JPS6034086A - 磁気センサ - Google Patents
磁気センサInfo
- Publication number
- JPS6034086A JPS6034086A JP58144197A JP14419783A JPS6034086A JP S6034086 A JPS6034086 A JP S6034086A JP 58144197 A JP58144197 A JP 58144197A JP 14419783 A JP14419783 A JP 14419783A JP S6034086 A JPS6034086 A JP S6034086A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic field
- sensor
- bias magnetic
- vector
- works
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N50/00—Galvanomagnetic devices
- H10N50/10—Magnetoresistive devices
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
く技術分野〉
本発明は強磁性体磁気抵抗効果を用いた磁気センサに関
するものである。
するものである。
〈従来技術〉
強磁性体磁気抵抗型センサ(以下MRセンサという)は
、周知の如く、MRセンサ内部の自発磁化Mが外部磁界
Hex の作用により回転し、この時センサ抵抗値が変
化する現象を利用している。
、周知の如く、MRセンサ内部の自発磁化Mが外部磁界
Hex の作用により回転し、この時センサ抵抗値が変
化する現象を利用している。
第1図において、1は強磁性体エレメントであり、2お
よび3はエレメント両端より引き出した電極端子である
。この端子間の抵抗値Rは、外部磁界Hex により生
成される自発磁化M Isとセンシング電流■とのなす
角度θにより決まり、R=R−ΔR11s1n2θ で表わされる。ここでR6は初期抵抗値であり、ΔRは
エレメント形成材料により決まりエレメント飽和磁界が
作用したときの最大抵抗変化量である。HA 、EAは
それぞれ磁化の困難軸および容易軸を示している。
よび3はエレメント両端より引き出した電極端子である
。この端子間の抵抗値Rは、外部磁界Hex により生
成される自発磁化M Isとセンシング電流■とのなす
角度θにより決まり、R=R−ΔR11s1n2θ で表わされる。ここでR6は初期抵抗値であり、ΔRは
エレメント形成材料により決まりエレメント飽和磁界が
作用したときの最大抵抗変化量である。HA 、EAは
それぞれ磁化の困難軸および容易軸を示している。
上述の如く、磁気抵抗変化はMRセンサ内部の自発磁化
Ms’と電流■とのなす角度θにより決まるが、実用素
子としては、エレメント内の自発磁化は軸ずれ及び分散
等を含むのが一般である。
Ms’と電流■とのなす角度θにより決まるが、実用素
子としては、エレメント内の自発磁化は軸ずれ及び分散
等を含むのが一般である。
811+2図には、アステロイド曲線(astroid
curre )を示しており、単磁区理論によれば、本
曲線の外部領域(斜線外)工での磁界中では、一つの安
定化磁化方向を有するのみであるか、内部領域(斜線内
)■では、二つの安定化磁化方向を有していることか知
られている。例えは、第2図中、容易軸EAから観察し
てαたけ角度のすれた方向に一様な磁界が作用する場合
、この磁界強度■とし、除々にこの磁界を弱(して■を
通過し、アステロイド曲線との交点■に至る。そして、
この交点■をよきって内部領域■に入ると、初期化磁化
方向の経歴にからんで決まる二つの磁化安定化状態が生
じる。この結果、MRセンサに作用する磁界の方向また
は強弱等の変動が発生した場合、センサ出力にヒスリシ
スまたは不連続性が認められる。
curre )を示しており、単磁区理論によれば、本
曲線の外部領域(斜線外)工での磁界中では、一つの安
定化磁化方向を有するのみであるか、内部領域(斜線内
)■では、二つの安定化磁化方向を有していることか知
られている。例えは、第2図中、容易軸EAから観察し
てαたけ角度のすれた方向に一様な磁界が作用する場合
、この磁界強度■とし、除々にこの磁界を弱(して■を
通過し、アステロイド曲線との交点■に至る。そして、
この交点■をよきって内部領域■に入ると、初期化磁化
方向の経歴にからんで決まる二つの磁化安定化状態が生
じる。この結果、MRセンサに作用する磁界の方向また
は強弱等の変動が発生した場合、センサ出力にヒスリシ
スまたは不連続性が認められる。
〈発明の目的〉
本発明は上記のような特性を改善したMRセンサを提供
することを目的とする。
することを目的とする。
〈実施例〉
第3図は本発明の一実施例を示すセンサチップの斜視図
、第4図はエレメント容易軸方向の断面図である。
、第4図はエレメント容易軸方向の断面図である。
11は硬質フェライト基板、12はMRエレメントであ
り、長手方向は容易軸EAに揃えている。
り、長手方向は容易軸EAに揃えている。
I3はワイヤボンデング又は半田パッド部である。
フェライト基板11は、第4図に明らかなように、MR
エレメント容易軸方向にこのフェライトを着磁したもの
である。14は5IO2,Al2O3等の非磁性絶縁体
層である。
エレメント容易軸方向にこのフェライトを着磁したもの
である。14は5IO2,Al2O3等の非磁性絶縁体
層である。
以上のような構造で、本例においてMRエレメント12
の容易軸EA力方向、常にバイアス磁界が作用している
゛こととなる。従って、これに信号磁界が作用した場合
、全体の磁界は上記のバイアス磁界との合成ペルトルと
して考えられる。第2図で、無信号磁界時にはバイアス
磁界のみが作用し、容易軸EA上にBHの磁界が働くも
のとする。
の容易軸EA力方向、常にバイアス磁界が作用している
゛こととなる。従って、これに信号磁界が作用した場合
、全体の磁界は上記のバイアス磁界との合成ペルトルと
して考えられる。第2図で、無信号磁界時にはバイアス
磁界のみが作用し、容易軸EA上にBHの磁界が働くも
のとする。
これに困難軸HAにS Hなる信号磁界が作用した時に
は、合成されて磁界はSH’の方向に作用する。この場
合、困難軸HA方向の信号磁界SHに大小の変化かあっ
ても、合成ベクトルSH’はバイアス磁界BHを通る直
線上にあって、バイアス磁界BHと合成ベクトルSH’
の角度α′の変動に基づく動作となる。ここで、バイア
ス磁界BHをセンサエレメントの飽和磁界に等しいか、
それよりも大きな磁界を選らぶことか重要である。すな
イつち、これによって合成ベクトルSH’を、常にアス
テロイド曲線の外部領域■にすることかてきる。
は、合成されて磁界はSH’の方向に作用する。この場
合、困難軸HA方向の信号磁界SHに大小の変化かあっ
ても、合成ベクトルSH’はバイアス磁界BHを通る直
線上にあって、バイアス磁界BHと合成ベクトルSH’
の角度α′の変動に基づく動作となる。ここで、バイア
ス磁界BHをセンサエレメントの飽和磁界に等しいか、
それよりも大きな磁界を選らぶことか重要である。すな
イつち、これによって合成ベクトルSH’を、常にアス
テロイド曲線の外部領域■にすることかてきる。
第5図は他の実施例を示すエレメント容易軸方向の断面
図で、ガラス、Si等の非磁性基板15上に、蒸着手法
およびフォトエツチング手法を用いて、MRエレメント
12および保護絶縁層I4を形成し、さらに磁性塗料1
6等を塗布して着磁したものである。・本例においても
第3図、第4図の例と同じ効果を得ることができる。
図で、ガラス、Si等の非磁性基板15上に、蒸着手法
およびフォトエツチング手法を用いて、MRエレメント
12および保護絶縁層I4を形成し、さらに磁性塗料1
6等を塗布して着磁したものである。・本例においても
第3図、第4図の例と同じ効果を得ることができる。
なお、ハード膜のバイアス方向はその磁界強度をアステ
ロイド曲線の外部領域、つまり第2図の■の領域に至ら
せるに十分な磁界を与えさえすれは、またバイアス方向
と逆の方向の外部磁界さえ回避できさえすれば、はぼ自
由な方向に設定可能である。
ロイド曲線の外部領域、つまり第2図の■の領域に至ら
せるに十分な磁界を与えさえすれは、またバイアス方向
と逆の方向の外部磁界さえ回避できさえすれば、はぼ自
由な方向に設定可能である。
〈発明の効果〉
以上のように、本発明はバイアス磁界をかけるにより、
1m単な構造てセンサ出力にヒステリシスまたは不連続
性のない有益な磁気センサか提供できる。
1m単な構造てセンサ出力にヒステリシスまたは不連続
性のない有益な磁気センサか提供できる。
一′1・、
第1図は磁気センサの基本構造を示す斜視図、第2図は
アステロイド曲線図、第3図は本発明の一実施例を示す
斜視図、第4図は同容易軸方向の断面図、第5図は他の
一実施例を示す容易軸方向の断面図である。 11・・・フェライト基板、12・・MRエレメント、
16・・・磁気塗料。 代理人 弁理士 福 士 愛 彦(他2名)第1図 HA 第2図 A 第4図 6 第5図 手続補正書 (4!J−許庁 殿) 1、事件の表示 特@B” 58−144197 2 発明の名称 磁気センサ 3 補正をする者 事件との関係 特許出願人 4、代 理 人 住 所 ■545太阪市阿倍野区長池町22番22号自
発 1、補正の内容 1+) 明細書の第2頁第14行目の「curreJ
を[CurVeJ と補正する。 (2)明細書の第3頁第7行目の「ヒスリシス」を「ヒ
ステリシス」と補正する。 (3)明細書の第5頁第17行目の1により」を「こと
により」と補正する。 以上
アステロイド曲線図、第3図は本発明の一実施例を示す
斜視図、第4図は同容易軸方向の断面図、第5図は他の
一実施例を示す容易軸方向の断面図である。 11・・・フェライト基板、12・・MRエレメント、
16・・・磁気塗料。 代理人 弁理士 福 士 愛 彦(他2名)第1図 HA 第2図 A 第4図 6 第5図 手続補正書 (4!J−許庁 殿) 1、事件の表示 特@B” 58−144197 2 発明の名称 磁気センサ 3 補正をする者 事件との関係 特許出願人 4、代 理 人 住 所 ■545太阪市阿倍野区長池町22番22号自
発 1、補正の内容 1+) 明細書の第2頁第14行目の「curreJ
を[CurVeJ と補正する。 (2)明細書の第3頁第7行目の「ヒスリシス」を「ヒ
ステリシス」と補正する。 (3)明細書の第5頁第17行目の1により」を「こと
により」と補正する。 以上
Claims (1)
- 1 強磁性体による磁気抵抗型センサにおいて、信号磁
界との合成ベクトルがアステロイド曲線の外部領域にく
るよう、特定方向に磁気バイアスをかけたことを特徴と
する磁気センサ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58144197A JPS6034086A (ja) | 1983-08-06 | 1983-08-06 | 磁気センサ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58144197A JPS6034086A (ja) | 1983-08-06 | 1983-08-06 | 磁気センサ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6034086A true JPS6034086A (ja) | 1985-02-21 |
Family
ID=15356467
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58144197A Pending JPS6034086A (ja) | 1983-08-06 | 1983-08-06 | 磁気センサ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6034086A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0194684A (ja) * | 1987-10-06 | 1989-04-13 | Nippon Autom:Kk | 磁気抵抗素子 |
JPH03179215A (ja) * | 1989-12-07 | 1991-08-05 | Hitachi Ltd | 磁気エンコーダ |
WO1996006329A1 (fr) * | 1994-08-23 | 1996-02-29 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Detecteur de signaux magnetiques |
US6678187B2 (en) | 2001-01-16 | 2004-01-13 | Nec Corporation | Semiconductor memory apparatus using tunnel magnetic resistance elements |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5178647A (ja) * | 1974-12-29 | 1976-07-08 | Sony Corp | |
JPS5534448A (en) * | 1978-08-30 | 1980-03-11 | Sharp Corp | Thin film magnetoresistance element bias magnetic field adjusting method |
JPS55130187A (en) * | 1979-03-30 | 1980-10-08 | Sony Corp | Magnetoelectric transducer |
JPS57197885A (en) * | 1981-05-29 | 1982-12-04 | Hitachi Ltd | Magnetoresistive element |
-
1983
- 1983-08-06 JP JP58144197A patent/JPS6034086A/ja active Pending
Patent Citations (4)
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WO1996006329A1 (fr) * | 1994-08-23 | 1996-02-29 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Detecteur de signaux magnetiques |
US5663644A (en) * | 1994-08-23 | 1997-09-02 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Magnetoresistive sensor having a bias field applied at approximately 56° |
US6678187B2 (en) | 2001-01-16 | 2004-01-13 | Nec Corporation | Semiconductor memory apparatus using tunnel magnetic resistance elements |
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