JPS5857374A - 無水フタル酸の製造方法 - Google Patents
無水フタル酸の製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は無水フタル酸の¥J造方法に関するものである
。詳しく述べると、分子状酸素含有ガスによりナフタリ
ンまたはオルソキシレンを気相で接触酸化して無水フタ
ル酸を製造する方法にr!!づるものである。
。詳しく述べると、分子状酸素含有ガスによりナフタリ
ンまたはオルソキシレンを気相で接触酸化して無水フタ
ル酸を製造する方法にr!!づるものである。
周知のように、無水フタル酸は、14的には触媒を充填
した多管式反応器にナフタリンまたはオルソ1シレンと
分子状酸素含有ガスとよりなる混合ガスを高温で通過さ
せて接触酸化することにより製造されている。該方法に
使用される触媒としては、例えば非多孔性不活性担体に
五酸化バナジウム1〜15重■%および二酸化チク2〇
9〜85重培%を含有づる触媒物質を0.02〜2.m
mの層厚にかつ触媒全体に対する五酸化バナジウムの含
有率が0.05〜3@畿%になるように被覆してなるも
のである(特公昭46−3984/I号)。
した多管式反応器にナフタリンまたはオルソ1シレンと
分子状酸素含有ガスとよりなる混合ガスを高温で通過さ
せて接触酸化することにより製造されている。該方法に
使用される触媒としては、例えば非多孔性不活性担体に
五酸化バナジウム1〜15重■%および二酸化チク2〇
9〜85重培%を含有づる触媒物質を0.02〜2.m
mの層厚にかつ触媒全体に対する五酸化バナジウムの含
有率が0.05〜3@畿%になるように被覆してなるも
のである(特公昭46−3984/I号)。
また、前記触媒において担持される触媒物質にすン化合
物を配合する方法も提案されている〈特公昭54−11
270丹)。
物を配合する方法も提案されている〈特公昭54−11
270丹)。
しかしながら、このような公知方法においては副生物の
生成量、触tJA寿命および無水フタル酸収率等の点で
まだ不満足なものであった。特に、原料としてナフタリ
ンを使用する場合このような問題点が増大する。また、
このような問題点は、供給ガス中のナフタリンまたはオ
ルソキシレンの濃度が大きくなるほど増大する。しかし
、経済的には前記ナフタリンまたはオルソキシレンの濃
度が爆発下限を越えるような高濃度にすることが望まし
い。一方、副生物の生成は、例えばより高い温度、より
少ないガス導通邑(より長い滞留時間)またはより低い
ナフタリンまたはAシソキシ12m度で酸化を行なうこ
とにより抑制できる。しかし、このような条何下では無
水フタル酸の生産性が低下する。
生成量、触tJA寿命および無水フタル酸収率等の点で
まだ不満足なものであった。特に、原料としてナフタリ
ンを使用する場合このような問題点が増大する。また、
このような問題点は、供給ガス中のナフタリンまたはオ
ルソキシレンの濃度が大きくなるほど増大する。しかし
、経済的には前記ナフタリンまたはオルソキシレンの濃
度が爆発下限を越えるような高濃度にすることが望まし
い。一方、副生物の生成は、例えばより高い温度、より
少ないガス導通邑(より長い滞留時間)またはより低い
ナフタリンまたはAシソキシ12m度で酸化を行なうこ
とにより抑制できる。しかし、このような条何下では無
水フタル酸の生産性が低下する。
このような欠点を解決するために、原料ガス混合物の流
れ方向に対して上流側に、活性物質中に二酸化ブタンに
対し0.01〜0.3重量%のルビジウムを含有するが
リンを含有しない五酸化バナジウムおよび二酸化チタン
を含有Jる触媒活性物質を担持した第1触媒と、下流側
に活性物質中に二酸化チタンに対し0.02〜0.8重
量%のリンを含有するがルビジウムを含有しない五酸化
バナジウムおよび二酸化チタンを含有する触媒活性物質
を担持した第2触媒とを用いてナフタリンまたはオルソ
キシレンを気相酸化でる方法が提案されている(特開昭
52−51337号)。しかしながら、こような方法で
も、全体として無水フタル酸の収率が木だ不充分であり
、特に原料としてナフタリンを使用する場合にはその問
題は増大する。
れ方向に対して上流側に、活性物質中に二酸化ブタンに
対し0.01〜0.3重量%のルビジウムを含有するが
リンを含有しない五酸化バナジウムおよび二酸化チタン
を含有Jる触媒活性物質を担持した第1触媒と、下流側
に活性物質中に二酸化チタンに対し0.02〜0.8重
量%のリンを含有するがルビジウムを含有しない五酸化
バナジウムおよび二酸化チタンを含有する触媒活性物質
を担持した第2触媒とを用いてナフタリンまたはオルソ
キシレンを気相酸化でる方法が提案されている(特開昭
52−51337号)。しかしながら、こような方法で
も、全体として無水フタル酸の収率が木だ不充分であり
、特に原料としてナフタリンを使用する場合にはその問
題は増大する。
本発明は、前記のごとき従来法の諸欠点を解消するため
になされたもので、原料ガス混合物の流通方向に対して
、上流側に二酸化チタン90〜67重間%、五酸化バナ
ジウム9〜30重ω%およびルビジウム化合物0.7〜
3Φ量%(Rb2S04として計算)よりなる触媒活性
成分を非多孔性の不活性担体に担持させてなる第1触媒
と、下流側に二酸化チク294〜6フ重四%、五酸化バ
プジウム5〜30重量%および錫化合物0.1〜1重量
%(3n 02として計算)および/またはリン化合物
0.5〜3重量%(R20sとして計陣)よりなる触媒
活性成分を非多孔性の不活性担体に担持させてなる第2
触媒とよりなる触媒層にナフタリンまたはオルソキシレ
ンおよび分子状酸素含有ガスよりなるガス混合物を接触
させて酸化することを特徴とする無水フタル酸の製造方
法により達成される。
になされたもので、原料ガス混合物の流通方向に対して
、上流側に二酸化チタン90〜67重間%、五酸化バナ
ジウム9〜30重ω%およびルビジウム化合物0.7〜
3Φ量%(Rb2S04として計算)よりなる触媒活性
成分を非多孔性の不活性担体に担持させてなる第1触媒
と、下流側に二酸化チク294〜6フ重四%、五酸化バ
プジウム5〜30重量%および錫化合物0.1〜1重量
%(3n 02として計算)および/またはリン化合物
0.5〜3重量%(R20sとして計陣)よりなる触媒
活性成分を非多孔性の不活性担体に担持させてなる第2
触媒とよりなる触媒層にナフタリンまたはオルソキシレ
ンおよび分子状酸素含有ガスよりなるガス混合物を接触
させて酸化することを特徴とする無水フタル酸の製造方
法により達成される。
まず、本発明において原料ガス混合物の流通方向に対し
て上流側に充填して使用される第1触媒は、非多孔性の
不活性担体上に二酸化チク290〜6フ重置%、好まし
くは70〜85重量%、五酸化バナ化バナジウム9〜3
0重間%、好ましくは15〜25重鏝%およびルビジウ
ム化合物0゜7〜3重量%、好ましくは1.2〜2.3
重量%(R1)2804として計算)よりなる触媒活性
成分を、前記担体11.当り20〜200o、好ましく
は40〜150g担持させてなるものである。
て上流側に充填して使用される第1触媒は、非多孔性の
不活性担体上に二酸化チク290〜6フ重置%、好まし
くは70〜85重量%、五酸化バナ化バナジウム9〜3
0重間%、好ましくは15〜25重鏝%およびルビジウ
ム化合物0゜7〜3重量%、好ましくは1.2〜2.3
重量%(R1)2804として計算)よりなる触媒活性
成分を、前記担体11.当り20〜200o、好ましく
は40〜150g担持させてなるものである。
なお、前記触媒活性成分中には錫化合物およびリン化合
物は実質的に含有されていない。しかしながら、K、C
3、Fe等の化合物を少量含有することは差し支えない
。この触媒は、例えば常法により製造される。すなわち
、五酸化バナジウムまたは加熱により五酸化バナジウム
に変化し得るバナジウム化合物、例えばバナジン酸アン
モニウム、あるいはバナジウムの1iiII酸塩、ショ
ウ酸塩、ギ酸塩、酢酸塩、酒石酸塩等を水またはアルコ
ール等の有機溶媒と水との混合溶媒に溶解し、これに適
当なルビジウム化合物を添加し、微粒子状二酸化チタン
と混合し、得れるスラリー状混合物を不活性担体に噴霧
するかあるいは該スラリー状混合物中に不活性担体を浸
漬したのら所定の温度に加熱づるか、あるいは所定の温
度に加熱された担体上に前記スラリー状混合物を噴f!
することにより製造される。
物は実質的に含有されていない。しかしながら、K、C
3、Fe等の化合物を少量含有することは差し支えない
。この触媒は、例えば常法により製造される。すなわち
、五酸化バナジウムまたは加熱により五酸化バナジウム
に変化し得るバナジウム化合物、例えばバナジン酸アン
モニウム、あるいはバナジウムの1iiII酸塩、ショ
ウ酸塩、ギ酸塩、酢酸塩、酒石酸塩等を水またはアルコ
ール等の有機溶媒と水との混合溶媒に溶解し、これに適
当なルビジウム化合物を添加し、微粒子状二酸化チタン
と混合し、得れるスラリー状混合物を不活性担体に噴霧
するかあるいは該スラリー状混合物中に不活性担体を浸
漬したのら所定の温度に加熱づるか、あるいは所定の温
度に加熱された担体上に前記スラリー状混合物を噴f!
することにより製造される。
好適なルビジウム化合物としては、例えば、硫酸ルビジ
ウム、酸化ルビジウム、炭酸ルビジウム、酢酸ルビジウ
ム、硝酸ルどジウム等があり、好ましくはrIi!!酸
ルビジウムである。硫酸ルビジウムを除いてこれらの化
合物は比較的高い湿度において酸化物に変化する。触媒
中ではルビジウムは、硫酸ルビジウム、酸化ルビジウム
、バナジン酸ルビジウム等として存在するか硫酸ルビジ
ウムまたはピロ硫酸ルビジウム等の硫酸のオキシ酸塩の
形が最も好ましい。
ウム、酸化ルビジウム、炭酸ルビジウム、酢酸ルビジウ
ム、硝酸ルどジウム等があり、好ましくはrIi!!酸
ルビジウムである。硫酸ルビジウムを除いてこれらの化
合物は比較的高い湿度において酸化物に変化する。触媒
中ではルビジウムは、硫酸ルビジウム、酸化ルビジウム
、バナジン酸ルビジウム等として存在するか硫酸ルビジ
ウムまたはピロ硫酸ルビジウム等の硫酸のオキシ酸塩の
形が最も好ましい。
原IIガス混合物の流通方向に対して下流側に充填して
使用される第2触媒は、非多孔性の不活性担体上に二酸
化チタン94〜67重量%、好ましくは70〜85重量
%、五酸化バナジウム5〜30重量%、好ましくは15
〜25重量%および錫化合物0.1〜1重量%、好まし
くは0.2〜0゜6M量%(Sn 02として計算)お
よび/またはリン化合物0.5〜3重」%、好ましくは
1〜2重量%(P20sとして計算)よりなる触媒活性
成分を、前記担体11当り20〜200(1,好ましく
は40〜150g担持させてなるものである。
使用される第2触媒は、非多孔性の不活性担体上に二酸
化チタン94〜67重量%、好ましくは70〜85重量
%、五酸化バナジウム5〜30重量%、好ましくは15
〜25重量%および錫化合物0.1〜1重量%、好まし
くは0.2〜0゜6M量%(Sn 02として計算)お
よび/またはリン化合物0.5〜3重」%、好ましくは
1〜2重量%(P20sとして計算)よりなる触媒活性
成分を、前記担体11当り20〜200(1,好ましく
は40〜150g担持させてなるものである。
なお、前記触媒活性成分中には、ルビジウム等のアルカ
リ金属化合物は実質的に含まれない。しかしながら、F
(!、Cr、MO,W等の化合物を少世含有することは
差し支えない。
リ金属化合物は実質的に含まれない。しかしながら、F
(!、Cr、MO,W等の化合物を少世含有することは
差し支えない。
この触媒は、例えば常法により製造される。すなわち、
li W化バナジウムまたは前記のごとぎ加熱により五
゛酸化バプージウムに変化しiqるlけジウム化合物を
、水または前記のごとぎ有機溶媒に溶解し、これに適当
な錫化合物またリン化合物のいずれかまたは両者を添加
し、微粒子状二酸化チタンと混合し、得られるスラリー
状混合を不活性担体に噴霧するかあるいは該スラリー状
混合物中に不活性担体にを浸漬したのら所定の温度に加
熱づるか、あるいは所定の温度に加熱された担体上に前
記スラリー状混合物を噴霧することによりvI造される
。
li W化バナジウムまたは前記のごとぎ加熱により五
゛酸化バプージウムに変化しiqるlけジウム化合物を
、水または前記のごとぎ有機溶媒に溶解し、これに適当
な錫化合物またリン化合物のいずれかまたは両者を添加
し、微粒子状二酸化チタンと混合し、得られるスラリー
状混合を不活性担体に噴霧するかあるいは該スラリー状
混合物中に不活性担体にを浸漬したのら所定の温度に加
熱づるか、あるいは所定の温度に加熱された担体上に前
記スラリー状混合物を噴霧することによりvI造される
。
好適な錫化合物としては、例えば酸化錫、塩化第:錫、
酢酸錫等があり、これらは焼成時に酸化錫となる、好適
4iリン化合物としては、リン酸アンモニウム、リン酸
、亜リン酸、リン酸エステル等がある。
酢酸錫等があり、これらは焼成時に酸化錫となる、好適
4iリン化合物としては、リン酸アンモニウム、リン酸
、亜リン酸、リン酸エステル等がある。
なお、本明細書中に示した触W g tzt成分の化学
名は計算するための便宜上のものであって、周知のとお
り実際の触媒中ではバナジウムは、例えばVoχ(χ−
1〜5)、バナジン酸塩等の形で存在し、ルビジウム、
硫酸ルビジウム、ピロ11111Mルビジウム等の形で
存在する。また錫はSno×、スズ酸塩等の形で存在し
、リンはpox 、リン酸塩等の形で存在する。
名は計算するための便宜上のものであって、周知のとお
り実際の触媒中ではバナジウムは、例えばVoχ(χ−
1〜5)、バナジン酸塩等の形で存在し、ルビジウム、
硫酸ルビジウム、ピロ11111Mルビジウム等の形で
存在する。また錫はSno×、スズ酸塩等の形で存在し
、リンはpox 、リン酸塩等の形で存在する。
本発明において使用される触媒における二酸化チタン源
としては、アナターゼ型二酸化チタン、二酸化チタン水
和物等がある。
としては、アナターゼ型二酸化チタン、二酸化チタン水
和物等がある。
また、本発明において使用される触媒の非多孔性の不活
性担体には、焼結または溶融されたケイ酸塩、ステアタ
イト、磁器、アルミナ、炭化ケイ素等がある。前記担体
の形状は、球状、円柱状、リング状等があり、その相当
直径は約3〜121+1111、好ましくは約6〜10
Il111である。また、円柱状、リング状のものにつ
いては、その高さは約3〜10Illll11好ましく
は約4〜8Il1mであり、より好ましくは相当直径の
約70〜80%の高さである。これらの内、リング状の
ものが好ましく、特に特願昭55−56228号に開示
されているようなレッシングリング状のものが圧力損失
を小さくし、かつ高濃度酸化を可能とするので好ましい
。リング状の担体とした場合、内(¥は2〜10ml1
1、好ましくは約4〜8mmであり、レッシングリング
状のものについては、はぼ中央に仕切壁をgQI−j、
0゜5〜21好ましくは0.6〜1mmの壁厚とするこ
とが適当である。
性担体には、焼結または溶融されたケイ酸塩、ステアタ
イト、磁器、アルミナ、炭化ケイ素等がある。前記担体
の形状は、球状、円柱状、リング状等があり、その相当
直径は約3〜121+1111、好ましくは約6〜10
Il111である。また、円柱状、リング状のものにつ
いては、その高さは約3〜10Illll11好ましく
は約4〜8Il1mであり、より好ましくは相当直径の
約70〜80%の高さである。これらの内、リング状の
ものが好ましく、特に特願昭55−56228号に開示
されているようなレッシングリング状のものが圧力損失
を小さくし、かつ高濃度酸化を可能とするので好ましい
。リング状の担体とした場合、内(¥は2〜10ml1
1、好ましくは約4〜8mmであり、レッシングリング
状のものについては、はぼ中央に仕切壁をgQI−j、
0゜5〜21好ましくは0.6〜1mmの壁厚とするこ
とが適当である。
触媒活性物質を担持させたのち、これを加熱して触媒と
する。加熱は300〜600℃、好ましくは酸素雰囲気
中で4〜10時間加熱分解して行なわれる。
する。加熱は300〜600℃、好ましくは酸素雰囲気
中で4〜10時間加熱分解して行なわれる。
前記のごとき2種類の触媒は、通常第1触媒と第2触媒
との容量比が第1触媒100容閤部に対し30〜300
容量部であり、り7ましくは60〜150容酪部である
。これらは、多管式反応器の下層として第2触媒を所定
の層高に充填したのち、上層として第1触媒を充填し、
上方よりナフタリンまたはAルソキシレンと分子状W素
含有ガス、例えば空気との混合ガスを流通させて接触酸
化を行なう。反応温度は300〜400℃(ナイタ一温
度)好ましくは330〜380℃であり、ナフタリンま
たはオルソヤシレン濃度は30〜809/′m3−空気
、好ましくは40〜60(+ /m 3−空気であり、
また空間速度は1.000〜8,0QQhr+、好まし
くは2,000〜5,0OOhr゛1である。
との容量比が第1触媒100容閤部に対し30〜300
容量部であり、り7ましくは60〜150容酪部である
。これらは、多管式反応器の下層として第2触媒を所定
の層高に充填したのち、上層として第1触媒を充填し、
上方よりナフタリンまたはAルソキシレンと分子状W素
含有ガス、例えば空気との混合ガスを流通させて接触酸
化を行なう。反応温度は300〜400℃(ナイタ一温
度)好ましくは330〜380℃であり、ナフタリンま
たはオルソヤシレン濃度は30〜809/′m3−空気
、好ましくは40〜60(+ /m 3−空気であり、
また空間速度は1.000〜8,0QQhr+、好まし
くは2,000〜5,0OOhr゛1である。
本発明は、前記のように、第1触媒により比較的低い活
性かつ高い選択率で酸化して添加したナフタリンまたは
Aルソキシレンは極力無水フタル酸を選択的−に得ると
ともに、第2触媒により選択率は犠牲にしても高い活性
で酸化して未反応の炭化水素を極力減らせるので、全体
として副生物の生成が小さくかつ高収率で無水フタル酸
を得ることができる。
性かつ高い選択率で酸化して添加したナフタリンまたは
Aルソキシレンは極力無水フタル酸を選択的−に得ると
ともに、第2触媒により選択率は犠牲にしても高い活性
で酸化して未反応の炭化水素を極力減らせるので、全体
として副生物の生成が小さくかつ高収率で無水フタル酸
を得ることができる。
つぎに、実施例を挙げて本発明をさらにBY細に説明す
る。なお、下記実施例における「%」は、特にことわら
ない限り全て111%である。
る。なお、下記実施例における「%」は、特にことわら
ない限り全て111%である。
実施例1
(A>第1触媒のwA製
粉末状二酸化チタン(アナターぜ型含有)、メタパブジ
ン酸アンモニウ11および硫酸ルビジウムを水に加えト
分I!1lffおよび乳化して水溶性化合物は溶解せし
め、二酸化チタン粉末は乳化または懸濁させ、スラリー
状の液とした。回転炉中に、直径8mm、高さ5mmの
磁製レッシングリング状担体を挿入し、200〜250
℃に予熱しておき、同転炉を回転さI!ながら担体上に
上記スラリー液を噴霧して、担体11当り触Q[分80
a担持するよう触媒成分を担持させた。次いで、空気を
流通させながら550 ′Cにて6時間焼成して触媒と
した。
ン酸アンモニウ11および硫酸ルビジウムを水に加えト
分I!1lffおよび乳化して水溶性化合物は溶解せし
め、二酸化チタン粉末は乳化または懸濁させ、スラリー
状の液とした。回転炉中に、直径8mm、高さ5mmの
磁製レッシングリング状担体を挿入し、200〜250
℃に予熱しておき、同転炉を回転さI!ながら担体上に
上記スラリー液を噴霧して、担体11当り触Q[分80
a担持するよう触媒成分を担持させた。次いで、空気を
流通させながら550 ′Cにて6時間焼成して触媒と
した。
得られた触媒の組成は、触媒活性成分中のv20518
%、Rb25o< 0.5〜2.5%、Ti Q2残余
となるようにした。
%、Rb25o< 0.5〜2.5%、Ti Q2残余
となるようにした。
(B)第2触媒の調製
第1触媒と同様に粉末状二酸化チタン、メタバナジン酸
アンモニウム塩化スズまたはリン酸アンモニウムを脱イ
オン水に加え、攪拌および乳化してスラリー状の触媒液
とした。この触媒液を第1段触媒のvA玉と同様にして
レッシングリング状担体に噴霧して、担体11.当り触
媒成分80(lとなるよう担持させた。次いで、空気を
流通させながら550℃にて6時間焼成して触媒とした
。1!7られた触媒の組成は、触媒活性成分中のV20
520%、Sn 02またはP20s 0.3〜2.5
%。
アンモニウム塩化スズまたはリン酸アンモニウムを脱イ
オン水に加え、攪拌および乳化してスラリー状の触媒液
とした。この触媒液を第1段触媒のvA玉と同様にして
レッシングリング状担体に噴霧して、担体11.当り触
媒成分80(lとなるよう担持させた。次いで、空気を
流通させながら550℃にて6時間焼成して触媒とした
。1!7られた触媒の組成は、触媒活性成分中のV20
520%、Sn 02またはP20s 0.3〜2.5
%。
TiO2残余となるようにした。
(C)無水フタル酸の製造
ナイター浴に浸した内系251+1111の反応管に、
上から下へ第1触!il!および第2触媒層をを充填し
、ナフタリンと空気の混合ガスを通した。ナフタリンの
濃度は50(+ /Nm 3.空間速度3,00(”)
hr−1であり、ナイタ一温度は340〜360℃の最
適温度とした。結果を第1表に示(。
上から下へ第1触!il!および第2触媒層をを充填し
、ナフタリンと空気の混合ガスを通した。ナフタリンの
濃度は50(+ /Nm 3.空間速度3,00(”)
hr−1であり、ナイタ一温度は340〜360℃の最
適温度とした。結果を第1表に示(。
■ (v) y F CJoo(V
VloのOヘトのの■トル 0000フ00−00000 のト■OT−のへco トtri■−へののののの(%
J(””lの寸の0寸00000000000000 −でm r r r l−r r T−m r r−一
の「 「の の−a:l− r r r−の−一の一一(’) −rlf′)00の
ののの0 1 1 1 1 1 ooooooo。
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のの 0
0口「へ−11111111
Ll’) lfl L+”) 0 10 L
n tnの■O−への寸の■トの00 r r m r r r r r r rへ比較例 第1触媒の製造においてRb2SO4の添加量を、第2
触媒の製造においてP205または3nO2の添加量を
変えた以外は実施例1と同様にして、触媒を製造した。
n tnの■O−への寸の■トの00 r r m r r r r r r rへ比較例 第1触媒の製造においてRb2SO4の添加量を、第2
触媒の製造においてP205または3nO2の添加量を
変えた以外は実施例1と同様にして、触媒を製造した。
この触媒を用いて実施例1と同様にしてナフタリンの酸
化を行った。その結果を第2表に示j0 実施例2 実施例1と同様にして、第1触媒および第2触媒をig
l製し、ナフタリンを酸化反応を行った。実験番号1お
よび実験番号2は、第2触媒の触媒活性成分中のv20
5をぞれぞれ10%および30%としたものであり、実
験番号3および実験番号4は反応条件において、ナフタ
リン濃度を40q/NIB 3および60g/Nl11
3としたものである。
化を行った。その結果を第2表に示j0 実施例2 実施例1と同様にして、第1触媒および第2触媒をig
l製し、ナフタリンを酸化反応を行った。実験番号1お
よび実験番号2は、第2触媒の触媒活性成分中のv20
5をぞれぞれ10%および30%としたものであり、実
験番号3および実験番号4は反応条件において、ナフタ
リン濃度を40q/NIB 3および60g/Nl11
3としたものである。
結果を第3表に示す。
手続補正書
1、事件の表示
昭和56年 特許願 第155.658号2、発明の名
称 無水フタル酸の製造方法 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 東京都中央区銀座6丁目17番2号名 称
(664)新日本製鉄化学工業株式会社代表者 合弁
大家 4、代理人 自発補正 1、・・−−−゛ 6、補正の対象 明m書の1発明の詳細な説明」の欄 −7、補正
の内容 明細書の第18頁の第3表を別紙添付の通り補正する。
称 無水フタル酸の製造方法 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 東京都中央区銀座6丁目17番2号名 称
(664)新日本製鉄化学工業株式会社代表者 合弁
大家 4、代理人 自発補正 1、・・−−−゛ 6、補正の対象 明m書の1発明の詳細な説明」の欄 −7、補正
の内容 明細書の第18頁の第3表を別紙添付の通り補正する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、原料ガス混合物の流通方向に対して、上流側に二酸
化チタン90〜67重量%、五酸化バプシウム9〜30
重量%およびルビジウム化合物0゜7〜3φ−%(Rb
2so4として計算〉よりなる触媒活性成分を非多孔性
の不活性担体に担持させてなる第1触媒と、下流側に二
酸化チク294〜6フ重傾%、五酸化バナジウム5〜3
0重量%および錫化合物0.1〜1重量%(Sn 02
として計算)および/またはリン化合物0.5〜3炬吊
%(P2O3として計算)よりなる触媒活性成分を非多
孔性の不活性担体に担持させてなる第2触媒とよりなる
触媒層にナフタリンまたはオルソキシレンおよび分子状
酸素含有ガスよりなるガス混合物を接触させて酸化づる
ことを特徴とづる無水フタル酸の製造方法。 2、非多孔性の不活性担体の形状がレッシングリング状
である特許請求の範囲第1項に記載の製造方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56155658A JPS6037108B2 (ja) | 1981-09-30 | 1981-09-30 | 無水フタル酸の製造方法 |
GB08227280A GB2109697B (en) | 1981-09-30 | 1982-09-24 | Catalysts and method for manufacture of phthalic anhydride |
US06/424,636 US4469878A (en) | 1981-09-30 | 1982-09-27 | Method for manufacture of phthalic anhydride |
KR8204435A KR870000919B1 (ko) | 1981-09-30 | 1982-09-30 | 무수 프탈산의 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56155658A JPS6037108B2 (ja) | 1981-09-30 | 1981-09-30 | 無水フタル酸の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5857374A true JPS5857374A (ja) | 1983-04-05 |
JPS6037108B2 JPS6037108B2 (ja) | 1985-08-24 |
Family
ID=15610771
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP56155658A Expired JPS6037108B2 (ja) | 1981-09-30 | 1981-09-30 | 無水フタル酸の製造方法 |
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Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62226835A (ja) * | 1986-03-28 | 1987-10-05 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 繊維の製造方法及び装置 |
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- 1982-09-30 KR KR8204435A patent/KR870000919B1/ko active
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62226835A (ja) * | 1986-03-28 | 1987-10-05 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 繊維の製造方法及び装置 |
JPS62263359A (ja) * | 1986-05-09 | 1987-11-16 | 大日本インキ化学工業株式会社 | 炭素繊維断熱材 |
JPS6385116A (ja) * | 1986-09-26 | 1988-04-15 | Dainippon Ink & Chem Inc | 炭素繊維断熱材 |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
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GB2109697A (en) | 1983-06-08 |
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