JPS6037108B2 - 無水フタル酸の製造方法 - Google Patents

無水フタル酸の製造方法

Info

Publication number
JPS6037108B2
JPS6037108B2 JP56155658A JP15565881A JPS6037108B2 JP S6037108 B2 JPS6037108 B2 JP S6037108B2 JP 56155658 A JP56155658 A JP 56155658A JP 15565881 A JP15565881 A JP 15565881A JP S6037108 B2 JPS6037108 B2 JP S6037108B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
weight
catalyst
rubidium
titanium dioxide
naphthalene
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP56155658A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5857374A (ja
Inventor
正隆 金安
忠則 原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shin Etsu Chemical Co Ltd filed Critical Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority to JP56155658A priority Critical patent/JPS6037108B2/ja
Priority to GB08227280A priority patent/GB2109697B/en
Priority to US06/424,636 priority patent/US4469878A/en
Priority to KR8204435A priority patent/KR870000919B1/ko
Publication of JPS5857374A publication Critical patent/JPS5857374A/ja
Publication of JPS6037108B2 publication Critical patent/JPS6037108B2/ja
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C51/00Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides
    • C07C51/16Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides by oxidation
    • C07C51/21Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides by oxidation with molecular oxygen
    • C07C51/255Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides by oxidation with molecular oxygen of compounds containing six-membered aromatic rings without ring-splitting
    • C07C51/265Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides by oxidation with molecular oxygen of compounds containing six-membered aromatic rings without ring-splitting having alkyl side chains which are oxidised to carboxyl groups
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D307/00Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J23/00Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
    • B01J23/002Mixed oxides other than spinels, e.g. perovskite
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J23/00Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
    • B01J23/16Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of arsenic, antimony, bismuth, vanadium, niobium, tantalum, polonium, chromium, molybdenum, tungsten, manganese, technetium or rhenium
    • B01J23/20Vanadium, niobium or tantalum
    • B01J23/22Vanadium
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J27/00Catalysts comprising the elements or compounds of halogens, sulfur, selenium, tellurium, phosphorus or nitrogen; Catalysts comprising carbon compounds
    • B01J27/14Phosphorus; Compounds thereof
    • B01J27/186Phosphorus; Compounds thereof with arsenic, antimony, bismuth, vanadium, niobium, tantalum, polonium, chromium, molybdenum, tungsten, manganese, technetium or rhenium
    • B01J27/195Phosphorus; Compounds thereof with arsenic, antimony, bismuth, vanadium, niobium, tantalum, polonium, chromium, molybdenum, tungsten, manganese, technetium or rhenium with vanadium, niobium or tantalum
    • B01J27/198Vanadium
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J35/00Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties
    • B01J35/50Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties characterised by their shape or configuration
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C51/00Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides
    • C07C51/16Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides by oxidation
    • C07C51/31Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides by oxidation of cyclic compounds with ring-splitting
    • C07C51/313Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides by oxidation of cyclic compounds with ring-splitting with molecular oxygen
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2523/00Constitutive chemical elements of heterogeneous catalysts

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
  • Furan Compounds (AREA)
  • Catalysts (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は無水フタル酸の製造方法に関するものである。
詳しく述べると、分子状酸素含有ガスによりナフタリン
またはオルソキシレンを気相で後触酸化して無水フタル
酸の製造する方法に関するものである。周知のように、
無水フタル酸は、工業的には触媒を充填した多管式反応
器にナフタリンまたはオルソキシレン分子状酸素含有ガ
スとよりなる混合ガスを高温で通過させて接触酸化する
ことにより製造されている。
該方法に使用される触媒としては、、例えば非多孔性不
活性担体に五酸化バナジウム1〜15重量%および二酸
化チタン99〜85重量%を含有する触媒物質を0.2
〜2側の層厚にかつ触媒全体に対する五酸化バナジウム
の含有率0.05〜3重量%になるように被覆してなる
ものである(特公昭46一39844号)。また、前記
触媒において担持される触媒物質にリン化合物を配合す
る方法も提案されている(特公昭51一1127ぴ号)
。しかしながら、このような公知方法いおいては副性物
の生成量、触媒寿命および無水フタル酸収率等のまだ不
満足なものであった。特に、原料としてナフタリンを使
用する場合このような問題点が増大する。また、このよ
うな問題点は、供給ガス中のナフタリンまたはオルソキ
シレンの濃度が大きくなるほど増大する。しかし、経済
的には前記ナフタliンまたはオルソキシレンの濃度が
爆発下限を越えるような高濃度にすることが望ましい。
一方、副生物の生成は、例えば高い温度、より少ないガ
ス導適量(より長い滞留時間)またはより低いナフタリ
ンまたはオルソキシレン濃度で酸化を行うことにより抑
制できる。しかし、このような条件下では無水フタル酸
の生産性が低下する。このような欠点を解決するために
、原料ガス混合物の流れ方向に対して上流側に、活性物
質中に二酸化チタンに対し0.01〜0.3重量%のル
ビジウムを含有するリンを含有しない五酸化バナジウム
および二酸化チタンを含有する触媒活性物質を坦持した
第1触媒と、下流側に活性物質中に二酸化チタンに対し
0.02〜0.紅重量%のリンを含有するがルビジウム
を含有しない五酸化バナジウムおよび二酸化チタンを含
有する触媒活性物質を担持した第2触媒とを用いてナフ
タリンまたはオルソキシレンを気相酸化する方法が提案
されている(特公昭52−51337号)。
しかしながら、このような方法でも、全体として無水フ
タル酸の収率が末だ不充分であり、特に原料としてナフ
タリンを使用する場合にはその問題を増大する。本発明
は、前記のごとき従来法の諸欠点を解消するためになさ
れたもので、原料ガス混合物の流通方向に対して、上流
側に二酸化チタン90〜6り重量%、五酸化バナジウム
9〜3の重量%およびルビジウム化合物0.7〜3重量
%(Rb2S04として計算)よりなる触媒活性成分を
非多孔性の不活性迫体に担持させてなる第1触媒と、下
流側に二酸化チタン94〜6り重量%、五酸化バナジウ
ム5〜3の重量%および錫化合物0.1〜1重量%(S
n02として計算)および/またはリン化合物0.5〜
3重量%(P2Qとして計算)よりなる触媒活性成分を
非多孔性の不宿性担体に坦持させてなる第2触媒とより
なる触媒層にナフタリンまたはオルソキシレンおよび分
子状酸素含有ガスよりなるガス混合物を接触させて酸化
することを特徴とする無水フタル酸の製造方法により達
成される。
まず、本発明において原料ガス混合物の流通方向に対し
て上流側に充填して使用される第1触媒は、非多孔性の
不活性担体上に二酸化チタン90〜67重量%、好まし
くは70〜85重量%、五酸化バナ化バナジウム9〜3
の重量%、好ましくは15〜25重量%およびルビジウ
ム化合物0.7〜3重量%、好ましくは1.2〜2.3
重量%(Rb2S04として計算)よりなる触媒活性成
分を、前記担体1夕当り20〜200g、好ましくは4
0〜15雌担持させてなるものである。
なお、前記触媒活性成分中には錫化合物およびリン化合
物は実質的に含有されていない。しかしながら、K,C
s,Fe等の化合物を少量含有することは差し支えない
。この触媒は、例えば常法により製造される。すなわち
、五酸化バナジウムまたは加熱により五酸化バナジウム
に変化し得るバナジウム化合物、例えばバナジン酸アン
モニウム、あるいはバナジウムの硫酸塩、シュウ酸塩ギ
酸塩、酢酸塩、酒石酸塩等を水またはアルコール等の有
機溶媒と水との混合溶媒に溶解し、これに適当なルビジ
ウム化合物を添加し、微粒子状二酸化チタンと混合し、
得れるスラリー状混合物を不活性担体に噴霧するかある
いは該スラリー状混合物中に不活性担体を浸潰したのち
所定の温度に加熱するか、あるいは所定の温度に加熱さ
れた担体上に前記スリラー状混合物を噴霧することによ
り製造される。好適なルビジウム化合物としては的例え
ば、硫酸ルビジウム、酸化ルビジウム、炭酸ルビジウム
酢酸ルビジウム、硝酸ルビジウム等があり、好ましくは
硫酸ルビジウムである。硫酸ルビジウムを除いてこれら
の化合物は比較的高い温度において酸化物に変化する。
触媒中ではルビジウムは、硫酸ルビジウム、酸化ルビジ
ウム、バナジン酸ルビジウム等として存在する硫酸ルビ
ジウムまたはピロ硫酸ルビジウム等の硫酸のオキシ酸塩
の形が最も好ましい。原料ガス混合物の流通方向に対し
て下流側に充填して使用される第2触媒は、非多孔性の
不活性担体上に二酸化チタン94〜60重量%、好まし
くは70〜85重量%、五酸化バナジウム5〜30重量
%、好ましくは15〜25重量%および錫化合物0.1
〜1重量%、好ましくは0.2〜0.6重量%(Sn0
2として計算)よび/またはリン化合物0.5〜3重量
%、好ましくは1〜2重量%(P205として計算)よ
りなる触媒活性成分を、前記担体1夕当り20〜200
g、好ましくは40〜150g坦持させてなるものであ
る。
なお、前記触媒活性成分中には、ルビジウム等のアルカ
リ金属化合物は実質的に含まれない。しかしながら、F
e,Cr,Mo,W等の化合物を少量含有することは差
し支えない。この触媒は、例えば常法により製造される
すなわち、五酸化バナジウムまたは前記のごとき加熱に
より五酸化バナジウムに変化し得るバナジウム化合物を
、水または前記のごとき有機溶媒に溶解し、これに適当
な錫化合物またリン化合物のいずれかまたは両者を添加
し、微粒子状二酸化チタンと混合し、得られるスラリ−
状混合を不活性担体に贋霧するかあるいは該スラリ−状
混合物中に不活性担体にを浸潰したのち所定の温度に加
熱するか、あるいは所定の温度に加熱された損体上に前
記スラリー状混合物を贋霧することにより製造される。
好適な錫化合物としては、例えば酸化錫、塩化第二錫、
酢酸錫等があり、これらは焼成時に酸化錫となる、好適
なリン化合物としては、リン酸アンモニウム、リン酸、
亜リン酸、リン酸ェステル等がある。
なお、本明細書中に示した触媒活性成分の化学名は計算
するための便宣上のものであって、周知のとおり実際の
触媒中ではバナジウムは、例えばV○k(x=1〜5)
、バナジン酸塩等の形で存在し、ルビジウム、硫酸ルビ
ジウム、ピロ硫酸ルビジウム等の形で存在する。
また錫Sn0×、スズ酸塩等の形で存在し、リンはPO
X、リン酸等の形で存在する。本発明において使用され
る触媒における二酸化チタン源としては、アナターゼ型
二酸化チタン、二酸化チタン水和物等がある。
また、本発明において使用される触媒の非多孔性の不活
‘性担体には、糠結または溶融されたケイ酸塩、ステァ
タィト、磁器、アルミナ、炭化ケイ素等がある。
前記担体の形状は、球状、円柱状、リング状等があり、
その相当直径は約3〜12柵、好ましくは約6〜1仇ゆ
である。また、円柱状、リング状のものについては、そ
の高さは約3〜10側、好ましくは約4〜8側であり、
より好ましくは相当直径の約70〜80%の高さである
。これらの内、リング状のものが好ましく、特に特鹿昭
55−56228号に開示されているようなレッシング
リング状のものが圧力損失を小さくし、かつ高濃度酸化
を可能とするので好ましい。リング状の担体とした場合
、内蓬は2〜1仇松、好ましくは約4〜8肌であり、レ
ッシングリング状のものについては、ほぼ中央に仕切壁
を設け、0.5〜2柳好ましくは0.6〜1肌の壁厚と
することが適当である。触媒活性物質を担持させたのち
、これを加熱して触媒とする。加熱は300〜600o
o、好ましくは酸素雰囲気中で4〜10時間加熱分解し
て行なわれる。前記のごとき2種類の触媒は、通常第1
触媒と第2触媒との容量比が第1触媒100容量部に対
し30〜30舷容量部であり、好ましくは60〜15舷
容量部である。
これらは、多管式反応器の下層として第2触媒を所定の
層高に充填したのち上層として第1触媒を充填し、上方
よりナフタリンまたはオルソキシレンと分子状酸素含有
ガス、例えば空気との混合ガスを流通させて接触酸化を
行なう。反応温度は300〜400午0(ナイター温度
)好ましくは330〜38ぴ○であり、ナフタリンまた
はオルソキシレン濃度は30〜8咳/で−空気、好まし
くは40〜6雌/従一空気であり、また空間速度は10
00〜800血r‐1、好ましくは2000〜500h
rlである。本発明は、前記のように、第1触媒により
比較的低い活性かつ高い選択率で酸化して添加したナフ
タリンまたはオルソキシレンは極力無水フタル酸を選択
的に得るとともに、第2触媒により選択率は犠牲にして
も高い活性で酸化して未反応の炭化水素を極力減らせる
ので、全体として創生物の生成が小さくかつ高収率で無
水フタル酸を得ることができる。つぎに、実施例を挙げ
て本発明をさらに詳細に説明する。
なお、下記実施例における「%」は、特にことわらない
限り全て重量%である。実施例 1 ■ 第1触媒の調製 粉末状二酸化チタン(アナターゼ型含有)、メタバナジ
ン酸アンモニウムおよび硫酸ルビジウムを水に加え十分
額洋および乳化して水溶性化合物は溶解せしめ、二酸化
チタン粉末は乳化または懸濁させ、スラリー状の液とし
た。
回転炉中に、直径8脚、高さ6肌磁製しッシングリング
状迫体を挿入し、200〜250oCに予熱しておき、
回転炉を回転させながら担体上に上記スラリー液を噴露
して、挺体1そ当り触媒成分8雌担持するよう触媒成分
を担持させた。次いで、空気を流通させながら550℃
にて6時間焼成して触媒とした。得られた触媒の組成は
、触媒活性成分中のV2Q18%、Rb夕040.5〜
2%,Ti02残余となるようにした。
{B’ 第2触媒の調製 第1触媒と同様に粉末状二酸化チタン、メタバナジン酸
アンモニウム塩化スズまたはリン酸アンモニウムを脱イ
オン水に加え、鯛拝および乳化してスラリー状の触媒液
とした。
この触媒液を第1段触媒の調製と同機にしてレッシング
リング状担体に贋霧して、担体1そ当り触媒成分80g
となるよう担持させた。次いで、空気を流通させながら
550℃にて6時間焼成して触媒とした。得られた触媒
の組成は、触媒活性成分中のV20520%,Sn02
またはP205,0.3〜2.5%,Ti02残余とな
るようにした。{C)無水フタル酸の製造 ナイター俗に浸した内系25側の反応管に、上から下へ
第1触媒層および第2触媒層を充填し、ナフタリンと空
気の混合ガスを通した。
ナフタリンの濃度は5雌/Nm3、空間速度300皿r
‐1であり、ナイター温度は340〜360午0の最適
温度とした。
結果を第1表に示す。第1表 比較例 第1触媒の製造においてRQS04の添加量を、第2触
媒の製造においてP2QまたはSn02の添加量を変え
た以外実施例1と同様にして、触媒を製造した。
この触媒を用いて実施例1と同様にしてナフタリンの酸
化を行った。その結果を第2表に示す。第2表 * 1触媒単独反Lb 実施例 2 実施例1と同様にして、第1触媒および第2触煤を調製
し、ナフタリンを酸化反応を行った。
実験番号1および実験番号2は、第2触媒の触媒活性成
分中のV205をそれぞれ10%および30%としたも
のであり、実験番号3および実験番号4は反応条件にお
いて、ナフタリン濃度を40g/Nでおよび60g/N
〆としたものである。結果を第3表に示す。第3表

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 原料ガス混合物の流通方向に対して、上流側に二酸
    化チタン90〜67重量%、五酸化バナジウム9〜30
    重量%およびルビジウム化合物0.7〜3重量%(Rb
    _2SO_4として計算)よりなる触媒活性成分を非多
    孔性の不活性担体に担持させてなる第1触媒と、下流側
    に二酸化チタン94〜67重量%、五酸化バナジウム5
    〜30重量%および錫化合物0.1〜1重量%(SnO
    _2として計算)および/またはリン化合物0.5〜3
    重量%(P_2O_5として計算)よりなる触媒活性成
    分を非多孔性の不活性担体に担持させてなる第2触媒と
    よりなる触媒層にナフタリンまたはオルソキシレンおよ
    び分子状酸素含有ガスよりなるガス混合物を接触させて
    酸化することを特徴とする無水フタル酸の製造方法。 2 非多孔性の不活性担体の形状がレツシングリング状
    である特許請求の範囲第1項に記載の製造方法。
JP56155658A 1981-09-30 1981-09-30 無水フタル酸の製造方法 Expired JPS6037108B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP56155658A JPS6037108B2 (ja) 1981-09-30 1981-09-30 無水フタル酸の製造方法
GB08227280A GB2109697B (en) 1981-09-30 1982-09-24 Catalysts and method for manufacture of phthalic anhydride
US06/424,636 US4469878A (en) 1981-09-30 1982-09-27 Method for manufacture of phthalic anhydride
KR8204435A KR870000919B1 (ko) 1981-09-30 1982-09-30 무수 프탈산의 제조방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP56155658A JPS6037108B2 (ja) 1981-09-30 1981-09-30 無水フタル酸の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5857374A JPS5857374A (ja) 1983-04-05
JPS6037108B2 true JPS6037108B2 (ja) 1985-08-24

Family

ID=15610771

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP56155658A Expired JPS6037108B2 (ja) 1981-09-30 1981-09-30 無水フタル酸の製造方法

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JPS6037108B2 (ja)
KR (1) KR870000919B1 (ja)
GB (1) GB2109697B (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61161823U (ja) * 1985-03-26 1986-10-07
JPH0472417U (ja) * 1990-10-31 1992-06-25
JPH0542564Y2 (ja) * 1987-06-26 1993-10-27

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH062602B2 (ja) * 1986-03-28 1994-01-12 日本板硝子株式会社 繊維の製造方法及び装置
JPS62263359A (ja) * 1986-05-09 1987-11-16 大日本インキ化学工業株式会社 炭素繊維断熱材
JPS6385116A (ja) * 1986-09-26 1988-04-15 Dainippon Ink & Chem Inc 炭素繊維断熱材
JPS63253080A (ja) * 1987-04-10 1988-10-20 Nippon Steel Chem Co Ltd 無水フタル酸の製造方法
US5229527A (en) * 1991-10-25 1993-07-20 Nippon Shokubai Co., Ltd. Method for production of phthalic anhydride by vapor-phase oxidation of mixture of ortho-xylene with naphthalene
TW415939B (en) * 1996-10-23 2000-12-21 Nippon Steel Chemical Co Gas-phase oxidization process and process for the preparation of phthalic anhydride

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61161823U (ja) * 1985-03-26 1986-10-07
JPH0542564Y2 (ja) * 1987-06-26 1993-10-27
JPH0472417U (ja) * 1990-10-31 1992-06-25

Also Published As

Publication number Publication date
KR870000919B1 (ko) 1987-05-07
JPS5857374A (ja) 1983-04-05
GB2109697B (en) 1985-10-09
GB2109697A (en) 1983-06-08
KR840001565A (ko) 1984-05-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0286448B1 (en) Process for the preparation of phthalic anhydride
JP3248560B2 (ja) 気相酸化反応用担持触媒
JP2006000850A (ja) 無水フタル酸を製造するための接触酸化用触媒
KR20010043832A (ko) o-크실렌/나프탈렌 혼합물의 기상 촉매접촉 산화를 통한프탈산 무수물의 제조 방법
JP2001513091A (ja) 無水フタル酸の製造方法およびこのためのチタン−バナジウム−セシウムを含む殻触媒
JPS6026790B2 (ja) O‐キシロール又はナフタリンからの無水フタル酸の製法
JPS6037108B2 (ja) 無水フタル酸の製造方法
US4469878A (en) Method for manufacture of phthalic anhydride
JP3028327B2 (ja) メタクロレイン及びメタクリル酸の製造方法
JPS584012B2 (ja) アニスアルデヒドノセイホウ
JPH0354944B2 (ja)
JP2933504B2 (ja) 無水ピロメリット酸の製造方法
JP2592490B2 (ja) 芳香族炭化水素の酸化方法
JP2000001484A (ja) 無水ピロメリット酸の製造方法
JPS6059235B2 (ja) 無水フタル酸の製造方法
JPH0924277A (ja) メタクリル酸製造用触媒及びメタクリル酸の製造方法
JP3298609B2 (ja) 無水フタル酸製造用触媒およびそれを用いてなる無水フタル酸の製造方法
JPS6128456A (ja) 無水ピロメリツト酸製造用触媒
JPH0153853B2 (ja)
JPH0413026B2 (ja)
JP2001062303A5 (ja)
JPH0218900B2 (ja)
JP2563995B2 (ja) 触 媒
JP2002105078A (ja) 無水ピロメリット酸の製造方法
JPS63255274A (ja) 無水フタル酸の製造方法