JPS5857374A - 無水フタル酸の製造方法 - Google Patents

無水フタル酸の製造方法

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は無水フタル酸の¥J造方法に関するものである
。詳しく述べると、分子状酸素含有ガスによりナフタリ
ンまたはオルソキシレンを気相で接触酸化して無水フタ
ル酸を製造する方法にr!!づるものである。
周知のように、無水フタル酸は、14的には触媒を充填
した多管式反応器にナフタリンまたはオルソ1シレンと
分子状酸素含有ガスとよりなる混合ガスを高温で通過さ
せて接触酸化することにより製造されている。該方法に
使用される触媒としては、例えば非多孔性不活性担体に
五酸化バナジウム1〜15重■%および二酸化チク2〇
9〜85重培%を含有づる触媒物質を0.02〜2.m
mの層厚にかつ触媒全体に対する五酸化バナジウムの含
有率が0.05〜3@畿%になるように被覆してなるも
のである(特公昭46−3984/I号)。
また、前記触媒において担持される触媒物質にすン化合
物を配合する方法も提案されている〈特公昭54−11
270丹)。
しかしながら、このような公知方法においては副生物の
生成量、触tJA寿命および無水フタル酸収率等の点で
まだ不満足なものであった。特に、原料としてナフタリ
ンを使用する場合このような問題点が増大する。また、
このような問題点は、供給ガス中のナフタリンまたはオ
ルソキシレンの濃度が大きくなるほど増大する。しかし
、経済的には前記ナフタリンまたはオルソキシレンの濃
度が爆発下限を越えるような高濃度にすることが望まし
い。一方、副生物の生成は、例えばより高い温度、より
少ないガス導通邑(より長い滞留時間)またはより低い
ナフタリンまたはAシソキシ12m度で酸化を行なうこ
とにより抑制できる。しかし、このような条何下では無
水フタル酸の生産性が低下する。
このような欠点を解決するために、原料ガス混合物の流
れ方向に対して上流側に、活性物質中に二酸化ブタンに
対し0.01〜0.3重量%のルビジウムを含有するが
リンを含有しない五酸化バナジウムおよび二酸化チタン
を含有Jる触媒活性物質を担持した第1触媒と、下流側
に活性物質中に二酸化チタンに対し0.02〜0.8重
量%のリンを含有するがルビジウムを含有しない五酸化
バナジウムおよび二酸化チタンを含有する触媒活性物質
を担持した第2触媒とを用いてナフタリンまたはオルソ
キシレンを気相酸化でる方法が提案されている(特開昭
52−51337号)。しかしながら、こような方法で
も、全体として無水フタル酸の収率が木だ不充分であり
、特に原料としてナフタリンを使用する場合にはその問
題は増大する。
本発明は、前記のごとき従来法の諸欠点を解消するため
になされたもので、原料ガス混合物の流通方向に対して
、上流側に二酸化チタン90〜67重間%、五酸化バナ
ジウム9〜30重ω%およびルビジウム化合物0.7〜
3Φ量%(Rb2S04として計算)よりなる触媒活性
成分を非多孔性の不活性担体に担持させてなる第1触媒
と、下流側に二酸化チク294〜6フ重四%、五酸化バ
プジウム5〜30重量%および錫化合物0.1〜1重量
%(3n 02として計算)および/またはリン化合物
0.5〜3重量%(R20sとして計陣)よりなる触媒
活性成分を非多孔性の不活性担体に担持させてなる第2
触媒とよりなる触媒層にナフタリンまたはオルソキシレ
ンおよび分子状酸素含有ガスよりなるガス混合物を接触
させて酸化することを特徴とする無水フタル酸の製造方
法により達成される。
まず、本発明において原料ガス混合物の流通方向に対し
て上流側に充填して使用される第1触媒は、非多孔性の
不活性担体上に二酸化チク290〜6フ重置%、好まし
くは70〜85重量%、五酸化バナ化バナジウム9〜3
0重間%、好ましくは15〜25重鏝%およびルビジウ
ム化合物0゜7〜3重量%、好ましくは1.2〜2.3
重量%(R1)2804として計算)よりなる触媒活性
成分を、前記担体11.当り20〜200o、好ましく
は40〜150g担持させてなるものである。
なお、前記触媒活性成分中には錫化合物およびリン化合
物は実質的に含有されていない。しかしながら、K、C
3、Fe等の化合物を少量含有することは差し支えない
。この触媒は、例えば常法により製造される。すなわち
、五酸化バナジウムまたは加熱により五酸化バナジウム
に変化し得るバナジウム化合物、例えばバナジン酸アン
モニウム、あるいはバナジウムの1iiII酸塩、ショ
ウ酸塩、ギ酸塩、酢酸塩、酒石酸塩等を水またはアルコ
ール等の有機溶媒と水との混合溶媒に溶解し、これに適
当なルビジウム化合物を添加し、微粒子状二酸化チタン
と混合し、得れるスラリー状混合物を不活性担体に噴霧
するかあるいは該スラリー状混合物中に不活性担体を浸
漬したのら所定の温度に加熱づるか、あるいは所定の温
度に加熱された担体上に前記スラリー状混合物を噴f!
することにより製造される。
好適なルビジウム化合物としては、例えば、硫酸ルビジ
ウム、酸化ルビジウム、炭酸ルビジウム、酢酸ルビジウ
ム、硝酸ルどジウム等があり、好ましくはrIi!!酸
ルビジウムである。硫酸ルビジウムを除いてこれらの化
合物は比較的高い湿度において酸化物に変化する。触媒
中ではルビジウムは、硫酸ルビジウム、酸化ルビジウム
、バナジン酸ルビジウム等として存在するか硫酸ルビジ
ウムまたはピロ硫酸ルビジウム等の硫酸のオキシ酸塩の
形が最も好ましい。
原IIガス混合物の流通方向に対して下流側に充填して
使用される第2触媒は、非多孔性の不活性担体上に二酸
化チタン94〜67重量%、好ましくは70〜85重量
%、五酸化バナジウム5〜30重量%、好ましくは15
〜25重量%および錫化合物0.1〜1重量%、好まし
くは0.2〜0゜6M量%(Sn 02として計算)お
よび/またはリン化合物0.5〜3重」%、好ましくは
1〜2重量%(P20sとして計算)よりなる触媒活性
成分を、前記担体11当り20〜200(1,好ましく
は40〜150g担持させてなるものである。
なお、前記触媒活性成分中には、ルビジウム等のアルカ
リ金属化合物は実質的に含まれない。しかしながら、F
(!、Cr、MO,W等の化合物を少世含有することは
差し支えない。
この触媒は、例えば常法により製造される。すなわち、
li W化バナジウムまたは前記のごとぎ加熱により五
゛酸化バプージウムに変化しiqるlけジウム化合物を
、水または前記のごとぎ有機溶媒に溶解し、これに適当
な錫化合物またリン化合物のいずれかまたは両者を添加
し、微粒子状二酸化チタンと混合し、得られるスラリー
状混合を不活性担体に噴霧するかあるいは該スラリー状
混合物中に不活性担体にを浸漬したのら所定の温度に加
熱づるか、あるいは所定の温度に加熱された担体上に前
記スラリー状混合物を噴霧することによりvI造される
好適な錫化合物としては、例えば酸化錫、塩化第:錫、
酢酸錫等があり、これらは焼成時に酸化錫となる、好適
4iリン化合物としては、リン酸アンモニウム、リン酸
、亜リン酸、リン酸エステル等がある。
なお、本明細書中に示した触W g tzt成分の化学
名は計算するための便宜上のものであって、周知のとお
り実際の触媒中ではバナジウムは、例えばVoχ(χ−
1〜5)、バナジン酸塩等の形で存在し、ルビジウム、
硫酸ルビジウム、ピロ11111Mルビジウム等の形で
存在する。また錫はSno×、スズ酸塩等の形で存在し
、リンはpox 、リン酸塩等の形で存在する。
本発明において使用される触媒における二酸化チタン源
としては、アナターゼ型二酸化チタン、二酸化チタン水
和物等がある。
また、本発明において使用される触媒の非多孔性の不活
性担体には、焼結または溶融されたケイ酸塩、ステアタ
イト、磁器、アルミナ、炭化ケイ素等がある。前記担体
の形状は、球状、円柱状、リング状等があり、その相当
直径は約3〜121+1111、好ましくは約6〜10
Il111である。また、円柱状、リング状のものにつ
いては、その高さは約3〜10Illll11好ましく
は約4〜8Il1mであり、より好ましくは相当直径の
約70〜80%の高さである。これらの内、リング状の
ものが好ましく、特に特願昭55−56228号に開示
されているようなレッシングリング状のものが圧力損失
を小さくし、かつ高濃度酸化を可能とするので好ましい
。リング状の担体とした場合、内(¥は2〜10ml1
1、好ましくは約4〜8mmであり、レッシングリング
状のものについては、はぼ中央に仕切壁をgQI−j、
0゜5〜21好ましくは0.6〜1mmの壁厚とするこ
とが適当である。
触媒活性物質を担持させたのち、これを加熱して触媒と
する。加熱は300〜600℃、好ましくは酸素雰囲気
中で4〜10時間加熱分解して行なわれる。
前記のごとき2種類の触媒は、通常第1触媒と第2触媒
との容量比が第1触媒100容閤部に対し30〜300
容量部であり、り7ましくは60〜150容酪部である
。これらは、多管式反応器の下層として第2触媒を所定
の層高に充填したのち、上層として第1触媒を充填し、
上方よりナフタリンまたはAルソキシレンと分子状W素
含有ガス、例えば空気との混合ガスを流通させて接触酸
化を行なう。反応温度は300〜400℃(ナイタ一温
度)好ましくは330〜380℃であり、ナフタリンま
たはオルソヤシレン濃度は30〜809/′m3−空気
、好ましくは40〜60(+ /m 3−空気であり、
また空間速度は1.000〜8,0QQhr+、好まし
くは2,000〜5,0OOhr゛1である。
本発明は、前記のように、第1触媒により比較的低い活
性かつ高い選択率で酸化して添加したナフタリンまたは
Aルソキシレンは極力無水フタル酸を選択的−に得ると
ともに、第2触媒により選択率は犠牲にしても高い活性
で酸化して未反応の炭化水素を極力減らせるので、全体
として副生物の生成が小さくかつ高収率で無水フタル酸
を得ることができる。
つぎに、実施例を挙げて本発明をさらにBY細に説明す
る。なお、下記実施例における「%」は、特にことわら
ない限り全て111%である。
実施例1 (A>第1触媒のwA製 粉末状二酸化チタン(アナターぜ型含有)、メタパブジ
ン酸アンモニウ11および硫酸ルビジウムを水に加えト
分I!1lffおよび乳化して水溶性化合物は溶解せし
め、二酸化チタン粉末は乳化または懸濁させ、スラリー
状の液とした。回転炉中に、直径8mm、高さ5mmの
磁製レッシングリング状担体を挿入し、200〜250
℃に予熱しておき、同転炉を回転さI!ながら担体上に
上記スラリー液を噴霧して、担体11当り触Q[分80
a担持するよう触媒成分を担持させた。次いで、空気を
流通させながら550 ′Cにて6時間焼成して触媒と
した。
得られた触媒の組成は、触媒活性成分中のv20518
%、Rb25o< 0.5〜2.5%、Ti Q2残余
となるようにした。
(B)第2触媒の調製 第1触媒と同様に粉末状二酸化チタン、メタバナジン酸
アンモニウム塩化スズまたはリン酸アンモニウムを脱イ
オン水に加え、攪拌および乳化してスラリー状の触媒液
とした。この触媒液を第1段触媒のvA玉と同様にして
レッシングリング状担体に噴霧して、担体11.当り触
媒成分80(lとなるよう担持させた。次いで、空気を
流通させながら550℃にて6時間焼成して触媒とした
。1!7られた触媒の組成は、触媒活性成分中のV20
520%、Sn 02またはP20s 0.3〜2.5
%。
TiO2残余となるようにした。
(C)無水フタル酸の製造 ナイター浴に浸した内系251+1111の反応管に、
上から下へ第1触!il!および第2触媒層をを充填し
、ナフタリンと空気の混合ガスを通した。ナフタリンの
濃度は50(+ /Nm 3.空間速度3,00(”)
hr−1であり、ナイタ一温度は340〜360℃の最
適温度とした。結果を第1表に示(。
■  (v)   y   F     CJoo(V
VloのOヘトのの■トル 0000フ00−00000 のト■OT−のへco トtri■−へののののの(%
J(””lの寸の0寸00000000000000 −でm r r r l−r r T−m r r−一
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のの 0 0口「へ−11111111 Ll’) lfl L+”) 0      10 L
n tnの■O−への寸の■トの00 r r m r r r r r r rへ比較例 第1触媒の製造においてRb2SO4の添加量を、第2
触媒の製造においてP205または3nO2の添加量を
変えた以外は実施例1と同様にして、触媒を製造した。
この触媒を用いて実施例1と同様にしてナフタリンの酸
化を行った。その結果を第2表に示j0 実施例2 実施例1と同様にして、第1触媒および第2触媒をig
l製し、ナフタリンを酸化反応を行った。実験番号1お
よび実験番号2は、第2触媒の触媒活性成分中のv20
5をぞれぞれ10%および30%としたものであり、実
験番号3および実験番号4は反応条件において、ナフタ
リン濃度を40q/NIB 3および60g/Nl11
3としたものである。
結果を第3表に示す。
手続補正書 1、事件の表示 昭和56年 特許願 第155.658号2、発明の名
称 無水フタル酸の製造方法 3、補正をする者 事件との関係  特許出願人 住 所  東京都中央区銀座6丁目17番2号名 称 
 (664)新日本製鉄化学工業株式会社代表者 合弁
 大家 4、代理人 自発補正 1、・・−−−゛ 6、補正の対象 明m書の1発明の詳細な説明」の欄    −7、補正
の内容 明細書の第18頁の第3表を別紙添付の通り補正する。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、原料ガス混合物の流通方向に対して、上流側に二酸
    化チタン90〜67重量%、五酸化バプシウム9〜30
    重量%およびルビジウム化合物0゜7〜3φ−%(Rb
    2so4として計算〉よりなる触媒活性成分を非多孔性
    の不活性担体に担持させてなる第1触媒と、下流側に二
    酸化チク294〜6フ重傾%、五酸化バナジウム5〜3
    0重量%および錫化合物0.1〜1重量%(Sn 02
    として計算)および/またはリン化合物0.5〜3炬吊
    %(P2O3として計算)よりなる触媒活性成分を非多
    孔性の不活性担体に担持させてなる第2触媒とよりなる
    触媒層にナフタリンまたはオルソキシレンおよび分子状
    酸素含有ガスよりなるガス混合物を接触させて酸化づる
    ことを特徴とづる無水フタル酸の製造方法。 2、非多孔性の不活性担体の形状がレッシングリング状
    である特許請求の範囲第1項に記載の製造方法。
JP56155658A 1981-09-30 1981-09-30 無水フタル酸の製造方法 Expired JPS6037108B2 (ja)

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