JPS604177B2 - ベンゾフラン誘導体の製造方法 - Google Patents
ベンゾフラン誘導体の製造方法Info
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- JPS604177B2 JPS604177B2 JP50114965A JP11496575A JPS604177B2 JP S604177 B2 JPS604177 B2 JP S604177B2 JP 50114965 A JP50114965 A JP 50114965A JP 11496575 A JP11496575 A JP 11496575A JP S604177 B2 JPS604177 B2 JP S604177B2
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- Japan
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- compound
- acid
- furnace
- penzofuran
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D307/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
- C07D307/77—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems
- C07D307/78—Benzo [b] furans; Hydrogenated benzo [b] furans
- C07D307/79—Benzo [b] furans; Hydrogenated benzo [b] furans with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to carbon atoms of the hetero ring
- C07D307/81—Radicals substituted by nitrogen atoms not forming part of a nitro radical
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
- A61P25/00—Drugs for disorders of the nervous system
- A61P25/02—Drugs for disorders of the nervous system for peripheral neuropathies
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- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Furan Compounds (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はペンゾフラン誘導体及びその製造方法※に関す
る。
る。
本発明によって提供されるペンゾフラン誘導体は一般式
〔式中、Aはヒドロキシメチレンまたはカルボ−ル基を
表わす〕の化合物及びその酸付加塩である。
〔式中、Aはヒドロキシメチレンまたはカルボ−ル基を
表わす〕の化合物及びその酸付加塩である。
式1の化合物及びその酸付加塩の製造方法は、Aがヒド
ロキシメチレン基を表わす化合物を製、する際には、‘
a} 一般式 〔式中、Rは水素原子または低級アルカノィル基を表わ
し、そしてXは塩素または臭素原子を表わす〕の化合物
をtert−ブチルアミンで処理するか、‘b)−般式
〔式中、RIは低級アルカノィル基を表わす〕の化合物
をアルカリ金属水素化ホウ素化物(alkalimet
alめrohydride)で還元するか、または{c
〕一般式 〔式中、×は塩素または臭素原子を表わす〕の化合物を
触媒的に水素添加し、Aがカルボニル基を表わす式1の
化合物を製造する際には式の化合物を塩基で処理し、必
要に応じて、Aがヒドロキシメチル基を表わす式1の化
合物をクロム酸化剤で酸化して、Aがカルボニル基を表
わす化合物にし、そして必要に応じて、得られた式1の
化合物を酸付加塩に変えることを特徴とする。
ロキシメチレン基を表わす化合物を製、する際には、‘
a} 一般式 〔式中、Rは水素原子または低級アルカノィル基を表わ
し、そしてXは塩素または臭素原子を表わす〕の化合物
をtert−ブチルアミンで処理するか、‘b)−般式
〔式中、RIは低級アルカノィル基を表わす〕の化合物
をアルカリ金属水素化ホウ素化物(alkalimet
alめrohydride)で還元するか、または{c
〕一般式 〔式中、×は塩素または臭素原子を表わす〕の化合物を
触媒的に水素添加し、Aがカルボニル基を表わす式1の
化合物を製造する際には式の化合物を塩基で処理し、必
要に応じて、Aがヒドロキシメチル基を表わす式1の化
合物をクロム酸化剤で酸化して、Aがカルボニル基を表
わす化合物にし、そして必要に応じて、得られた式1の
化合物を酸付加塩に変えることを特徴とする。
本明細書において用いる「低級アルカノィル」なる語は
炭素原子7個までを含むアルカノィル基、例えばアセチ
ル、プ。
炭素原子7個までを含むアルカノィル基、例えばアセチ
ル、プ。
ピオニル、ブチニル等を意味し、アセチル基が好ましい
。式川こおいて、記号×は好ましくは臭素原子を表わす
。式ロの化合物のtert−ブチルアミンによる処理は
、式ロの化合物を不活性有機溶媒、好ましくは有極性溶
媒、例えばメタノール、エタノール等の如き低級アルカ
ノール、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド等中に
て昇温下、例えば混合物の還流温度でte九−ブチルア
ミンと加熱して適当に行なうことができる。この処理は
必要に応じて酸結合剤の存在下において行なうことがで
き、適当な酸結合剤は例えばアルカリ金属炭酸塩例えば
炭酸ナトリウム及び第三級有機ァミン例えばピリジン等
である。過剰のにrtーブチルアミンを用いることがで
き、そしてこの場合に酸結合剤としての役割を果たすこ
とができる。上記の処理により一般に、Aがヒドロキシ
メチレン基を表わす式1の所望の化合物及び式の化合物
の混合物が誘導される。
。式川こおいて、記号×は好ましくは臭素原子を表わす
。式ロの化合物のtert−ブチルアミンによる処理は
、式ロの化合物を不活性有機溶媒、好ましくは有極性溶
媒、例えばメタノール、エタノール等の如き低級アルカ
ノール、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド等中に
て昇温下、例えば混合物の還流温度でte九−ブチルア
ミンと加熱して適当に行なうことができる。この処理は
必要に応じて酸結合剤の存在下において行なうことがで
き、適当な酸結合剤は例えばアルカリ金属炭酸塩例えば
炭酸ナトリウム及び第三級有機ァミン例えばピリジン等
である。過剰のにrtーブチルアミンを用いることがで
き、そしてこの場合に酸結合剤としての役割を果たすこ
とができる。上記の処理により一般に、Aがヒドロキシ
メチレン基を表わす式1の所望の化合物及び式の化合物
の混合物が誘導される。
この混合物は普通の方法により、例えば適当な塩、例え
ばシュウ酸塩の分別結晶により、各成分に容易に分離す
ることができる。式mの化合物の還元はアルカリ金属水
素化ホウ素化物、好ましくはホウ水素化ナトリウムを用
いて行なわれる。
ばシュウ酸塩の分別結晶により、各成分に容易に分離す
ることができる。式mの化合物の還元はアルカリ金属水
素化ホウ素化物、好ましくはホウ水素化ナトリウムを用
いて行なわれる。
この還元は約2000またはこれ以下の温度で適当に行
なわれる。この還元を低級アルカノール、例えばエタノ
ールまたは水性ジオキサン中で行なうことが好ましいが
、しかしまた還元条件下で不活性である他の溶媒を用い
ることもできる。式Nの化合物の接触水素添加において
は、好ましくは記号×が臭素原子を表わす化合物を用い
る。
なわれる。この還元を低級アルカノール、例えばエタノ
ールまたは水性ジオキサン中で行なうことが好ましいが
、しかしまた還元条件下で不活性である他の溶媒を用い
ることもできる。式Nの化合物の接触水素添加において
は、好ましくは記号×が臭素原子を表わす化合物を用い
る。
この接触水素添加はパラジウム触媒(例えばパラジウム
/炭素)の存在下において、室温及び大気圧下で有利に
行なわれる。接触水素添加は、×によって表わされる塩
素または臭素原子が除去された後、且つ2・3一二重結
合の水素添加またはペンジル性カルビノール基の水素添
加が起る前に終了する。式Vの化合物を処理する際の適
当な塩基はアルカリ金属水酸化物、例えば水酸化ナトリ
ウム及び水酸化カリウムである。
/炭素)の存在下において、室温及び大気圧下で有利に
行なわれる。接触水素添加は、×によって表わされる塩
素または臭素原子が除去された後、且つ2・3一二重結
合の水素添加またはペンジル性カルビノール基の水素添
加が起る前に終了する。式Vの化合物を処理する際の適
当な塩基はアルカリ金属水酸化物、例えば水酸化ナトリ
ウム及び水酸化カリウムである。
この処理は好ましくはアルコール性または水−アルコー
ル性水酸化カリウムを用いて室温で行なわれる。Aがヒ
ドロキシメチル基を表わす式1の化合物の酸化は、溶媒
例えばピリジン、氷酢酸、アセトン、水等またはかかる
溶媒の混合物中で、三酸化クロムを用いて有利に行なわ
れる。この酸化は好ましくは水性アセトン中で三酸化ク
ロム/硫酸を用いて行なわれる。この酸化に対する適当
な温度は約一20oo乃至室温間である。上記式0の出
発物質は次の反応式に従って製造することができる;式
中、R、RI及びXは上記の意味を有する。
ル性水酸化カリウムを用いて室温で行なわれる。Aがヒ
ドロキシメチル基を表わす式1の化合物の酸化は、溶媒
例えばピリジン、氷酢酸、アセトン、水等またはかかる
溶媒の混合物中で、三酸化クロムを用いて有利に行なわ
れる。この酸化は好ましくは水性アセトン中で三酸化ク
ロム/硫酸を用いて行なわれる。この酸化に対する適当
な温度は約一20oo乃至室温間である。上記式0の出
発物質は次の反応式に従って製造することができる;式
中、R、RI及びXは上記の意味を有する。
上記の反応式からみて、工程(i)いおいては式肌の化
合物をp−トルェンスルホン酸の存在下におし、て且つ
適当な不活性有機溶媒例えば芳香族炭化水素、例えばト
ルェンの存在下において、ェチレングリコールを用いて
ケタール化し、式側のエチレンケタールを生成させる。
合物をp−トルェンスルホン酸の存在下におし、て且つ
適当な不活性有機溶媒例えば芳香族炭化水素、例えばト
ルェンの存在下において、ェチレングリコールを用いて
ケタール化し、式側のエチレンケタールを生成させる。
次にこのエチレンケタールを工程側において、不活性有
機溶媒(例えば四塩化炭素の如き塩素化された炭化水素
)の存在下において、N−(クロルまたはブロム)コハ
ク酸ィミド、好ましくはN−プロムコハク酸ィミドと反
応させ、式Kの化合物を生成させ、このものを工程(血
において、好ましくはその場で、対応するアルカリ金属
アシレート(例えば酢酸ナトリウム)の存在下において
、適当な低級アルカン酸(例えば酢酸)と反応させ、式
×の化合物を生成させる。次に工程qのにおいて式Xの
化合物を、ケトン性溶媒(好ましくはアセトンの如きケ
トン)中の適当な芳香族スルホン酸(例えばベンゼンス
ルホン酸)を用いて脱ケタール化する。次いで工程Mに
おいて、生じた式Mの化合物を塩化スルフリル、不活性
有機溶媒例えばエーテル中の臭素、酢酸エチル/クロロ
ホルム中の臭化第一銅或いは好ましくはテトラヒド。フ
ラン中のトリメチルフェニルアンモニウムトリブロマィ
ドを用いて塩素化または臭素化し、式刈のハロケトンを
生成させる。次に式柳のハロケトンを酸性条件下で、好
ましくはpH値4で不活性有機溶媒(例えばメタノール
の如き低級アルカノール中のアルカリ金属シァノ ホ
ウ水素化物(alkali metal cyanob
omhydride)(例えばシアノホウ水素化ナトリ
ウム)で還元して、Rが低級アルカノィル基を表わす式
ロの所望の出発物質を生成させる。また式狐のハロケト
ンを低級アルカノール(例えばエタノール)の存在下に
おいてアルカリ金属水素化ホウ素化物で還元し、Rが水
素原子を表わす式0の所望の出発物質を生成させる。上
記式山の出発物質は前記式皿のハロヒドリンをエーテル
(例えばジェチルェーテル、テトラヒドロフランまたは
ジオキサン)の如き不活性有機溶媒の存在下においてに
rt−ブチルアミンと反応させて製造することができる
。
機溶媒(例えば四塩化炭素の如き塩素化された炭化水素
)の存在下において、N−(クロルまたはブロム)コハ
ク酸ィミド、好ましくはN−プロムコハク酸ィミドと反
応させ、式Kの化合物を生成させ、このものを工程(血
において、好ましくはその場で、対応するアルカリ金属
アシレート(例えば酢酸ナトリウム)の存在下において
、適当な低級アルカン酸(例えば酢酸)と反応させ、式
×の化合物を生成させる。次に工程qのにおいて式Xの
化合物を、ケトン性溶媒(好ましくはアセトンの如きケ
トン)中の適当な芳香族スルホン酸(例えばベンゼンス
ルホン酸)を用いて脱ケタール化する。次いで工程Mに
おいて、生じた式Mの化合物を塩化スルフリル、不活性
有機溶媒例えばエーテル中の臭素、酢酸エチル/クロロ
ホルム中の臭化第一銅或いは好ましくはテトラヒド。フ
ラン中のトリメチルフェニルアンモニウムトリブロマィ
ドを用いて塩素化または臭素化し、式刈のハロケトンを
生成させる。次に式柳のハロケトンを酸性条件下で、好
ましくはpH値4で不活性有機溶媒(例えばメタノール
の如き低級アルカノール中のアルカリ金属シァノ ホ
ウ水素化物(alkali metal cyanob
omhydride)(例えばシアノホウ水素化ナトリ
ウム)で還元して、Rが低級アルカノィル基を表わす式
ロの所望の出発物質を生成させる。また式狐のハロケト
ンを低級アルカノール(例えばエタノール)の存在下に
おいてアルカリ金属水素化ホウ素化物で還元し、Rが水
素原子を表わす式0の所望の出発物質を生成させる。上
記式山の出発物質は前記式皿のハロヒドリンをエーテル
(例えばジェチルェーテル、テトラヒドロフランまたは
ジオキサン)の如き不活性有機溶媒の存在下においてに
rt−ブチルアミンと反応させて製造することができる
。
上記式Wの出発物質は次の反応式に従って製造すること
ができる;式中、R、RI及びXは前記の通りである。
ができる;式中、R、RI及びXは前記の通りである。
上記後者の反応式からみて、その工程(i)〜Mは式ロ
の出発物質の製造に関連して述べた前記の反応式の工程
(i)〜Mと同様の方法で行なうことができる。後者の
反応式の工程Mに従って得られた式×皿のハロケトンを
二つの経路によって式Nの所望の出発物質に変えること
ができる。一つの経路としては、該ハロケトンを工程帆
においてェーナル(例えばジェチルェーテル、テトラヒ
ドロケトンまたはジオキサン)の如き不活性有機溶媒の
存在下においてten−ブチルアミンと反応させ、生じ
た式×比の化合物を低級アルカノール(例えばエタノー
ル)の存在下においてアルカリ金属水素化ホウ素化物(
例えば水素化ホウ素ナトリウム)で還元する。また他の
経路においては、該ハロケトンを工程側において還元し
て式××の化合物を生成させる。この還元は、式皿の化
合物の還元に関連してすでに述べた同一方法で、アルカ
リ金属シァノホゥ水素化物またはアルカリ金属水素化ホ
ウ素化物を用いて行なうことができる。次に生じた式×
×の化合物を、式ロの化合物とten−ブチルアミンと
の反応に関連してすでに述べた如き方法でtertーブ
チルァミンと反応させる。また上記の経路においては、
一般に式Wの所望の出発物質及び式〔式中、×は上記の
意味を有する〕 の化合物を含む混合物が得られる。
の出発物質の製造に関連して述べた前記の反応式の工程
(i)〜Mと同様の方法で行なうことができる。後者の
反応式の工程Mに従って得られた式×皿のハロケトンを
二つの経路によって式Nの所望の出発物質に変えること
ができる。一つの経路としては、該ハロケトンを工程帆
においてェーナル(例えばジェチルェーテル、テトラヒ
ドロケトンまたはジオキサン)の如き不活性有機溶媒の
存在下においてten−ブチルアミンと反応させ、生じ
た式×比の化合物を低級アルカノール(例えばエタノー
ル)の存在下においてアルカリ金属水素化ホウ素化物(
例えば水素化ホウ素ナトリウム)で還元する。また他の
経路においては、該ハロケトンを工程側において還元し
て式××の化合物を生成させる。この還元は、式皿の化
合物の還元に関連してすでに述べた同一方法で、アルカ
リ金属シァノホゥ水素化物またはアルカリ金属水素化ホ
ウ素化物を用いて行なうことができる。次に生じた式×
×の化合物を、式ロの化合物とten−ブチルアミンと
の反応に関連してすでに述べた如き方法でtertーブ
チルァミンと反応させる。また上記の経路においては、
一般に式Wの所望の出発物質及び式〔式中、×は上記の
意味を有する〕 の化合物を含む混合物が得られる。
この混合物は普通の方法に従って、例えばシュウ酸塩の
如き適当な塩の分別結晶によって各成分に分離すること
ができる。前記式Vの出発物質は、例えばAがヒドロキ
シメチレン基を表わす前記式1の化合物を有利には不活
性有機溶媒例えば芳香族炭化水素(例えばトルェン)の
存在下においてホスゲンと反応させ、式のオキサゾリド
ンを生成させ、このオキサゾリドンを例えば二酸化マン
ガンで、適当にはハロゲン化炭化水素(例えばクロロホ
ルム、四塩化炭素等)の如き不活性有機溶媒の存在下に
おいて酸化して製造することができる。
如き適当な塩の分別結晶によって各成分に分離すること
ができる。前記式Vの出発物質は、例えばAがヒドロキ
シメチレン基を表わす前記式1の化合物を有利には不活
性有機溶媒例えば芳香族炭化水素(例えばトルェン)の
存在下においてホスゲンと反応させ、式のオキサゾリド
ンを生成させ、このオキサゾリドンを例えば二酸化マン
ガンで、適当にはハロゲン化炭化水素(例えばクロロホ
ルム、四塩化炭素等)の如き不活性有機溶媒の存在下に
おいて酸化して製造することができる。
上記式1の化合物は無機酸例えば塩化水素酸、臭化水素
酸、硫酸等及び有機酸例えば酢酸、酒石酸、クエン酸、
マレィン酸、シュウ酸、安息香酸、p−トルェンスルホ
ン酸等で処理して酸付加塩に変えることができる。製剤
上許容し得る酸付加塩が好ましい。本発明によって提供
されるペンゾフラン誘導体(即ち式1の化合物及びその
酸付加塩)は8−アドレナリン性阻止活性(8一adr
e肥でgcblockingactMW)を有する。
酸、硫酸等及び有機酸例えば酢酸、酒石酸、クエン酸、
マレィン酸、シュウ酸、安息香酸、p−トルェンスルホ
ン酸等で処理して酸付加塩に変えることができる。製剤
上許容し得る酸付加塩が好ましい。本発明によって提供
されるペンゾフラン誘導体(即ち式1の化合物及びその
酸付加塩)は8−アドレナリン性阻止活性(8一adr
e肥でgcblockingactMW)を有する。
本ペンゾフラン誘導体の8−アドレナリン性阻止活性は
よく知られた方法によって立証することができる。
よく知られた方法によって立証することができる。
一つの方法としては、ィソプレナリン0.05メタをマ
ウスに静脈内投与し、これによって生じる心博度数の増
加を試験物質の復腔内投与によって挑戦する。心精度数
の増加を50%減少させるために必要な試験物質の投薬
量をPD5。として記録する。マウスにおいて200〜
800の9/k9p.o.のLD5oを有する7一(1
′−ヒドロキシェチル)−Q−(tert−ブチルアミ
ノメチル)一2ーベンゾフランメタノールの水素シュウ
酸塩(hyarogenoxalate)を上記方法に
おける試験物質として用いた場合、0.08の9′kg
のPD5。が記録された。またマウスにおいて200〜
800の9′k9p.o.のLD則を有する7ーアセチ
ル−Q一(teれープチルアミノメチル)−2−ペンゾ
フランメタノールの中性シュウ酸塩は上記の方法におい
て0.20雌′k9のPD5oを示した。式1の化合物
及びその製剤上許容し得る酸付加塩は、適合し得る薬剤
上の坦体との混合物としてこれらを含む薬剤調整物の形
態において薬剤として用いることができる。
ウスに静脈内投与し、これによって生じる心博度数の増
加を試験物質の復腔内投与によって挑戦する。心精度数
の増加を50%減少させるために必要な試験物質の投薬
量をPD5。として記録する。マウスにおいて200〜
800の9/k9p.o.のLD5oを有する7一(1
′−ヒドロキシェチル)−Q−(tert−ブチルアミ
ノメチル)一2ーベンゾフランメタノールの水素シュウ
酸塩(hyarogenoxalate)を上記方法に
おける試験物質として用いた場合、0.08の9′kg
のPD5。が記録された。またマウスにおいて200〜
800の9′k9p.o.のLD則を有する7ーアセチ
ル−Q一(teれープチルアミノメチル)−2−ペンゾ
フランメタノールの中性シュウ酸塩は上記の方法におい
て0.20雌′k9のPD5oを示した。式1の化合物
及びその製剤上許容し得る酸付加塩は、適合し得る薬剤
上の坦体との混合物としてこれらを含む薬剤調整物の形
態において薬剤として用いることができる。
この担体は経腸(例えば経口)または非経腸投与に適す
る有機または無機性担体物質であることができる。かか
る担体物質の例は水、ゼラチン、ラクトース、殿粉、ア
ラビアゴム、ステアリン酸マグネシウム、タルク、植物
油、精製した黄色ワセリン等である。薬剤調製物は固体
の形態(例えば錠剤、糠衣丸、坐薬もしくはカプセル剤
)または液体の形態(例えば溶液、懸濁剤もしくは乳剤
)にすることができる。薬剤調製物は無菌にすることが
でき及び/または補助剤例えば保存剤、安定剤、乳化剤
、湿潤剤、浸透圧を変えるための塩または緩衝剤を含ん
でいてもよい。式1の化合物及びその製剤上許容し得る
駿付加塩を人間に投与し得る投薬量は処置条件及び医師
の処方法に従って変えることができる。
る有機または無機性担体物質であることができる。かか
る担体物質の例は水、ゼラチン、ラクトース、殿粉、ア
ラビアゴム、ステアリン酸マグネシウム、タルク、植物
油、精製した黄色ワセリン等である。薬剤調製物は固体
の形態(例えば錠剤、糠衣丸、坐薬もしくはカプセル剤
)または液体の形態(例えば溶液、懸濁剤もしくは乳剤
)にすることができる。薬剤調製物は無菌にすることが
でき及び/または補助剤例えば保存剤、安定剤、乳化剤
、湿潤剤、浸透圧を変えるための塩または緩衝剤を含ん
でいてもよい。式1の化合物及びその製剤上許容し得る
駿付加塩を人間に投与し得る投薬量は処置条件及び医師
の処方法に従って変えることができる。
しかしながら一般に0.75〜1.25の9′kg体重
、好ましくは1.0の9/k9体重の量を1日1回にま
たは分割投薬量で投与する。実施例 1 teれーブチルアミン5.0夕をアセトニトリル50の
‘中の粗製の7−(1′−アセトキシェチル)−2−(
1′−ヒドロキシー2′ープロムエチル)ペンゾフラン
約1.6夕の溶液に加え、得られた透明な溶液を還流下
で1鞘時間加熱した。
、好ましくは1.0の9/k9体重の量を1日1回にま
たは分割投薬量で投与する。実施例 1 teれーブチルアミン5.0夕をアセトニトリル50の
‘中の粗製の7−(1′−アセトキシェチル)−2−(
1′−ヒドロキシー2′ープロムエチル)ペンゾフラン
約1.6夕の溶液に加え、得られた透明な溶液を還流下
で1鞘時間加熱した。
冷却した混合物を減圧下で蒸発乾固させ、残澄をジェチ
ルェーテル及び希釈水酸化ナトリウム溶液間に分配させ
た。ジェチルェーテル層を希塩酸で2回抽出し、酸抽出
液を水酸化ナトリウム水溶液で塩基性にし、ジェチルェ
ーテルで2回抽出した。合液したジェチルェーテル抽出
液を水及び塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥
した。硫酸ナトリウムを炉別し、炉液を減圧下で蒸発さ
せ、粘性油が残った。イソプロパノール中の残澄をシュ
ウ酸で処理し、次いで分別結晶させ、融点115℃の7
一(1′−ヒドロキシエチル)−。−(tertープチ
ルアミノメチル)一2ーベンゾフランメタノールの水素
シュウ酸塩並びに融点184o 〜186℃の前記式の
の化合物の水素シュウ酸塩を得た。出発物質として用い
た7−(1′ーアセトキシェチル)−2一(1′ーヒド
ロキシー2′ープロムエチル)ペンゾフランは次の如く
して製造した。
ルェーテル及び希釈水酸化ナトリウム溶液間に分配させ
た。ジェチルェーテル層を希塩酸で2回抽出し、酸抽出
液を水酸化ナトリウム水溶液で塩基性にし、ジェチルェ
ーテルで2回抽出した。合液したジェチルェーテル抽出
液を水及び塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥
した。硫酸ナトリウムを炉別し、炉液を減圧下で蒸発さ
せ、粘性油が残った。イソプロパノール中の残澄をシュ
ウ酸で処理し、次いで分別結晶させ、融点115℃の7
一(1′−ヒドロキシエチル)−。−(tertープチ
ルアミノメチル)一2ーベンゾフランメタノールの水素
シュウ酸塩並びに融点184o 〜186℃の前記式の
の化合物の水素シュウ酸塩を得た。出発物質として用い
た7−(1′ーアセトキシェチル)−2一(1′ーヒド
ロキシー2′ープロムエチル)ペンゾフランは次の如く
して製造した。
メタノール1300の【中の2−アセチルー5−ブロム
ー7−エチルベンゾフラン80.19、トリエチルアミ
ン37.5夕及び炭素に担持させた5%パラジウム5夕
の混合物を、水素1モル当量を吸収するまで、室温及び
大気圧下で水素添加した。触媒を炉別し、炉液を蒸発乾
固させた。残った固体分を酢酸エチルに溶解し、生じた
溶液を水及び塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾
燥した。次に硫酸ナトリウムを炉別し、炉液を減圧下で
蒸発させた。残った固体分を石油エーテル(沸点範囲6
0o〜80oo)から結晶化させ、融点590 〜60
00の白色結晶性固体として2ーアセチルー7−エチル
ベンゾフラン48.7夕を得た。トルエン1200叫中
の2ーアセチルー7ーエチルベンゾフラン60夕、pー
トルェンスルホン酸3.0夕及びヱチレングリコール4
5.0夕の蝿拝された混合物を、水の共沸除去に伴ない
、還流下で1幼時間加熱した。
ー7−エチルベンゾフラン80.19、トリエチルアミ
ン37.5夕及び炭素に担持させた5%パラジウム5夕
の混合物を、水素1モル当量を吸収するまで、室温及び
大気圧下で水素添加した。触媒を炉別し、炉液を蒸発乾
固させた。残った固体分を酢酸エチルに溶解し、生じた
溶液を水及び塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾
燥した。次に硫酸ナトリウムを炉別し、炉液を減圧下で
蒸発させた。残った固体分を石油エーテル(沸点範囲6
0o〜80oo)から結晶化させ、融点590 〜60
00の白色結晶性固体として2ーアセチルー7−エチル
ベンゾフラン48.7夕を得た。トルエン1200叫中
の2ーアセチルー7ーエチルベンゾフラン60夕、pー
トルェンスルホン酸3.0夕及びヱチレングリコール4
5.0夕の蝿拝された混合物を、水の共沸除去に伴ない
、還流下で1幼時間加熱した。
冷却した溶液を順次希釈水酸化ナトリウム溶液、水及び
塩水で洗浄し、次に無水硫酸ナトリウム上で乾燥した。
硫酸ナトリウムを炉別し、炉液を蒸発乾固させた。残っ
た黄色油を窒素下で蒸留し、沸点860 〜8800/
0.05肋Hgの7ーエチルー2一(2ーメチル−1・
3−ジオキソランー2ーイル)ペンゾフラン48.6夕
を得た。再結晶したNーブロムコハク酸ィミド28.0
夕四塩化炭素480肌中の7−エチル−2一(2−メチ
ル一1・3ージオキソランー2ーイル)ーベンゾフラン
32.5夕の溶液に加えた。生じた懸濁を鷹拝し、還流
下で1幼時間加熱した。この混合物を一夜0℃に冷却し
、沈殿したコハク酸ィミドを炉則し、炉液を減圧下にて
30qoで蒸発させた。かくして粗製の7一(1′ープ
ロムェチル)−2−(2ーメチルー1・3ージオキソラ
ンー2ーイル)ペンゾフランが得られ、このものを直ち
に次の工程に用いた。この化合物の構造式はスペクトル
データによって確めた。無水酢酸ナトリウム60夕を氷
酢酸600泌中の粗製の7一(1′ーブロムェチル)−
2一(2ーメチルー1・3ージオキソランー2−イル)
ペンゾフラン43夕の溶液に加えた。
塩水で洗浄し、次に無水硫酸ナトリウム上で乾燥した。
硫酸ナトリウムを炉別し、炉液を蒸発乾固させた。残っ
た黄色油を窒素下で蒸留し、沸点860 〜8800/
0.05肋Hgの7ーエチルー2一(2ーメチル−1・
3−ジオキソランー2ーイル)ペンゾフラン48.6夕
を得た。再結晶したNーブロムコハク酸ィミド28.0
夕四塩化炭素480肌中の7−エチル−2一(2−メチ
ル一1・3ージオキソランー2ーイル)ーベンゾフラン
32.5夕の溶液に加えた。生じた懸濁を鷹拝し、還流
下で1幼時間加熱した。この混合物を一夜0℃に冷却し
、沈殿したコハク酸ィミドを炉則し、炉液を減圧下にて
30qoで蒸発させた。かくして粗製の7一(1′ープ
ロムェチル)−2−(2ーメチルー1・3ージオキソラ
ンー2ーイル)ペンゾフランが得られ、このものを直ち
に次の工程に用いた。この化合物の構造式はスペクトル
データによって確めた。無水酢酸ナトリウム60夕を氷
酢酸600泌中の粗製の7一(1′ーブロムェチル)−
2一(2ーメチルー1・3ージオキソランー2−イル)
ペンゾフラン43夕の溶液に加えた。
この鷹拝された混合物を60qoに5時間加熱し、放冷
し、次に水6000の1を注ぎ込んだ。生成物をジェチ
ルェーテルで抽出液を水で3回、次に塩水で洗浄し、無
水硫酸ナトリウム上で乾燥した。硫酸ナトリウムを炉別
し、炉液を減圧下で蒸発乾固させた。油状物として7一
(1′ーアセトキシエチル)一2一(2ーメチル−1・
3ージオキソランー2ーイル)ペンゾフランが得られ、
このものを更に精製せずに次の工程に用いた。粗製の7
−(1′−アセトキシェチル)−2−(2−メチル一1
・3ージオキソランー2ーイル)ペンゾフラン約30夕
をアセトン200m‘に溶解し、得られた溶液にベンゼ
ンスルホン酸の33%水溶液2叫を加えた。
し、次に水6000の1を注ぎ込んだ。生成物をジェチ
ルェーテルで抽出液を水で3回、次に塩水で洗浄し、無
水硫酸ナトリウム上で乾燥した。硫酸ナトリウムを炉別
し、炉液を減圧下で蒸発乾固させた。油状物として7一
(1′ーアセトキシエチル)一2一(2ーメチル−1・
3ージオキソランー2ーイル)ペンゾフランが得られ、
このものを更に精製せずに次の工程に用いた。粗製の7
−(1′−アセトキシェチル)−2−(2−メチル一1
・3ージオキソランー2ーイル)ペンゾフラン約30夕
をアセトン200m‘に溶解し、得られた溶液にベンゼ
ンスルホン酸の33%水溶液2叫を加えた。
生じた溶液を還流下に3時間加熱し、次に冷却し、減圧
下で蒸発乾固させた。残った油をジェチルェーテルに溶
解し、この溶液を水及び塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリ
ウム上で乾燥した。次に硫酸ナトリウムを炉別し、炉液
を減圧下で蒸発乾固させた。生成物をシリカゲル上でカ
ラムクロマトグラフによって精製し、次いでシクロヘキ
サンから結晶化させ、融点82o 〜83q0のクリー
ム色の結晶性固体として2−アセチルー7一(1′ーア
セトキシェチル)ペンゾフランを得た。トリメチルフエ
ニルアンモニウムトリブロマイド25.1夕を200〜
260で、乾いたテトラヒドロフラン250地中の2ー
アセチルー7−(1′−アセトキシヱチル)ペンゾフラ
ン16.4夕の蝿拝された溶液に加えた。
下で蒸発乾固させた。残った油をジェチルェーテルに溶
解し、この溶液を水及び塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリ
ウム上で乾燥した。次に硫酸ナトリウムを炉別し、炉液
を減圧下で蒸発乾固させた。生成物をシリカゲル上でカ
ラムクロマトグラフによって精製し、次いでシクロヘキ
サンから結晶化させ、融点82o 〜83q0のクリー
ム色の結晶性固体として2−アセチルー7一(1′ーア
セトキシェチル)ペンゾフランを得た。トリメチルフエ
ニルアンモニウムトリブロマイド25.1夕を200〜
260で、乾いたテトラヒドロフラン250地中の2ー
アセチルー7−(1′−アセトキシヱチル)ペンゾフラ
ン16.4夕の蝿拝された溶液に加えた。
生じた溶液を6時間鷹拝してトリメチルフェニルアンモ
ニウムモノブロマィドの沈殿を完了させた。この混合物
を水1000の‘に注ぎ込み、これに塩化ナトリウムを
加えて飽和させた。生成物をジェチルェーテルで抽出し
、合液したジヱチルェーテル抽出液を水及び塩水で洗浄
し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥した。硫酸ナトリウム
を炉別し、炉液を蒸発乾固させた。残った固体分をジェ
チルェーテルから結晶化させ、融点86o〜斑℃の淡黄
色結晶として7一(1′ーアセトキシェチル)一2ーブ
ロムアセチルベンゾフラン8.7夕を得た。メタノール
50のと中の7一(1′ーアセトキシエチル)一2ーブ
ロムアセチルベンゾフラン1.625夕の麓拝された溶
液にメタノール性塩化水素を加えて掛値4にし、次にシ
アノホゥ水素化ナトリウム0.375夕を加えた。
ニウムモノブロマィドの沈殿を完了させた。この混合物
を水1000の‘に注ぎ込み、これに塩化ナトリウムを
加えて飽和させた。生成物をジェチルェーテルで抽出し
、合液したジヱチルェーテル抽出液を水及び塩水で洗浄
し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥した。硫酸ナトリウム
を炉別し、炉液を蒸発乾固させた。残った固体分をジェ
チルェーテルから結晶化させ、融点86o〜斑℃の淡黄
色結晶として7一(1′ーアセトキシェチル)一2ーブ
ロムアセチルベンゾフラン8.7夕を得た。メタノール
50のと中の7一(1′ーアセトキシエチル)一2ーブ
ロムアセチルベンゾフラン1.625夕の麓拝された溶
液にメタノール性塩化水素を加えて掛値4にし、次にシ
アノホゥ水素化ナトリウム0.375夕を加えた。
この混合物を20o 〜2500で18時間燈拝し、水
50の‘を加え、メタノールを減圧下で蒸発させた。生
じた7一(1′ーアセトキシェチル)一2−(1′−ヒ
ドロキシー2′ーブロムエチル)ペンゾフランをジェチ
ルェーテルで抽出し、ジェチルェーテル抽出液を水及び
塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥した。硫酸
ナトリウムを炉別し、炉液を減圧下で蒸発させ、階色油
として上記のブロムヒドリンが得られ、このものを更に
精製せずに本方法に用いた。実施例 2 後記の如くして製造した粗製の7一(1′ーアセトキシ
エチル)一2一(te九一ブチルアミノメチル)ペンゾ
フラニルケトンを無水エタノール15の‘に溶解し、こ
の溶液を燈拝し、これに水素化ホウ素ナトリウム0.2
夕を加えた。
50の‘を加え、メタノールを減圧下で蒸発させた。生
じた7一(1′ーアセトキシェチル)一2−(1′−ヒ
ドロキシー2′ーブロムエチル)ペンゾフランをジェチ
ルェーテルで抽出し、ジェチルェーテル抽出液を水及び
塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥した。硫酸
ナトリウムを炉別し、炉液を減圧下で蒸発させ、階色油
として上記のブロムヒドリンが得られ、このものを更に
精製せずに本方法に用いた。実施例 2 後記の如くして製造した粗製の7一(1′ーアセトキシ
エチル)一2一(te九一ブチルアミノメチル)ペンゾ
フラニルケトンを無水エタノール15の‘に溶解し、こ
の溶液を燈拝し、これに水素化ホウ素ナトリウム0.2
夕を加えた。
この混合物を20o〜25q0で2岬時間嬢拝し、次に
水30の‘を加え、エタノールを減圧下で蒸発によって
除去した。残溶をジェチルェーテルで抽出し、ジェチル
ェーテル抽出液を水及び塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリ
ウム上で乾燥した。硫酸ナトリウムを炉別し、炉液を減
圧下で蒸発させ、粘性油を得た。ィソプロパノール中の
この油をシュウ酸で処理し、融点115qoの7一(1
′−ヒドロキシエチル)一Q一(teれーブチルアミノ
メチル)一2−ペンゾフランメタノールの結晶性水素シ
ュウ酸塩を得た。出発物質として用いた7−(1′−ア
セトキシェチル)一2一(te比−ブチルアミノメチル
)ペンゾフラニルーケトンは次の如くして製造した。
水30の‘を加え、エタノールを減圧下で蒸発によって
除去した。残溶をジェチルェーテルで抽出し、ジェチル
ェーテル抽出液を水及び塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリ
ウム上で乾燥した。硫酸ナトリウムを炉別し、炉液を減
圧下で蒸発させ、粘性油を得た。ィソプロパノール中の
この油をシュウ酸で処理し、融点115qoの7一(1
′−ヒドロキシエチル)一Q一(teれーブチルアミノ
メチル)一2−ペンゾフランメタノールの結晶性水素シ
ュウ酸塩を得た。出発物質として用いた7−(1′−ア
セトキシェチル)一2一(te比−ブチルアミノメチル
)ペンゾフラニルーケトンは次の如くして製造した。
teれ−ブチルアミン0.9夕を乾いたジェチルェーテ
ル20叫中の7−(1′−アセトキシエチル)−2ーフ
ロムアセチルベンゾフラン(実施例1に述べた如くして
製造したもの)0.975夕の蝿拝された溶液に1oo
○で滴下した。この混合物を0℃で20時間放置した。
冷却した溶液を炉遇し、炉液を希塩酸で抽出した。酸性
抽出液を希釈水酸化ナトリウム水溶液で塩基性にし、ジ
ェチルェーテルで2回抽出した。合液した抽出液を水及
び塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥した。硫
酸ナトリウムを炉別し、炉液を減圧下で蒸発乾団させ、
得られた粗製の不安定な7−(1′アセトキシェチル)
−2一(teれープチルアミノメチル)ペンゾフラニル
ケトンを更に精製せずに本工程に用いた。実施例 3 アセトン20の‘中の7−(1′ーヒドロキシエチル)
一Q−(temーブチルアミノメチル)一2−ペンゾフ
ランメタノール1.7夕の25qoで縄拝された溶液に
、濃硫酸2.3の上及び水7.7叫の混合物に三酸化ク
ロム2.667夕を溶解して製造した希硫酸中の三酸化
クロム溶液〔ジョーンズ(Jones)試薬〕3.2の
【を滴下した。
ル20叫中の7−(1′−アセトキシエチル)−2ーフ
ロムアセチルベンゾフラン(実施例1に述べた如くして
製造したもの)0.975夕の蝿拝された溶液に1oo
○で滴下した。この混合物を0℃で20時間放置した。
冷却した溶液を炉遇し、炉液を希塩酸で抽出した。酸性
抽出液を希釈水酸化ナトリウム水溶液で塩基性にし、ジ
ェチルェーテルで2回抽出した。合液した抽出液を水及
び塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥した。硫
酸ナトリウムを炉別し、炉液を減圧下で蒸発乾団させ、
得られた粗製の不安定な7−(1′アセトキシェチル)
−2一(teれープチルアミノメチル)ペンゾフラニル
ケトンを更に精製せずに本工程に用いた。実施例 3 アセトン20の‘中の7−(1′ーヒドロキシエチル)
一Q−(temーブチルアミノメチル)一2−ペンゾフ
ランメタノール1.7夕の25qoで縄拝された溶液に
、濃硫酸2.3の上及び水7.7叫の混合物に三酸化ク
ロム2.667夕を溶解して製造した希硫酸中の三酸化
クロム溶液〔ジョーンズ(Jones)試薬〕3.2の
【を滴下した。
5分後、メタノール1の‘、次いで水50肌を加えた。
この混合物を希釈水酸化ナトリウム水溶液で塩基性にし
、ジェチルヱーテルで2回抽出した。合液したジェチル
抽出液を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し
た。これを炉別し、炉液を蒸発乾固させた。残溝をィソ
プロパノールに溶解し、ィソプロパノール中の過剰のシ
ュウ酸で処理し、融点220o〜22roの7ーアセチ
ル−Q−(te九一ブチルアミノメチル)−2−ペンゾ
フランメタノールの結晶性の中性シュウ酸塩を得た。実
施例 4 次の成分を含む錠剤を普通の方法で製造した:7一(1
′ーヒドロキシエチル)−Q−(teれーブチルアミノ
メチル)一2ーベンゾフランメ夕/ール
45.60柵ラクトー
ス 116.54の9
トウモロコシ殿粉 78.00の
9タルク 8
.00雌ステアリン酸マグネシウム 1.
86雌合計重量 250.00の9実施例 5 次の成分を含むアンプル剤を普通の方法で製造した:7
−(1′ーヒドロキシヱチル)一Q−(te比−プチル
アミノメチル)一2ーベンゾフランメタノール
5.697雌リ
ン酸水素二ナトリウム 2.550の9
クエン酸一水和物 8.405の
9水、5.000の‘にするために 十分
な量なお、本発明の主な実施態様を示せば次のとおりで
ある。
、ジェチルヱーテルで2回抽出した。合液したジェチル
抽出液を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し
た。これを炉別し、炉液を蒸発乾固させた。残溝をィソ
プロパノールに溶解し、ィソプロパノール中の過剰のシ
ュウ酸で処理し、融点220o〜22roの7ーアセチ
ル−Q−(te九一ブチルアミノメチル)−2−ペンゾ
フランメタノールの結晶性の中性シュウ酸塩を得た。実
施例 4 次の成分を含む錠剤を普通の方法で製造した:7一(1
′ーヒドロキシエチル)−Q−(teれーブチルアミノ
メチル)一2ーベンゾフランメ夕/ール
45.60柵ラクトー
ス 116.54の9
トウモロコシ殿粉 78.00の
9タルク 8
.00雌ステアリン酸マグネシウム 1.
86雌合計重量 250.00の9実施例 5 次の成分を含むアンプル剤を普通の方法で製造した:7
−(1′ーヒドロキシヱチル)一Q−(te比−プチル
アミノメチル)一2ーベンゾフランメタノール
5.697雌リ
ン酸水素二ナトリウム 2.550の9
クエン酸一水和物 8.405の
9水、5.000の‘にするために 十分
な量なお、本発明の主な実施態様を示せば次のとおりで
ある。
{1} 一般式
〔式中、Aはヒドロキシメチレンまたはカルボニル基を
表わす〕のペンゾフラン誘導体及びその酸付加塩を製造
するにあたり、Aがヒドロキシメチレン基を表わす式1
の化合物を製造する際には、‘a} 一般式 〔式中、Rは水素原子または低級アルカノィル基を表わ
し、そして×は塩素または臭素原子を表わす〕の化合物
をten−プチルアミンで処理するか、【b)一般式 〔式中、RIは低級アルカノィル基を表わす〕の化合物
をアルカリ金属水素化ホウ素化物で還元するか、または
‘c)一般式〔式中、×は塩素または臭素原子を表わす
〕の化合物を触媒的に水素添加し、Aがカルボニル基を
表わす式1の化合物を製造する際には、式の化合物を塩
基で処理し、必要に応じて、Aがヒドロキシメチル基を
表わす式1の化合物をクロム酸化剤で酸化して、Aがカ
ルボニル基を表わす化合物にし、そして必要に応じて、
得られた式1の化合物を酸付加塩に変えることを特徴と
する上言己一般式(1)のペンゾフラン譲導体及びその
酸付加塩の製造方法。
表わす〕のペンゾフラン誘導体及びその酸付加塩を製造
するにあたり、Aがヒドロキシメチレン基を表わす式1
の化合物を製造する際には、‘a} 一般式 〔式中、Rは水素原子または低級アルカノィル基を表わ
し、そして×は塩素または臭素原子を表わす〕の化合物
をten−プチルアミンで処理するか、【b)一般式 〔式中、RIは低級アルカノィル基を表わす〕の化合物
をアルカリ金属水素化ホウ素化物で還元するか、または
‘c)一般式〔式中、×は塩素または臭素原子を表わす
〕の化合物を触媒的に水素添加し、Aがカルボニル基を
表わす式1の化合物を製造する際には、式の化合物を塩
基で処理し、必要に応じて、Aがヒドロキシメチル基を
表わす式1の化合物をクロム酸化剤で酸化して、Aがカ
ルボニル基を表わす化合物にし、そして必要に応じて、
得られた式1の化合物を酸付加塩に変えることを特徴と
する上言己一般式(1)のペンゾフラン譲導体及びその
酸付加塩の製造方法。
■ Aがヒドロキシメチレン基を表わす式1の化合物を
製造する際に、【a} 一般式 〔式中、Rは水素原子または低級アルカノィル基を表わ
し、そして×は塩素または臭素原子を表わす〕の化合物
をteれ−ブチルアミンで処理するか、‘b} 一般式 〔式中、RIは低級アルカノィル基を表わす〕の化合物
をアルカリ金属水素化ホウ素化物で還元するか、または
【C1 一般式〔式中、Xは塩素または臭素原子を表わ
す〕の化合物を触媒的に水素添加し、Aがカルボニル基
を表わす式1の化合物を製造する際には式の化合物を塩
基で処理し、そして必要に応じて、得られた式1の化合
物を酸付加塩に変えることからなる上記1による方法。
製造する際に、【a} 一般式 〔式中、Rは水素原子または低級アルカノィル基を表わ
し、そして×は塩素または臭素原子を表わす〕の化合物
をteれ−ブチルアミンで処理するか、‘b} 一般式 〔式中、RIは低級アルカノィル基を表わす〕の化合物
をアルカリ金属水素化ホウ素化物で還元するか、または
【C1 一般式〔式中、Xは塩素または臭素原子を表わ
す〕の化合物を触媒的に水素添加し、Aがカルボニル基
を表わす式1の化合物を製造する際には式の化合物を塩
基で処理し、そして必要に応じて、得られた式1の化合
物を酸付加塩に変えることからなる上記1による方法。
(3’ 7一(1′ーヒドロキシエチル)−Q−(にr
tーブチルアミノメチル)一2−ペンゾフランメタノー
ルまたはその酸付加塩を製造する際の上記1または2に
よる方法。
tーブチルアミノメチル)一2−ペンゾフランメタノー
ルまたはその酸付加塩を製造する際の上記1または2に
よる方法。
‘417ーアセチル−Q−(te止ーブチルアミノメチ
ル)一2−ペンゾフランメタノールまたはその酸付加塩
を製造する際の上記1または2による方法。
ル)一2−ペンゾフランメタノールまたはその酸付加塩
を製造する際の上記1または2による方法。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Rは水素原子または低級アルカノイル基を表わ
し、そしてXは塩素または臭素原子を表わす〕の化合物
をtert−ブチルアミンで処理し、そして必要に応じ
て、得られる化合物を酸付加塩に変えることを特徴とす
る一般式▲数式、化学式、表等があります▼ のベンゾフラン誘導体及びその酸付加塩の製造方法。 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R^1は低級アルカノイル基を表わす〕の化合
物をアルカリ金属水素化ホウ素化物で還元し、そして必
要に応じて、得られる化合物を酸付加塩に変えることを
特徴とする一般式▲数式、化学式、表等があります▼ のベンゾフラン誘導体及びその酸付加塩の製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB41890/74 | 1974-09-26 | ||
| GB4189074A GB1472959A (en) | 1974-09-26 | 1974-09-26 | Benzofuran derivatives and a process for the manufacture thereof |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5163168A JPS5163168A (en) | 1976-06-01 |
| JPS604177B2 true JPS604177B2 (ja) | 1985-02-01 |
Family
ID=10421827
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP50114965A Expired JPS604177B2 (ja) | 1974-09-26 | 1975-09-25 | ベンゾフラン誘導体の製造方法 |
Country Status (22)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US3972900A (ja) |
| JP (1) | JPS604177B2 (ja) |
| AR (2) | AR208714A1 (ja) |
| AT (1) | AT349003B (ja) |
| BE (1) | BE833785A (ja) |
| CA (1) | CA1059525A (ja) |
| CH (3) | CH614438A5 (ja) |
| DD (1) | DD122521A5 (ja) |
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