３５ｆ（セフアレキシン含量：１０１ｙ）を水５ｅに懸
濁し、濃塩酸４０ｍ１を加えて溶解し、アンモニア水で
ＰＨ５．Ｏに調整した溶液をダイヤイオン即一２へ１０
ｅの塔に通してセフアレキシンを吸着させた。
５０′の水および５０ｅの１０％メタノール水にて洗浄
したのち、３０％メタノール水で溶出した。
したのち、３０％メタノール水で溶出した。
抗菌活性を示す溶出液２７′にＮ，Ｎ−ジメチルホルム
アミド５１を加え、外温３５℃で減圧下で水及びメタノ
ールを留去して濃縮し、結晶が晶出して来た濃縮液約５
ｅを得た。該濃縮液を５℃に冷却して結晶化を完了させ
たのち、減圧Ｐ過により結晶を採取し、２．５ｅの冷ア
セトンで２度洗浄後、真空乾燥してセフアレキシンの結
晶９０．７ｇを得た。λＭａｘ２６２ｎｍ（Ｅ（％２２
９、水）、〔α〕Ｚ２＋１５０（Ｃ１、水）抗菌活性９
８０ｐｑ／Ｍ９、収率８８％。実施例５実施例１で用い
た結晶化廃母液１００ｍ１をＰＨ５．Ｏにアンモニア水
で調整し、ダイヤイオン即−１０、５００ｍＬの塔に通
じてセフアレキシンを吸着させ、２．５ｆの水および２
．５ｆの１０％メタノール水て洗浄後、２０％Ｎ，Ｎ−
ジメチルホルムアミド水で溶出し、実施例１と同様の操
作により、精製セフアレキシンの結晶２．２１ｙを得た
。
アミド５１を加え、外温３５℃で減圧下で水及びメタノ
ールを留去して濃縮し、結晶が晶出して来た濃縮液約５
ｅを得た。該濃縮液を５℃に冷却して結晶化を完了させ
たのち、減圧Ｐ過により結晶を採取し、２．５ｅの冷ア
セトンで２度洗浄後、真空乾燥してセフアレキシンの結
晶９０．７ｇを得た。λＭａｘ２６２ｎｍ（Ｅ（％２２
９、水）、〔α〕Ｚ２＋１５０（Ｃ１、水）抗菌活性９
８０ｐｑ／Ｍ９、収率８８％。実施例５実施例１で用い
た結晶化廃母液１００ｍ１をＰＨ５．Ｏにアンモニア水
で調整し、ダイヤイオン即−１０、５００ｍＬの塔に通
じてセフアレキシンを吸着させ、２．５ｆの水および２
．５ｆの１０％メタノール水て洗浄後、２０％Ｎ，Ｎ−
ジメチルホルムアミド水で溶出し、実施例１と同様の操
作により、精製セフアレキシンの結晶２．２１ｙを得た
。
λＭａｘ２６２Ｔｌｍ（Ｅ（？２２＆水）、〔α〕？＋
１４５（Ｃ１、水）、抗菌活性９５０μｙ／Ｍｇ、収率
８３．４％実施例６ 実施例２て用いた結晶化廃母液１００ｍｔをＰＨ５．Ｏ
にアンモニア水で調整し、ダイヤイオン即−５０１５０
０ｍ１の塔に通してセフアレキシンを吸着させ、２．５
ｅの水および２．５ｅのメタノール水て洗浄後３０％メ
タノールにてセフアレキシンを溶出した。
１４５（Ｃ１、水）、抗菌活性９５０μｙ／Ｍｇ、収率
８３．４％実施例６ 実施例２て用いた結晶化廃母液１００ｍｔをＰＨ５．Ｏ
にアンモニア水で調整し、ダイヤイオン即−５０１５０
０ｍ１の塔に通してセフアレキシンを吸着させ、２．５
ｅの水および２．５ｅのメタノール水て洗浄後３０％メ
タノールにてセフアレキシンを溶出した。
Claims (1)
- １ 不純物を含有するセフアレキシンの水溶液を非イオ
ン性ハイポーラスポリマー樹脂に通過させ、この樹脂を
セフアレキシンの溶出を惹起しない程度の低濃度の親水
性有機溶剤を含む親水性有機溶剤の水溶液で洗浄して、
樹脂に吸着された不純物を除去し、この洗浄した樹脂に
吸着したセフアレキシンを親水性有機溶剤の水溶液より
なる溶出剤により溶出し、得られた溶出液にＮ，Ｎ−ジ
メチルホルムアミドを加え、該溶出液から該有機溶剤及
び水を蒸留により除去して濃縮しながらＮ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド濃度を増大させることにより、あるいは
溶出剤としてＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドの水溶性を
用いた場合はＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを添加する
ことなく又は添加して溶出液から水を留去し濃縮しなが
らＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド濃度を増大させること
により、セフアレキシンを晶出させ、次にセフアレキシ
ン結晶を回収することを特徴とするセフアレキシンの精
製方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1877875A JPS6047278B2 (ja) | 1975-02-17 | 1975-02-17 | セフアレキシンの精製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1877875A JPS6047278B2 (ja) | 1975-02-17 | 1975-02-17 | セフアレキシンの精製方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5195089A JPS5195089A (en) | 1976-08-20 |
| JPS6047278B2 true JPS6047278B2 (ja) | 1985-10-21 |
Family
ID=11981082
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1877875A Expired JPS6047278B2 (ja) | 1975-02-17 | 1975-02-17 | セフアレキシンの精製方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6047278B2 (ja) |
-
1975
- 1975-02-17 JP JP1877875A patent/JPS6047278B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5195089A (en) | 1976-08-20 |
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