JPS6051472B2 - ３，４−ジヒドロカルボスチリル誘導体 - Google Patents
３，４−ジヒドロカルボスチリル誘導体Info
- Publication number
- JPS6051472B2 JPS6051472B2 JP9282377A JP9282377A JPS6051472B2 JP S6051472 B2 JPS6051472 B2 JP S6051472B2 JP 9282377 A JP9282377 A JP 9282377A JP 9282377 A JP9282377 A JP 9282377A JP S6051472 B2 JPS6051472 B2 JP S6051472B2
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- Japan
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- dihydrocarbostyryl
- ethoxycarbonylpropoxy
- reaction
- formula
- general formula
- Prior art date
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- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規な３・ ４−ジヒドロカルボスチリル誘導
体に関する。
体に関する。
本発明の化合物は新規化合物であつて、一般式Ｏ（ＣＨ
２）３Ｃ００Ｒ２ 〔 Ｉ 〕 〔式中Ｒ１は水素原子、フェニルアルキル基又は低１を
、、廿゛ に） 、ュノｃｃ徂フ・１、↓□會・甘ｆ−
夫々示す。
２）３Ｃ００Ｒ２ 〔 Ｉ 〕 〔式中Ｒ１は水素原子、フェニルアルキル基又は低１を
、、廿゛ に） 、ュノｃｃ徂フ・１、↓□會・甘ｆ−
夫々示す。
〕で表わされる。該化合物は消炎作用、血小板凝集抑制
作用、抗菌作用及ひ血液中の脂質含有量特にコレステロ
ール、ホスホリピド、トリグリセリド等の含有量を低下
させる作用を有し、消炎剤、血栓予防剤、抗菌剤、動脈
硬化症の治療及び予防薬等として有用てある。上記一般
式〔Ｉ〕に於て、Ｒ、で示されるフェニルアルキル基と
しては炭素数１〜４の直鎖もしくは分枝状のアルキレン
基とフェニル基とが結合した基を挙げることができ、具
体的にはベンジル、β−フェネチル、１．１−ジメチル
ー２−フェニルエチル、３−フェニルプロピル、４−フ
ェニルブチル基等を例示できる。
作用、抗菌作用及ひ血液中の脂質含有量特にコレステロ
ール、ホスホリピド、トリグリセリド等の含有量を低下
させる作用を有し、消炎剤、血栓予防剤、抗菌剤、動脈
硬化症の治療及び予防薬等として有用てある。上記一般
式〔Ｉ〕に於て、Ｒ、で示されるフェニルアルキル基と
しては炭素数１〜４の直鎖もしくは分枝状のアルキレン
基とフェニル基とが結合した基を挙げることができ、具
体的にはベンジル、β−フェネチル、１．１−ジメチル
ー２−フェニルエチル、３−フェニルプロピル、４−フ
ェニルブチル基等を例示できる。
またＲ、で示される低級アルカノイル基としては炭素数
２〜４の直、鎖もしくは分枝状のアルカノイル基を挙げ
ることができ、具体的にはアセチル、プロピオニル、ブ
チリル、イソブチリル基等を例示できる。Ｒ２で示され
る低級アルキル基としては炭素数１〜４の直鎖もしくは
分枝状のアルキル基を挙げることがＪでき、具体的には
メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ｓ
ｅｃ−ブチル基等を例示できる。本発明化合物のうち代
表的なものを以下に掲げる。。
２〜４の直、鎖もしくは分枝状のアルカノイル基を挙げ
ることができ、具体的にはアセチル、プロピオニル、ブ
チリル、イソブチリル基等を例示できる。Ｒ２で示され
る低級アルキル基としては炭素数１〜４の直鎖もしくは
分枝状のアルキル基を挙げることがＪでき、具体的には
メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ｓ
ｅｃ−ブチル基等を例示できる。本発明化合物のうち代
表的なものを以下に掲げる。。
５−（３−エトキシカルボニルプロポキシ）一ｉ８−ベ
ンジルオキシー ３ ・ ４−ジヒドロカルボスチリル
○５−（３−エトキシカルボニルプロポキシ）一８−β
−フェネチルオキシー３●４−ジヒドロカルボスチリル
○５−（３−イソプロポキシカルボニルプロポキシ）−
８−（４−フエニルブトキシ）−３・４−ジヒドロカル
ボスチリル○５−（３−エトキシカルボニルプロポキシ
）一８−（１・１−ジメチルー２−フェニルエトキシ）
−３・４−ジヒドロカルボスチリル０５−（３−エトキ
シカルボニルプロポキシ）一８−アセトキシー３●４−
ジヒドロカルボスチリル○５−（３−ブトキシカルボニ
ルプロポキシ）−８−プロピオニルオキシー３●４−ジ
ヒドロカルボスチリル○５−（３−エトキシカルボニル
プロポキシ）一８−イソブチリルオキシー３●４−ジヒ
ドロカォ＊ ルボスチリル０５−（３−エトキシカルボ
ニルプロポキシ）−８−ヒドロキシー３・４−ジヒドロ
カルボスチリル○５−（３−イソプロポキシカルボニル
プロポキシ）−８−ヒドロキシー３・４−ジヒドロカル
ボスチリル○５−（３−Ｓｅｃ−ブトキシカルボニルプ
ロボキシ）−８−ヒドロキシー３．４−ジヒドロカルボ
） スチリル本発明の化合物は種々の方法により製造さ
れるが、その好ましい１例を挙ければ例えは下式に示す
如く一般式〔■〕で表わされる公知のヒドロキシー３・
４−ジヒドロカルボスチリル誘導体に一・般式〔■〕で
表わされる公知のハロゲノエステル誘導体を脱ハロゲン
化水素反応させて製造される。
ンジルオキシー ３ ・ ４−ジヒドロカルボスチリル
○５−（３−エトキシカルボニルプロポキシ）一８−β
−フェネチルオキシー３●４−ジヒドロカルボスチリル
○５−（３−イソプロポキシカルボニルプロポキシ）−
８−（４−フエニルブトキシ）−３・４−ジヒドロカル
ボスチリル○５−（３−エトキシカルボニルプロポキシ
）一８−（１・１−ジメチルー２−フェニルエトキシ）
−３・４−ジヒドロカルボスチリル０５−（３−エトキ
シカルボニルプロポキシ）一８−アセトキシー３●４−
ジヒドロカルボスチリル○５−（３−ブトキシカルボニ
ルプロポキシ）−８−プロピオニルオキシー３●４−ジ
ヒドロカルボスチリル○５−（３−エトキシカルボニル
プロポキシ）一８−イソブチリルオキシー３●４−ジヒ
ドロカォ＊ ルボスチリル０５−（３−エトキシカルボ
ニルプロポキシ）−８−ヒドロキシー３・４−ジヒドロ
カルボスチリル○５−（３−イソプロポキシカルボニル
プロポキシ）−８−ヒドロキシー３・４−ジヒドロカル
ボスチリル○５−（３−Ｓｅｃ−ブトキシカルボニルプ
ロボキシ）−８−ヒドロキシー３．４−ジヒドロカルボ
） スチリル本発明の化合物は種々の方法により製造さ
れるが、その好ましい１例を挙ければ例えは下式に示す
如く一般式〔■〕で表わされる公知のヒドロキシー３・
４−ジヒドロカルボスチリル誘導体に一・般式〔■〕で
表わされる公知のハロゲノエステル誘導体を脱ハロゲン
化水素反応させて製造される。
〔上式に於てＸはハロゲン原子を示す。
Ｒ１及びＲ２は前記に同じ。〕この脱ハロゲン化水素反
応は塩基性化合物を脱ハロゲン化水素剤として用いて行
われる。
応は塩基性化合物を脱ハロゲン化水素剤として用いて行
われる。
塩基性化合物としては公知のものを広く使用でき、たと
えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリ
ウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カ
リウム、炭酸銀などの無機塩基、ナトリウム、カリウム
などのアルカリ金属、ナトリウムメチラート、ナトリウ
ムエチラートなどのアルコラート、トリエチルアミン、
ピリジン、Ｎ−Ｎ−ジメチルアニリンなどの有機塩基が
挙げられる。該反応は無溶媒でもあるいは溶媒の存在下
でも行なわれ、溶媒としては反応に悪影響を与一えない
不活性のものがすべて用いられ、たとえばメタノール、
エタノール、プロパノール、ブタノール、エチレングリ
コールなどのアルコール類、ジメチルエーテル、テトラ
ヒドロフラン、ジオキサン、モノグライム、ジグライム
などのエーテル類、アセトン、メチルエチルケトンなど
のケトン類、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香
族炭化水素類、酢酸メチル、酢酸エチルなどのエステル
類、ＮＩＮ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキ
サイド、ヘキサメチルリン酸トリアミド類などの非プロ
トン性極性溶媒などが挙げられる。また該反応は沃化ナ
トリウム、沃化カリウムなどの金属沃化物の存在下に行
なうのが有利である。上記方法におけるヒドロキシー３
●４−ジヒドロカルボスチリル誘導体〔■〕とハロゲノ
エステル誘導体〔■〕との使用割合はとくに限定されず
、広範囲の中から適宜に選択されるが、通常、前者に対
して後者を等モル〜５倍モル、好ましくは等モルー２倍
モル量にて用いるのが望ましい。また、その反応温度も
とくに限定されないが、通常、室温〜２００℃、好まし
くは５０〜１５０℃で行なわれる。反応時間は通常１〜
（イ）時間、好ましくは１〜１峙間である。
＊また本発明化合物は下式に示す
方法によつても製造することができる。〔上式に於て、
Ｒ″１はフェニルアルキル基又は低級アルカノイル基を
示す。
えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリ
ウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カ
リウム、炭酸銀などの無機塩基、ナトリウム、カリウム
などのアルカリ金属、ナトリウムメチラート、ナトリウ
ムエチラートなどのアルコラート、トリエチルアミン、
ピリジン、Ｎ−Ｎ−ジメチルアニリンなどの有機塩基が
挙げられる。該反応は無溶媒でもあるいは溶媒の存在下
でも行なわれ、溶媒としては反応に悪影響を与一えない
不活性のものがすべて用いられ、たとえばメタノール、
エタノール、プロパノール、ブタノール、エチレングリ
コールなどのアルコール類、ジメチルエーテル、テトラ
ヒドロフラン、ジオキサン、モノグライム、ジグライム
などのエーテル類、アセトン、メチルエチルケトンなど
のケトン類、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香
族炭化水素類、酢酸メチル、酢酸エチルなどのエステル
類、ＮＩＮ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキ
サイド、ヘキサメチルリン酸トリアミド類などの非プロ
トン性極性溶媒などが挙げられる。また該反応は沃化ナ
トリウム、沃化カリウムなどの金属沃化物の存在下に行
なうのが有利である。上記方法におけるヒドロキシー３
●４−ジヒドロカルボスチリル誘導体〔■〕とハロゲノ
エステル誘導体〔■〕との使用割合はとくに限定されず
、広範囲の中から適宜に選択されるが、通常、前者に対
して後者を等モル〜５倍モル、好ましくは等モルー２倍
モル量にて用いるのが望ましい。また、その反応温度も
とくに限定されないが、通常、室温〜２００℃、好まし
くは５０〜１５０℃で行なわれる。反応時間は通常１〜
（イ）時間、好ましくは１〜１峙間である。
＊また本発明化合物は下式に示す
方法によつても製造することができる。〔上式に於て、
Ｒ″１はフェニルアルキル基又は低級アルカノイル基を
示す。
Ｒ２は前記と同じ。〕即ち上記で得られた一般式〔１−
１〕のベンジルオキシ誘導体を慣用の接触還元反応によ
り、例えばパラジウム、パラジウム炭素、白金、ラネー
ニツケル等の触媒の存在下メタノール、エタノール、プ
ロパノール、酢酸、ジオキサン等の溶媒中水素圧１〜５
気圧下室温〜７０℃で１〜６時間反応させて一般式〔１
−２〕のヒドロキシ体とすることができる。また得られ
た一般式〔１−２〕の化合物にフェニルアルキルハライ
ド又は低級アルカン酸の酸ハロゲン化物もしくは酸無水
物を反応させて一般式〔１−３〕の３・４−ジヒドロカ
ルボスチリル誘導体とすることができる。斯しくて得ら
れる本発明化合物は抽出、再結晶、カラムクロマトグラ
フィー、プリパラテイブ薄層クロマトグラフィー等の慣
用手段によつて分離、精製される。
１〕のベンジルオキシ誘導体を慣用の接触還元反応によ
り、例えばパラジウム、パラジウム炭素、白金、ラネー
ニツケル等の触媒の存在下メタノール、エタノール、プ
ロパノール、酢酸、ジオキサン等の溶媒中水素圧１〜５
気圧下室温〜７０℃で１〜６時間反応させて一般式〔１
−２〕のヒドロキシ体とすることができる。また得られ
た一般式〔１−２〕の化合物にフェニルアルキルハライ
ド又は低級アルカン酸の酸ハロゲン化物もしくは酸無水
物を反応させて一般式〔１−３〕の３・４−ジヒドロカ
ルボスチリル誘導体とすることができる。斯しくて得ら
れる本発明化合物は抽出、再結晶、カラムクロマトグラ
フィー、プリパラテイブ薄層クロマトグラフィー等の慣
用手段によつて分離、精製される。
本発明化合物の製造例を以下に掲げる。
実施例１
ＤＭＦ３００ｍ１に５−ヒドロキシー８−ベンジルオキ
シー３●４−ジヒドロカルボスチリル７ｙ１エチルーγ
−ブロモブチレート６ｙ及び炭酸カリウム４．２ｙを加
えて６０〜７０℃にて２．時間攪拌する。
シー３●４−ジヒドロカルボスチリル７ｙ１エチルーγ
−ブロモブチレート６ｙ及び炭酸カリウム４．２ｙを加
えて６０〜７０℃にて２．時間攪拌する。
冷後、反応液に酢酸エチル１．５ｅ及び飽和食塩水１．
５ｅを加えて分液する。酢酸エチル層を飽和食塩水で洗
浄し、濃縮する。濃縮残をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーを行う。溶媒；クロロホルム−メタノール（２
０：１）。最初に溶出してくる留分を濃縮し、残をクロ
ロホルムー石油エーテ″ルから再結晶して無色板状晶の
５−（３−エトキシカルボニルプロポキシ）−８−ベン
ジルオキシー３◆４−ジヒドロカルボスチリル５．５ｙ
を得る。融点１２３〜１２４カＣ ・実施例２〜４ 実施例１と同様にして下記第１表の化合物を得る。
５ｅを加えて分液する。酢酸エチル層を飽和食塩水で洗
浄し、濃縮する。濃縮残をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーを行う。溶媒；クロロホルム−メタノール（２
０：１）。最初に溶出してくる留分を濃縮し、残をクロ
ロホルムー石油エーテ″ルから再結晶して無色板状晶の
５−（３−エトキシカルボニルプロポキシ）−８−ベン
ジルオキシー３◆４−ジヒドロカルボスチリル５．５ｙ
を得る。融点１２３〜１２４カＣ ・実施例２〜４ 実施例１と同様にして下記第１表の化合物を得る。
実施例５
エタノール５００ｍｔに５−（３−エトキシカルボニル
プロポキシ）−８−ベンジルオキシー３・４−ジヒドロ
カルボスチリル４ｙ１５％パラジウム炭素１ｑを加えて
中圧接触還元装置中で、水素圧２気圧、約５０℃にて１
．５時間反応させる。
プロポキシ）−８−ベンジルオキシー３・４−ジヒドロ
カルボスチリル４ｙ１５％パラジウム炭素１ｑを加えて
中圧接触還元装置中で、水素圧２気圧、約５０℃にて１
．５時間反応させる。
反応後、触媒を沖去し、母液を濃縮し、残渣をクロロホ
ルムー石油エーテルから再結晶して、無色針状晶の５−
（３−エトキシカルボニルプロポキシ）−８−ヒドロキ
シー３・４−ジヒドロカルボスチリル２．５ｙを得る。
融点１１４〜１１５．５４Ｃ 実施例６ ピリジン１０ｍ１に５−（３−エトキシカルボニルプロ
ポキシ）−８−ヒドロキシー３・４−ジヒドロカルボス
チリル１．４ｙ１及び無水酢酸０．７ｍ１を加えて室温
攪拌を２時間行う。
ルムー石油エーテルから再結晶して、無色針状晶の５−
（３−エトキシカルボニルプロポキシ）−８−ヒドロキ
シー３・４−ジヒドロカルボスチリル２．５ｙを得る。
融点１１４〜１１５．５４Ｃ 実施例６ ピリジン１０ｍ１に５−（３−エトキシカルボニルプロ
ポキシ）−８−ヒドロキシー３・４−ジヒドロカルボス
チリル１．４ｙ１及び無水酢酸０．７ｍ１を加えて室温
攪拌を２時間行う。
反応液を水１００ｍ１に注ぎ析出晶を淵取し、水洗する
。無色無定形晶の５−（３−エトキシカルボニルプロポ
キシ）−８”−アセトキシー３・４−ジヒドロカルボス
チリル１．４ｙを得る。融点１０９〜１１０．５℃
。無色無定形晶の５−（３−エトキシカルボニルプロポ
キシ）−８”−アセトキシー３・４−ジヒドロカルボス
チリル１．４ｙを得る。融点１０９〜１１０．５℃
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中Ｒ＿１は水素原子、フェニルアルキル基又は低級
アルカノイル基を、Ｒ＿２は低級アルキル基を夫々示す
。 〕で表わされる３・４−ジヒドロカルボスチリル誘導体
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9282377A JPS6051472B2 (ja) | 1977-08-01 | 1977-08-01 | ３，４−ジヒドロカルボスチリル誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9282377A JPS6051472B2 (ja) | 1977-08-01 | 1977-08-01 | ３，４−ジヒドロカルボスチリル誘導体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5427573A JPS5427573A (en) | 1979-03-01 |
| JPS6051472B2 true JPS6051472B2 (ja) | 1985-11-14 |
Family
ID=14065146
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9282377A Expired JPS6051472B2 (ja) | 1977-08-01 | 1977-08-01 | ３，４−ジヒドロカルボスチリル誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6051472B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2474176A (en) * | 2006-07-18 | 2011-04-06 | Dyson Technology Ltd | A hand-held vacuum cleaner with handle and suction pipe relatively angled |
| GB2542387B (en) | 2015-09-17 | 2017-11-01 | Dyson Technology Ltd | Vacuum cleaner |
-
1977
- 1977-08-01 JP JP9282377A patent/JPS6051472B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5427573A (en) | 1979-03-01 |
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