JPS6037098B2 - ５―ホルミルカルボスチリル誘導体 - Google Patents
５―ホルミルカルボスチリル誘導体Info
- Publication number
- JPS6037098B2 JPS6037098B2 JP53002930A JP293078A JPS6037098B2 JP S6037098 B2 JPS6037098 B2 JP S6037098B2 JP 53002930 A JP53002930 A JP 53002930A JP 293078 A JP293078 A JP 293078A JP S6037098 B2 JPS6037098 B2 JP S6037098B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- formyl
- formylcarbostyryl
- derivative
- group
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- Prior art date
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- Expired
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- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は５−ホルミルカルボスチリル叢導体に関する。
本発明の化合物は文献未教の新規化合物であり、一般式
〔式中Ｒは水素原子、水酸基、低級ァルコキシ基又はフ
ェニルァルコキシ基を示し、カルボスチリル骨格の３，
４位の結合は一重結合又は二重結合を示す。
ェニルァルコキシ基を示し、カルボスチリル骨格の３，
４位の結合は一重結合又は二重結合を示す。
〕で表わされる。上記一般式（１）に於て、Ｒで示され
る低級アルコキシ基としては具体的にはメトキシ、ェト
キシ、ｎーブロポキシ、イソプロポキシ、ｎーブトキシ
、にｒｔーブトキシ基等を例示できる。
る低級アルコキシ基としては具体的にはメトキシ、ェト
キシ、ｎーブロポキシ、イソプロポキシ、ｎーブトキシ
、にｒｔーブトキシ基等を例示できる。
フェニルアシコキシ基としては低級ァルキレンオキシ基
とフェニル基とが結合したフェニルアルコキシ基を挙げ
ることができ、具体的にはペンジルオキシ、８−フヱネ
チルオキシ、Ｑ−フエネチルオキシ、１ーフエニルプロ
ポキシ、１ーフエニルブトキシ、４−フェニルブトキシ
基等を例示できる。本発明化合物のうち代表的なものを
以下に掲げる。０ ５ーホルミルカルボスチリル ｏ ５−ホルミル−３，４ージヒドロカルボスチリル０
５ーホルミル−８ーヒドロキシカルボスチリ′レ０
５−ホルミル−８−ヒドロキシ−３，４ジヒドロカルボ
スチリル０ ５ーホルミル−８ーメトキシカルボスチリ
ルｏ ５ーホルミルー８ーイソプロボキシカルボスチリ
ル０ ５−ホルミル−８ーエトキシー３，４−ジヒドロ
カルボスチリル０ ５−ホルミルー８−（にｒｔーブト
キシ）−３．４ージヒドロカルボスチリルｏ ５ーホル
ミル−８−ペンジルオキシカルボスチリル０ ５−ホル
ミルー８一（Ｑーフエネチルオキシ）力ルポスチリル０
５−ホルミル−８ーベンジルオキシー３．４−ジヒド
ロカルボスチリルｏ ５ーホルミルー８−（１ーフエニ
ルブトキシ）−３，４−ジヒド。
とフェニル基とが結合したフェニルアルコキシ基を挙げ
ることができ、具体的にはペンジルオキシ、８−フヱネ
チルオキシ、Ｑ−フエネチルオキシ、１ーフエニルプロ
ポキシ、１ーフエニルブトキシ、４−フェニルブトキシ
基等を例示できる。本発明化合物のうち代表的なものを
以下に掲げる。０ ５ーホルミルカルボスチリル ｏ ５−ホルミル−３，４ージヒドロカルボスチリル０
５ーホルミル−８ーヒドロキシカルボスチリ′レ０
５−ホルミル−８−ヒドロキシ−３，４ジヒドロカルボ
スチリル０ ５ーホルミル−８ーメトキシカルボスチリ
ルｏ ５ーホルミルー８ーイソプロボキシカルボスチリ
ル０ ５−ホルミル−８ーエトキシー３，４−ジヒドロ
カルボスチリル０ ５−ホルミルー８−（にｒｔーブト
キシ）−３．４ージヒドロカルボスチリルｏ ５ーホル
ミル−８−ペンジルオキシカルボスチリル０ ５−ホル
ミルー８一（Ｑーフエネチルオキシ）力ルポスチリル０
５−ホルミル−８ーベンジルオキシー３．４−ジヒド
ロカルボスチリルｏ ５ーホルミルー８−（１ーフエニ
ルブトキシ）−３，４−ジヒド。
力ルボスチリル本発明の化合物は種々の方法により製造
され得るが、好ましい１例を挙げれば下記反応行程式に
示す如く公知の一般式（ロ）で表わされる５ーハロゲン
カルボスチリル議導体をホルミル化することにより製造
される。
され得るが、好ましい１例を挙げれば下記反応行程式に
示す如く公知の一般式（ロ）で表わされる５ーハロゲン
カルボスチリル議導体をホルミル化することにより製造
される。
（上式に於て×はハロゲン原子又は水素原子を示す。
Ｒ及びカルボスチリル骨格の３，４位の結合は前記に同
じ。）一般式（０）の５ーハロゲノカルボスチリル議導
体のホルミル化反応は例えばジメチルホルムアミド、ジ
メチルスルホキシド、エーテル、テトラヒドロフラン、
ジオキサン等の通常の不活性溶媒中通常のホルミル剤を
用いて行なうことができる。
じ。）一般式（０）の５ーハロゲノカルボスチリル議導
体のホルミル化反応は例えばジメチルホルムアミド、ジ
メチルスルホキシド、エーテル、テトラヒドロフラン、
ジオキサン等の通常の不活性溶媒中通常のホルミル剤を
用いて行なうことができる。
斯かるホルミル化剤としては例えばＤＭＦ−Ｐ〇Ｃそ３
、〇ＭＦ−ｎ−ＢリＬｉ、Ｃ夕２ＣＨ〇ＣＨ３Ｔｉｃ
夕４ 、Ｃ２はＯＣＨＯ−ＮａＯＣＨ３、ＤＭ円−ＰＯ
Ｃそ３−ＣクＣＨ＝ＣＣ〆２等を挙げることができる。
ホルミル化剤の使用量は特に限定がなく適宜選択すれば
よいが通常等モル〜２倍モル、好ましくは等モル〜１．
２倍モルである。該反応は冷却下、室温下あるし、は加
温下のいずれでも行なうことができるが、通常０〜１０
０ｑｏ（好ましくは０〜５０ｑｏ）であり、また反応時
間は通常１〜１２時間程度である。斯くして生成する本
発明の化合物は通常公知の分離手段、例えば溶媒抽出法
、沈澱法。
、〇ＭＦ−ｎ−ＢリＬｉ、Ｃ夕２ＣＨ〇ＣＨ３Ｔｉｃ
夕４ 、Ｃ２はＯＣＨＯ−ＮａＯＣＨ３、ＤＭ円−ＰＯ
Ｃそ３−ＣクＣＨ＝ＣＣ〆２等を挙げることができる。
ホルミル化剤の使用量は特に限定がなく適宜選択すれば
よいが通常等モル〜２倍モル、好ましくは等モル〜１．
２倍モルである。該反応は冷却下、室温下あるし、は加
温下のいずれでも行なうことができるが、通常０〜１０
０ｑｏ（好ましくは０〜５０ｑｏ）であり、また反応時
間は通常１〜１２時間程度である。斯くして生成する本
発明の化合物は通常公知の分離手段、例えば溶媒抽出法
、沈澱法。
再結晶法、カラムクロマトグラフイー、プレパラテイブ
薄層クロマトグラフィー等により容易に単離精製される
。本発明の化合物は、下記反応行程式に示す如くして抗
端息剤、降圧剤、脱コレステロール剤、消炎剤、皿糖降
下剤及び抗ビールス剤として有用な一般式（ｍ）及び（
Ｎ）で表わされる５ーカルボスチリルメタノール譲導体
を合成するための中間体として有用であると共に、それ
自身抗菌剤、消炎剤、血小板凝集抑制剤、利胆剤として
有用である。
薄層クロマトグラフィー等により容易に単離精製される
。本発明の化合物は、下記反応行程式に示す如くして抗
端息剤、降圧剤、脱コレステロール剤、消炎剤、皿糖降
下剤及び抗ビールス剤として有用な一般式（ｍ）及び（
Ｎ）で表わされる５ーカルボスチリルメタノール譲導体
を合成するための中間体として有用であると共に、それ
自身抗菌剤、消炎剤、血小板凝集抑制剤、利胆剤として
有用である。
（上式に於て、Ｒは水酸基、低級アルコキシ基又はフェ
ニルアルコキシ基を示し、Ｒ′は水素原子又は低級アル
キル基を示す。
ニルアルコキシ基を示し、Ｒ′は水素原子又は低級アル
キル基を示す。
カルボスチリル骨格の３．４倍の結合は前記に同じ。）
本発明化合物の製造例を以下に掲げる。
本発明化合物の製造例を以下に掲げる。
製造例 １
氷冷燈梓下ジメチルホルムアミド５０の‘にＰＯＣ〆３
１５．３夕を３■ふ要して滴下し、次いで１時間を要し
て８−ペンジルオキシカルボスチリル２５．１夕のジメ
チルホルムアミド５０叫溶液を滴下する。
１５．３夕を３■ふ要して滴下し、次いで１時間を要し
て８−ペンジルオキシカルボスチリル２５．１夕のジメ
チルホルムアミド５０叫溶液を滴下する。
滴下終了後反応液を３０〜３５００で２時間櫨拝し、次
いで反応液に１００夕の氷を加えて１び分間櫨拝する。
次いで櫨梓下に苛性ソーダ４．０夕の水溶液４００の‘
を３０分要して滴下し一晩放置する。析出晶を炉取し酢
酸エチルェステルより再結晶して無色針状晶の８−ペン
ジルオキシ−５−ホルミルカルボスチリル１３夕を得る
。融点：１５０〜１５ｒＣ製造例 ２〜４ 適当な出発原料を用い製造例１と同様にして下記録第１
表に示す化合物を得る。
いで反応液に１００夕の氷を加えて１び分間櫨拝する。
次いで櫨梓下に苛性ソーダ４．０夕の水溶液４００の‘
を３０分要して滴下し一晩放置する。析出晶を炉取し酢
酸エチルェステルより再結晶して無色針状晶の８−ペン
ジルオキシ−５−ホルミルカルボスチリル１３夕を得る
。融点：１５０〜１５ｒＣ製造例 ２〜４ 適当な出発原料を用い製造例１と同様にして下記録第１
表に示す化合物を得る。
第１表
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中Ｒは水素原子、水酸基、低級アルコキシ基又は
フエニルアルコキシ基を示し、カルボスチリル骨格３，
４位の結合は一重結合又は二重結合を示す。 〕で表わされる５−ホルミルカルボスチリル誘導体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP53002930A JPS6037098B2 (ja) | 1978-01-13 | 1978-01-13 | ５―ホルミルカルボスチリル誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP53002930A JPS6037098B2 (ja) | 1978-01-13 | 1978-01-13 | ５―ホルミルカルボスチリル誘導体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5498779A JPS5498779A (en) | 1979-08-03 |
| JPS6037098B2 true JPS6037098B2 (ja) | 1985-08-24 |
Family
ID=11543053
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP53002930A Expired JPS6037098B2 (ja) | 1978-01-13 | 1978-01-13 | ５―ホルミルカルボスチリル誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6037098B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DK0543018T3 (da) * | 1991-06-07 | 1996-02-05 | Otsuka Pharma Co Ltd | Antidiabetikum |
-
1978
- 1978-01-13 JP JP53002930A patent/JPS6037098B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5498779A (en) | 1979-08-03 |
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