JPS6031835B2 - チアジアゾリルチオオキサセフアロスポリン - Google Patents
チアジアゾリルチオオキサセフアロスポリンInfo
- Publication number
- JPS6031835B2 JPS6031835B2 JP52102260A JP10226077A JPS6031835B2 JP S6031835 B2 JPS6031835 B2 JP S6031835B2 JP 52102260 A JP52102260 A JP 52102260A JP 10226077 A JP10226077 A JP 10226077A JP S6031835 B2 JPS6031835 B2 JP S6031835B2
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- Japan
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- acid
- acids
- esters
- solvent
- thiomethyl
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D505/00—Heterocyclic compounds containing 5-oxa-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. oxacephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C59/00—Compounds having carboxyl groups bound to acyclic carbon atoms and containing any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, groups, groups, or groups
- C07C59/40—Unsaturated compounds
- C07C59/42—Unsaturated compounds containing hydroxy or O-metal groups
- C07C59/56—Unsaturated compounds containing hydroxy or O-metal groups containing halogen
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明はロアリールマロンアミドオキサセフアロスポ
リン、特に下式で表わされる化合物(1)に関する:(
式中、Arは2−フルオロー(4または5)ーヒドロキ
シフエニルまたは2ーフルオロー(4または5)−p−
メトキシベンジルオキシフエニルを、Rは水素または低
級アルキルを、 AおよびBは、それぞれヒド0キシ、pーメトキシベン
ジルオキシまたはジフエニルメトキシを、それぞれ示す
)Rで表わされる低級アルキルは好ましくはC,〜3ア
ルキルである。
リン、特に下式で表わされる化合物(1)に関する:(
式中、Arは2−フルオロー(4または5)ーヒドロキ
シフエニルまたは2ーフルオロー(4または5)−p−
メトキシベンジルオキシフエニルを、Rは水素または低
級アルキルを、 AおよびBは、それぞれヒド0キシ、pーメトキシベン
ジルオキシまたはジフエニルメトキシを、それぞれ示す
)Rで表わされる低級アルキルは好ましくはC,〜3ア
ルキルである。
この発明の化合物はグラム腸性および陰性細菌に対して
強力な抗菌活性を示し、すぐれた薬動力学的性質を有す
る新規物質であって、医薬、動物薬、および抗菌剤とし
て有用である。
強力な抗菌活性を示し、すぐれた薬動力学的性質を有す
る新規物質であって、医薬、動物薬、および抗菌剤とし
て有用である。
例えば、ヒトおよび溢血動物に用いる場合には体重lk
9当たり0.05なし、し50爪9を、好ましくは静脈
注射、点滴、皮下注射、筋肉注射などにより投与する。
9当たり0.05なし、し50爪9を、好ましくは静脈
注射、点滴、皮下注射、筋肉注射などにより投与する。
通常結晶または凍結乾燥品をバィァル剤とし、用時溶解
して注射するが、通常の添加剤、賦形剤、安定剤等を加
えて注射剤、液剤、錠剤、粉剤、カプセル剤、軟膏など
として経口または非経口投与することもできる。好まし
くは投薬単位剤が用いられる。アルカリ金属塩は注射用
に最適である。アシルオキシメチル、インダニル、フエ
ニル、フタリジン、などのェステルは経口投与に用いる
こともできる。また、化合物1は定義の範囲内外の化合
物の合成中間体としても有用である。この発明による化
合物は例えば次の方法によっても製造することができる
。‘1)下記アミン(0)またはその反応性誘導体にハ
ロアリールマロン酸皿)またはその反応性誘導体を反応
さ・せる方法。
して注射するが、通常の添加剤、賦形剤、安定剤等を加
えて注射剤、液剤、錠剤、粉剤、カプセル剤、軟膏など
として経口または非経口投与することもできる。好まし
くは投薬単位剤が用いられる。アルカリ金属塩は注射用
に最適である。アシルオキシメチル、インダニル、フエ
ニル、フタリジン、などのェステルは経口投与に用いる
こともできる。また、化合物1は定義の範囲内外の化合
物の合成中間体としても有用である。この発明による化
合物は例えば次の方法によっても製造することができる
。‘1)下記アミン(0)またはその反応性誘導体にハ
ロアリールマロン酸皿)またはその反応性誘導体を反応
さ・せる方法。
(式中、Ar、COA、COB、Rは前記と同意義)ア
ミン0‘ま特関昭49一133594号などに記載され
ている。
ミン0‘ま特関昭49一133594号などに記載され
ている。
アミンロの反応性誘導体としては「 7位のアミノ基が
、シリル基(トリメチルシリル、メトキシジメチルシリ
ルなど)、スタニル基(トリメチルスタニルなど)、カ
ルボニル、アルキレン(アセトン、アセチルアセトン、
アセト酢酸ェステル、アセトアセトニトリル、アセトア
セトアミド、アセトアセトアニリド、シクロベンタンジ
オン、アセチルプチロラクトンなどとのエナミン)、ア
ルキリデン(1ーハロアルキ1」デン、1ーハロアラル
キリデン、1−アルコキシルキリヂン、1ーアルコキシ
ー1ーフエノキシアルキリデン、など)、酸(鍵酸、カ
ルボン酸、スルホン酸、など塩の形で)、その他で活性
化ないし保護されたものを含む。ロアリールマロン酸m
は公知物質または既知物質から類似方法によって製造で
きる類似物質である。
、シリル基(トリメチルシリル、メトキシジメチルシリ
ルなど)、スタニル基(トリメチルスタニルなど)、カ
ルボニル、アルキレン(アセトン、アセチルアセトン、
アセト酢酸ェステル、アセトアセトニトリル、アセトア
セトアミド、アセトアセトアニリド、シクロベンタンジ
オン、アセチルプチロラクトンなどとのエナミン)、ア
ルキリデン(1ーハロアルキ1」デン、1ーハロアラル
キリデン、1−アルコキシルキリヂン、1ーアルコキシ
ー1ーフエノキシアルキリデン、など)、酸(鍵酸、カ
ルボン酸、スルホン酸、など塩の形で)、その他で活性
化ないし保護されたものを含む。ロアリールマロン酸m
は公知物質または既知物質から類似方法によって製造で
きる類似物質である。
COA基は前記化合物の説明の欄に記載したような基を
示す。ハロアリールマロン酸mの反応性誘導体としては
酸無水物、酸ハロゲン化物、活性ェステル、活性アミド
、アジド、その他を含む。この反応は下記の方法で行な
うこともできる。
示す。ハロアリールマロン酸mの反応性誘導体としては
酸無水物、酸ハロゲン化物、活性ェステル、活性アミド
、アジド、その他を含む。この反応は下記の方法で行な
うこともできる。
i 遊離函数m)−縮合剤〔カーボジイミド(N,Nー
ジエチルカーボジイミド、N,N′ージシクロヘキシル
カーボジイミドなど)、カルボニル化合物(カルポニル
ジィミダゾールなど)、インキサゾリニウム塩、アシル
アミノ化合物(2−ヱトキシー1−エトキシカルボニル
ー1.2−ジヒドロキノリンなど)、その他〕の存在下
、好ましくは活性水素不含溶媒(ハロゲン化炭化水素、
ニトリル、エーテル、アミド溶媒などとその混合物)中
、好ましくはアミン0‘こ対して遊離酸ml〜2モルと
縮合剤1〜2モルを作用させる。U 酸無水物−これは
対称無水物、混合無水物〔滋酸、特にアルキルなどの炭
酸半ェステルとの混合無水物;アルカン酸、スルホン酸
、などとの混合無水物など〕、分子内無水物(ケテン、
ィソシアネート、など)その他の無水物を含み、好まし
くは酸捕捉剤〔無機塩基(アルカリ金属、アルカリ士類
金属の酸化物、水酸化物、炭酸塩、重炭酸塩、など)、
有機塩基(第三級アミン、芳香族塩基、など)、オキシ
ラン(アルキレンオキシド、アラルキレンオキシド、な
ど)、その他を含み、好ましくは活性水素不含の溶媒(
ハロゲン化炭化水素、ニトリル、エーテル、アミド溶媒
などとその混合物)中、好ましくはアミンロまたはその
反応性誘導体に対して酸無水物1〜2モルと酸捕捉剤1
〜10モルとを作用させる。
ジエチルカーボジイミド、N,N′ージシクロヘキシル
カーボジイミドなど)、カルボニル化合物(カルポニル
ジィミダゾールなど)、インキサゾリニウム塩、アシル
アミノ化合物(2−ヱトキシー1−エトキシカルボニル
ー1.2−ジヒドロキノリンなど)、その他〕の存在下
、好ましくは活性水素不含溶媒(ハロゲン化炭化水素、
ニトリル、エーテル、アミド溶媒などとその混合物)中
、好ましくはアミン0‘こ対して遊離酸ml〜2モルと
縮合剤1〜2モルを作用させる。U 酸無水物−これは
対称無水物、混合無水物〔滋酸、特にアルキルなどの炭
酸半ェステルとの混合無水物;アルカン酸、スルホン酸
、などとの混合無水物など〕、分子内無水物(ケテン、
ィソシアネート、など)その他の無水物を含み、好まし
くは酸捕捉剤〔無機塩基(アルカリ金属、アルカリ士類
金属の酸化物、水酸化物、炭酸塩、重炭酸塩、など)、
有機塩基(第三級アミン、芳香族塩基、など)、オキシ
ラン(アルキレンオキシド、アラルキレンオキシド、な
ど)、その他を含み、好ましくは活性水素不含の溶媒(
ハロゲン化炭化水素、ニトリル、エーテル、アミド溶媒
などとその混合物)中、好ましくはアミンロまたはその
反応性誘導体に対して酸無水物1〜2モルと酸捕捉剤1
〜10モルとを作用させる。
節 酸ハロゲン化物−好ましくは、前記無水物の項に記
載したような酸捕捉剤の存在下、溶媒(ハロゲン化炭化
水素、ニトリル、エーテル、ケトン、水、ジアルキルア
ミド溶媒などまたはその混合物)中、アミンロまたはそ
の反応性誘導体1モルに対して好ましくは酸ハロゲン化
物1なし、し2モルと酸捕捉剤1〜10モルを作用させ
る。
載したような酸捕捉剤の存在下、溶媒(ハロゲン化炭化
水素、ニトリル、エーテル、ケトン、水、ジアルキルア
ミド溶媒などまたはその混合物)中、アミンロまたはそ
の反応性誘導体1モルに対して好ましくは酸ハロゲン化
物1なし、し2モルと酸捕捉剤1〜10モルを作用させ
る。
iv 活性ェステルーこれはェノールェステル(ビニル
エステル、インプロパニルエステルなど)、アリールエ
ステル(ハロフエニルエステル、ニトロフェニルェステ
ル、など)、異項環芳香族ェステル(1−ヒドロキシベ
ンゾトリアゾールとのエステル)、ヒドロキシルアミン
とのエステル、ジアシルヒドロキシルアミンとのエステ
ル、などを含む。v 活性アミドーたとえば芳香族アミ
ド(イミダゾール、トリアゾール、2ーヱトキシー1,
2ージヒドロキノリンのアミド)、ジアシルアニリドな
ど。
エステル、インプロパニルエステルなど)、アリールエ
ステル(ハロフエニルエステル、ニトロフェニルェステ
ル、など)、異項環芳香族ェステル(1−ヒドロキシベ
ンゾトリアゾールとのエステル)、ヒドロキシルアミン
とのエステル、ジアシルヒドロキシルアミンとのエステ
ル、などを含む。v 活性アミドーたとえば芳香族アミ
ド(イミダゾール、トリアゾール、2ーヱトキシー1,
2ージヒドロキノリンのアミド)、ジアシルアニリドな
ど。
h ホルムィミノ化合物−たとえばN,Nージメチルホ
ルムイミノエステルなど。
ルムイミノエステルなど。
凧 その他に反応性誘導体。
lv〜のは活性水素不含の溶媒(ハロゲン化炭化水素、
エーテル、ケトン、アミド、ェステル溶媒などまたはそ
の混合物)中、アミンロまたはその反応性誘導体1モル
に対してハロアリールマロン酸mの反応性議導体1モル
以上を作用させる。
エーテル、ケトン、アミド、ェステル溶媒などまたはそ
の混合物)中、アミンロまたはその反応性誘導体1モル
に対してハロアリールマロン酸mの反応性議導体1モル
以上を作用させる。
【2178−ハロアリールマロンアミドー7Q−メトキ
シ−3−置換メチル−1−オキサデチアー3ーセフェム
ー4ーカルボン酸またはその誘導体(N)に1,3,4
ーチアジアゾール−5ーイルチオール類(V)またはそ
の反応性議導体を作用させる方法。(式中、Ar、CO
A、COB、Rは前記と同意義;XはVと交換し得る官
能基を示す)代表的な×基はハロゲン、ホスホリルオキ
シ、スルホニルオキシ、ジハ。
シ−3−置換メチル−1−オキサデチアー3ーセフェム
ー4ーカルボン酸またはその誘導体(N)に1,3,4
ーチアジアゾール−5ーイルチオール類(V)またはそ
の反応性議導体を作用させる方法。(式中、Ar、CO
A、COB、Rは前記と同意義;XはVと交換し得る官
能基を示す)代表的な×基はハロゲン、ホスホリルオキ
シ、スルホニルオキシ、ジハ。
アセトキシ、トリハロアセトキシなどのアシルオキシで
ある。化合物Vの反応性誘導体としてはアルカリ金属海
、有機塩基(トリェチルアミンなど)との塩などを用い
る。
ある。化合物Vの反応性誘導体としてはアルカリ金属海
、有機塩基(トリェチルアミンなど)との塩などを用い
る。
この反応は原料Wと試薬Vを要すれば塩基の存在下に、
好ましくは不活性溶媒(ハロゲン化炭化水素、エーテル
、ケトン、アミド溶媒など)中で作用させて実施する。
好ましくは不活性溶媒(ハロゲン化炭化水素、エーテル
、ケトン、アミド溶媒など)中で作用させて実施する。
{3’ 78ーハロアリールマロンアミドー7Q−メト
キシ−3−エポキシメタノー1ーオキサデチアー3ーセ
フェムー4ーカルボン酸誘導体に1,3,4ーチアジア
ゾールー5ーチオール類(V)またはその反応性誘導体
を作用させる方法。その他の核合成反応。{4) 78
ーハロアリールマロンアミドー3一(1,3,4ーチア
ジアゾールー5ーイル)チオメチルー1ーオキサデチア
−3ーセフエムー4ーカルボン酸またはその誘導体に7
Q−メトキシ基を導入する方法。
キシ−3−エポキシメタノー1ーオキサデチアー3ーセ
フェムー4ーカルボン酸誘導体に1,3,4ーチアジア
ゾールー5ーチオール類(V)またはその反応性誘導体
を作用させる方法。その他の核合成反応。{4) 78
ーハロアリールマロンアミドー3一(1,3,4ーチア
ジアゾールー5ーイル)チオメチルー1ーオキサデチア
−3ーセフエムー4ーカルボン酸またはその誘導体に7
Q−メトキシ基を導入する方法。
下記の方法を含む。a Nーハロゲン化剤(t−ブチル
ヒポクロライドなど)とアルカリ金属メトキシド(ナト
リウムメチレート、カリウムメチレート、など)と還元
剤とをメタノール中作用させる方法。
ヒポクロライドなど)とアルカリ金属メトキシド(ナト
リウムメチレート、カリウムメチレート、など)と還元
剤とをメタノール中作用させる方法。
b テトラヒドロフランなどの溶媒中、フェニルリチウ
ム等の存在下にtーブチルヒポクロリトとメタノール塩
基とを作用させたのち、要すれば還元する方方法。
ム等の存在下にtーブチルヒポクロリトとメタノール塩
基とを作用させたのち、要すれば還元する方方法。
c メタノール中、ほう酸ナトリウムの存在下tーブチ
ルヒポクロリトを加えたのち、生成するQ−クロル体を
亜鉛、亜燐酸ェステルなどで還元する方法。
ルヒポクロリトを加えたのち、生成するQ−クロル体を
亜鉛、亜燐酸ェステルなどで還元する方法。
d 臭素−DBU、五塩化りんーピリジン、塩基、メタ
/ールー塩基、塩化トリアルキルシリルまたはテトラア
ルキルアンモニウムクロリドを順次作用させる方法。
/ールー塩基、塩化トリアルキルシリルまたはテトラア
ルキルアンモニウムクロリドを順次作用させる方法。
{5} COAおよび/またはCOBが保護されたカル
ボキシである場合にこれを脱保護して遊離のカルボキシ
とする方法。
ボキシである場合にこれを脱保護して遊離のカルボキシ
とする方法。
代表的な脱保護反応は下記のものを含む。
i 活性の高いェステル、アミド、無水物は酸または塩
基又は緩衝液を用いて水と処理すれば加水分解される。
基又は緩衝液を用いて水と処理すれば加水分解される。
u ハロエチル、ベンジル、ニトロベンジル、メチルベ
ンジル、ジメチルベンジル、ジアリールメチル、トリア
リールメチルェステルなどは緩和な還元(すず、亜鉛、
二価クロムの塩、などと酸;ナトリウム、ジチオナィト
;白金、パラジウム、ニッケル、などの触媒の存在下に
接触還元;など)によって遊離酸を生ずる。nl ベン
ジル、メトキシベンジル、メチルベンジル、ジメトキシ
ベンジル、tーアルキル、トリチル、ジアリールメチル
、シクロブロピルメチル、スルホニルエチル、シクロプ
ロピルエチル、ェステルなどは酸の作用などによる加溶
媒分解など(錫酸、ルイス酸、スルホン酸、強酸性カル
ボン酸、などと要すればカチオン捕捉剤としてァニソー
ルなど)により遊離酸を生ずる。
ンジル、ジメチルベンジル、ジアリールメチル、トリア
リールメチルェステルなどは緩和な還元(すず、亜鉛、
二価クロムの塩、などと酸;ナトリウム、ジチオナィト
;白金、パラジウム、ニッケル、などの触媒の存在下に
接触還元;など)によって遊離酸を生ずる。nl ベン
ジル、メトキシベンジル、メチルベンジル、ジメトキシ
ベンジル、tーアルキル、トリチル、ジアリールメチル
、シクロブロピルメチル、スルホニルエチル、シクロプ
ロピルエチル、ェステルなどは酸の作用などによる加溶
媒分解など(錫酸、ルイス酸、スルホン酸、強酸性カル
ボン酸、などと要すればカチオン捕捉剤としてァニソー
ルなど)により遊離酸を生ずる。
iv フエナシル、エチニル、pーヒドロキシ−3,5
−ジーt−プチルベンジルエステルなどは塩基で分解す
れば遊離酸を生ずる。
−ジーt−プチルベンジルエステルなどは塩基で分解す
れば遊離酸を生ずる。
■ ROが保護されたヒドロキシである場合に、これを
脱保護してヒドロキシとする方法。
脱保護してヒドロキシとする方法。
代表的な脱保護反応は下記のものも含む。
i アシルオキシまたはエーテル(特にペンジルェーテ
ル類)の場合には酸(鉱酸、ルイス酸、強力ルボン酸、
スルホン酸など前記■3で述べたもの)、塩基(ナトリ
ウム、カリウムの水酸化物、炭酸塩など、有機塩基など
)を、要すればカチオン捕捉剤としてアニソールなどの
存在下に、作用させる。
ル類)の場合には酸(鉱酸、ルイス酸、強力ルボン酸、
スルホン酸など前記■3で述べたもの)、塩基(ナトリ
ウム、カリウムの水酸化物、炭酸塩など、有機塩基など
)を、要すればカチオン捕捉剤としてアニソールなどの
存在下に、作用させる。
11 ペンジルオキシカルボニルオキシ類、ベンジルオ
キシ類の場合は水素と白金、パラジウム、またはニッケ
ルなどの作用で接触還元的に脱保護されらる反応{5}
と‘6}‘ま同時に起きることもあり、このような場合
もこの発明の範囲に含めるものとする。
キシ類の場合は水素と白金、パラジウム、またはニッケ
ルなどの作用で接触還元的に脱保護されらる反応{5}
と‘6}‘ま同時に起きることもあり、このような場合
もこの発明の範囲に含めるものとする。
‘7ー COAおよび/またはCOBがカルボキシであ
る化合物1に無機または有機塩基を作用させれば塩が生
成する。塩基としては水酸化物の他に弱カルボン酸、炭
酸、その他の弱強の塩も用い得る。有機溶媒中、塩を形
成して析出させる方法は、精製を兼ねて実施できるので
好適である。水溶液を中和して濃縮する方法、凍結乾燥
する方法などによって取得することもできる。これらの
反応はいずれも約一30℃〜100qo(好ましくは−
20oo〜50℃)で実施し得る。
る化合物1に無機または有機塩基を作用させれば塩が生
成する。塩基としては水酸化物の他に弱カルボン酸、炭
酸、その他の弱強の塩も用い得る。有機溶媒中、塩を形
成して析出させる方法は、精製を兼ねて実施できるので
好適である。水溶液を中和して濃縮する方法、凍結乾燥
する方法などによって取得することもできる。これらの
反応はいずれも約一30℃〜100qo(好ましくは−
20oo〜50℃)で実施し得る。
反応溶媒としてはハロゲン化炭化水素(塩化メチレン、
クロロホルム、ジクロロエタン、トリクロロエタン、ク
ロロベソゼン、など)、エーテル(ジエチルエーテル、
テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、アニソール
、など)、ケトン(アセトン、メチルエチルケトン、メ
チルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、アセトフエ
ノン、など)、ェステル(酢酸エチル、酢酸プチル、安
息香酸メチル、など)、ニトロ炭化水素、ニトリル(ア
セトニトリル、ベンゾニトリル、など)、アミド(ホル
ムアミド、アセトアミド、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロトリアミド、
など)、スルホキシド、酸(ぎ酸、酢酸など)、塩基(
プチルアミン、トリェチルアミン、ピリジン、ピコリン
、キノリン、など)、水、その他を適宜選択して用いる
。要すれば不活性気体中、除湿下にかきまぜて反応の促
進を図ることもできる。
クロロホルム、ジクロロエタン、トリクロロエタン、ク
ロロベソゼン、など)、エーテル(ジエチルエーテル、
テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、アニソール
、など)、ケトン(アセトン、メチルエチルケトン、メ
チルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、アセトフエ
ノン、など)、ェステル(酢酸エチル、酢酸プチル、安
息香酸メチル、など)、ニトロ炭化水素、ニトリル(ア
セトニトリル、ベンゾニトリル、など)、アミド(ホル
ムアミド、アセトアミド、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロトリアミド、
など)、スルホキシド、酸(ぎ酸、酢酸など)、塩基(
プチルアミン、トリェチルアミン、ピリジン、ピコリン
、キノリン、など)、水、その他を適宜選択して用いる
。要すれば不活性気体中、除湿下にかきまぜて反応の促
進を図ることもできる。
生成物は、例えば常法によって溶媒、未反応物、副生物
などを濃縮、抽出、吸着、溶出、洗浄などで除去したの
ち、再沈澱、クロマトグラフィー、再結晶、その他の常
法によって精製すれば取得できる。
などを濃縮、抽出、吸着、溶出、洗浄などで除去したの
ち、再沈澱、クロマトグラフィー、再結晶、その他の常
法によって精製すれば取得できる。
以下に実施例を示してこの発明の態様を説明する。
実施例1
‘1} Q一(4一pーメトキシベンジルオキシー2ー
フルオロフエニル)−Q一pーメトキシベンジルオキシ
カルボニル酢酸181.8の9を塩化メチレンに懸濁し
、氷冷下にトリェチルアミン42山そと塩化オキサリル
26レ夕とを加えて60分間0℃できかまぜて生成する
酸塩化物の溶液を、7Qーメトキシ−78ーアミノー3
一(2ーメチル−1,3,4−チアジアゾール−5ーイ
ル)チオメチルー1ーデチアー1ーオキシー3ーセフエ
ルー4−力ルボン酸ジフェニルメチル105秘をピリジ
ン33仏〆を含む塩化メチレン5の‘にとかした溶液に
−30℃で加え、3び分間かきまぜる。
フルオロフエニル)−Q一pーメトキシベンジルオキシ
カルボニル酢酸181.8の9を塩化メチレンに懸濁し
、氷冷下にトリェチルアミン42山そと塩化オキサリル
26レ夕とを加えて60分間0℃できかまぜて生成する
酸塩化物の溶液を、7Qーメトキシ−78ーアミノー3
一(2ーメチル−1,3,4−チアジアゾール−5ーイ
ル)チオメチルー1ーデチアー1ーオキシー3ーセフエ
ルー4−力ルボン酸ジフェニルメチル105秘をピリジ
ン33仏〆を含む塩化メチレン5の‘にとかした溶液に
−30℃で加え、3び分間かきまぜる。
反応液を減圧濃縮して得られる残留物を酢酸エチルにと
かし、希塩酸、水、炭酸カリウム水および水で洗い、乾
燥後、減圧濃縮する。シリカゲル上カラムクロマトグラ
フし、酢酸エチル:ベンゼン(1:10)で溶出する分
画より7Qーメトキシ−78一〔Q−(4−pーメトキ
シベンジルオキシ−2−フルロオフエニル)−Q一pー
メトキシベンジルオキシカルボニルアセトアミド〕−3
一(2ーメチルー1,3,4ーチアジアゾール−5ーイ
ル)チオメチルー1−デチアー1ーオキシ−3ーセフエ
ムー4ーカルボン酸ジフェニルェステル125の9を得
る。IR:レ器受133410、1781、1720、
1245肌‐1。
かし、希塩酸、水、炭酸カリウム水および水で洗い、乾
燥後、減圧濃縮する。シリカゲル上カラムクロマトグラ
フし、酢酸エチル:ベンゼン(1:10)で溶出する分
画より7Qーメトキシ−78一〔Q−(4−pーメトキ
シベンジルオキシ−2−フルロオフエニル)−Q一pー
メトキシベンジルオキシカルボニルアセトアミド〕−3
一(2ーメチルー1,3,4ーチアジアゾール−5ーイ
ル)チオメチルー1−デチアー1ーオキシ−3ーセフエ
ムー4ーカルボン酸ジフェニルェステル125の9を得
る。IR:レ器受133410、1781、1720、
1245肌‐1。
NMR:6旨82132.6$犯、3.4$班、3.7
$細、3.77s3日、4.25〜4.60(2H+2
Hm)、4.87sIH、4.9$2日 、 5.0公
IH 、 5.1$2日 、 6.53 〜7.胸畑。
■ 前記{1}の生成物125mgをアニソール0.2
5の‘にとかし、氷冷下にトリフルオロ酢酸0.25叫
を滴下する。
$細、3.77s3日、4.25〜4.60(2H+2
Hm)、4.87sIH、4.9$2日 、 5.0公
IH 、 5.1$2日 、 6.53 〜7.胸畑。
■ 前記{1}の生成物125mgをアニソール0.2
5の‘にとかし、氷冷下にトリフルオロ酢酸0.25叫
を滴下する。
同温で30分間かきまぜたのち、減圧濃縮し、残留物を
エーテル1.5泌中でかさまぜて生ずる沈澱をエーテル
−nーヘキサン中で洗浄すれば7Q−メトキシー78−
〔Q一(4ーヒドロキシー2ーフルオロフエニル)−Q
ーカルボキシアセトアミド〕−3一(2−メチル一1,
3,4−チアジアゾール−5ーイル)チオメチル−1ー
デチアー1ーオキシー3ーセフェムー4ーカルボン酸4
0の9を得る。粉末。m:ひ斑が1781、17081
503仇−・。
エーテル1.5泌中でかさまぜて生ずる沈澱をエーテル
−nーヘキサン中で洗浄すれば7Q−メトキシー78−
〔Q一(4ーヒドロキシー2ーフルオロフエニル)−Q
ーカルボキシアセトアミド〕−3一(2−メチル一1,
3,4−チアジアゾール−5ーイル)チオメチル−1ー
デチアー1ーオキシー3ーセフェムー4ーカルボン酸4
0の9を得る。粉末。m:ひ斑が1781、17081
503仇−・。
Rf:0.46(酢酸:水:酢酸エチル=1:1:5/
シリカゲル薄層板)。実施例2 m Q−(5−pーメトキシベンジルオキシー2ーフル
オロフエニル)一Q−ジフエニルメトキシカルボニル酢
酸202の9を塩化メチレン5の‘に懸濁し、氷袷下に
トリェチルアミン56仏夕と塩化オキサリル34山そと
を滴下し、同温で60分間かきまぜる。
シリカゲル薄層板)。実施例2 m Q−(5−pーメトキシベンジルオキシー2ーフル
オロフエニル)一Q−ジフエニルメトキシカルボニル酢
酸202の9を塩化メチレン5の‘に懸濁し、氷袷下に
トリェチルアミン56仏夕と塩化オキサリル34山そと
を滴下し、同温で60分間かきまぜる。
この溶液を、7Qーメトキシ−78ーアミノ−3一(2
−メチル一1,3,4ーチアジアゾール−5ーイル)チ
オメチルー1ーデチアー1ーオキサー3ーセフェム−4
−カルボン酸ジフェニルメチル105の9をピリジン4
5仏夕を含む塩化メチレン5の‘にとかした溶液に−3
0o○で滴下し、同温で30分間かきまぜたのち、減圧
濃縮する。残留物を酢酸エチルにとかし、希燐酸、水、
炭酸ナトリウム水、および水で順次洗い、乾燥し、溶媒
留去する。残留物260の9をシリカゲル上カラムクロ
マトグラフして精製すれば7Q−メトキシー78一〔Q
一(5−pーメトキシベンジルオキシー2ーフルオ。フ
エニル)−Q−ジフエニルメトキシカルボニルアセトア
ミド〕一3−(2−メチル−1,3,4ーチアジアゾー
ル−5−イル)チオメチルー1−デチア−1ーオキサー
3ーセフエム−4ーカルボン酸ジフェニルメチル145
m3を得る。泡状物。IR:レ器蔓133420・17
87・1723・161〇・1495・1248肌‐1
0NMR:6SB昇132.5$狙、3.47brs犯
、3.7本細、4.20〜4.58m2日十2日、4.
8友2日、5.0$IH、5.0$/日、6.9$IH
+IH、6.78〜7.93m2鮒。
−メチル一1,3,4ーチアジアゾール−5ーイル)チ
オメチルー1ーデチアー1ーオキサー3ーセフェム−4
−カルボン酸ジフェニルメチル105の9をピリジン4
5仏夕を含む塩化メチレン5の‘にとかした溶液に−3
0o○で滴下し、同温で30分間かきまぜたのち、減圧
濃縮する。残留物を酢酸エチルにとかし、希燐酸、水、
炭酸ナトリウム水、および水で順次洗い、乾燥し、溶媒
留去する。残留物260の9をシリカゲル上カラムクロ
マトグラフして精製すれば7Q−メトキシー78一〔Q
一(5−pーメトキシベンジルオキシー2ーフルオ。フ
エニル)−Q−ジフエニルメトキシカルボニルアセトア
ミド〕一3−(2−メチル−1,3,4ーチアジアゾー
ル−5−イル)チオメチルー1−デチア−1ーオキサー
3ーセフエム−4ーカルボン酸ジフェニルメチル145
m3を得る。泡状物。IR:レ器蔓133420・17
87・1723・161〇・1495・1248肌‐1
0NMR:6SB昇132.5$狙、3.47brs犯
、3.7本細、4.20〜4.58m2日十2日、4.
8友2日、5.0$IH、5.0$/日、6.9$IH
+IH、6.78〜7.93m2鮒。
t2’ 前記(1}の生成物145の9をアニソール0
.35の‘にとかし、氷冷下にかきまぜながらトリフル
オロ酢酸0.35の‘を加えて同温で3び分間反応させ
る。反応液を減圧濃縮して得られる残留物にエーテルを
加え、生ずる沈澱工−テルで洗浄すれば7Q−メトキシ
ー78一〔Q一(5ーヒドロキシー2ーフルオロフエニ
ル)−Qーカルボキシアセトアミド〕−3一(2ーメチ
ルー1,3,4ーチアジアゾールー5ーイル)チオメチ
ル−1ーデチア−1ーオキシー3ーセフェムー4ーカル
ボン酸50脚を得る。瓜:〃機彰1178017041
4灘奴‐1。
.35の‘にとかし、氷冷下にかきまぜながらトリフル
オロ酢酸0.35の‘を加えて同温で3び分間反応させ
る。反応液を減圧濃縮して得られる残留物にエーテルを
加え、生ずる沈澱工−テルで洗浄すれば7Q−メトキシ
ー78一〔Q一(5ーヒドロキシー2ーフルオロフエニ
ル)−Qーカルボキシアセトアミド〕−3一(2ーメチ
ルー1,3,4ーチアジアゾールー5ーイル)チオメチ
ル−1ーデチア−1ーオキシー3ーセフェムー4ーカル
ボン酸50脚を得る。瓜:〃機彰1178017041
4灘奴‐1。
Rf:0.46(酢酸:水:酢酸エチル(1:1:5)
/シリカゲル薄層板)。実施例 3 m Q一(4一pーメトキシベンジルオキシー2ーフル
オロフエニル)一Q一pーメトキシベンジルオキシカル
ボニル酢酸18物9を塩化メチレン5泌にとかし、氷冷
下にトリヱチルアミン56仏〆と塩化オキサリル32仏
ぞとを加えて同温で60分間かきまぜる。
/シリカゲル薄層板)。実施例 3 m Q一(4一pーメトキシベンジルオキシー2ーフル
オロフエニル)一Q一pーメトキシベンジルオキシカル
ボニル酢酸18物9を塩化メチレン5泌にとかし、氷冷
下にトリヱチルアミン56仏〆と塩化オキサリル32仏
ぞとを加えて同温で60分間かきまぜる。
この反応液を78ーアミノー7はーメトキシ−3一(1
,3,4−チアジアゾールー2ーイル)チオメチルー1
ーデチアー1ーオキサー3ーセフェム−4ーカルボン酸
ジフェニルメチル100雌とピリジン45〃そとを含有
する塩化メチレン4叫中に氷冷下に滴下する。3び分後
、反応液が水洗、乾燥し、溶媒蟹去する。
,3,4−チアジアゾールー2ーイル)チオメチルー1
ーデチアー1ーオキサー3ーセフェム−4ーカルボン酸
ジフェニルメチル100雌とピリジン45〃そとを含有
する塩化メチレン4叫中に氷冷下に滴下する。3び分後
、反応液が水洗、乾燥し、溶媒蟹去する。
残留物をシリカゲル上クロマトグラフすれば78一〔Q
−(4一pーメトキシベンジルオキシー2ーフルオロフ
エニル)−Q−p−メトキシベンジルオキシカルボニル
アセチル〕アミノ−7Q−メトキシー3一(1,3,4
ーチアジアゾールー2−イル)チオメチルー1ーデチア
ー1ーオキサー3ーセフエム−4−カルボン酸ジフェニ
ルメチル145肌9を得る。m:レ柵隻1340い17
901725162ふ1615仇‐1。
−(4一pーメトキシベンジルオキシー2ーフルオロフ
エニル)−Q−p−メトキシベンジルオキシカルボニル
アセチル〕アミノ−7Q−メトキシー3一(1,3,4
ーチアジアゾールー2−イル)チオメチルー1ーデチア
ー1ーオキサー3ーセフエム−4−カルボン酸ジフェニ
ルメチル145肌9を得る。m:レ柵隻1340い17
901725162ふ1615仇‐1。
NMR:6CDC133‐4$3日、3‐7$抗日、4
‐20十4‐53(ABq)2日、4.47sが、4.
8SI日、4.87sが、4.97sIH、5.07s
餌、6.43〜7.67m21日、8.8$/日。■
前記【11の生成物145のoを氷袷下アニソール1の
【にとかし、トリフルオロ酢酸lm‘を加えて30分間
きかまでる。
‐20十4‐53(ABq)2日、4.47sが、4.
8SI日、4.87sが、4.97sIH、5.07s
餌、6.43〜7.67m21日、8.8$/日。■
前記【11の生成物145のoを氷袷下アニソール1の
【にとかし、トリフルオロ酢酸lm‘を加えて30分間
きかまでる。
反応液を濃縮乾間して得られる残留物にエーテルを加え
、析出する結晶を炉取し、乾燥すれば78−〔Q−(4
ーヒドロキシー2−フルオロフエニル)一Qーカルボキ
シアセチル〕アミノー7Q−メトキシ−3一(1,3,
4−チアジアゾールー2ーイル)チオメチルー1ーデチ
ア−1ーオキサ−3ーセフェムー4ーカルボン酸75の
cを得る。収率:90.6%。m:レ麓孝178017
20、163い1600弧‐ITLC:Rf=0.斑(
酢酸エチル:水:酢酸=5:1:1ノメルク社製シリカ
ゲル薄層板)。
、析出する結晶を炉取し、乾燥すれば78−〔Q−(4
ーヒドロキシー2−フルオロフエニル)一Qーカルボキ
シアセチル〕アミノー7Q−メトキシ−3一(1,3,
4−チアジアゾールー2ーイル)チオメチルー1ーデチ
ア−1ーオキサ−3ーセフェムー4ーカルボン酸75の
cを得る。収率:90.6%。m:レ麓孝178017
20、163い1600弧‐ITLC:Rf=0.斑(
酢酸エチル:水:酢酸=5:1:1ノメルク社製シリカ
ゲル薄層板)。
実施例4
m Q一(2ーフルオロー5一Pーメトキシベンジルオ
キシフエニル)−Qージフエニルメトキシカルボニル酢
酸202雌を塩化メチレン5舷にとかし、氷冷下にトリ
ェチルアミン56仏〆と塩化オキサリル34仏夕とを加
え、同温で60分間かきまぜる。
キシフエニル)−Qージフエニルメトキシカルボニル酢
酸202雌を塩化メチレン5舷にとかし、氷冷下にトリ
ェチルアミン56仏〆と塩化オキサリル34仏夕とを加
え、同温で60分間かきまぜる。
反応液を78−アミノ−7Q−メトキシ′3一(1,3
,4ーチアジアゾール−2ーイル)チオメチル−1ーデ
チアー1ーオキサセフアロスポラン酸ジフェニルメチル
100雌とピリジン45〃そとを含む塩化メチレン5叫
中に−30〜一40午0に冷却しながら滴下する。この
混合物を室温に戻し(約2び分間)、減圧濃縮し、残留
物に酢酸エチルを加えたのち、水、2%燐酸水、水、希
炭酸水素ナトリウム水および水で1順次洗い、乾燥する
。溶媒蟹去して得られる残澄30mgをシリカゲル上ク
ロマトグラフして精製すれば78−〔Q−(2ーフルオ
ロー5−Pーメトキシベンジルオキシフエニル)−Qー
ジフエニルメトキシカルポニルアセチル〕アミノ−7Q
ーメトキシ−3一(1,3,4ーチアジアゾールー2ー
イル)チオメチルー1ーデチア−1−オキサー3−セフ
ヱム−4ーカルボン酸ジフェニルメチル105のoを得
る。無色泡状物。m:レ鯛蔓131790、1728、
1613、1497、1252の一10NMR:6CD
C133.4弧s3日、3.77sQ日、4.39十4
.56(A均8.0HZ)2日、4.5$2日、4.8
本2日、4.9幻IH、5.0$IH、6.78〜7.
75m31日。
,4ーチアジアゾール−2ーイル)チオメチル−1ーデ
チアー1ーオキサセフアロスポラン酸ジフェニルメチル
100雌とピリジン45〃そとを含む塩化メチレン5叫
中に−30〜一40午0に冷却しながら滴下する。この
混合物を室温に戻し(約2び分間)、減圧濃縮し、残留
物に酢酸エチルを加えたのち、水、2%燐酸水、水、希
炭酸水素ナトリウム水および水で1順次洗い、乾燥する
。溶媒蟹去して得られる残澄30mgをシリカゲル上ク
ロマトグラフして精製すれば78−〔Q−(2ーフルオ
ロー5−Pーメトキシベンジルオキシフエニル)−Qー
ジフエニルメトキシカルポニルアセチル〕アミノ−7Q
ーメトキシ−3一(1,3,4ーチアジアゾールー2ー
イル)チオメチルー1ーデチア−1−オキサー3−セフ
ヱム−4ーカルボン酸ジフェニルメチル105のoを得
る。無色泡状物。m:レ鯛蔓131790、1728、
1613、1497、1252の一10NMR:6CD
C133.4弧s3日、3.77sQ日、4.39十4
.56(A均8.0HZ)2日、4.5$2日、4.8
本2日、4.9幻IH、5.0$IH、6.78〜7.
75m31日。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 次式で表わされる化合物: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Arは2−フルオロ−(4または5)−ヒド
ロキシフエニルまたは2−フルオロ−(4または5)−
p−メトキシベンジルオキシフエニルを、 Rは水素ま
たは低級アルキルを、 AおよびBは、それぞれヒドロキシ、p−メトキシベ
ンジルオキシまたはジフエニルメトキシを、それぞれ示
す)
Priority Applications (31)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP52102260A JPS6031835B2 (ja) | 1977-08-25 | 1977-08-25 | チアジアゾリルチオオキサセフアロスポリン |
CA300,788A CA1100962A (en) | 1977-04-28 | 1978-04-10 | Haloarylmalonamidooxacephalosporins |
PH21016A PH16851A (en) | 1977-04-28 | 1978-04-17 | Haloarylmalonamidooxacephalosporins |
GB16128/78A GB1574273A (en) | 1977-04-28 | 1978-04-24 | Haloarylmalonamidooxacephalosporins |
GR56114A GR69966B (ja) | 1977-04-28 | 1978-04-26 | |
US05/900,235 US4183928A (en) | 1977-04-28 | 1978-04-26 | Haloarylmalonamidooxacephalosporins |
DK182878A DK182878A (da) | 1977-04-28 | 1978-04-26 | Haloarylmalonamidooxacephalosporiner og fremgangsmaade til fremstilling deraf |
SU782608717A SU784779A3 (ru) | 1977-04-28 | 1978-04-26 | Способ получени производных 7 -галоидарилмалонамидо-7 -метокси-3-гетероциклилтиометил-1-детиа1-окса-3-цефем-4-карбоновой кислоты или их солей с органическими или неорганическими основани ми |
NZ187086A NZ187086A (en) | 1977-04-28 | 1978-04-26 | 7-(halophenylmalonamido)-7a-methoxy-3-(optionally alkylated tetrazol-5-yl or 1,3,4-thiadiazol-2-yl)-thiomethyl-1-dethia-1-oxa-3-cephem-4-carboxylic acid derivatives and pharmaceutical compositions |
HU78SI1625A HU178105B (en) | 1977-04-28 | 1978-04-27 | Process for preparing 7beta-/halo-aryl /-malonamido/- 7alpha-methoxy-3-/ alkyl-tetrazol-5-yl- or -1,3,4-thiadiazol-2-yl /-thiomethyl/- 1-dethia-1-oxa-3-cephem-4-carboxylic acid derivatives |
ES469206A ES469206A1 (es) | 1977-04-28 | 1978-04-27 | Un procedimiento para preparar acido 7 b-haloarilmalonamido-7-metoxi-3-tiometil heterociclico-1-destia-1-oxa-3-cefem-4- carboxilico |
SE7804873A SE447115B (sv) | 1977-04-18 | 1978-04-27 | Forfarande for framstellning av 7beta-haloarylmalonamido-7alfa-metoxi-3-heterocyklisk tiometyl-1-detia-1-oxa-3-cefem-4-karboxylsyra eller derivat derav |
MX787044U MX5952E (es) | 1977-04-28 | 1978-04-27 | Procedimiento para la preparacion de acidos 7beta haloarilmalonamido-7alfa-metoxi-3-tiometil heteroaromatico-1-detia-1-oxa-3-cefem-4-carboxilicos |
AR271935A AR227614A1 (es) | 1977-04-28 | 1978-04-27 | Procedimiento para la obtencion de acidos 7beta-haloarilmalonamido-7alpha-metoxi-3-tiometil heterociclico-1-detia-1-oxo-3-cefem-4-carboxilicos |
FR7812532A FR2388815A1 (fr) | 1977-04-28 | 1978-04-27 | Procede de preparation d'haloarylmalonamidooxacephalosporines, nouveaux produits ainsi obtenus et leur utilisation pour le traitement de maladies dues aux bacteries |
NO781502A NO158506C (no) | 1977-04-28 | 1978-04-27 | Analogifremgangsmaate for fremstilling av farmakologisk aktive 7beta-haloarylmalon-amido-7alfa-metoksy-3-(1-metyltetrazol-5-yl)tiometyl-1-detia-1-oksa-3-cefem-4-karboksylsyrederivater. |
FI781313A FI63410C (fi) | 1977-04-28 | 1978-04-27 | Foerfarande foer framstaellning av antibakterial 7beta-haloarylmalonamido-7alfa-metoxi-3-heterocyklisk tiometyl-1-detia-1-oxa-3-cefem-4-karboxylsyra eller derivat daerav |
AU35527/78A AU522851B2 (en) | 1977-04-28 | 1978-04-27 | Haloarylhalonamidooxacephalosporins |
IL54596A IL54596A0 (en) | 1977-04-28 | 1978-04-27 | Haloraylmalonamidooxacephalosporins and processes for the preparation thereof |
PT67957A PT67957B (en) | 1977-04-28 | 1978-04-27 | Process for preparing haloarylmalonamidooxacephalosporins |
NLAANVRAGE7804628,A NL189669C (nl) | 1977-04-28 | 1978-04-28 | Werkwijze voor het bereiden van een geneesmiddel met antibacteriele werking en werkwijze voor het bereiden van geneeskrachtige oxadethiacefalosporinederivaten. |
DE2818985A DE2818985C2 (de) | 1977-04-28 | 1978-04-28 | Halogenarylmalonamidooxacephalosporine und deren Verwendung bei der Bekämpfung bakterieller Infektionen |
IT67986/78A IT1111469B (it) | 1977-04-28 | 1978-04-28 | Cefalosporine ad azione antibatterica procedimento per la loro preparazione e composizioni farmaceutiche che le contengono |
IE844/78A IE46627B1 (en) | 1977-04-28 | 1978-04-28 | Haloarylmalonamidooxacephalosporins |
YU1035/78A YU42477B (en) | 1977-04-28 | 1978-04-28 | Process for obtaining haloarylmalone amido-1-dethio-1-oxa-cephalosporins |
BG7839585A BG34337A3 (en) | 1977-04-28 | 1978-04-28 | Method for obtaining haloarylmalonamido- 1- dethia- 1- oxacephalosporines |
CS782774A CS199726B2 (en) | 1977-04-28 | 1978-04-28 | Method of producing 7 beta-halogenaryl-malonamido-7-alpha-methoxy-3-heterocyclylthiomethyl-1-dethia-1-oxa-3-cephem-4-carboxylic acid and derivatives of the same |
AT311378A AT357674B (de) | 1977-04-28 | 1978-04-28 | Verfahren zur herstellung von neuen halogen- arylmalonamidooxacephalosporinen |
PL1978206451A PL110680B1 (en) | 1977-04-28 | 1978-04-28 | Method of producing new derivatives of 7-beta-halogeno-arylomalonamido-7-alpha-metoxy-3-heterocyclothiomethylo-1-dethia-1-oxa-3-cephamocarboxylic-4-acid |
CH470478A CH640535A5 (de) | 1977-04-28 | 1978-04-28 | Halogen- bzw. trifluormethylarylmalonamido-1-dethia-1-oxacephalosporine sowie verfahren zu ihrer herstellung. |
DD78205105A DD135908A5 (de) | 1977-04-28 | 1978-04-28 | Verfahren zur herstellung von halogenarylmalonamidooxacephalosporinen |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP52102260A JPS6031835B2 (ja) | 1977-08-25 | 1977-08-25 | チアジアゾリルチオオキサセフアロスポリン |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5436287A JPS5436287A (en) | 1979-03-16 |
JPS6031835B2 true JPS6031835B2 (ja) | 1985-07-24 |
Family
ID=14322614
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP52102260A Expired JPS6031835B2 (ja) | 1977-04-18 | 1977-08-25 | チアジアゾリルチオオキサセフアロスポリン |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6031835B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61153530U (ja) * | 1985-03-15 | 1986-09-24 | ||
JPH0349529Y2 (ja) * | 1985-07-19 | 1991-10-23 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2542804B2 (ja) * | 1984-10-16 | 1996-10-09 | 三洋電機株式会社 | 定電流回路 |
-
1977
- 1977-08-25 JP JP52102260A patent/JPS6031835B2/ja not_active Expired
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61153530U (ja) * | 1985-03-15 | 1986-09-24 | ||
JPH0349529Y2 (ja) * | 1985-07-19 | 1991-10-23 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5436287A (en) | 1979-03-16 |
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